JPH01295260A - 露光焼付け用原版の製作法 - Google Patents
露光焼付け用原版の製作法Info
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- JPH01295260A JPH01295260A JP63124911A JP12491188A JPH01295260A JP H01295260 A JPH01295260 A JP H01295260A JP 63124911 A JP63124911 A JP 63124911A JP 12491188 A JP12491188 A JP 12491188A JP H01295260 A JPH01295260 A JP H01295260A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
この発明は、露光焼付＆フ用原版の製作法に係り、たと
えばカラーブラウン管用シャドウマスクをフォト・エツ
チング法により製作する場合、そのシャドウマスクの両
面に形成された感光膜に所定のパターンを焼付りるため
の一対の露光焼付り用原版の製作法に関する。
えばカラーブラウン管用シャドウマスクをフォト・エツ
チング法により製作する場合、そのシャドウマスクの両
面に形成された感光膜に所定のパターンを焼付りるため
の一対の露光焼付り用原版の製作法に関する。
（従来の技術）
シャドウマスク型カラーブラウン管は、第２図に示すよ
うに、パネル（１）およびファンネル（２）からなる外
囲器（３）を有し、そのパネル（１）内面に形成された
３色蛍光体層からなる蛍光面（４）に対向して、その内
側にシャドウマスク（５）か装首されている。このシャ
ドウマスク（５）は、−ノアンネル（２）のネック（６
）内に配設された電子銃（７）から放出された３電子ビ
ームを選択して、上記３色蛍光体層に正しく射突させる
ためのものでうり、上記蛍光面（４）と対向するマスク
本体（９）には、第２図に示すように、多数の円形ある
いはスロット状などの電子ビーム通過孔（１０）か所定
の配列で形成されている。その各電子ビーム通過孔（１
０）の断面形状は、蛍光面側の聞０（１１）が電子銃側
の開口（１２）より大きく、かつ両面にＩ （１１Ｌ（
１２）を同軸にして、その中間部に最小径部を−ｂつ鼓
形に形成されでいる。
うに、パネル（１）およびファンネル（２）からなる外
囲器（３）を有し、そのパネル（１）内面に形成された
３色蛍光体層からなる蛍光面（４）に対向して、その内
側にシャドウマスク（５）か装首されている。このシャ
ドウマスク（５）は、−ノアンネル（２）のネック（６
）内に配設された電子銃（７）から放出された３電子ビ
ームを選択して、上記３色蛍光体層に正しく射突させる
ためのものでうり、上記蛍光面（４）と対向するマスク
本体（９）には、第２図に示すように、多数の円形ある
いはスロット状などの電子ビーム通過孔（１０）か所定
の配列で形成されている。その各電子ビーム通過孔（１
０）の断面形状は、蛍光面側の聞０（１１）が電子銃側
の開口（１２）より大きく、かつ両面にＩ （１１Ｌ（
１２）を同軸にして、その中間部に最小径部を−ｂつ鼓
形に形成されでいる。
従来より、このシャドウマスク（５）の電子ビーム通過
孔（１０）は、フ７ｆｆ〜・］−ツチング法により形成
されている。すなわち、低炭素鋼などからなる板状のシ
ャドウマスク素イΔの両面に感光■ジを形成し、この両
面の感光膜に上記電子ビーム通過孔の各開口に対応する
パターンが形成された一月の原版を密着して露光するこ
とにより、両面の感光膜に原版のパターンを焼付りる。
孔（１０）は、フ７ｆｆ〜・］−ツチング法により形成
されている。すなわち、低炭素鋼などからなる板状のシ
ャドウマスク素イΔの両面に感光■ジを形成し、この両
面の感光膜に上記電子ビーム通過孔の各開口に対応する
パターンが形成された一月の原版を密着して露光するこ
とにより、両面の感光膜に原版のパターンを焼付りる。
そしてその露光された感光膜を現像して未感光部分を除
去し、上記原版のパターンに対応するパターンを−ｂつ
レジメｌ〜膜を形成する。つき゛にこのレジメ１〜膜の
形成されたシャドウマスク素柵を両面からエツチングし
て、両面間を貫通する開孔を形成して電子ビーム通過孔
とし−Ｃいる。
去し、上記原版のパターンに対応するパターンを−ｂつ
レジメｌ〜膜を形成する。つき゛にこのレジメ１〜膜の
形成されたシャドウマスク素柵を両面からエツチングし
て、両面間を貫通する開孔を形成して電子ビーム通過孔
とし−Ｃいる。
ところで、上記方法により第３図に示したように両面の
聞Ｄ （１１）、 （１２）が同軸の電子ビーム通過孔
（１０）を形成するためには、第４図に示づように、露
光の際、−ス・１の原版（１４ａ）、 （１４，ｂ）の
パターンを同軸に合致させてシ【・ドウマスク素材（１
５）の両面の感光膜（１６）に密着して配置しなりれば
ならない。
聞Ｄ （１１）、 （１２）が同軸の電子ビーム通過孔
（１０）を形成するためには、第４図に示づように、露
光の際、−ス・１の原版（１４ａ）、 （１４，ｂ）の
パターンを同軸に合致させてシ【・ドウマスク素材（１
５）の両面の感光膜（１６）に密着して配置しなりれば
ならない。
しかしなから、各原版（１４ａ）、 （１４ｂ）に形成
されているパターンを全面にわたり完全に合致させるこ
とは、原版の製作技術上、きわめて困５！１１である。
されているパターンを全面にわたり完全に合致させるこ
とは、原版の製作技術上、きわめて困５！１１である。
すなわち、上記一対の原版（１４ａ）、 （１４１））
は、第５図（Ａ）図に示すように、フ７１１〜・プロッ
ターによりネカ型の乾板上に電子ビーム通過孔の一方の
開口、たとえば蛍光面側聞口に対応するパターンを描画
し、これを現像して第１ネノｊパターン（１７ａ）を形
成し、つぎに、この第１ネカパターン（１７ａ）を同じ
ネノｊ型の乾板に密着焼（＝Ｊ−Ｌプ、現像してポジパ
ターン（１８ａ）を形成する。そして、このポジパター
ン（１８ａ）をマスターとして、ネノｊ型の乾板に密着
焼（＝ｔ Ｃプ、現像して第２ネノｊパターン（１９ａ
）を形成し、第］の露光焼イ」り用原版（１４ａ）とす
る。また、電子銃側聞口に対応するパターン（１６）を
もつ第２の露光焼付り用原版（１４ｂ）のパタ一ンにつ
いても、（Ｂ）図に対応記号（１７ｂ）〜（１９ｂ ）
−（”示すように、）７Ｉｌ〜・プロッターにより描画
し、現像して得られるパターン（１７ｂ）の大きさが異
なるのみで、同一工程により形成される。
は、第５図（Ａ）図に示すように、フ７１１〜・プロッ
ターによりネカ型の乾板上に電子ビーム通過孔の一方の
開口、たとえば蛍光面側聞口に対応するパターンを描画
し、これを現像して第１ネノｊパターン（１７ａ）を形
成し、つぎに、この第１ネカパターン（１７ａ）を同じ
ネノｊ型の乾板に密着焼（＝Ｊ−Ｌプ、現像してポジパ
ターン（１８ａ）を形成する。そして、このポジパター
ン（１８ａ）をマスターとして、ネノｊ型の乾板に密着
焼（＝ｔ Ｃプ、現像して第２ネノｊパターン（１９ａ
）を形成し、第］の露光焼イ」り用原版（１４ａ）とす
る。また、電子銃側聞口に対応するパターン（１６）を
もつ第２の露光焼付り用原版（１４ｂ）のパタ一ンにつ
いても、（Ｂ）図に対応記号（１７ｂ）〜（１９ｂ ）
−（”示すように、）７Ｉｌ〜・プロッターにより描画
し、現像して得られるパターン（１７ｂ）の大きさが異
なるのみで、同一工程により形成される。
一対の露光焼付は用原版（１４ａＬ （１４ｂ）を上記
二に程により製作覆る理由は、第１に、第１ネノｊパタ
ーン（１７ａ）、 （１７ｂ）を反転してポジパターン
（１８ａ）。
二に程により製作覆る理由は、第１に、第１ネノｊパタ
ーン（１７ａ）、 （１７ｂ）を反転してポジパターン
（１８ａ）。
（１８ｂ）とすることにより、パターン寸法の僅小なば
らつきやパターンの凹凸などの欠点が原因で生ずるむら
を容易に見イ」り出１ことかできるためておる。つまり
、フＡ［〜・プロッターから形成されるネカパターン（
１７ａ）、 （１７ｂ）は、光透過率が大きく、むらや
欠点を見付（プにくいが、ポジパターン（１８ａ）、
（１８ｂ）は、光透過率が低く、パターンのむらや欠点
を比較的容易に見付（プ出すことができるためである。
らつきやパターンの凹凸などの欠点が原因で生ずるむら
を容易に見イ」り出１ことかできるためておる。つまり
、フＡ［〜・プロッターから形成されるネカパターン（
１７ａ）、 （１７ｂ）は、光透過率が大きく、むらや
欠点を見付（プにくいが、ポジパターン（１８ａ）、
（１８ｂ）は、光透過率が低く、パターンのむらや欠点
を比較的容易に見付（プ出すことができるためである。
第２に、ポジパターン（１８ａ）、 （１８ｂ）をマス
ターとすると、直接シ！・ドウマスクの露光焼付りに使
用される露光焼付Ｃ−１川原版（１４ａ）。
ターとすると、直接シ！・ドウマスクの露光焼付りに使
用される露光焼付Ｃ−１川原版（１４ａ）。
（１４１））を任意に多数製作できるためである。
従来、一般民生用力う−ブラ１クン管のシャドウマスク
については、上記方法により作製された一対の原版によ
り、所要形状、精度の電子ビーム通過孔を形成すること
かできた。しかし、デイスプレィ管などの高解像度を必
要とするカラーブラウン管のシャドウマスクについては
、上記一般民生用カラーブラウン管のシャドウマスクに
くらべて、電子ビーム通過孔の配列ピッチか小さく、そ
れにしたかつて電子ビーム通過孔の開口径も小さいく、
高精細化されているため、上記方法により作製された原
版では、所要形状、精度の電子ビーム通過孔を形成する
ことが回動となっている。
については、上記方法により作製された一対の原版によ
り、所要形状、精度の電子ビーム通過孔を形成すること
かできた。しかし、デイスプレィ管などの高解像度を必
要とするカラーブラウン管のシャドウマスクについては
、上記一般民生用カラーブラウン管のシャドウマスクに
くらべて、電子ビーム通過孔の配列ピッチか小さく、そ
れにしたかつて電子ビーム通過孔の開口径も小さいく、
高精細化されているため、上記方法により作製された原
版では、所要形状、精度の電子ビーム通過孔を形成する
ことが回動となっている。
その理由は、高解像度カラーブラウン管用シャドウマス
クを製造するための一対の露光焼付は用原版は、第６図
に示すように、第１の原版のパターン、すなわち電子ビ
ーム通過孔の蛍光面側の開口に対応するパターン（１９
ａ）と、第２の原版のパターン、すなわち電子銃側の開
口に対応するパターン（１９ｂ）との差Ｓ（余裕度）が
小さいために、両パターン（１９ａ）、 （１９ｂ）の
ずれか大きくひびき、ずれの許容誤差３μｍ以下に合致
させることかできないためで必る。
クを製造するための一対の露光焼付は用原版は、第６図
に示すように、第１の原版のパターン、すなわち電子ビ
ーム通過孔の蛍光面側の開口に対応するパターン（１９
ａ）と、第２の原版のパターン、すなわち電子銃側の開
口に対応するパターン（１９ｂ）との差Ｓ（余裕度）が
小さいために、両パターン（１９ａ）、 （１９ｂ）の
ずれか大きくひびき、ずれの許容誤差３μｍ以下に合致
させることかできないためで必る。
この一対の原版のパターンのずれの発生原因を調査した
結果、その原因は、一対の原版を製作する際の最初のフ
ォト・プロッターの描画に問題かあることが判明した。
結果、その原因は、一対の原版を製作する際の最初のフ
ォト・プロッターの描画に問題かあることが判明した。
ずなわら、第７図（八）および（Ｂ）図に示すように、
フＡ１〜・プロッターにより乾板に電子ビーム通過孔の
開口に対応覆るパターン（１７ａ）、 （１７ｔ））を
ＪｆＩ！ｉ画するとぎ、一対の原版は、いずれも同一方
向、すなわち第１列から第ｎ列の方向に順次描画され、
フ７１１〜・プロッターの機能、精度から、たとえば第
ｎ列で示した最外列のパターンの配列は、全く同一にり
゛れた状態になる。そのずれ量は、たとえば２０インチ
・カラーブラウン管用で５〜７μｍとなる。そして、上
記フ７１−１〜・プロッターで描画するとき、両パター
ン（１７ａ）。
フＡ１〜・プロッターにより乾板に電子ビーム通過孔の
開口に対応覆るパターン（１７ａ）、 （１７ｔ））を
ＪｆＩ！ｉ画するとぎ、一対の原版は、いずれも同一方
向、すなわち第１列から第ｎ列の方向に順次描画され、
フ７１１〜・プロッターの機能、精度から、たとえば第
ｎ列で示した最外列のパターンの配列は、全く同一にり
゛れた状態になる。そのずれ量は、たとえば２０インチ
・カラーブラウン管用で５〜７μｍとなる。そして、上
記フ７１−１〜・プロッターで描画するとき、両パター
ン（１７ａ）。
（１７１）） にＩ、ともに乾板の乳剤面を土面にして
描画される。そしてその後、繰返しおこなわれる転写は
、乾板の乳剤面を向い合わせて（１′３こなわれか、第
８図および第９図に示すように、製作された一対の露光
焼付（，１川原版（１４ａ）、 （１４ｂ）を実際にシ
（・ドウマスクの露光焼付けに使用するとぎは、パター
ン（１９ａ）、 （１９ｂ）の形成されている乳剤面（
２０ａ）。
描画される。そしてその後、繰返しおこなわれる転写は
、乾板の乳剤面を向い合わせて（１′３こなわれか、第
８図および第９図に示すように、製作された一対の露光
焼付（，１川原版（１４ａ）、 （１４ｂ）を実際にシ
（・ドウマスクの露光焼付けに使用するとぎは、パター
ン（１９ａ）、 （１９ｂ）の形成されている乳剤面（
２０ａ）。
（２０ｂ）がシャドウマスク素側の両面の感光膜に密着
するように向い合わせて使用される。その結果、シャド
ウマスクの露光焼付り時には、第１の原版（１４ａ）の
第１列と第２の原版（１４ｂ）の第ｎ列とか対向するこ
とになり、上記覆゛れのために、その対向する第１の原
版（１４ａ）の第１列のパターン（１９ａ）と第２の原
版（１４ｂ）の第ｎ列のパターン（１９ｂ）とは合致し
なくなるためである。
するように向い合わせて使用される。その結果、シャド
ウマスクの露光焼付り時には、第１の原版（１４ａ）の
第１列と第２の原版（１４ｂ）の第ｎ列とか対向するこ
とになり、上記覆゛れのために、その対向する第１の原
版（１４ａ）の第１列のパターン（１９ａ）と第２の原
版（１４ｂ）の第ｎ列のパターン（１９ｂ）とは合致し
なくなるためである。
（発明が解決しようとする課題）
上記のように、従来、カラーブラウン管用シャドウマス
クの露光に使用される一対の原版は、それぞれフ７１−
１〜・プロッターによりネガ型の乾板上にシャドウマス
クの電子ビーム通過孔の開口に対応するパターンを１１
１１画し、−旦これをポジパターンとし、このポジパタ
ーンをマスターとして、実際にシャドウマスクの露光に
使用する原版を製作している。しかし、このような方法
により一対の露光焼付は用原版を製作すると、両原版間
にパタ一ンずれを生じ、特に高解像度カラーブラウン管
用シＡ・ドウマスクのように、電子ビーム通過孔の配列
ピッチか小さく、それにつれて間口径の小さい電子ビー
ム通過孔を所定形状、精度で形成することか困難となっ
ている。
クの露光に使用される一対の原版は、それぞれフ７１−
１〜・プロッターによりネガ型の乾板上にシャドウマス
クの電子ビーム通過孔の開口に対応するパターンを１１
１１画し、−旦これをポジパターンとし、このポジパタ
ーンをマスターとして、実際にシャドウマスクの露光に
使用する原版を製作している。しかし、このような方法
により一対の露光焼付は用原版を製作すると、両原版間
にパタ一ンずれを生じ、特に高解像度カラーブラウン管
用シＡ・ドウマスクのように、電子ビーム通過孔の配列
ピッチか小さく、それにつれて間口径の小さい電子ビー
ム通過孔を所定形状、精度で形成することか困難となっ
ている。
この発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
であり、被露光部子オの両面に形成された感光膜に所定
のパターンを焼付しプるための一対の露光焼付用原版の
各パターンを精度よく合致でさる露光焼イ」用原版の製
作法を得ることを目的とする。
であり、被露光部子オの両面に形成された感光膜に所定
のパターンを焼付しプるための一対の露光焼付用原版の
各パターンを精度よく合致でさる露光焼イ」用原版の製
作法を得ることを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向または
密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の露
光焼付り用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形成
する露光焼イ」り用原版の製作法において、第１の原版
につい−Ｃは、フ第１〜・プロッターにより描画された
ネガパターンからポジパターンを形成し、このポジパタ
ーンから反転密着焼付けにより上記露光焼付り用原版の
ネガパターンを形成するとともに、第２の原版について
は、フォト・プロッターにより描画されたネガパターン
からポジ型の乾板を使用して直接」二記露光焼付（プ用
原版のネガパターンを形成するようにしｌこ。
密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の露
光焼付り用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形成
する露光焼イ」り用原版の製作法において、第１の原版
につい−Ｃは、フ第１〜・プロッターにより描画された
ネガパターンからポジパターンを形成し、このポジパタ
ーンから反転密着焼付けにより上記露光焼付り用原版の
ネガパターンを形成するとともに、第２の原版について
は、フォト・プロッターにより描画されたネガパターン
からポジ型の乾板を使用して直接」二記露光焼付（プ用
原版のネガパターンを形成するようにしｌこ。
（作 用）
上記のように一対の露光焼付り用原版のうち、第１の原
版については、フ７１１〜・プロッターにより描画され
たネガパターンからポジパターンを形成し、このポジパ
ターンから反転密着焼付しけにより露光焼付り用原版の
ネガパターンを形成し、第２の原版については、フォト
・プロッターにより描画されたネガパターンからポジ型
の乾板を使用して直接露光焼付（プ用原版のネガパター
ンを形成するＪ：うにすると、）７１１へ・プ［」ツタ
−にＪ：り描画された両ネカパターンにずれかあつ−Ｃ
も、乳剤面を向い合わせて使用される露光焼付（プ用原
版については、両パターンを精度よく合致させることが
できる。
版については、フ７１１〜・プロッターにより描画され
たネガパターンからポジパターンを形成し、このポジパ
ターンから反転密着焼付しけにより露光焼付り用原版の
ネガパターンを形成し、第２の原版については、フォト
・プロッターにより描画されたネガパターンからポジ型
の乾板を使用して直接露光焼付（プ用原版のネガパター
ンを形成するＪ：うにすると、）７１１へ・プ［」ツタ
−にＪ：り描画された両ネカパターンにずれかあつ−Ｃ
も、乳剤面を向い合わせて使用される露光焼付（プ用原
版については、両パターンを精度よく合致させることが
できる。
（実施例）
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
する。
第１図にこの発明の一実施例であるカラーブラウン管用
シャドウマスクの露光焼付（プに使用される一対の原版
の製作法を示す。（八）図に示すように、一対の原版の
うち、第１の原版については、従来の原版の製作法と同
様に、フォト・プロッターにより、ネガ型の乾板上にシ
ャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍光面側聞口に対応
するパターンを描画し、これを現像して第１ネカパター
ン（１７ａ）を形成する。つぎに、この第１ネガパター
ン（１７ａ）を同じネガ型の乾板の乳剤面と向い合わせ
て密着焼付け、現像してポジパターン（１８ａ）を形成
する。そして、このポジパターン（１８ａ）をマスター
として、同様にネガ型の乾板の乳剤面と向い合わせて密
着焼付り、現像して第２ネノｊパターン（１９ａ）を形
成し、第１の露光焼付（プ用原版（１４ａ）とする。
シャドウマスクの露光焼付（プに使用される一対の原版
の製作法を示す。（八）図に示すように、一対の原版の
うち、第１の原版については、従来の原版の製作法と同
様に、フォト・プロッターにより、ネガ型の乾板上にシ
ャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍光面側聞口に対応
するパターンを描画し、これを現像して第１ネカパター
ン（１７ａ）を形成する。つぎに、この第１ネガパター
ン（１７ａ）を同じネガ型の乾板の乳剤面と向い合わせ
て密着焼付け、現像してポジパターン（１８ａ）を形成
する。そして、このポジパターン（１８ａ）をマスター
として、同様にネガ型の乾板の乳剤面と向い合わせて密
着焼付り、現像して第２ネノｊパターン（１９ａ）を形
成し、第１の露光焼付（プ用原版（１４ａ）とする。
これに対し、第２の原版については、まずフＡ１へ・プ
ロッターにより、ネガ型の乾板上にシャドｒクマスクの
電子ビーム通過孔の電子銃側聞口に対応するパターンを
描画し、これを現像して第１ネガパターン（１７ｂ）を
形成する。っぎ゛に、この第１ネガパターン（１７ｂ）
をポジ型の乾板の乳剤面と向、い合わせて密着焼イ」け
、現像して、直接第２ネガパターン（１９ｂ）を形成し
、第２の露光焼付は用原版（１，’ｌｂ）とする。
ロッターにより、ネガ型の乾板上にシャドｒクマスクの
電子ビーム通過孔の電子銃側聞口に対応するパターンを
描画し、これを現像して第１ネガパターン（１７ｂ）を
形成する。っぎ゛に、この第１ネガパターン（１７ｂ）
をポジ型の乾板の乳剤面と向、い合わせて密着焼イ」け
、現像して、直接第２ネガパターン（１９ｂ）を形成し
、第２の露光焼付は用原版（１，’ｌｂ）とする。
ところで、上記のように第１の露光焼付は用原版（１７
１ａ）を、第１ネガパターンを描画→ポジパターンに反
転→第２ネガパターンに反転、の方法により製作し、一
方、第２の露光焼付Ｃブ用原版（１４ｂ）を、第１ネカ
パターンを描画→第２ネヵパターンを転写、の方法によ
り製作して一対の露光焼付り用原版（１４ａ）、 （１
４ｂ）を製作すると、フ′Ａ１〜・プロッタ〜により描
画されるパターンに同一方向のずれがあっても、最終的
に乳剤面同士を向い合わせて使用されるシャドウマスク
の露光焼付けに使用される一対の原版（１４ａ）、 （
１４１））については、パターン（１９ａ）、 （１９
ｂ）のずれが同一方向となるため、両パターン（１９ａ
）、 （１９ｂ）を精度よく合致させることかできる。
１ａ）を、第１ネガパターンを描画→ポジパターンに反
転→第２ネガパターンに反転、の方法により製作し、一
方、第２の露光焼付Ｃブ用原版（１４ｂ）を、第１ネカ
パターンを描画→第２ネヵパターンを転写、の方法によ
り製作して一対の露光焼付り用原版（１４ａ）、 （１
４ｂ）を製作すると、フ′Ａ１〜・プロッタ〜により描
画されるパターンに同一方向のずれがあっても、最終的
に乳剤面同士を向い合わせて使用されるシャドウマスク
の露光焼付けに使用される一対の原版（１４ａ）、 （
１４１））については、パターン（１９ａ）、 （１９
ｂ）のずれが同一方向となるため、両パターン（１９ａ
）、 （１９ｂ）を精度よく合致させることかできる。
なお、上記のように第２の露光焼（ｑけ用原版（１４ｂ
）を、−旦ポシバターンに反転することなく製作すると
、パターン寸法の僅小なばらつぎやパ 。
）を、−旦ポシバターンに反転することなく製作すると
、パターン寸法の僅小なばらつぎやパ 。
ターンの凹凸などの欠点が原因で生ずるむらを見付しり
出しにくいが、これは、たとえば第２ネノｊパターン（
１９ｂ）またはフ７Ｉ］〜・プロッターにより（１１１
画された第１ネカパターン（１γｂ）をポジ型の乾板を
使用して反転密着焼付しけによりポジパターンを形成す
ることにより、このポジパターンに基づいて検査するこ
とができる。
出しにくいが、これは、たとえば第２ネノｊパターン（
１９ｂ）またはフ７Ｉ］〜・プロッターにより（１１１
画された第１ネカパターン（１γｂ）をポジ型の乾板を
使用して反転密着焼付しけによりポジパターンを形成す
ることにより、このポジパターンに基づいて検査するこ
とができる。
一興体例としで、２０インチ高解像度カラーブラウン管
用シャドウマスクの露光に使用される一対の露光焼イ」
（プ用原版として、ドラｌへ状のパターンを備え、その
第１、第２の原版のパターン直径をそれぞれ０．１３０
ｍｍ、 ０．０６０＃、パターン・ピッチを０．２５
０ｍｍとする原版を上記方法により製作した結果、−ｉ
Ｊの原版のパターンずれを仝而にわたり３μｍ以下に抑
えることができた。
用シャドウマスクの露光に使用される一対の露光焼イ」
（プ用原版として、ドラｌへ状のパターンを備え、その
第１、第２の原版のパターン直径をそれぞれ０．１３０
ｍｍ、 ０．０６０＃、パターン・ピッチを０．２５
０ｍｍとする原版を上記方法により製作した結果、−ｉ
Ｊの原版のパターンずれを仝而にわたり３μｍ以下に抑
えることができた。
−１２〜
なお、上記実施例では、一対の原版のうち、第１の原版
のパターンをシャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍光
面側開口に対応する大径のパターンとし、第２の原版の
パターンをその電子銃側聞１０に対応する小径のパター
ンとするものについて述べたか、この発明の露光焼（ｑ
り用原版の製作法は、第１の原版のパターンを電子ビー
ム通過孔の電子銃側聞口に対応する小径のパターンとし
、第２の原版のパターンをその蛍光面側開口に対応する
大径のパターンとしで形成してもよい。
のパターンをシャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍光
面側開口に対応する大径のパターンとし、第２の原版の
パターンをその電子銃側聞１０に対応する小径のパター
ンとするものについて述べたか、この発明の露光焼（ｑ
り用原版の製作法は、第１の原版のパターンを電子ビー
ム通過孔の電子銃側聞口に対応する小径のパターンとし
、第２の原版のパターンをその蛍光面側開口に対応する
大径のパターンとしで形成してもよい。
なおまた、この発明は、カラーブラウン管用シャドウマ
スクの露光に使用される露光焼付は用原版ばかりでなく
、伯の板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向
または密着して配置される一対の露光焼付は用原版の製
作にも適用できる。
スクの露光に使用される露光焼付は用原版ばかりでなく
、伯の板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向
または密着して配置される一対の露光焼付は用原版の製
作にも適用できる。
［発明の効果］
板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向または
密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の露
光焼付Ｃづ用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形
成するに際し、第１の原版については、−ノア１−１〜
・プロッターにより描画されたネガパターンからポジパ
ターンを形成し、このポジパターンから反転密着焼（ｑ
けにより露光焼（＝ｉ−Ｌプ用原版のネガパターンを形
成するとともに、第２の原版については、〕７１１〜・
プロッターにより（１１１画されたネガパターンからポ
ジ型の乾板を使用して直接露光焼付（プ用原版のネガパ
ターンを形成すると、フォト・プロッターにより１１ｉ
画された両ネカパターンにずれかあっても、乳剤面を向
い合わせて使用される露光焼付は用原版については、パ
ターンを精度よく合致させることかできる。
密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の露
光焼付Ｃづ用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形
成するに際し、第１の原版については、−ノア１−１〜
・プロッターにより描画されたネガパターンからポジパ
ターンを形成し、このポジパターンから反転密着焼（ｑ
けにより露光焼（＝ｉ−Ｌプ用原版のネガパターンを形
成するとともに、第２の原版については、〕７１１〜・
プロッターにより（１１１画されたネガパターンからポ
ジ型の乾板を使用して直接露光焼付（プ用原版のネガパ
ターンを形成すると、フォト・プロッターにより１１ｉ
画された両ネカパターンにずれかあっても、乳剤面を向
い合わせて使用される露光焼付は用原版については、パ
ターンを精度よく合致させることかできる。
第１図はこの発明の一実施例でおるカラーブラウン管用
シャドウマスクの露光焼付りに使用される一対の露光焼
付しり用原版の製作法説明図−Ｃ１（Ａ）図は第１の原
版の製作法説明図、（Ｂ）図は第２の原版の製作法説明
図、第２図はカラーブラウン管の構成説明図、第３図は
そのシャドウマスクの電子ビーム通過孔の形状を示す断
面図、第４図はシャドウマスクの露光の際、シャドウマ
スク素材の両面に形成された感光膜に密希して配置され
る一対の露光焼（ｔ Ｃプ用原版の配置を示す図、第５
図は従来のカラーブラウン管用シャドウマスクの露光焼
付（プに使用される一対の露光焼付（プ用原版の製作法
説明図で、（Ａ）図は第１の原版の製作法説明図、（Ｂ
）図は第２の原版の製作法説明図、第６図は一対の露光
焼付【づ用原版のパターンの余裕度を示す図、第７図は
フ７ｆｌ〜・プロッターにより描画されたパターンのす
れ説明図で、（八）図は第１の原版を製作するために描
画されるパターンのずれを示す図、（Ｂ）図は第２の原
版を製作するために描画されるパターンのずれを示ず図
、第８図および第９図はそれぞれ一対の露光焼付は用原
版間に生ずるパターンのずれを説明覆るための図でおる
。 １４ａ・・・第１の原版 １４ｂ・・・第２の原版 １７ａ・・・第１ネカパターン １７ｂ・・・第２ネカパターン １８ａ・・・ポジパターン −１６＝ １９ａ、１９ｂ −・・第２ネノｊパターン代理人 弁
理士 大 胡 典 夫
シャドウマスクの露光焼付りに使用される一対の露光焼
付しり用原版の製作法説明図−Ｃ１（Ａ）図は第１の原
版の製作法説明図、（Ｂ）図は第２の原版の製作法説明
図、第２図はカラーブラウン管の構成説明図、第３図は
そのシャドウマスクの電子ビーム通過孔の形状を示す断
面図、第４図はシャドウマスクの露光の際、シャドウマ
スク素材の両面に形成された感光膜に密希して配置され
る一対の露光焼（ｔ Ｃプ用原版の配置を示す図、第５
図は従来のカラーブラウン管用シャドウマスクの露光焼
付（プに使用される一対の露光焼付（プ用原版の製作法
説明図で、（Ａ）図は第１の原版の製作法説明図、（Ｂ
）図は第２の原版の製作法説明図、第６図は一対の露光
焼付【づ用原版のパターンの余裕度を示す図、第７図は
フ７ｆｌ〜・プロッターにより描画されたパターンのす
れ説明図で、（八）図は第１の原版を製作するために描
画されるパターンのずれを示す図、（Ｂ）図は第２の原
版を製作するために描画されるパターンのずれを示ず図
、第８図および第９図はそれぞれ一対の露光焼付は用原
版間に生ずるパターンのずれを説明覆るための図でおる
。 １４ａ・・・第１の原版 １４ｂ・・・第２の原版 １７ａ・・・第１ネカパターン １７ｂ・・・第２ネカパターン １８ａ・・・ポジパターン −１６＝ １９ａ、１９ｂ −・・第２ネノｊパターン代理人 弁
理士 大 胡 典 夫
Claims (1)
- 板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向または
密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の露
光焼付け用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形成
するに際し、上記第１の原版についてはフォト・プロッ
ターにより描画されたネガパターンからポジパターンを
形成し、このポジパターンから反転密着焼付けにより上
記露光焼付け用原版のネガパターンを形成するとともに
、上記第２の原版についてはフォト・プロッターにより
描画されたネガパターンからポジ型の乾板を使用して直
接上記露光焼付け用原版のネガパターンを形成すること
を特徴とする露光焼付け用原版の製作法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12491188A JP2703262B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 露光焼付け用原版の製作法 |
| CN89102822A CN1028916C (zh) | 1988-05-24 | 1989-04-24 | 曝光印相用原版的制作方法 |
| EP89109291A EP0343609B1 (en) | 1988-05-24 | 1989-05-23 | Method of manufacturing main plates for exposure printing |
| KR1019890006947A KR940001951B1 (ko) | 1988-05-24 | 1989-05-23 | 노광프린트용 원판의 제작방법 |
| DE68923994T DE68923994T2 (de) | 1988-05-24 | 1989-05-23 | Verfahren zur Herstellung von Druckplatten. |
| US07/015,291 US5336587A (en) | 1988-05-24 | 1993-02-08 | Method of manufacturing main plates for exposure printing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12491188A JP2703262B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 露光焼付け用原版の製作法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01295260A true JPH01295260A (ja) | 1989-11-28 |
| JP2703262B2 JP2703262B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=14897165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12491188A Expired - Fee Related JP2703262B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 露光焼付け用原版の製作法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0343609B1 (ja) |
| JP (1) | JP2703262B2 (ja) |
| KR (1) | KR940001951B1 (ja) |
| CN (1) | CN1028916C (ja) |
| DE (1) | DE68923994T2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3973964A (en) * | 1974-12-23 | 1976-08-10 | Zenith Radio Corporation | Method for manufacturing a color cathode ray tube and for making screening and mask masters used therein |
-
1988
- 1988-05-24 JP JP12491188A patent/JP2703262B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-04-24 CN CN89102822A patent/CN1028916C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-23 DE DE68923994T patent/DE68923994T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-23 KR KR1019890006947A patent/KR940001951B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-23 EP EP89109291A patent/EP0343609B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2703262B2 (ja) | 1998-01-26 |
| KR890017573A (ko) | 1989-12-16 |
| CN1038357A (zh) | 1989-12-27 |
| EP0343609A3 (en) | 1991-07-17 |
| EP0343609A2 (en) | 1989-11-29 |
| DE68923994D1 (de) | 1995-10-05 |
| EP0343609B1 (en) | 1995-08-30 |
| CN1028916C (zh) | 1995-06-14 |
| KR940001951B1 (ko) | 1994-03-12 |
| DE68923994T2 (de) | 1996-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |