JPH01296486A - Multi-port ram - Google Patents

Multi-port ram

Info

Publication number
JPH01296486A
JPH01296486A JP63126891A JP12689188A JPH01296486A JP H01296486 A JPH01296486 A JP H01296486A JP 63126891 A JP63126891 A JP 63126891A JP 12689188 A JP12689188 A JP 12689188A JP H01296486 A JPH01296486 A JP H01296486A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
read
write
address
data
memory cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63126891A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2613257B2 (en
Inventor
Yoichi Sato
陽一 佐藤
Masao Mizukami
水上 雅雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP63126891A priority Critical patent/JP2613257B2/en
Priority to KR1019890000939A priority patent/KR0141494B1/en
Priority to US07/303,472 priority patent/US4984204A/en
Publication of JPH01296486A publication Critical patent/JPH01296486A/en
Priority to US07/637,591 priority patent/US5053652A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2613257B2 publication Critical patent/JP2613257B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To attain high speed reading even when writing and reading timing is overlapped by detecting the coincidence of writing and reading addresses and directly transmitting writing data through a transmitting means to a reading system. CONSTITUTION:In a multi-port RAM to independently execute the writing and reading of data, when X addresses from reading and writing X address buffers 13 and 21 and addresses from respective reading and writing Y address buffers 24 and 28 are coincident, a coincidence detecting output AC is outputted from an address coincidence detecting circuit 8. A short-circuiting circuit 9 of the transmitting means is controlled by this output AC and the writing data from a writing data driver 3 are directly transmitted to a reading system sense amplifier 5. Accordingly, even when the writing and reading timing of the data to the same memory cell of a memory cell array is overlapped, the high speed reading can be executed without waiting for the end of writing.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、データの読み出しと書き込みを独立にもしく
は並列的に行い得る多ポートRAM (ランダム・アク
セス・メモリ)、さらにはそれにおけるデータの高速読
み出し技術に関し、例えはスタティック型メモリセルを
有する多ポートRAMに適用して有効な技術に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a multi-port RAM (Random Access Memory) in which data can be read and written independently or in parallel, and also to a multi-port RAM (Random Access Memory) in which data can be read and written at high speed. Regarding read technology, the present invention relates to a technology that is effective when applied to a multi-port RAM having static type memory cells, for example.

〔従来技術〕[Prior art]

マイクコンピュータさらには中小型コンピュータなどに
おける演算処理速度の高速化を図るためにスタティック
型多ポートRAMを用いることができる。
A static multi-port RAM can be used to increase the processing speed of microcomputers and even small and medium-sized computers.

このスタティック型多ポートRAMは、スタティックラ
ッチ回路のデータ入出力端子に書き込みトランスファゲ
ートと読み出しトランスファゲートとを結合して成る複
数個のメモリセルを持ち、書き込みアドレスによって選
択されるメモリセルの書き込みトランスファゲートが結
合される書き込みビット線に書き込みデータを与えるた
めの書き込み系と、読み出しアドレスによって選択され
るメモリセルの読み出しトランスファゲートから読み出
しビット線に与えられるデータを外部に読み出すための
読み出し系とを夫々専用に持ち、データの書き込み動作
と読み出し動作を非同期で独立に行い得るようになって
いる。
This static multi-port RAM has a plurality of memory cells formed by connecting a write transfer gate and a read transfer gate to data input/output terminals of a static latch circuit, and the write transfer gate of a memory cell selected by a write address. A write system for giving write data to the write bit line connected to the memory cell, and a read system for reading externally the data given to the read bit line from the read transfer gate of the memory cell selected by the read address. The data write and read operations can be performed asynchronously and independently.

尚、スタティック型多ポートRAMについて記載された
文献の例としては、1987年11月に発行されたrV
LSI  SYSTEMS  DESIGNJのP2O
−P65に記載されたrEm beddad  RAM
  in  Gate  Arrays:Config
urability  andTsstability
Jがある。
An example of a document describing static multi-port RAM is rV published in November 1987.
LSI SYSTEMS DESIGNJ P2O
- rEm beddad RAM described in P65
in Gate Arrays: Config
urability and stability
There is a J.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明者はスタティック型多ポートRAMにおけるデー
タ読み出し動作の高速化について検討した。
The present inventor has studied how to speed up the data read operation in a static multi-port RAM.

データの書き込み動作と読み出し動作を非同期で独立に
行い得るスタティック型多ポートRAMでは同一メモリ
セルに対して概ね同しタイミングで書き込み動作と読み
出し動作が行われる場合がある。これを考慮すると、多
くの場合そうであるように書き込み優先の下では、スタ
ティック型多ボー1− RA Mのアクセスタイムは、
アクセス対象メモリセルに書き込まれた情報か再び読み
出されるまでの時間に律則される。即ち、同一メモリセ
ルに同じタイミングで書き込み動作と読み出し動作が行
われない場合のアクセスタイムもその遅いアクセスタイ
ムに拘束されて、多ボー1− RA Mにおしづるタイ
ミング規約上の全体的なアクセスタイムが遅くなる。
In a static multi-port RAM that can perform data write and read operations asynchronously and independently, write and read operations may be performed on the same memory cell at approximately the same timing. Considering this, under write priority, as is often the case, the access time for static multi-baud 1-RAM is
It is determined by the time until the information written in the memory cell to be accessed is read out again. In other words, when a write operation and a read operation are not performed on the same memory cell at the same timing, the access time is also constrained by the slow access time, and the overall access time according to the timing rules imposed on multi-baud 1-RAM is limited. Time becomes slower.

この全体的なアクセスタイムの遅れを解消するには、読
み出しアドレスと書き込みアドレスを監視して両者が近
接してきたときに警報を発し、同一メモリセルへの同時
アクセスを禁止制御するようにずればよいが、そのよう
な手法では多ポートRAMのアクセスに対する制限条件
が加わり、この制限条件を満足するためのアクセス制御
が複雑になると共に多ボー1− RA Mの使い勝手が
悪くなるという欠点があった。
In order to eliminate this overall access time delay, it is possible to monitor the read address and write address, issue an alarm when they approach each other, and prohibit simultaneous access to the same memory cell. However, such a method has the drawback that a restriction condition is added to the access to the multi-port RAM, and access control to satisfy this restriction condition becomes complicated, and the multi-baud 1-RAM becomes difficult to use.

このように従来の多ポートRAMでは、これを高速アク
セスで利用しようとすると同一メモリセルへの書き込み
及び読み出しの同時アクセスを禁止制御するという制限
条件を設けなければならなくなり、逆にこの制限条件を
無視するとデータの読み出し動作速度を低下させなけれ
ばならないという問題点のあることが本発明者によって
明らかにされた。
In this way, with conventional multi-port RAM, if you try to use it for high-speed access, you have to set a restriction condition that prohibits simultaneous write and read access to the same memory cell, and conversely, it is necessary to set a restriction condition that prohibits simultaneous write and read access to the same memory cell. The inventors have discovered that if ignored, there is a problem in that the data read operation speed must be reduced.

さらに本発明者は、スタティック型多ポートRAMにお
ける低消費電力やデータ読み出し動作時の誤書き込み防
止などの観点からビット線やコモンデータ線を相対的に
レベルの高い一方の電源電圧レベルにプリチャージする
ことを検討し、これに伴って、上記電源電圧にプリチャ
ージされているビット線にメモリセルデータに応する微
小な電位変化をそのまま与えられるようなメモリセル構
造や、電源電圧近傍におけるビット線の電位差を高速に
検出してこれを増幅出力することができるセンスアンプ
の構造など、スタティック型多ポートRAMにおけるデ
ータ読み出し動作の高速化に寄与するその他の手段につ
いても検討した。
Furthermore, the inventor of the present invention precharges the bit lines and common data lines to one of the relatively high power supply voltage levels from the viewpoint of reducing power consumption in static multi-port RAM and preventing erroneous writing during data read operations. With this in mind, we have developed a memory cell structure in which a minute potential change corresponding to the memory cell data can be directly applied to the bit line precharged to the above power supply voltage, and a structure for the bit line near the power supply voltage. We also investigated other means that contribute to speeding up data read operations in static multi-port RAMs, such as the structure of a sense amplifier that can detect potential differences at high speed and amplify and output them.

本発明の目的は、同一メモリセルへの書き込み及び読み
出し動作が完全同一もしくは部分的に重なったタイミン
グで行われる場合にもデータを高速に読み出すことがで
きる多ポートRAMを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a multi-port RAM that can read data at high speed even when writing and reading operations to the same memory cell are performed at completely the same or partially overlapping timing.

さらに本発明の別の目的はピッ1〜線やコモンデータ線
を相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルにプリチ
ャージする構成を持つ多ポートRAMにおいて、データ
読み出し動作の高速化を図ることができるメモリセル構
造やセンスアンプの構造などを提供しようとするもので
ある。
Another object of the present invention is to speed up the data read operation in a multi-port RAM having a configuration in which the pin 1 line and the common data line are precharged to one relatively high power supply voltage level. The aim is to provide a memory cell structure and a sense amplifier structure that are possible.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、データの書き込み動作と読み出し動作を非同
期で独立に行い得る書き込み系と読み出し系を備え、書
き込みアドレスと読み出しアドレスの一致を検出するこ
とに呼応して、外部から書き込み系に与えられる書き込
みデータを伝達手段を介して直接読み出し系に与えるよ
うにする。
That is, it is equipped with a write system and a read system that can perform data write and read operations asynchronously and independently, and in response to detecting a match between a write address and a read address, writes data given to the write system from the outside. It is provided directly to the readout system via the transmission means.

上記伝達手段は、外部から書き込み系に与えられるデー
タを書き込みコモンデータ線を介して読み出し系に含ま
れる読み出しコモンデータ線に伝達するスイッチ素子に
したり、或いは、書き込み系から読み出し系に含まれる
センスアンプと出カバソファとの間に書き込みデータを
伝達するスイッチ素子にしたりすることができる。この
とき、書き込みビット線及び読み出しビット線、さらに
は書き込みコモンデータ線及び読み出しコモンデータ線
のプリチャージレベルが、スタティックメモリセルに与
えられる相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルに
呼応される場合には、上記伝達手段を構成するスイッチ
素子をpチャンネル型MOSFETによって構成すると
よい。
The above-mentioned transmission means is a switch element that transmits data given from the outside to the write system via a write common data line to a read common data line included in the read system, or a switch element that transmits data applied from the outside to the read common data line included in the read system, or a sense amplifier included in the read system from the write system. It can also be used as a switch element that transmits write data between the output cover and the output sofa. At this time, if the precharge levels of the write bit line and read bit line, as well as the write common data line and read common data line, correspond to one relatively high power supply voltage level applied to the static memory cell. In this case, it is preferable that the switching element constituting the transmission means be formed of a p-channel type MOSFET.

伝達手段を介して書き込みデータを読み出し系に直接与
えるときには、読み出しビット線を読み出しコモンデー
タ線に選択的に導通に制御するための読み出しセレクタ
を全て非導通に制御することが望ましい。
When the write data is directly provided to the read system via the transmission means, it is desirable to control all the read selectors to be non-conductive for selectively controlling the read bit line to the read common data line to be conductive.

また、相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルをプ
リチャージレベルとする書き込みビット線及び読み出し
ビット線に結合されるスタティックメモリセルに対して
データの書き込み動作と読み出し動作を非同期で独立に
行い得る書き込み系と読み出し系を備える多ポートRA
Mにおいて、書き込みビット線とスタティックメモリセ
ルとを結合するための書き込みトランスファゲートをn
チャンネル型MOSFETとし、また、読み出しビット
線とスタティックメモリセルとを結合するための読み出
し1ヘランスフアゲートをpチャンネル型MOSFET
とするメモリセル構造を採用するものである。
In addition, data write and read operations can be performed asynchronously and independently for static memory cells coupled to the write bit line and the read bit line, with one relatively high power supply voltage level as the precharge level. Multi-port RA with write system and read system
In M, a write transfer gate for coupling the write bit line and the static memory cell is n.
A channel type MOSFET is used, and a p-channel type MOSFET is used as the readout 1 herans spread gate for coupling the readout bit line and the static memory cell.
The memory cell structure is as follows.

このとき、上記読み出し系に含まれるセンスアンプを、
差動アンプと、読み出しコモンデータ線のプリチャージ
レベルを上記差動アンプの動作点近傍にレベルシフトさ
せて上記差動アンプの入力端子に供給するレベルシフト
回路とを含めて構成するとよい。更に、読み出しビット
線を読み出しコモンデータ線に選択的に導通に制御する
ための読み出しセレクトスイッチをpチャンネル型MO
5FETにし、書き込みピント線を書き込みコモンデー
タ線に選択的に導通に制御するための書き込みセレクト
スイッチをnチャンネル型MOSFETにするとよい。
At this time, the sense amplifier included in the readout system is
It is preferable that the configuration includes a differential amplifier and a level shift circuit that level-shifts the precharge level of the read common data line to near the operating point of the differential amplifier and supplies the precharge level to the input terminal of the differential amplifier. Furthermore, a read select switch for selectively controlling the read bit line to be conductive to the read common data line is a p-channel type MO.
It is preferable to use an n-channel type MOSFET as a write select switch for selectively controlling the write focus line to be conductive to the write common data line.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、同一メモリセルに同じタイミン
グで書き込み動作と読み出し動作が行われるとき、伝達
手段が、書き込みデータを直接読み出し系のセンスアン
プやデータ出力バッファの入力に与えるため、このよう
にして読み出し系に与えられるデータは、書き込み優先
の条件を実質的に満足した状態で高速に外部に読み出さ
れ、メモリセルに対する書き込みはそれに並行して行わ
れる。
According to the above means, when a write operation and a read operation are performed on the same memory cell at the same timing, the transmission means directly supplies the write data to the input of the sense amplifier or data output buffer of the read system. The data given to the read system is read out at high speed while substantially satisfying the write priority condition, and writing to the memory cells is performed in parallel.

このとき、伝達手段を介して書き込みデータが与えら九
るセンスアンプは、本来のデータ読み出し動作タイミン
グに従って当該データを増幅出力するため、当該伝達手
段は、書き込みデータを読み出し系に伝達するタイミン
グを特別に制御する働きを要しない。
At this time, the sense amplifier to which write data is applied via the transmission means amplifies and outputs the data according to the original data read operation timing, so the transmission means specially sets the timing for transmitting the write data to the read system. No control is required.

書き込みコモンデータ線及び読み出しコモンデータ線が
共に相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルにプリ
チャージされている状態で書き込みデータが書き込み系
から読み出し系に与えられるとき、Pチャンネル型MO
SFETで構成された伝達手段はその相互コンダクタン
スが大きくされる結果、この大きな相互コンダクタンス
が、書き込みデータの伝達性能を高めるように働く。
When write data is applied from the write system to the read system with both the write common data line and the read common data line precharged to one relatively high power supply voltage level, the P-channel MO
As a result of the transmission means made up of SFETs having a large mutual conductance, this large mutual conductance works to improve the transmission performance of write data.

伝達手段が書き込みデータを読み出し系に与えるとき、
読み出しセレクタが全ての読み出しビット線を読み出し
コモンデータ線に対して非導通に制御するから、この非
導通状態が、このとき選択されるメモリセルデータと読
み出し系に与えられる書き込みデータとの競合を回避す
るように作用する。
When the transmission means gives write data to the read system,
Since the read selector controls all the read bit lines to be non-conductive with respect to the read common data line, this non-conductive state avoids conflict between the memory cell data selected at this time and the write data given to the read system. It acts like this.

書き込みビット線及び読み出しビット線が共に相対的に
レベルの高い一方の電源電圧レベルにプリチャージされ
ている状態でメモリセルデータが読み出しビット線に与
えられるとき、pチャンネル型MOSFETで構成され
た読み出しトランスファゲートはその相互コンダクタン
スが大きくされる結果、この大きな相互コンダクタンス
が、電源電圧近傍で変化するメモリセルデータの伝達性
能を高めるように働く。また、書き込み動作では、プリ
チャージレベルからディスチャージされる書き込みビッ
ト線につながるnチャンネル型MOSFETで構成され
た書き込みトランスファゲートはその相互コンダクタン
スが大きくされる結果、この大きな相互コンダクタンス
が、電源電圧からディスチャージされる書き込みビット
線のレベル変化さらにはディスチャージ到達レベルをス
タティックラッチ回路に伝達する性能を高めるように働
く。同様に、pチャンネル型MOSFETによって構成
される読み出しセレクトスイッチ、並びにnチャンネル
型MOSFETによって構成される書き込みセレクトス
イッチも動作時に相互コンダクタンンスが大きくされ、
この大きな相互コンダクタンスが信号伝達性能を高める
ように働く。
When memory cell data is applied to the read bit line in a state where both the write bit line and the read bit line are precharged to one of the relatively high power supply voltage levels, the read transfer transistor configured with a p-channel MOSFET As a result of the gate having a large mutual conductance, this large mutual conductance works to improve the transmission performance of memory cell data that changes near the power supply voltage. Furthermore, in a write operation, the write transfer gate, which is composed of an n-channel MOSFET connected to the write bit line that is discharged from the precharge level, has a large mutual conductance, and as a result, this large mutual conductance is discharged from the power supply voltage. It works to improve the performance of transmitting the level change of the write bit line and the level reached by the discharge to the static latch circuit. Similarly, the read select switch composed of a p-channel type MOSFET and the write select switch composed of an n-channel type MOSFET have a large mutual conductance during operation.
This large transconductance works to improve signal transmission performance.

センスアンプに含まれるレベルシフト回路は、読み出し
コモンデータ線に与えられる電源電圧近傍の微小なレベ
ル変化を、差動アンプの増幅動作上張も高感度となる動
作点付近でのレベル変化に変換するから、このレベルシ
フトされた電圧を受ける差動アンプは、負荷容量の大き
な読み出しビット線や読み出しコモンデータ線自体が差
動アンプの動作点近傍に到達するのを待つことなくその
増幅動作を高速に確定する。
The level shift circuit included in the sense amplifier converts minute level changes near the power supply voltage applied to the read common data line into level changes near the operating point where the amplification operation of the differential amplifier becomes highly sensitive. Therefore, the differential amplifier that receives this level-shifted voltage speeds up its amplification operation without waiting for the read bit line or read common data line itself, which has a large load capacitance, to reach the vicinity of the differential amplifier's operating point. Determine.

〔実施例1〕 第1図には本発明の一実施例であるスタティック型2ポ
ート RA Mのブロック図が示されている。
[Embodiment 1] FIG. 1 shows a block diagram of a static 2-port RAM which is an embodiment of the present invention.

同図に示される2ポ一トRAMは、特に制限されないが
、公知のMO8集積回路製造技術によって単結晶シリコ
ンのような1個の半導体基板に形成される。
The two-point RAM shown in the figure is formed on one semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known MO8 integrated circuit manufacturing technique, although this is not particularly limited.

先ず、本実施例の2ポー1〜RA、 Mの概要を説明す
ると、メモリセルアレイ1を構成するメモリセルは、ス
タティックラッチ回路のデータ入出力端子に書き込みト
ランスファゲートと読み出しトランスフアゲ−1−とを
結合して成り、メモリセルに対しては、書き込みビット
線を介して書き込みトランスファゲートに結合する書き
込み系、及び読み出しビット線を介して読み出しトラン
スファゲートに結合する読み出し系を夫々介して、デー
タの書き込み動作と読み出し動作を非同期で独立に行い
得るようにされている。
First, to explain the outline of the two ports 1 to RA, M of this embodiment, the memory cells forming the memory cell array 1 have a write transfer gate and a read transfer gate 1- connected to the data input/output terminals of the static latch circuit. Data is written to the memory cell through a write system coupled to a write transfer gate via a write bit line, and a read system coupled to a read transfer gate via a read bit line. The operation and read operation can be performed asynchronously and independently.

本実施例に従えば、書き込み系は、書き込みビット線を
選択的に書き込みコモンデータ線CDw。
According to this embodiment, the write system selectively writes the write bit line to the write common data line CDw.

CDwに導通制御する書き込みYセレクタ2、及び書き
込みコモンデータ線CDw、CDwを書き込みデータD
inに従って相補レベルに駆動する書き込みデータ1−
ライム3などによって構成される。読み出し系は、読み
出しビット線を選択的に読み出しコモンデータ線CDr
、CDrに導通制御する読み出しYセレクタ4、読み出
しコモンデータ線CDr、CDrに与えられる電位差を
検出−15= して増幅するセンスアンプ5、このセンスアンプ5の出
力を保持する出力ラッチ回路6、及び出カバソファ回路
7などによって構成される。
Write Y selector 2 that controls conduction to CDw, and write common data lines CDw and CDw to write data D
Write data 1- driven to complementary level according to in
It is composed of Lime 3 and others. The read system selectively reads the read bit lines and connects them to the common data line CDr.
, a read Y selector 4 that controls conduction to CDr, a read common data line CDr, a sense amplifier 5 that detects and amplifies the potential difference applied to CDr, an output latch circuit 6 that holds the output of the sense amplifier 5, and It is composed of an output sofa circuit 7 and the like.

読み出し系と書き込み系に対する動作タイミングもしく
は動作サイクルは、特に制限されないが、基本的に読み
出し動作のためのリードクロックCER及び書き込み動
作のためのライI〜クロックCEWによって規定され、
リードクロックCER及びライトクロyりCEWは、タ
ロツク同期形式のRAMにおけるチップイネーブル信号
としての意味を持つ。このリートクロックCER及びラ
イ1へタロツクCEWは非同期クロックであり、その供
給条件や内部さらには外部における遅延条件などによっ
て相互の位相関係が決定される。これにより、読み出し
サイクルと書き込みサイクルが完全に又は部分的に重な
ることが一般的に想定され、したがって、同一メモリセ
ルに対して完全同一もしくは部分的に重なったタイミン
グで書き込み動作と読み出し動作が行われることがある
The operation timing or operation cycle for the read system and the write system is not particularly limited, but is basically defined by the read clock CER for the read operation and the write I to clock CEW for the write operation,
The read clock CER and the write clock CEW have a meaning as chip enable signals in a tarlock-synchronized RAM. The read clock CER and read 1 lock CEW are asynchronous clocks, and their mutual phase relationship is determined by their supply conditions and internal and external delay conditions. As a result, it is generally assumed that read cycles and write cycles completely or partially overlap, and therefore write and read operations are performed on the same memory cell at completely the same or partially overlapped timing. Sometimes.

この点につき、本実施例の多ボー1− RA Mにおい
ては、アドレス一致検出回路8が書き込みアドレスΔW
、〜Awnと読み出しアドレスAr1〜Arnの一致を
検出することに呼応して、外部から書き込み系に与えら
れる書き込みデータを伝達手段としての短絡回路9を介
して直接読み出し系の読み出しコモンデータ線CDr、
CDrに与えるようになっている。この短絡回路9を介
して読み出しコモンデータ線CDr、CDrに与えられ
る書き込み情報は、センスアンプ5に供給される。
Regarding this point, in the multi-baud 1-RAM of this embodiment, the address coincidence detection circuit 8 detects the write address ΔW.
, ~Awn and the read addresses Ar1 to Arn, the write data given to the write system from the outside is directly transferred to the read common data line CDr of the read system via the short circuit 9 serving as a transmission means.
It is designed to be given to CDr. Write information applied to the read common data lines CDr, CDr via this short circuit 9 is supplied to the sense amplifier 5.

このようにして読み出し系に与えられる情報は、書き込
み優先の条件を実質的に満足した状態で高速に外部に読
み出され、アクセス対象メモリセルに対する書き込みは
それに並行して行われる。
The information given to the read system in this way is read out at high speed while substantially satisfying the write priority condition, and writing to the memory cell to be accessed is performed in parallel.

したがって、同一メモリセルに対して完全同一もしくは
部分的に重なったタイミングで書き込み動作と読み出し
動作が行われる場合にも、データの読み出し動作速度は
低下しないから、同一メモリセルへの書き込み及び読み
出しの同じアクセスを禁止するという制限条件を設ける
ことなく2ポ一トRAMを高速アクセスで利用すること
ができるようになる。
Therefore, even if a write operation and a read operation are performed on the same memory cell at completely the same or partially overlapping timing, the data read operation speed will not decrease. It becomes possible to use a 2-point RAM with high-speed access without setting a restrictive condition that prohibits access.

以下2ポートRAMの詳細を説明する。The details of the 2-port RAM will be explained below.

上記メモリセルアレイ1の詳細は第2図に示される。Details of the memory cell array 1 are shown in FIG.

メモリセル10は、特に制限されないが、相補型MO8
(以下単にCMO8とも記す)スタティックラッチ回路
をその基本構成とする。スタティックラッチ回路は、P
チャンネル型M OS F E TQlとNチャンネル
型MOSFETQ2とによって構成される1対のCMO
Sインバータ回路の一方の入力端子と他方のCMOSイ
ンバータ回路の出力端子を互いに交差結合して構成され
る。
Although not particularly limited, the memory cell 10 may be a complementary MO8
Its basic configuration is a static latch circuit (hereinafter simply referred to as CMO8). The static latch circuit is P
A pair of CMOs composed of a channel type MOSFETQl and an N-channel type MOSFETQ2
It is constructed by cross-coupling one input terminal of the S inverter circuit and the output terminal of the other CMOS inverter circuit.

上記MOSFETQIとQ2の夫々の結合ノードには、
2組のNチャンネル型M OS F E T Q 3 
At each coupling node of MOSFETQI and Q2,
2 sets of N-channel type MOS FET Q3
.

Q4.、Q5.Q6が結合される。MOSFETQ3及
びQ4は書き込みトランスファゲートとされ、MO5F
ETQ5及びQ6は読み出しトランスファゲートとされ
る。第2図には1個のメモリセルが代表的に示されてい
るが、実際にはX、Y方向に複数個のメモリセル]Oが
マトリクス配置されている。
Q4. , Q5. Q6 is combined. MOSFETQ3 and Q4 are used as write transfer gates, MOSFET
ETQ5 and Q6 are read transfer gates. Although one memory cell is representatively shown in FIG. 2, a plurality of memory cells]O are actually arranged in a matrix in the X and Y directions.

マトリクス配置されたメモリセル1− OB二おける書
き込みトランスファゲートを構成するMO3FETQ3
.Q4のゲート電極は、X方向毎に書き込み用ワード線
WLwα(α=、〜2I)に結合され、また、読み出し
トランスファゲートを構成するMOSFETQ5.Q6
のゲート電極は、X方向毎に読み出し用ワード線WL 
rαに結合される。
MO3FETQ3 forming write transfer gate in memory cells 1-OB2 arranged in matrix
.. The gate electrode of MOSFET Q4 is coupled to the write word line WLwα (α=, ~2I) in each X direction, and is connected to the MOSFET Q5.Q4 that constitutes the read transfer gate. Q6
The gate electrode is connected to the read word line WL for each X direction.
It is coupled to rα.

そして、マトリクス配置されたメモリセル10における
書き込みトランスファゲートを構成するMOSFETQ
3.Q4のトレイン又はソース電極の一方の電極は、Y
方向毎に書き込みビット線BLwβ、BLwβ(β=1
〜2 + n −11)に結合され、また、読み出しト
ランスファゲートを構成するMOSFETQ5.Q6の
トレイン又はソース電極の一方の電極は、Y方向毎に読
み出しビット線BLrβ、BLrβに結合される。
Then, MOSFETQ constituting the write transfer gate in the memory cells 10 arranged in a matrix
3. One of the train or source electrodes of Q4 is Y
Write bit lines BLwβ, BLwβ (β=1
~2 + n -11) and also constitutes a read transfer gate. One of the train or source electrodes of Q6 is coupled to read bit lines BLrβ and BLrβ in each Y direction.

上記読み出し用ワード線WLr1〜WLr2Iの選択制
御は第1図に示される読み出しXアドレスバッファ13
、読み出しXアドレスデコーダ14゜及び読み出しワー
ドトライバ15によって行われる。
The selection control of the read word lines WLr1 to WLr2I is performed by the read X address buffer 13 shown in FIG.
, a read X address decoder 14° and a read word driver 15.

読み出しXアドレスバッファ13は、読み出しアドレス
信号Ar、〜Ariを相補アドレス信号a r、、 a
 rl−a ri、 a r]に変換して読み出しXア
ドレスデコーダ14に供給する。第4図には当該アドレ
スバッファJ3の]−ビット分の構成例が示され、アド
レスビットArαを直列3段のCMOSインバータ回路
16〜18により反転させて反転ビットarαを形成す
ると共に、直列2段のCMOSインバータ回路」6及び
17により正転ビットarαを形成する。
The read X address buffer 13 converts the read address signals Ar, ~Ari into complementary address signals a r, , a
rl-ari, a r] and supplied to the read X address decoder 14. FIG. 4 shows an example of the configuration of the address buffer J3 corresponding to ]-bits, in which the address bit Arα is inverted by CMOS inverter circuits 16 to 18 in three stages in series to form an inverted bit arα, and The CMOS inverter circuits 6 and 17 form a normal bit arα.

読み出しXアドレスデコーダ14は、読み出しXアドレ
スバッファ13から供給される相補アドレス信号ar、
、ar1 ari、ariをデコードして読み出し用ワ
ード線WLr□〜WLr2+の中から1本を選択するた
めの選択信号WSr1〜WSr、量を形成する。
The read X address decoder 14 receives complementary address signals ar, which are supplied from the read X address buffer 13.
, ar1 ari, ari are decoded to form selection signals WSr1 to WSr for selecting one of the read word lines WLr□ to WLr2+.

第5図には読み出しXアドレスデコーダ14の構成例が
示される。第5図に示される読み出しXアドレスデコー
ダ14は、特に制限されないが、読み出し用ワード線の
4ピツチ毎にナントゲート19が設けられ、各ナントゲ
ート19には内部相補アドレス信号ar3.ar3〜a
ri、ar;の所定ビットが供給され、この供給ビット
のレベルの組合せに応して1つのナントゲート19の出
力がローレベルにされるようになっている。1つのナン
トゲート19の出力は4本のワード線を1単位とするブ
ロック選択に利用され、この1.単位ブロックに含まれ
る4本のワード線の中から1本を選択するには、下位2
ビットar□、arよ、ar218r2のアンド論理に
よるデコード結果を利用する。例えば、そのデコード結
果として得られる4種類の信号を夫々個別的にゲート電
極に受けるNチャンネル型MOSFETQIO−Q13
を1つのナントゲート19の出力端子に共通接続するこ
とにより、MOSFETQIOが読み出し用ワード線W
Lr工に対応するワード線選択信号WSr、の出力ゲー
トとされ、同様にMOSFETQ11が読み出し用ワー
ド線WLr2に対応するワ−1・線選択信号WSr2の
出力ゲー1〜、MO3FE T Q l 2が読み出し
用ワード線W I−r 3に対応するワード線選択信号
WSr、の出力ゲー1〜、MO3FETQ13が読み出
し用ワード線W L r 、。
FIG. 5 shows an example of the configuration of the read X address decoder 14. The read X address decoder 14 shown in FIG. 5 is provided with a Nant gate 19 for every four pitches of the read word line, although this is not particularly limited, and each Nant gate 19 has an internal complementary address signal ar3. ar3~a
Predetermined bits of ri, ar; are supplied, and the output of one Nant gate 19 is set to a low level in accordance with the combination of levels of the supplied bits. The output of one Nant gate 19 is used to select a block of four word lines as one unit. To select one of the four word lines included in a unit block, select the lower two word lines.
The result of decoding by AND logic of bits ar□, ar, and ar218r2 is used. For example, an N-channel MOSFET QIO-Q13 receives four types of signals obtained as a result of decoding on its gate electrode individually.
is commonly connected to the output terminal of one Nant gate 19, MOSFETQIO is connected to the read word line W
Similarly, MOSFETQ11 is used as the output gate for the word line selection signal WSr corresponding to the word line WLr2 for reading, and MOSFETQ11 is used as the output gate for the word line selection signal WSr2 corresponding to the word line WLr2 for reading. The output gates of the word line selection signal WSr corresponding to the word line W I-r 3 and the MO3FET Q13 are the read word line W L r .

に対応するロー1(線選択信号WSr4の出力ゲー1〜
とされる。
Low 1 (output gate 1 to line selection signal WSr4) corresponding to
It is said that

−」二記読み出しワードトライバ」−5は、上記読み出
しXアドレスデコーダ14から供給されるワード線選択
信号WSr、〜WSr2+に基ついて所定1本の読み出
し用ワード線をハイレベルのような選択レベルに駆動す
る。
-"2 read word driver" -5 sets a predetermined one read word line to a selection level such as a high level based on the word line selection signals WSr, ~WSr2+ supplied from the read X address decoder 14. Drive to.

第6図には読み出しワードトライバ15の構成例が示さ
れる。当該ワードドライバ15は、特に制限されないが
、リードクロックCERをゲート電極に受けるnチャン
ネル型ゲートMO3FETQ ]、 5を介してワード
線選択信号WSrαを反転駆動するドライブインバータ
回路20を備える。
FIG. 6 shows an example of the configuration of the read word driver 15. Although not particularly limited, the word driver 15 includes a drive inverter circuit 20 that inverts and drives the word line selection signal WSrα via an n-channel gate MO3FETQ, which receives the read clock CER at its gate electrode.

さらにこのドライブインバータ回路20の入力には、リ
ートクロックCERのローレベルによって指示されるプ
リチャージ期間にワード線を非選択レベルに強制するた
めのpチャンネル型MOSFETQ16と、ワード線選
択信号WSrαにより指示される駆動タイミングまでそ
の状態を保持するためのPチャンネル型MO3FETQ
17が結合されている。
Further, at the input of this drive inverter circuit 20, there is a p-channel type MOSFET Q16 for forcing the word line to a non-select level during the precharge period indicated by the low level of the read clock CER, and a p-channel MOSFET Q16 for forcing the word line to a non-select level, which is indicated by the word line selection signal WSrα. P-channel type MO3FETQ to maintain the state until the drive timing
17 are combined.

上記書き込み用ワード線W L w□〜WLw、+の選
択制御は第1図の書き込みXアドレスバッファ21、書
き込みXアドレスデコーダ22、及び書き込みワードト
ライバ23によって行われる。
Selection control of the write word lines WLw□ to WLw, + is performed by the write X address buffer 21, write X address decoder 22, and write word driver 23 shown in FIG.

上記書き込みXアドレスバッファ21は、書き込みアド
レス信号Aw工〜Aw]を相補アドレス信号a ’N1
y a W1〜a W l + a W□に変換して出
力するもので、第4図と同様に構成することができる。
The write X address buffer 21 converts the write address signal Aw to the complementary address signal
It converts and outputs y a W1 to a W l + a W□, and can be configured similarly to that shown in FIG. 4.

書き込みXアドレスデコーダ22は上記書き込みXアド
レスバッファ21から供給される相補アドレス信号aw
1.aw、−awi、awiをデコードして書き込み用
ワード線WLw1〜WLW、Iの中から所定の1本を選
択するための書き込みワード線選択信号WSw1〜WS
w2Iを形成する。このための選択論理としては第5図
の構成と同様の論理を採用することができる。
The write X address decoder 22 receives the complementary address signal aw supplied from the write X address buffer 21.
1. Write word line selection signals WSw1 to WS for decoding aw, -awi, awi and selecting a predetermined one from write word lines WLw1 to WLW, I
Form w2I. As selection logic for this purpose, logic similar to the configuration shown in FIG. 5 can be adopted.

上記書き込みワードドライバ23は上記書き込みXアド
レスデコーダ22から供給されるワード線選択信号WS
w、〜WSw2+に基づいて所定1本の書き込み用ワー
ド線をハイレベルのような選択レベルに駆動するもので
、第6図と同様に構成することができる。
The write word driver 23 receives a word line selection signal WS supplied from the write X address decoder 22.
A predetermined one write word line is driven to a selection level such as a high level based on w, ~WSw2+, and can be configured in the same manner as in FIG. 6.

第1図及び第2図において11はプリチャージ回路であ
る。
In FIGS. 1 and 2, 11 is a precharge circuit.

プリチャージ回路11は、読み出し又は書き込み動作前
に、」二記読み出しビット線BLrβ、BLrβ及び書
き込みビット線BLwβ、BLwβを、相対的にレベル
の高い一方の電源電圧Vddにプリチャージするもので
ある。このプリチャージ回路11は、電源電圧Vddを
ソース電極に受ける1対のPチャンネル型プリチャージ
MOSFETQ8のトレイン電極が読み出しビット線B
 Lrβ、BLrβの一端部に結合され、また、電源電
圧Vddをソース電極に受ける1対のPチャンネル型プ
リチャージMOSFETQ9のトレイン−24= 電極が書き込みビット線BLwβ、BLwβの一端部に
結合されて構成される。プリチャージMOSFETQ8
は、上記リートクロックCERによりスイッチ制御され
、このリードクロックCERのローレベルによって指示
されるプリチャージ期間に呼応してオン状態に制御され
ることにより、読み出しビット線BLrβ、BLrβを
電源電圧Vddにプリチャージする。一方プリチャージ
MOSFETQ9は上記ライトクロックCEWによりス
イッチ制御され、このライトクロックCEWのロー1ノ
ベルによって指示されるプリチャージ期間に呼応してオ
ン状態に制御されることにより、書き込みビット線BL
wβ、BLwβを電源電圧Vddにプリチャージする。
The precharge circuit 11 precharges the read bit lines BLrβ, BLrβ and the write bit lines BLwβ, BLwβ to one relatively high power supply voltage Vdd before a read or write operation. In this precharge circuit 11, the train electrode of a pair of P-channel precharge MOSFETQ8 whose source electrode receives the power supply voltage Vdd is connected to the read bit line B.
The train-24= electrodes of a pair of P-channel precharge MOSFETs Q9 are coupled to one ends of the write bit lines BLwβ and BLrβ and receive the power supply voltage Vdd at their source electrodes. be done. Precharge MOSFETQ8
is switch-controlled by the read clock CER, and is turned on in response to the precharge period instructed by the low level of the read clock CER, thereby pre-priming the read bit lines BLrβ and BLrβ to the power supply voltage Vdd. Charge. On the other hand, the precharge MOSFET Q9 is switch-controlled by the write clock CEW, and is controlled to be on in response to the precharge period instructed by the low 1 novel of the write clock CEW, so that the write bit line BL
Precharge wβ and BLwβ to power supply voltage Vdd.

書き込みビット線BLwβ、BLwβ及び読み出しビッ
ト線BLrβ、BLrβが電源電圧Vddにプリチャー
ジされると、詳細は後述するが書き込みコモンデータ線
CDw、CDw及び読み出しコモンデータ線CDr、C
Drも電源電圧Vddにプリチャージされる。この状態
におけるメモリセルデータの読み出し動作では、選択さ
れるメモリセルと導通にされる読み出しビット線並びに
読み出しコモンデータ線CDr、CDrは、メモリセル
の保有情報に応じてオン状態を採る一方の選択MOSF
ETQ2によるディスチャージ作用で電源電圧Vddか
ら微小なレベル変化を開始する。書き込み動作では、選
択されたメモリセルと導通にされる書き込みビット線並
びに書き込みコモンデータ線CDw、CDwの一方は書
き込みデータドライバ3の作用により、そのメモリセル
の保有情報を反転させるに足るレベルまで電源電圧Vd
clから接地電位Vssに向けてディスチャージされる
When the write bit lines BLwβ, BLwβ and the read bit lines BLrβ, BLrβ are precharged to the power supply voltage Vdd, the write common data lines CDw, CDw and the read common data lines CDr, C will be described in detail later.
Dr is also precharged to the power supply voltage Vdd. In the read operation of memory cell data in this state, the read bit line and the read common data line CDr, CDr, which are made conductive with the selected memory cell, are connected to one of the selected MOSFETs which is turned on according to the information held in the memory cell.
Due to the discharge action by ETQ2, a slight level change starts from the power supply voltage Vdd. In a write operation, one of the write bit line and write common data line CDw, CDw, which are brought into conduction with the selected memory cell, is powered up to a level sufficient to invert the information held in that memory cell by the action of the write data driver 3. Voltage Vd
cl is discharged toward the ground potential Vss.

」二記書き込みビット線BLw1.BLw、−BLw、
tn−++、 B L W2(Tl−11は第2図に示
されるように書き込みYセレクタ2を構成するnチャン
ネル型選択MOSFETQ20.Q20を介して書き込
みコモンデータ線CDw、CDwに共通接続される。読
み出しビット線BLr□、BLr、〜BLr2(n−口
、 B L r、(n−nは読み出しYセレクタ4を構
成するpチャンネル型選択MOSFETQ21.Q21
を介して読み出しコモンデータ線CDr、CDrに共通
接続される。
”2 Write bit line BLw1. BLw, -BLw,
tn-++, B L W2 (Tl-11 is commonly connected to the write common data lines CDw, CDw via n-channel type selection MOSFETs Q20 and Q20 forming the write Y selector 2, as shown in FIG. Read bit lines BLr□, BLr, ~BLr2 (n-hole, BLr, (nn is p-channel type selection MOSFET Q21.Q21 that constitutes the read Y selector 4)
It is commonly connected to read common data lines CDr and CDr via.

ここで、書き込みビット線BLwβ、BLwβ及び読み
出しビット線BLrβ、BLrβは共に相対的にレベル
の高い電源電圧Vddにプリチャージされる。別途書き
込みコモンデータ線CDw。
Here, the write bit lines BLwβ, BLwβ and the read bit lines BLrβ, BLrβ are both precharged to a relatively high level power supply voltage Vdd. Separately written common data line CDw.

CDw及び読み出しコモンデータ線CDr、CDrも電
源電圧Vddにプリチャージされる。この状態でメモリ
セルデータが読み出しビット線BLrβ、BLrβから
読み出しコモンデータ線CDr、CDrに与えられると
き、オン状態に制御されるpチャンネル型の選択MOS
FETQ21゜Q21はその相互コンダクタンスが大き
くされる結果、この大きな相互コンダクタンスが、電源
電圧Vcld近傍で変化するメモリセルデータの伝達性
能を高めるように働く。また、書き込み動作時では、書
き込みコモンデータ線CDw、CDwの一方は最終的に
電源電圧Vddのプリチャージレベルから回路の接地電
位Vssにディスチャジされ、そのようなディスチャー
ジレベルがメモリセルに伝達されることが書き込み動作
の信頼性を」二げる上で必要とされる。このときオン状
態に制御されるnチャンネル型の選択M OS F E
 TQ 20 。
CDw and read common data lines CDr and CDr are also precharged to the power supply voltage Vdd. In this state, when memory cell data is applied from the read bit lines BLrβ, BLrβ to the read common data lines CDr, CDr, the p-channel type selection MOS is controlled to be in the on state.
FETQ21°Q21 has a large mutual conductance, and as a result, this large mutual conductance works to improve the transmission performance of memory cell data that changes near the power supply voltage Vcld. Furthermore, during a write operation, one of the write common data lines CDw, CDw is finally discharged from the precharge level of the power supply voltage Vdd to the circuit ground potential Vss, and such discharge level is transmitted to the memory cell. is required to improve the reliability of write operations. At this time, the n-channel type selection MOS F E is controlled to be in the on state.
TQ 20.

Q20はその相互コンダクタンスが大きくされる結果、
この大きな相互コンダクタンスが、電源電圧Vddから
ディスチャージされる書ぎ込みコモンデータ線CDw、
CDwのレベル変化を書き込みビット線に伝達する性能
を高めるように働く。
As a result of increasing the mutual conductance of Q20,
This large mutual conductance causes the write common data line CDw to be discharged from the power supply voltage Vdd,
It works to improve the performance of transmitting the level change of CDw to the write bit line.

書き込みセレクタ2に含まれる選択MOSFETQ20
.Q20を介する書き込みピッ1−線BLWβ、BLw
βの選択制御は書き込みYアドレスバッファ24及び書
き込みYアドレスデコーダ25が行う。
Selection MOSFET Q20 included in write selector 2
.. Write pin 1-line BLWβ, BLw via Q20
The selection control of β is performed by the write Y address buffer 24 and the write Y address decoder 25.

上記書き込みYアドレスバッファ24は、書き込みアド
レス信号A w j −A w nを相補アドレス信号
a W J + a W J +a W n + a 
W nに変換して出力する。書き込みYアドレスデコー
ダ25は上記書き込みYアドレスバッファ24から供給
される相補アドレス信号a w j 、 a w j 
”−a w n 、 awnをデコートして書き込みビ
ット線BLw++B L wl−B L w2(n −
II 、 B Lw2tn −nの中から所定1対に対
応する選択MOSFETQ20゜Q20をオン状態に制
御するための書き込みビット線選択信号B L S w
l−B L S w2+n −uを形成する。例えば第
2図に示されるようにナントゲート26の出力をインバ
ータ回路27で反転して選択MOSFETQ20.Q2
0のゲーI〜電極に供給する構成を各書き込みピッ1〜
線対毎に設けて成る論理を採用することができる。斯る
アドレスデコード論理においては、書き込みアドレス信
号Aw j −A w nのレベルの組合せがどのよう
な状態でも何れか1つの書き込みビット線選択信号がハ
イレベルにされて1対の選択MOSFETQ20゜Q2
0がオン状態を採る。
The write Y address buffer 24 converts the write address signal A w j −A w n into a complementary address signal a W J + a W J + a W n + a
Convert to W n and output. The write Y address decoder 25 receives complementary address signals a w j , a w j supplied from the write Y address buffer 24 .
”-a w n , awn is decoded and the write bit line BLw++B L wl-B L w2(n −
II, BLw2tn - write bit line selection signal BLSW for controlling a predetermined pair of selection MOSFETs Q20゜Q20 to be in the on state;
l−B L S w2+n −u is formed. For example, as shown in FIG. 2, the output of the Nant gate 26 is inverted by an inverter circuit 27 and the selection MOSFET Q20. Q2
The configuration for supplying the gate I to electrode of 0 to each writing pin 1 to
Logic provided for each line pair can be employed. In such address decoding logic, no matter what the combination of levels of write address signals Aw j -A w n is, any one write bit line selection signal is set to high level and a pair of selection MOSFETs Q20゜Q2
0 takes the on state.

読み出しセレクタ4に含まれる選択MOSFETQ21
、Q21を介する読み出しビット線BLrβ、BLrβ
の選択制御は読み出しYアドレスバッファ28及び読み
出しYアドレスデコーダ29が行う。
Selection MOSFET Q21 included in read selector 4
, read bit lines BLrβ, BLrβ via Q21
The selection control is performed by the read Y address buffer 28 and the read Y address decoder 29.

読み出しYアドレスバッファ28は、読み出しアドレス
信号A r j −A r nを相補アドレス信号ar
、]、ar、]〜a rn、a rnに変換して出力す
る。読み出しYアドレスデコーダ29は上記読み出しY
アドレスバッファ28から供給される相補アドレス信号
arj、ar、j〜arn、arnをテコ−1−シて読
み出しビット線BLr□、BLr、〜B L r2tn
−n、 B L t、(n−++の中から所定1対に対
応する選択M、08FETQ21.Q21をオン状態に
制御するための読み出しピント線選択信号BLSr1〜
BLSr2+n−目を形成する。
The read Y address buffer 28 converts the read address signal A r j -A r n into a complementary address signal ar.
, ], ar, ] to a rn, a rn and output. The read Y address decoder 29 is the read Y address decoder 29.
Complementary address signals arj, ar, j~arn, arn supplied from the address buffer 28 are leveraged to read bit lines BLr□, BLr, ~BLr2tn
-n, B L t, (selection M corresponding to a predetermined pair from n-++, read focus line selection signal BLSr1~ for controlling 08FETQ21.Q21 to ON state
Form BLSr2+n-th.

例えば第2図に示されるようにナントゲート30の出力
を選択MOSFETQ21.Q2]のゲート電極に供給
する構成を各読み出しピッ1〜線対毎に設けて成る論理
を採用することができる。
For example, as shown in FIG. 2, the output of the Nant gate 30 is selected by the MOSFET Q21. It is possible to adopt a logic in which a configuration for supplying the gate electrode of Q2] is provided for each readout pin 1 to each line pair.

本実施例において、読み出しYアドレスデコーダ29に
含まれる各ナンドゲ−1−30には上記アドレス一致検
出回路8の検出信号ACが供給される。この検出信号A
Cは一致のときにローレベル、不一致のときにハイレベ
ルとされる。従って書き込みアドレスAw1〜Awnと
読み出しアドレスAr、〜A r nが一致する場合に
はナントゲート30の出力はハイレベルに強制され、こ
れによって読み出しYセレクタ4に含まれる全ての選択
MOSFETQ21.Q21がオフ状態にされて、読み
出しコモンデータ線CDr、CDrは全ての読み出しビ
ット線B L r2. B L rl−B L r2f
n−”+ B L r2+n−nから切り離され6゜シ
タ力って、書き込みアドレスと読み出しアドレスが一致
するときに書き込みコモンデータ線CDw、CDwに与
えられる書き込みデータが短絡回路9を介して読み出し
コモンデータ線CDr、CDrに伝達されるとき、全て
の読み出しビット線が読み出しコモンデータ線CD r
 、 CD rに対して非導通にされるから、この非導
通制御状態が、このとき選択されるメモリセルの読み出
しデータと読み出し系に与えられる書き込みデータとの
競合を回避するように作用する。
In this embodiment, each NAND game 1-30 included in the read Y address decoder 29 is supplied with the detection signal AC of the address coincidence detection circuit 8. This detection signal A
C is set to a low level when there is a match, and set to a high level when there is a mismatch. Therefore, when the write addresses Aw1 to Awn and the read addresses Ar, to A r n match, the output of the Nant gate 30 is forced to a high level, thereby all selection MOSFETs Q21 . Q21 is turned off, read common data lines CDr, CDr are connected to all read bit lines B L r2 . B L rl-B L r2f
When the write address and the read address match, the write data applied to the write common data lines CDw and CDw is connected to the read common through the short circuit 9. When transmitted to the data lines CDr, CDr, all the read bit lines are connected to the read common data line CDr.
, CDr, this non-conducting control state acts to avoid conflict between the read data of the memory cell selected at this time and the write data applied to the read system.

尚、書き込みアドレスAw□〜Awnと読み出しアドレ
スAr□〜Arnが一致しない状態では、−3]− 読み出しアドレス信号A r 、j〜Arnのレベルの
組合せがどのような状態でも何れか1つの読み出しビッ
ト線選択信号がハイレベルにされて1対の選択MOSF
ETQ21.Q21がオン状態を採ることにより、読み
出しビット線BLr□、BLrx〜B L r、fn−
++ 、 B L I”2(η−++が電源電圧Vdd
にプリチャージされると、これに呼応して読み出しコモ
ンデータ線CDr、CDrも電源電圧Vddにプリチャ
ージされる。
Note that in a state where the write addresses Aw□ to Awn and the read addresses Ar□ to Arn do not match, -3]- No matter what the combination of levels of the read address signals A r and j to Arn is, any one read bit is read. When the line selection signal is set to high level, a pair of selection MOSFs
ETQ21. By turning on Q21, the read bit lines BLr□, BLrx~BLr, fn-
++, B L I"2 (η-++ is the power supply voltage Vdd
In response to this, the read common data lines CDr and CDr are also precharged to the power supply voltage Vdd.

第2図において書き込みコモンデータ線CDw。In FIG. 2, the write common data line CDw.

CDwと読み出しコモンデータ線CDr、CDrを選択
的に導通にする短絡回路9は1対のpチャンネル型伝達
MOSFETQ22.Q22により構成される。コノ伝
達M OS F ET Q 22 、 Q 22は、」
二記検出信号ACをゲート電極に受けてスイッチ制御さ
れる。
A short circuit 9 that selectively conducts CDw and read common data lines CDr, CDr is a pair of p-channel type transmission MOSFETs Q22. It is composed of Q22. Kono transmission MOS FET Q22, Q22 is
The switch is controlled by receiving the second detection signal AC at the gate electrode.

オン状態に制御される伝達MOSFETQ22゜Q22
を介して書き込みデータが読み出しコモンデータ線CD
r、CDrに伝達されるとき、書き込みコモンデータ線
CDw、CDw及び読み出しコモンデータ線CD r 
、 CD rは共に書き込み電圧になる。このとき、オ
ン状態に制御されているpチャンネル型の伝達MOSF
ETQ22.Q22はその相互コンダクタンスが大きく
される結果、この大きな相互コンダクタンスが、電源電
圧Vdd近傍から変化する書き込みコモンデータ線CD
w、CDwの相補的レベル変化の伝達性能を高めるよう
に働く。
Transfer MOSFET Q22゜Q22 controlled to be on-state
The write data is read through the common data line CD
r, CDr, write common data lines CDw, CDw and read common data line CDr
, CDr are both write voltages. At this time, the p-channel type transmission MOSF that is controlled to be in the on state
ETQ22. As a result of the mutual conductance of Q22 being increased, this large mutual conductance changes from the vicinity of the power supply voltage Vdd to the write common data line CD.
It works to improve the transfer performance of complementary level changes of w and CDw.

第7図には書き込みデータドライバ3の一例が示される
FIG. 7 shows an example of the write data driver 3.

この書き込みデータドライバ3は、駆動出力段として2
個の2人力型ナントゲート31,32を備え、一方のナ
ントゲート31には書き込みデータDinが直列2段の
CMOSインバータ33゜34を通して供給され、他方
のナントゲート32には書き込みデータDinの反転レ
ベルが上記CMOSインバータ33を介して供給される
。ナントゲート31,32による出力制御は、上記ライ
トクロックCEWとハイレベルで書き込み動作を指示す
るためのライトイネーブル信号WEによって行われる。
This write data driver 3 has two drive output stages.
The write data Din is supplied to one Nant gate 31 through two series CMOS inverters 33 and 34, and the other Nant gate 32 is supplied with the inverted level of the write data Din. is supplied via the CMOS inverter 33. Output control by the Nant gates 31 and 32 is performed by the write clock CEW and the write enable signal WE for instructing a write operation at a high level.

そのための制御論理は、直列2段のCMOSインバータ
35.36を通してライ(−イネーブル信号WEが供給
されると共にライトクロックCEWが供給される2人力
型ナントゲート3フを備え、このナントゲート37の出
力をCMOSインバータ38で反転して上記1対のナン
ドケート31及び32の夫々他方の入力端子に供給する
ようにされて成る。
The control logic for this includes a two-manufactured Nantes gate 3F which is supplied with a write enable signal WE and a write clock CEW through two series CMOS inverters 35 and 36, and the output of this Nantes gate 37. is inverted by a CMOS inverter 38 and supplied to the other input terminal of the pair of NAND gates 31 and 32, respectively.

この書き込みデータドライバ3は、上記ライトイネーブ
ル信号WE及びライ1へタロツクCEWが共にハイレベ
ルにされるとき、書き込みデータDinに従って書き込
みコモンデータ線CDw、CDwを相補レベルに駆動す
る。それ以外の場合には書き込みコモンデータ線CDw
、CDwを共にプリチャージレベルに等しい電源電圧V
ddに強制する。
The write data driver 3 drives the write common data lines CDw and CDw to complementary levels in accordance with the write data Din when the write enable signal WE and the write 1 lock CEW are both set to high level. In other cases, write common data line CDw
, CDw are both equal to the precharge level at a power supply voltage V
Force to dd.

第8図にはアドレス−数構出回路8の一例が示される このアドレス−数構出回路8は、相補書き込みアドレス
a w、、 a w、〜a wn 、 a wnと相補
読み出しアドレスar1.ar1〜arn、arnとを
対応するビット毎に夫々排他的論理和40によりその一
致を判別し、各ビットの一致をノアゲート41で判定す
るようになっている。書き込みアドレスと読み出しアド
レスが全て一致する場合にはノアゲー1〜41の出力は
ハイレベルにされる。
FIG. 8 shows an example of the address-number construction circuit 8. This address-number construction circuit 8 has complementary write addresses aw,, aw, ~awn, awn and complementary read addresses ar1. Matching of ar1 to arn and arn is determined by an exclusive OR 40 for each corresponding bit, and a NOR gate 41 determines whether each bit matches. When the write address and the read address all match, the outputs of the NOR games 1 to 41 are set to high level.

このとき、同一メモリセルに対して概ね同じタイミング
で書き込み動作と読み出し動作が行われる場合以外に誤
って伝達MOSFETQ22.Q22がオン状態にさる
虞を回避するため、ノアゲルト41の出力はライトクロ
ックCEWとともにナントゲート42に入力され、これ
によるナンド論理を経て検出信号ACが形成されるよう
になっている。
At this time, unless a write operation and a read operation are performed on the same memory cell at approximately the same timing, the transmission MOSFETQ22. In order to avoid the possibility of Q22 turning on, the output of the Norgelt 41 is input to the Nand gate 42 together with the write clock CEW, and the detection signal AC is formed through the NAND logic.

第3図には−J−、記センスアンプ5の一例が示される
FIG. 3 shows an example of the sense amplifier 5 shown in FIG.

このセンスアンプ5は、読み出しコモンデータ線CDr
、CDrにおいてプリチャージレベルである電源電圧V
dd近傍から生ずる相補的レベル変化を検出して増幅す
る差動アンプ50を含むが、その前段には、読み出しコ
モンデータ線CD r 。
This sense amplifier 5 is connected to the read common data line CDr.
, the power supply voltage V which is the precharge level in CDr
It includes a differential amplifier 50 that detects and amplifies complementary level changes occurring near dd.

CDrに生ずる電源電圧Vdd近傍の上記微小なレベル
変化を、差動アンプ50の増幅動作上吊も高感度となる
動作点付近でのレベル変化に変換して、これを差動アン
プ50の入力端子に与えるレベルシフト回路51が設け
られて成る。
The above-mentioned minute level change near the power supply voltage Vdd occurring in the CDr is converted into a level change near the operating point where the amplification operation of the differential amplifier 50 is also highly sensitive, and this is applied to the input terminal of the differential amplifier 50. A level shift circuit 51 is provided.

上記差動アンプ50は、特に制限されないが、ソース電
極の共通接続端が電流源としてのNチャンネル型パワー
スイッチMO8I?ETQ30を介して接地電位Vss
に接続された差動対を成す一対のNチャンネル型入力M
OSFETQ31.Q32を有し、入力MOSFETQ
31.Q32のドレイン電極の夫々に、カレントミラー
負荷を構成するPチャンネル型MC)SFETQ33.
Q34のドレイン電極を接続して成る。カレン1〜ミラ
ー負荷を構成する■〕チャンネル型MOSFETQ33
、Q34のソース電極は電源電圧Vddに接続され、そ
れらゲート電極の共通接続端は入力MOSFETQ31
のドレイン電極に結合される。
Although not particularly limited, the differential amplifier 50 is an N-channel power switch MO8I? whose common connection end of the source electrode serves as a current source. Ground potential Vss via ETQ30
A pair of N-channel type inputs M forming a differential pair connected to
OSFETQ31. Q32, input MOSFET Q
31. A P-channel type MC SFET Q33.
It is formed by connecting the drain electrode of Q34. Karen 1~Channel type MOSFET Q33 that constitutes the mirror load
, Q34's source electrodes are connected to the power supply voltage Vdd, and the common connection end of their gate electrodes is connected to the input MOSFET Q31.
is coupled to the drain electrode of.

差動アンプ50の一対の入力端子は入力MOSFETQ
31.Q32のゲート電極とされる。差動アンプ50の
出力端子はMOSFETQ32とQ34との結合ドレイ
ン電極とされ、出力インバータ52の入力端子に結合さ
れる。差動アンプ50の出力電圧が出力インバータ52
で検出可能なレベルに到達することにより、この出力イ
ンバータ52の出力が確定される。
A pair of input terminals of the differential amplifier 50 are input MOSFETQ
31. This is used as the gate electrode of Q32. The output terminal of the differential amplifier 50 serves as the combined drain electrode of MOSFETs Q32 and Q34, and is coupled to the input terminal of the output inverter 52. The output voltage of the differential amplifier 50 is output from the output inverter 52.
The output of this output inverter 52 is determined by reaching a detectable level.

上記パワースイッチMOSFETQ30はそのゲート電
極に供給さ九るリードクロックCEHによってスイッチ
制御される。パワースイッチMOSFETQ30はリー
ドクロックCERのハイレベルによりオン動作して差動
アンプ50を活性化する。尚、差動アンプ50の出力端
子は、差動アンプ50の非活性化に呼応して、Pチャン
ネル型MOSFETQ35により電源電圧VddL/ベ
ルに充電されるようになっている。
The power switch MOSFET Q30 is switch-controlled by a read clock CEH supplied to its gate electrode. The power switch MOSFET Q30 is turned on by the high level of the read clock CER to activate the differential amplifier 50. The output terminal of the differential amplifier 50 is charged to the power supply voltage VddL/bell by the P-channel MOSFET Q35 in response to the inactivation of the differential amplifier 50.

差動アンプ50が活性化されて入力端子に相補信号が与
えられると、MOSFETQ31.Q32の夫々に流れ
るドレイン・ソース間電流が相違され、これにより、M
OSFETQ31の1〜レイン・ソース間電流はMOS
FETQ33のソース・1zレイン間電圧を変化させ、
この変化とMO3FTE T Q 32のドレイン・ソ
ース間電流の変化によってMOSFETQ34のソース
・ドレイン間電圧が決定される。例えば、MOSFET
Q31のゲート入力電圧がMOSFETQ32のゲート
入力電圧よりも高い場合には、差動アンプ50の増幅出
力とされるMOS FETQ32のドレイン電圧はMO
SFETQ31のドレイン電圧に比へて高くされる。逆
にMO3FETQ32のゲート入力電圧がMO5FET
Q31のゲート入力電圧よりも高い場合には、差動アン
プ50の増幅出力とされるMOSFETQ32のドレイ
ン電圧はMOSFETQ31のドレイン電圧に比へて低
くされる。
When the differential amplifier 50 is activated and a complementary signal is applied to the input terminal, MOSFETQ31. The drain-source current flowing through each of Q32 is different, and as a result, M
The current between 1 and the rain source of OSFETQ31 is MOS
By changing the voltage between the source and 1z rain of FETQ33,
The source-drain voltage of MOSFETQ34 is determined by this change and the change in the drain-source current of MO3FTE TQ32. For example, MOSFET
When the gate input voltage of Q31 is higher than the gate input voltage of MOSFET Q32, the drain voltage of MOS FET Q32, which is the amplified output of the differential amplifier 50, is higher than the MOSFET Q32.
It is made higher than the drain voltage of SFETQ31. Conversely, the gate input voltage of MO3FETQ32 is
When it is higher than the gate input voltage of Q31, the drain voltage of MOSFET Q32, which is the amplified output of the differential amplifier 50, is lowered compared to the drain voltage of MOSFET Q31.

このように差動アンプ50は一対の人力MOSFETQ
31.Q32のゲート入力電圧の差によってそれらMO
SFETQ31.Q32に生ずる電流変化をMOSFE
TQ34のソース・ドレイン間電圧の変化としてその出
力端子に取り出すものであるから、差動アンプ50の増
幅度もしくは増幅感度が最大になるのは、差動アンプ5
0を構成する夫々のMOSFETQ31.Q32.Q3
3、Q34の飽和領域とされる。即ち、斯る差動アンプ
50の増幅動作」1最も高感度となる差動入力レベルは
、それらMOSFETを飽和領域で動作させることがで
きる概略電源電圧Vddの中間レベル(電圧Vd d/
2近傍の範囲)を中心とするような相補レベルとされる
In this way, the differential amplifier 50 consists of a pair of human-powered MOSFETQ
31. Due to the difference in gate input voltage of Q32, these MO
SFETQ31. The current change occurring in Q32 is
Since the change in voltage between the source and drain of TQ34 is taken out to its output terminal, the amplification degree or amplification sensitivity of the differential amplifier 50 is maximized by the differential amplifier 5.
The respective MOSFETs Q31. Q32. Q3
3. It is considered to be the saturation region of Q34. That is, in the amplification operation of the differential amplifier 50, the differential input level at which the sensitivity is the highest is approximately the intermediate level of the power supply voltage Vdd (voltage Vd d/
The complementary levels are centered around the two neighboring ranges).

上記レベルシフト回路51は、読み出しコモンデータ線
CDr、CDrに生ずるプリチャージレベルとしての電
源電圧Vdd近傍の微小なレベル変化を、差動アンプ5
0の増幅動作上置も高感度となる上記動作点付近でのレ
ベル変化に変換するものである。
The level shift circuit 51 transfers minute level changes in the vicinity of the power supply voltage Vdd as a precharge level occurring in the read common data lines CDr and CDr to the differential amplifier 51.
The amplification operation of 0 is also converted into a level change near the above operating point where sensitivity becomes high.

即ち、このレベルシフト回路51は、特に制限されない
が、出力のソース電位を入力電圧に追従変化させる一対
のソースフォロア回路を基本構成として含み、具体的に
は、電流増幅トランジスタとしてのNチャンネル型駆動
MOSFETQ40゜Q41のドレイン電極を電源電圧
Vddに結合すると共に、一方の駆動MO3FETQ4
0のゲート電極を読み出しコモンデータ線CDrに結合
し、他方の駆動MO3FETQ41のゲート電極を読み
出しコモンデータ線CDrに結合する。そして、上記駆
動MOSFETQ40.Q41のソース電極にNチャン
ネル型MOSFETQ42.Q4.3のドレイン電極を
結合すると共にそれらMOSFETQ42.Q43のゲ
ート電極共通接続端をMOSFETQ42のドレイン電
極に結合してカレントミラー回路を構成する。このカレ
ントミラー回路を構成するMOSFETQ42.Q43
のソース電極共通接続端をNチャンネル型パワースイッ
チMOSFETQ44を介して接地電位Vssに接続す
る。このレベルシフ1−回路51の一対の入力端子は駆
動MOSFETQ4.O,Q41のケート電極とされ、
レベルシフト回路51の一方の出力端子である駆動MO
SFETQ40のソース電極は差動アンプ50の一方の
入力端子である入力MOSFETQ31のゲート電極に
接続され、また、レベルシフト回路51の他方の出力端
子である駆動M、08FETQ41のソース電極は差動
アンプ50の他方の入力端子である入力MOSFETQ
32のゲート電極に接続される。上記パワースイッチM
OSFETQ44はそのゲート電極に供給されるリード
クロックGERによってスイッチ制御され、差動アンプ
50と同期して活性化される。
That is, this level shift circuit 51 includes, as a basic configuration, a pair of source follower circuits that change the output source potential to follow the input voltage, although this is not particularly limited. Specifically, the level shift circuit 51 includes an N-channel type drive as a current amplification transistor. The drain electrode of MOSFETQ40°Q41 is coupled to the power supply voltage Vdd, and one drive MO3FETQ4
0 is coupled to the read common data line CDr, and the gate electrode of the other drive MO3FETQ41 is coupled to the read common data line CDr. The drive MOSFET Q40. An N-channel MOSFET Q42 is connected to the source electrode of Q41. Q4.3 and their MOSFETs Q42. The gate electrode common connection end of Q43 is coupled to the drain electrode of MOSFET Q42 to form a current mirror circuit. MOSFETQ42. which constitutes this current mirror circuit. Q43
The common connection end of the source electrode of is connected to the ground potential Vss via an N-channel power switch MOSFET Q44. A pair of input terminals of this level shift 1-circuit 51 are connected to drive MOSFETQ4. It is considered as a gate electrode of O,Q41,
The drive MO which is one output terminal of the level shift circuit 51
The source electrode of SFETQ40 is connected to the gate electrode of input MOSFETQ31, which is one input terminal of differential amplifier 50, and the source electrode of drive M,08 FETQ41, which is the other output terminal of level shift circuit 51, is connected to differential amplifier 50. The input MOSFETQ is the other input terminal of
32 gate electrodes. Above power switch M
OSFETQ44 is switch-controlled by read clock GER supplied to its gate electrode, and is activated in synchronization with differential amplifier 50.

このレベルシフト回路51において、入力電圧に対する
出力電圧のシフト量は、駆動MOSFETQ40 (Q
41)のしきい値電圧、ゲート酸化膜容量やチャネル中
のキャリア移動どなどによって決定される定数、及びM
OSFETQ40 (Q41)のドレイン・ソース電流
によって決定され、差動アンプ50の動作点との関係に
おいて例えば5v電源の場合には2v〜2.5v程度に
設定されている。これにより、読み出しコモンデータ線
CDr、CDrに生ずる電源電圧Vdd近傍の微小な相
補的レベル変化は、差動アンプ50の増幅動作上置も高
感度となる電源電圧Vddの中間しベル近傍の動作点付
近でのレベル変化に変換されて、これが差動アンプ50
の入力端子に供給される。
In this level shift circuit 51, the shift amount of the output voltage with respect to the input voltage is determined by the amount of shift of the output voltage with respect to the input voltage.
41) threshold voltage, constants determined by gate oxide film capacitance, carrier movement in the channel, etc., and M
It is determined by the drain-source current of OSFET Q40 (Q41), and in relation to the operating point of the differential amplifier 50, for example, in the case of a 5V power supply, it is set to about 2V to 2.5V. As a result, a minute complementary level change near the power supply voltage Vdd occurring on the read common data lines CDr, CDr can be reduced to an operating point near the middle of the power supply voltage Vdd, where the amplification operation of the differential amplifier 50 also becomes highly sensitive. This is converted into a level change in the vicinity, and this is converted into a level change in the differential amplifier 50.
is supplied to the input terminal of

このように、レベルシフト回路51は、読み出しコモン
データ線CDr、CDrに与えられる電源電圧Vdd近
傍の微小なレベル変化を、差動アンプ5Qの増幅動作土
量も高感度となる動作点付近(概ね電源電圧Vddの半
分のレベル)でのレベル変化に変換するから、このレベ
ルシフトされた電圧を受ける差動アンプ50は、負荷容
量の大きな読み出しビット線BLrβ、BLrβや読み
出しコモンデータ線CDr、CDr自体が差動アンプ5
0の動作点近傍に到達するのを待つことなくその増幅動
作を高速に確定する。
In this way, the level shift circuit 51 handles minute level changes near the power supply voltage Vdd applied to the read common data lines CDr and CDr in the vicinity of the operating point (approximately The differential amplifier 50 that receives this level-shifted voltage is capable of converting it into a level change at a level that is half the level of the power supply voltage Vdd, so the differential amplifier 50 that receives this level-shifted voltage is connected to the read bit lines BLrβ, BLrβ, which have a large load capacity, the read common data line CDr, and the CDr itself. is the differential amplifier 5
To quickly determine an amplification operation without waiting for the vicinity of a zero operating point to be reached.

特に、レベルシフト回路51における入力と出力との関
係はソースフォロア形式になっているため、出力の負荷
容量が小さければ出力応答は極めて早くなり、本実施例
ではレベルシフト回路51の出力負荷は差動アンプ50
の入力ゲート容置だけであるから、レベルシフト回路5
コによるレベルシフ1ル動作に要する時間は実質的に無
視し得る程短い時間とされる。
In particular, since the relationship between the input and output of the level shift circuit 51 is a source follower type, if the output load capacitance is small, the output response will be extremely fast.In this embodiment, the output load of the level shift circuit 51 is dynamic amplifier 50
Since it is only an input gate container, the level shift circuit 5
The time required for the level shifting operation by the controller is so short that it can be substantially ignored.

第1図及び第3図に示される出力ラッチ回路6は、リー
トタロツクCERのハイレベル期間にセンスアンプ5か
ら出力されるデータを当該メモリサイクルの後半で行わ
れるプリチャージ期間(リートクロックCEHのローレ
ベル期間)にも外部に出力可能とするためのものである
The output latch circuit 6 shown in FIG. 1 and FIG. This is so that it can be output externally even during periods of time.

例えばこの出力ラッチ回路6は、第3図に示されるよう
に、CMO3+−ランスフアゲ−1〜53を介して選択
的に供給される上記出力インバータ52の出力データを
スタティックにラッチするラッチ回路S4によって構成
される。CMO3I−ランスファゲート53は、pチャ
ンネル型MOSFETQ46とnチャンネル型MO3F
ETQ47によって構成され、リートクロックCERと
CMOSインバータ回路55によるその反転信号とによ
ってスイッチ制御される。上記ラッチ回路54は、直列
2段のCMOSインバータ56.57を含み、後段CM
OSインバータ57の出力が前段CMOSインバータ5
6の入力に帰還接続されて構成され、後段CMOSイン
バータ57の出力はCMOSインバータ58で構成され
るような」1記出力バッファ回路7に与えられる。
For example, as shown in FIG. 3, the output latch circuit 6 is constituted by a latch circuit S4 that statically latches the output data of the output inverter 52 that is selectively supplied via the CMO3+-transfer gates 1 to 53. be done. The CMO3I-transfer gate 53 consists of a p-channel type MOSFET Q46 and an n-channel type MO3F.
It is constituted by the ETQ47 and is switch-controlled by the REIT clock CER and its inverted signal by the CMOS inverter circuit 55. The latch circuit 54 includes two stages of CMOS inverters 56 and 57 in series, and the subsequent stage CM
The output of the OS inverter 57 is sent to the previous stage CMOS inverter 5.
The output of the subsequent CMOS inverter 57 is fed to the output buffer circuit 7 such as the CMOS inverter 58.

次に、本実施例の2ポ一トRAMにおいて、書き込みア
ドレスと読み出しドレスが一致しない場合の書き込み動
作及び読み出し動作の一例を第9図を参照しながら説明
する。
Next, an example of a write operation and a read operation when the write address and read address do not match in the 2-point RAM of this embodiment will be described with reference to FIG. 9.

第9図ではリートクロックCERとライトクロックCE
Wの位相がずれており、5YCrはり一トサイクル、S
YCwはライトサイクルを示し、各サイクルにおけるク
ロックのローレベル期間はプリチャージ期間とされる。
In Figure 9, the read clock CER and the write clock CE
W is out of phase, 5YCr beam is one cycle, S
YCw indicates a write cycle, and the low level period of the clock in each cycle is a precharge period.

第9図の時刻t。にライトクロックCEWがハイレベル
にされると、そのときの書き込みアドレス信号Aw、〜
Aw】に従って書き込みXアI’レスバッファ21、書
き込みXアドレスデコーダ22、及び書き込みワードド
ライバ23が動作されることにより、当該書き込みアド
レス信号Aw1〜A w iに対応する所定1本の書き
込みワード線WT、wαが選択レベルに駆動される。同
様に書き込みアドレス信号A w j −A w nに
従って書き込みYアドレスバッファ24、書き込みYア
ドレスデコーダ25、及び書き込みYセレクタ2が動作
されることにより、当該書き込みアドレス信号Aw j
 −A w nに対応する所定1対の書き込みビット線
BLwβ+ BLwβが書き込みコモンデータ線CDw
、CDwに導通制御される。このとき、ライトイネーブ
ル信号WE及びライトクロックCEWのハイレベルによ
り動作可能にされる書き込みデータドライバ3は、書き
込みデータDinに従って書き込みコモンデータ線CD
w、CDwを相補レベルに駆動する。この駆動信号が上
記1対のビット線B Lwβ、BLwβに与えられるこ
とにより、書き込みアドレス信号Aw□〜A w nに
呼応して選択されるメモリセルに所定のデータが書き込
まれる。
Time t in FIG. When the write clock CEW is set to high level, the write address signal Aw at that time, ~
By operating the write X address buffer 21, the write , wα are driven to the selection level. Similarly, the write Y address buffer 24, the write Y address decoder 25, and the write Y selector 2 are operated according to the write address signal A w j −A w n, so that the write address signal A w j
- A predetermined pair of write bit lines BLwβ+ BLwβ corresponding to A w n are write common data lines CDw
, CDw conduction is controlled. At this time, the write data driver 3, which is enabled to operate by the high level of the write enable signal WE and the write clock CEW, connects the write common data line CD according to the write data Din.
w and CDw to complementary levels. By applying this drive signal to the pair of bit lines BLwβ and BLwβ, predetermined data is written into the memory cell selected in response to the write address signals Aw□ to Awn.

第9図の時刻t1にリートクロックCERがハイレベル
にされると、そのときの読み出しアドレス信号Ar1〜
Arjに従って読み出しXアドレスバノファ]3、読み
出し入アドレステコーダ14、及び読み出しワードトラ
イバ15が動作されることにより、当該読み出しアドレ
ス信号Ar。
When the read clock CER is set to high level at time t1 in FIG. 9, the read address signals Ar1 to
The read X address bannofer] 3, the read input address decoder 14, and the read word driver 15 are operated according to the read address signal Ar.

〜Ariに対応する所定1本の読み出しワード線WLr
αが選択レベルに駆動される。同様に読み出しアドレス
信号A r j −A r nに従って読み出しYアド
レスバッファ28、読み出しYアドレスデコーダ29、
及び読み出しYセレクタ4が動作されることにより、当
該読み出しアドレス信号Arj−Arnに対応する所定
1対の読み出しピント線BLrβ、BLrβが読み出し
コモンデータ1icD r 、 CD rに導通制御さ
れる。このようにして読み出しアドレス信号Ar□〜A
rnに呼応して選択されるメモリセルのデータが読み出
しコモンデータ線CDr、CDrに伝達されると、セン
スアンプ5がこの読み出しコモンデータ線CDr、CD
rのレベル変化を検出して増幅する。センスアンプ5に
よる増幅出力は出力ラッチ回路6に取り込まれ、出力バ
ッファ7から読み出しデータDoutとして外部に与え
られる。
~ One predetermined read word line WLr corresponding to Ari
α is driven to the selection level. Similarly, a read Y address buffer 28, a read Y address decoder 29,
By operating the read Y selector 4, a predetermined pair of read focus lines BLrβ, BLrβ corresponding to the read address signal Arj-Arn is controlled to be conductive to the read common data 1icDr, CDr. In this way, the read address signal Ar□~A
When the data of the memory cell selected in response to rn is transmitted to the read common data lines CDr, CDr, the sense amplifier 5 transfers the data to the read common data lines CDr, CDr.
Detect and amplify changes in the level of r. The amplified output from the sense amplifier 5 is taken into the output latch circuit 6, and is given to the outside as read data Dout from the output buffer 7.

読み出し動作においてセンスアンプ5はレベルシフト回
路51の作用により読み出しビット線さらには読み出し
モンデータ線CDr、CDrの電源電圧Vdd近傍の微
小なレベル変化を即座に検出して出力動作を確定するか
ら、読み出しワード線の選択期間は比較的短くされ、こ
れに呼応してデータの読み出し動作に際して変化される
読み出しビット線や読み出しコモンデータ線の振幅も電
源電圧Vdd寄りの変化に留められている。
In the read operation, the sense amplifier 5 immediately detects minute level changes in the vicinity of the power supply voltage Vdd of the read bit line and the read monitor data lines CDr and CDr by the action of the level shift circuit 51 and determines the output operation. The word line selection period is made relatively short, and correspondingly, the amplitudes of the read bit line and the read common data line, which are changed during data read operations, are also kept to a value closer to the power supply voltage Vdd.

時刻t、にリードクロックCERがアサートされてから
読み出しデータD o u tが確定するまでのアクセ
スタイムは第9図のtea□とされる。
The access time from when the read clock CER is asserted at time t until the read data D out is determined is tea□ in FIG.

尚、第9図のタイムチャートに示される動作では、ライ
トクロックCEWのハイレベル期間に書き込みアドレス
と読み出しアドレスは一致せず、またリートクロックC
ERのハイレベル期間はライトクロックCEWのハイレ
ベル期間に重なっていないので、検出信号ACは常時ハ
イレベルとなり、短絡回路9に含まれる伝達MOSFE
TQ22、Q22はオフ状態を維持している。
Note that in the operation shown in the time chart of FIG. 9, the write address and read address do not match during the high level period of the write clock CEW, and the write address and read address do not match during the high level period of the write clock CEW.
Since the high level period of ER does not overlap with the high level period of write clock CEW, the detection signal AC is always at high level, and the transmission MOSFE included in the short circuit 9
TQ22 and Q22 maintain an off state.

次に、本実施例の2ポ一トRAMにおいて、同一メモリ
セルに対して書き込み及び読み出し動作を同じタイミン
グで行う動作の一例を第10図を参照しながら説明する
Next, an example of an operation in which write and read operations are performed on the same memory cell at the same timing in the two-point RAM of this embodiment will be described with reference to FIG.

第10図では、リードクロックCERとライトクロック
CEWの位相は完全同一にされ、リートサイクル5YC
rとライトサイクルSYCwが完全に重なっている場合
を一例とする。
In FIG. 10, the phases of the read clock CER and write clock CEW are completely the same, and the read cycle 5YC
Let us take as an example a case where r and write cycle SYCw completely overlap.

ライトクロックCEWとリードクロックCEHのハイレ
ベル期間が重なるときにも書き込みと読み出しのための
基本的な動作は上記同様相互に独立して行われることに
なるが、特にライトクロックCEWのハイレベル期間に
書き込みアドレスAw1〜Awnと読み出しアドレスA
r1〜A r nの一致を監視するアドレス−数構出回
路8によりそれらアドレスの一致が判別されるときは、
検出信号ACがローレベルにされ、このローレベルの検
出信号ACが短絡回路9に含まれる伝達MOSFETQ
22.Q22をオン動作させる。これにより、オン状態
の伝達MOSFETQ22.Q22は、書き込みデータ
Djnに従った書き込みデータドライバ3の駆動信号を
書き込みコモンデータ線CDw、CDwから読み出しコ
モンデータ線CDr、CDrに直接伝達する。
Even when the high-level periods of write clock CEW and read clock CEH overlap, the basic operations for writing and reading are performed independently from each other as described above, but especially during the high-level period of write clock CEW, Write addresses Aw1 to Awn and read address A
When the address-number construction circuit 8 which monitors the coincidence of r1 to A r n determines whether the addresses match,
The detection signal AC is set to low level, and this low level detection signal AC is applied to the transmission MOSFETQ included in the short circuit 9.
22. Turn on Q22. This causes the on-state transmission MOSFET Q22. Q22 directly transmits a drive signal for the write data driver 3 according to the write data Djn from the write common data lines CDw, CDw to the read common data lines CDr, CDr.

このようにして伝達された書き込みデータはセンスアン
プ5に与えられて、本来のデータ読み出しタイミングに
従って外部に与えられる。このようにして外部に与えら
れるデータは書き込み優先の条件を実質的に満足してお
り、また、この外部へのデータ読み出し動作は書き込み
動作に並行して行われることになるから、従来のように
書き込み優先条件を満足するために一旦書き込まれたデ
ータが再度読み出されるまで読み出し動作の確定を待つ
必要はない。この読み出し動作ではメモリセルの読み出
し情報を利用しなし1がら、このときのアクセスタイム
tca2は第9図で説明した」1記アクセスタイムte
a1よりも若干短くなる。
The write data transmitted in this manner is applied to the sense amplifier 5, and is applied to the outside according to the original data read timing. The data given externally in this way substantially satisfies the write priority condition, and since the data read operation to the outside is performed in parallel with the write operation, it is not possible to read the data as before. In order to satisfy the write priority condition, there is no need to wait for confirmation of the read operation until the data once written is read again. Although this read operation does not utilize the read information of the memory cell, the access time tca2 at this time is the access time te described in FIG.
It will be slightly shorter than a1.

第10図に示される読み出しピノI・線BLrβ。The readout pinot I line BLrβ shown in FIG.

BLrβの変化は、選択されるメモリセルの保持情報が
そのときの書き込みデータDinによって反転される場
合の状態を示す。即ち、最初はメモリセルの保有情報に
従って読み出しビット線B Lrβ、BLrβがレベル
変化されるが、その後に当該メモリセルデータが書き込
みデータDコnによって反転されると、これに従って読
み出しビット線B L rβ、BLrβのレベル変化が
逆転される。従来のようにこの読み出しビット線BLr
β。
A change in BLrβ indicates a state in which the information held in the selected memory cell is inverted by the write data Din at that time. That is, at first, the levels of the read bit lines BLrβ and BLrβ are changed according to the information held in the memory cell, but later, when the memory cell data is inverted by the write data Dcon, the read bit lines BLrβ are changed accordingly. , BLrβ level changes are reversed. As in the past, this read bit line BLr
β.

BLrβのレベル変化を読み出しコモンデータ線CDr
、CDrを通して外部に読み出す場合には、読み出しデ
ータDoutの確定は破線で示されるように遅れ、その
アクセスタイムtea3は極めて長くなってしまう。尚
、読み出し7ビツト線BLrβ、BLrβのレベル変化
の状態は実際よりも誇張されて図示されている。
Read the level change of BLrβ and read the common data line CDr
, CDr, the determination of the read data Dout is delayed as shown by the broken line, and the access time tea3 becomes extremely long. It should be noted that the level changes of the read 7-bit lines BLrβ and BLrβ are illustrated in an exaggerated manner compared to the actual state.

したがって、本実施例の2ボ一トRAMを第9図で説明
したアクセスタイムtea1をもって高速アクセスで利
用しても、同一メモリセルへの書き込み及び読み出しの
同しアクセスを禁止するという制約条件を設けなくても
済み、これによって、本実施例2ポートRAMは如何な
るアクセス条件においても高速アクセスが可能になる。
Therefore, even if the two-bottom RAM of this embodiment is used for high-speed access with the access time tea1 explained in FIG. 9, a constraint condition is set that prohibits simultaneous write and read access to the same memory cell. Thereby, the port RAM of the second embodiment can be accessed at high speed under any access conditions.

〔実施例2〕 相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルをプリチャ
ージレベルとする書き込みビット線及び読み出しビット
線に結合されるスタティックメモリセルに対してデータ
の書き込み動作と読み出し動作を非同期で独立に行い得
る書き込み系と読み出し系を備える2ポートRA、 M
においては、第11図や第12図に示される構造のメモ
リセルを採用することができる。
[Embodiment 2] Data write and read operations are performed asynchronously and independently for static memory cells coupled to a write bit line and a read bit line using one relatively high power supply voltage level as a precharge level. A 2-port RA with a write system and a read system that can perform
In this case, a memory cell having the structure shown in FIG. 11 or FIG. 12 can be employed.

第11図のメモリセル60は読み出しトランスファゲー
トとしてpチャンネル型MOSFETQ50、Q51を
用いた点が上記メモリセル10と相違する。
The memory cell 60 shown in FIG. 11 is different from the above-described memory cell 10 in that p-channel type MOSFETs Q50 and Q51 are used as read transfer gates.

第12図のメモリセル6J−は高抵抗負荷R,Rを用い
た点が第11図のメモリセル60と相違する。
Memory cell 6J- in FIG. 12 differs from memory cell 60 in FIG. 11 in that high resistance loads R, R are used.

メモリセル60や61を用いて2ポ一トRAMを構成す
る場合には、読み出しワード線WLrαの選択レベルを
ローレベルに変える点を除き実施例1の構造をそのまま
適用することもできる。
When configuring a two-point RAM using the memory cells 60 and 61, the structure of the first embodiment can be applied as is, except that the selection level of the read word line WLrα is changed to low level.

本実施例において、書き込みビット線BLwβ。In this embodiment, the write bit line BLwβ.

BLwβ及び読み出しビット線BLrβ、BT=rβは
共に相対的にレベルの高い電源電圧Vddにプリチャー
ジされる。この状態でメモリセルデータが読み出しビッ
ト線BLrβ、BLrβに与えられるとき、オン状態に
制御される読み出し1−ランスファゲート構成用のPチ
ャンネル型MO3FETQ50.Q51はその相互コン
ダクタンスが大きくされる結果、この大きな相互コンダ
クタンスが、電源電圧Vdd近傍で変化するメモリセル
データの伝達性能を高めるように働く。書き込み動作に
おいて、プリチャージレベルからディスチャージされる
書き込みビット線BLwβ、BT、wβに導通にされる
書き込みトランスファゲート構成用のnチャンネル型M
OSFETQ3.Q4はその相互コンダクタンスが大き
くされる結果、この大きな相互コンダクタンスが、電源
電圧Vddからディスチャージされる書き込みビット線
のレベル変化をスタティックラッチ回路に伝達する性能
を高めるように働く。
BLwβ and read bit line BLrβ, BT=rβ are both precharged to relatively high level power supply voltage Vdd. When memory cell data is applied to the read bit lines BLrβ and BLrβ in this state, the P-channel type MO3FETQ50. As a result of the mutual conductance of Q51 being increased, this large mutual conductance works to improve the transmission performance of memory cell data that changes near the power supply voltage Vdd. In a write operation, an n-channel type M for a write transfer gate configuration is made conductive to write bit lines BLwβ, BT, and wβ that are discharged from a precharge level.
OSFETQ3. As a result of Q4 having a large mutual conductance, this large mutual conductance serves to improve the performance of transmitting a level change of the write bit line discharged from the power supply voltage Vdd to the static latch circuit.

このように書き込みビット線及び読み出しビット線を相
対的にレベルの高い一方の電源電圧Vddにプリチャー
ジする形式において、書き込み1ヘランスフアゲートを
nチャンネル型MOSFETで構成し、読み出しトラン
スファゲートをpチャンネル型MOSFETで構成する
ことにより、電源電圧Vddにプリチャージされている
読み出しビット線に、メモリセルデータに応する微小な
電位変化をそのまま与えることができるようになり、デ
ータの読み出し速度が向上する。このとき書き込み性能
は犠牲にされない。
In this type of precharging the write bit line and the read bit line to one of the relatively high power supply voltages Vdd, the write 1 transfer gate is configured with an n-channel type MOSFET, and the read transfer gate is configured with a p-channel type MOSFET. By using MOSFETs, it becomes possible to directly apply a minute potential change corresponding to the memory cell data to the read bit line precharged to the power supply voltage Vdd, thereby improving the data read speed. At this time, write performance is not sacrificed.

特に、第11図に示されるようにCMOSスタティック
ラッチ回路によりメモリセルを構成する場合には書き込
み及び読み出しトランスファゲートもCMO8回路にな
るため、スタティックラッチ構成用トランジスタの拡散
層を引き延ばし利用してトランスファゲート構成用トラ
ンジスタを形成することができるようになり、メモリセ
ル構成用トランジスタのレイアウトが楽になる。
In particular, when a memory cell is configured with a CMOS static latch circuit as shown in FIG. 11, the write and read transfer gates are also CMO8 circuits, so the diffusion layer of the static latch configuration transistor is stretched and utilized to transfer the transfer gate. It becomes possible to form the configuration transistors, and the layout of the memory cell configuration transistors becomes easier.

第11図及び第12図に示されるメモリセル構造を実施
例1で説明したセンスアンプ5、更にはpチャンネル型
MOSFETによって構成される読み出しYセレクタ4
及びnチャンネル型MO8F ETによって構成される
書き込みYセレクタ2と組合せることにより、2ポート
RA Mのデータ読み出し動作を一層高速化することが
できるようになる。
The memory cell structure shown in FIGS. 11 and 12 is the sense amplifier 5 described in Embodiment 1, and the read Y selector 4 constituted by a p-channel MOSFET.
By combining this with the write Y selector 2 constituted by an n-channel type MO8FET, it becomes possible to further speed up the data read operation of the 2-port RAM.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて
具体的に説明したが本発明はそれに限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能
であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on examples, it goes without saying that the present invention is not limited thereto and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.

一ヒ記実施例」では伝達手段を、書き込みデータを書き
込みコモンデータ線がら読み出しコモンデータ線に与え
るpチャンネル型伝達MOSFETQ22.Q22とし
て説明したが、第13図に示されるように、書き込みデ
ータを出力ランチ回路6に与えるようにしてもよい。即
ち、書き込みコモンデータ線CDw、CDwを、pチャ
ンネル型伝達MO3FETQ22′、Q22 ’を介し
てラッチ回路54を構成するCMOSインバータ56の
入力とCMOSインバータ57の出方に結合する。
In Embodiment 1, the transmission means is a p-channel type transmission MOSFET Q22. Although explained as Q22, the write data may be given to the output launch circuit 6 as shown in FIG. That is, the write common data lines CDw, CDw are coupled to the input of the CMOS inverter 56 and the output of the CMOS inverter 57 constituting the latch circuit 54 via the p-channel type transmission MO3FETs Q22', Q22'.

また、実施例1では伝達MOSFETQ22゜Q22が
オン動作されることに呼応して読み出しYセレクタ4を
構成する全ての選択MOSFETQ21をオフ状態に制
御する読み出しYアドレスデコーダ29を採用したが、
メモリセルの駆動能力に比べて書き込みデータドライバ
の駆動能力が極めて大きい場合には選択MOSFETQ
21に対してそのような考慮を払わないでもよい場合が
ある。
Further, in the first embodiment, the read Y address decoder 29 is used which controls all the selection MOSFETs Q21 constituting the read Y selector 4 to be in the off state in response to the ON operation of the transmission MOSFET Q22°Q22.
If the drive capacity of the write data driver is extremely large compared to the drive capacity of the memory cell, select MOSFETQ.
In some cases, such consideration may not be given to 21.

本発明は2ポ一トRAMに限定されず第14図のような
メモリセルを用いることにより3ポ一トRAMに、さら
にはそれ以上のポートを持つ多ポートRAMにも適用す
ることができる。第14図に示されるメモリセルは、読
み出し用ワード線WLr、αに結合されるpチャンネル
型MOSFETQ54.Q55により第1読み出しポー
トが構=55− 成され、読み出し用ワード線W T、 r2αに結合さ
れるpチャンネル型MOSFETQ56.Q57により
第2の読み出しポーI−が構成され、そして書き込み用
ワード線WLwαに結合されるnチャンネル型MOSF
ETQ58.Q59により書き込みポートが構成される
The present invention is not limited to a 2-point RAM, but can be applied to a 3-point RAM by using a memory cell as shown in FIG. 14, and even to a multi-port RAM having more ports. The memory cell shown in FIG. 14 includes p-channel type MOSFETs Q54 . Q55 constitutes a first read port, and a p-channel MOSFET Q56. Q57 constitutes the second read port I-, and the n-channel MOSF is coupled to the write word line WLwα.
ETQ58. Q59 constitutes a write port.

第14図のメモリセルを実施例1に適用して3ポ一トR
AMを構成する場合には、アlくレス一致検出回路は第
15図のような回路構成を採用することができる。第1
5図に示されるアドレス−数構出回路は、第1読み出し
ポートに関する読み出しアドレスと書き込みアドレスと
を対応するビット毎に夫々排他的論理和60によりその
一致を判別し、各ビットの一致をノアゲー1−61で判
定する。同様に、第2読み出しポートに関する読み出し
アドレスと書き込みアドレスとを対応するピント毎に夫
々排他的論理和62によりその一致を判別し、各ビット
の一致をノアゲー1−63で判定する。そして両ノアゲ
ートの判定結果に対して論理和64を採り、その結果に
対してライトクロックCEWとナンド論理65を採って
検出信号ACを形成する。
By applying the memory cell shown in FIG. 14 to Example 1, a 3-point R
When configuring an AM, a circuit configuration as shown in FIG. 15 can be adopted as the address matching detection circuit. 1st
The address-number configuration circuit shown in FIG. -61 is determined. Similarly, the read address and write address regarding the second read port are determined by exclusive OR 62 for each corresponding pin point, and the match of each bit is determined by NOR game 1-63. Then, a logical sum 64 is performed on the determination results of both NOR gates, and a write clock CEW and a NAND logic 65 are performed on the result to form a detection signal AC.

尚、実施例2においては伝達手段は必須の構成要件では
ない。
Note that in the second embodiment, the transmission means is not an essential component.

以上本発明者によってなされた発明をその背景となった
利用分野である2ポ一トRAMに適用した場合について
説明したが本発明はそれに限定されるものではなく、そ
の他の多ポートRAMさらにはゲートアレーなどにも広
く適用することができる。本発明は少なくとも、書き込
み動作と読み出し動作を独立に行い得る条件のものに適
用することができる。
Although the invention made by the present inventor is applied to a two-point RAM, which is the background field of application, the present invention is not limited thereto, and can be applied to other multi-port RAMs and even gates. It can also be widely applied to arrays. The present invention can be applied at least to conditions where write operations and read operations can be performed independently.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

(1)同一メモリセルに概ね同じタイミングで書き込み
動作と読み出し動作が行われるとき、伝達手段が、書き
込みデータを直接読み出し系のセンスアンプやデータ出
力バッファの入力に与えるため、このようにして読み出
し系に与えられるデータは、書き込み優先の条件を実質
的に満足した状態で高速に外部に読み出し可能とされる
。したがって、同一メモリセルに対して書き込み及び読
み出しの同時アクセスを禁止制御するという制限条件を
設定することなく多ボートRAMを高速アクセスで利用
することができるようになる。
(1) When a write operation and a read operation are performed on the same memory cell at approximately the same timing, the transmission means directly supplies the write data to the input of the sense amplifier or data output buffer of the read system. The data given to the memory can be read externally at high speed while substantially satisfying the write priority condition. Therefore, a multi-vote RAM can be used for high-speed access without setting a restrictive condition that prohibits simultaneous write and read access to the same memory cell.

(2)外部から書き込み系に与えられるデータを伝達手
段が書き込みコモンデータ線から読み出しコモンデータ
線に伝達する構成においては、この伝達手段を介して書
き込みデータが与えられるセンスアンプは、本来のデー
タ読み出し動作タイミングに従って増幅動作を行うため
、当該伝達手段は、書き込みデータを読み出し系に伝達
するタイミングを特別に制御する必要はなく、伝達手段
の構成を極めて簡素化することができる。
(2) In a configuration in which the transmission means transmits data given to the write system from the outside from the write common data line to the read common data line, the sense amplifier to which the write data is supplied via this transmission means is used for the original data readout. Since the amplification operation is performed according to the operation timing, the transmitting means does not need to specially control the timing of transmitting the write data to the reading system, and the configuration of the transmitting means can be extremely simplified.

(3)書き込みコモンデータ線及び読み出しコモンデー
タ線が相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルにプ
リチャージされている状態で書き込みデータが伝達手段
を介して書き込み系から読み出し系に与えられるとき、
Pチャンネル型MOSFETで構成された伝達手段はそ
の相互コンダクタンスが大きくされる結果、この大きな
相互コンダクタンスが、書き込みデータの伝達性能を高
めるように働き、これによって、同一メモリセルに概ね
同じタイミングで書き込みと読み出し動作が行われる場
合の読み出し動作を一層高速化することができる。
(3) When write data is given from the write system to the read system via the transmission means in a state where the write common data line and the read common data line are precharged to one of the relatively high power supply voltage levels,
As a result of the large mutual conductance of the transfer means made up of P-channel MOSFETs, this large mutual conductance works to improve the transfer performance of write data, thereby allowing data to be written to the same memory cell at approximately the same timing. When a read operation is performed, it is possible to further speed up the read operation.

(4)伝達手段が書き込みデータを読み出し系に与える
とき、読み出しセレクタが全ての読み出しビット線を読
み出しコモンデータ線に対して非導通に制御することに
より、この非導通状態が、このとき選択されるメモリセ
ルデータと読み出し系に与えられる書き込みデータとの
競合を回避するように働き、これによって、同一メモリ
セルに対して概ね同じタイミングで書き込みと読み出し
動作を行う場合の当該読み出し動作を一層高速化するこ
とができる。
(4) When the transmission means supplies write data to the read system, the read selector controls all the read bit lines to be non-conductive with respect to the read common data line, so that this non-conductive state is selected at this time. It works to avoid conflicts between memory cell data and write data given to the read system, thereby further speeding up read operations when write and read operations are performed on the same memory cell at roughly the same timing. be able to.

(5)書き込みビット線及び読み出しビット線を相対的
にレベルの高い一方の電源電圧レベルにプ=59− リチャージする形式で書き込み動作と読み出し動作を独
立に行い得る多ポートRAMにおいて、書き込み1−ラ
ンスファゲートをnチャンネル型MOSFETとし、読
み出しトランスファゲートをpチャンネル型MOSFE
Tとするメモリセル構造を採用することにより、電源電
圧にプリチャージされている読み出しビット線にメモリ
セルデータが与えられるとき、Pチャンネル型MO3F
ETで構成される読み出しトランスファゲートはその相
互コンダクタンスが大きくされる結果、この大きな相互
コンダクタンスが、電源電圧近傍で変化するメモリセル
データの伝達性能を高めるように働き、電源電圧にプリ
チャージされている読み出しビット線に、メモリセルデ
ータに応する微小な電位変化をそのまま与えることがで
きるようになって、データの読み出し速度を向上させる
ことができるようになる。このとき、nチャンネル型M
OSFETで成る書き込み専用I−ランスファゲートの
作用により書き込み性能は犠牲にされない。
(5) In a multi-port RAM that can independently perform write and read operations by pulling the write bit line and the read bit line to one of the relatively high power supply voltage levels, The transfer gate is an n-channel MOSFET, and the readout transfer gate is a p-channel MOSFET.
By adopting a memory cell structure of T, when memory cell data is given to the read bit line precharged to the power supply voltage,
The read transfer gate composed of ET has a large mutual conductance, and as a result, this large mutual conductance works to improve the transfer performance of memory cell data that changes near the power supply voltage, and is precharged to the power supply voltage. It becomes possible to directly apply a minute potential change corresponding to memory cell data to the read bit line, making it possible to improve the data read speed. At this time, n-channel type M
Write performance is not sacrificed due to the operation of the write-only I-transfer gate consisting of an OSFET.

(6)書き込みビット線及び読み出しビット線さらには
書き込みコモンデータ線及び読み出しコモンデータ線が
相対的にレベルの高い一方の電源電圧にプリチャージさ
れる形式の多ポートRAMにおいて、読み出しビット線
を読み出しコモンデータ線に選択的に導通に制御するた
めの読み出しセレクトスイッチをpチャンネル型MOS
FETにし、書き込みビット線を書き込みコモンデータ
線に選択的に導通に制御するための書き込みセレクトス
イッチをnチャンネル型MOSFETにすると、メモリ
セルデータが読み出しピント線からコモンデータ線に与
えられるとき、オン状態に制御されるpチャンネル型M
OSFETで成る読み出しセレクトスイッチはその相互
コンダクタンスが大きくされ、この大きな相互コンダク
タンスが、電源電圧近傍で変化するメモリセルデータの
伝達性能を高めるように作用する。また、書き込み動作
においてオン状態に制御されるnチャンネル型MOSF
ETで成る書き込みセレクタの相互コンダクタンスは大
きくされる結果、この大きな相互コンダクタンスが、電
源電圧からディスチャージされる書き込みコモンデータ
線のディスチャージ到達レベルを書き込みピント線に伝
達する性能を高める。したがって、各セレクトスイッチ
をCMOSトランスファゲートで構成する場合に比へて
、データの伝達特性を損なうことなくそれらの構成素子
数を半減することができる。
(6) In a multi-port RAM in which the write bit line, the read bit line, and the write common data line and read common data line are precharged to one relatively high level power supply voltage, the read bit line is connected to the read common data line. The read select switch for selectively controlling conduction to the data line is a p-channel MOS.
If the write select switch for selectively controlling conduction of the write bit line to the write common data line is an n-channel type MOSFET, it will be in the on state when memory cell data is applied from the read pinto line to the common data line. p-channel type M controlled by
The read select switch made of an OSFET has a large mutual conductance, and this large mutual conductance acts to improve the transmission performance of memory cell data that changes near the power supply voltage. In addition, an n-channel MOSF that is controlled to be in an on state during a write operation
The mutual conductance of the write selector made of ET is increased, and as a result, this large mutual conductance improves the performance of transmitting the discharge level of the write common data line discharged from the power supply voltage to the write focus line. Therefore, compared to the case where each select switch is formed of a CMOS transfer gate, the number of these constituent elements can be halved without impairing the data transfer characteristics.

(7)センスアンプに含まれるレベルシフト回路は、読
み出しコモンデータ線に与えられる電源電圧近傍の微小
なレベル変化を、差動アンプの増幅動作上量も高感度と
なる動作点付近でのレベル変化に変換するから、このレ
ベルシフトされた電圧を受ける差動アンプは、負荷容量
の大きな読み出しビット線や読み出しコモンデータ線自
体が差動アンプの動作点近傍に到達するのを待つことな
くその増幅動作を高速に確定することができ、これによ
って、データの読み出し動作の高速化を達成することが
できる。
(7) The level shift circuit included in the sense amplifier handles minute level changes near the power supply voltage applied to the read common data line, and changes the level near the operating point where the amplification operation of the differential amplifier becomes highly sensitive. Therefore, the differential amplifier that receives this level-shifted voltage can perform its amplification operation without waiting for the read bit line or read common data line itself, which has a large load capacitance, to reach near the operating point of the differential amplifier. can be determined at high speed, thereby achieving high-speed data read operations.

更に、メモリセルが結合された負荷容量の大きな信号線
が差動アンプの動作点近傍に到達するのを持つことなく
ワード線選択動作を終了することができることにより、
データ読み出し動作における読み出しビット線の振幅を
電源電圧寄りの変化に留めておくことができ、読み出し
ビット線や読み出しコモンデータ線のプリチャージ動作
の高速化を図ることができると共に、当該信号線のプリ
チャージ動作に必要とされる電力消費量を低減すること
ができる。
Furthermore, the word line selection operation can be completed without the signal line with a large load capacitance connected to the memory cell reaching the operating point of the differential amplifier.
The amplitude of the read bit line in the data read operation can be kept to a change close to the power supply voltage, making it possible to speed up the precharging operation of the read bit line and the read common data line, as well as precharging the signal line. Power consumption required for charging operation can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であ2ボ一トRAMの全体を
示すブロック図、 第2図は第1図の2ポ一トRAMのメモリセルから書き
込み系及び読み出し系に至る要部を示す回路図、 第3図は第1図における2ポ一トRAMのセンスアンプ
から出カバソファ回路に至る回路図、第4図はアドレス
バッファの一例を示す回路図、第5図はアドレスデコー
ダの一例を示す回路図、第6図はワードトライバの一例
を示す回路図、第7図は書き込みデータドライバの一例
を示す回路図、 第8図はアドレス−数棟出回路の一例を示す回路図、 第9図は書き込みアドレスと読み出し71〜レスが一致
しない場合の書き込み動作と読み出し動作の一例を説明
するためのタイミングチャート、第10図は同一メモリ
セルに対して書き込み及び読み出し動作が同一タイミン
グで行われる場あの動作の一例を説明するためのタイミ
ングチャー化−1 第11図及び第12図は書き込みトランスファゲートと
読み出しトランスフアゲ−1−を構成するMOSトラン
ジスタの導電型を相互に相違させて成るメモリセル構造
の一例を示す回路図である。 第」3図は伝達手段のその他の例を示す回路図、第14
図は3ポート RA Mに採用可能なメモリセル構造の
一例を示す回路図、 第15図は第14図のメモリセルを採用して成る3ボ一
トRAMにおけるアドレス−数棟出回路の一例を示す回
路図である。 トメモリセルアレイ、2・・書き込みYセレクー図− 夕、3・・・書き込みデータドライバ、4・・読み出し
Yセレクタ、Q21  ・選択MOSFET、5・・セ
ンスアンプ、6・・出力ラッチ、7 出力バッファ回路
、8・・アドレス−数構出回路、9 短絡回路、Q22
・・伝達MOSFET、CER・リートクロック、CE
W  ライトクロック、AC検出信号、Ar1〜A r
 n・読み出しアドレス、Aw□〜Awn・・書き込み
アドレス、WLr1〜WLr2+・・・読み出し用ワー
lく線、WLw1〜WLw2+・・書き込み用ワード線
、B L rl、 B L r□−B T−1−2in
−1]+ B L r2+n −++−読み出しピント
線、BLw、。 BLw、〜BLw、、tn−n、BLW2[η−口・・
・書き込みビット線、CDw、CDw・・・書き込みコ
モンデータ線、CDr、CDr・・読み出しコモンデー
タ線、1o・・メモリセル、11・・・プリチャージ回
路、13 読み出しXアドレスバッファ、14・・読み
出しXアドレスデコーダ、15・・読み出しワードドラ
イバ、21・書き込みXアドレスバッファ、22・・・
書き込みXアドレスデコーダ、23 ・書き込みワード
ドライバ、24・・・書き込みYアドレスバッファ、2
5・書き込みYアドレスデコーダ、28・・読み出しY
アドレスバッファ、29・読み出しYアドレスデコーダ
、50 差動アンプ、51 レベルシフト回路。 第13図 第14図 Lr2cX Lrt91 第15図 1,6゜
FIG. 1 is a block diagram showing the entire 2-point RAM as an embodiment of the present invention. FIG. 2 is the main part of the 2-point RAM shown in FIG. 1, from the memory cell to the write system and read system. 3 is a circuit diagram from the 2-point RAM sense amplifier to the output sofa circuit in FIG. 1, FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the address buffer, and FIG. 5 is a circuit diagram of the address decoder A circuit diagram showing an example, FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a word driver, FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a write data driver, and FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of an address-multiple output circuit. , FIG. 9 is a timing chart for explaining an example of a write operation and a read operation when the write address and read 71~res do not match, and FIG. Timing Chart 1 for explaining an example of the operation performed in each case Figures 11 and 12 show MOS transistors forming a write transfer gate and a read transfer gate 1 with different conductivity types. FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a memory cell structure. Figure 14 is a circuit diagram showing another example of the transmission means.
The figure is a circuit diagram showing an example of a memory cell structure that can be adopted in a 3-port RAM, and Figure 15 is an example of an address-to-number output circuit in a 3-port RAM that uses the memory cell shown in Figure 14. FIG. memory cell array, 2...Write Y selector diagram, evening, 3...Write data driver, 4...Read Y selector, Q21 - Selection MOSFET, 5...Sense amplifier, 6...Output latch, 7 Output buffer circuit , 8...address-number circuit, 9 short circuit, Q22
・・Transmission MOSFET, CER・Leat clock, CE
W write clock, AC detection signal, Ar1 to Ar
n・Read address, Aw□~Awn...Write address, WLr1~WLr2+...Read work line, WLw1~WLw2+...Write word line, B L rl, B L r□-B T-1 -2in
-1] + BL r2+n -++- readout focus line, BLw. BLw, ~BLw,,tn-n,BLW2[η-mouth...
・Write bit line, CDw, CDw...Write common data line, CDr, CDr...Read common data line, 1o...Memory cell, 11...Precharge circuit, 13 Read X address buffer, 14...Read X address decoder, 15...Read word driver, 21.Write X address buffer, 22...
Write X address decoder, 23 - Write word driver, 24... Write Y address buffer, 2
5. Write Y address decoder, 28... Read Y
Address buffer, 29/read Y address decoder, 50 differential amplifier, 51 level shift circuit. Fig. 13 Fig. 14 Lr2cX Lrt91 Fig. 15 1, 6°

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、書き込みアドレスによって選択されるメモリセルの
書き込みビット線に書き込みデータを与えるための書き
込み系と、読み出しアドレスによって選択されるメモリ
セルから読み出しビット線に与えられるデータを外部に
読み出すための読み出し系とを備え、独立にデータの書
き込みと読み出しが可能にされた多ポートRAMにおい
て、書き込みアドレスと読み出しアドレスの一致を検出
するためのアドレス一致検出手段と、このアドレス一致
検出手段の一致検出に呼応して、外部から書き込み系に
与えられる書き込みデータを直接読み出し系に伝達する
ための伝達手段とを設けて成るものであることを特徴と
する多ポートRAM。 2、上記伝達手段は、外部から書き込み系に与えられる
データを書き込みコモンデータ線を介して読み出し系に
含まれる読み出しコモンデータ線に伝達するスイッチ素
子であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
多ポートRAM。 3、上記メモリセルはスタティックラッチ回路を含み、
このメモリセルのデータ入出力端子に個別的に結合され
る書き込みビット線及び読み出しビット線、さらにはこ
れらと選択的に導通にされ得る書き込みコモンデータ線
及び読み出しコモンデータ線は、相対的にレベルの高い
一方の電源電圧レベルにプリチャージされるものであっ
て、これら書き込みコモンデータ線と読み出しコモンデ
ータ線を選択的に導通に制御する伝達手段としての上記
スイッチ素子がpチャンネル型MOSFETによって構
成されて成るものであることを特徴とする特許請求の範
囲第2項記載の多ポートRAM。 4、上記アドレス一致検出手段による書き込みアドレス
と読み出しアドレスの一致検出に呼応して、読み出しビ
ット線を読み出しコモンデータ線に選択的に導通に制御
するための読み出しセレクタを全て非導通に制御可能な
読み出しアドレスデコーダを備えて成るものであること
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の多ポートRA
M。 5、上記伝達手段は、読み出し系に含まれるセンスアン
プの出力とデータ出力バッファ回路の入力との間に設け
た出力ラッチ回路に書き込みデータを伝達するスイッチ
素子であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の多ポートRAM。 6、相対的にレベルの高い一方の電源電圧レベルをプリ
チャージレベルとする書き込みビット線及び読み出しビ
ット線に結合されるスタティッメモリセルに対してデー
タの書き込み動作と読み出し動作を独立に行い得る書き
込み系と読み出し系を備える多ポートRAMであって、
書き込みビット線とスタティックメモリセルとを結合す
るための書き込みトランスファゲートがnチャンネル型
MOSFETとされ、読み出しビット線とスタティック
メモリセルとを結合するための読み出しトランスファゲ
ートがpチャンネル型MOSFETとされて成るもので
あることを特徴とする多ポートRAM。 7、上記読み出し系は読み出しコモンデータ線に結合さ
れたセンスアンプを含み、このセンスアンプは、差動ア
ンプと、読み出しコモンデータ線のプリチャージレベル
を上記差動アンプの動作点近傍にレベルシフトさせて当
該差動アンプの入力端子に供給するレベルシフト回路と
を含んで成るものであることを特徴とする特許請求の範
囲第6項記載の多ポートRAM。 8、読み出しビット線を読み出しコモンデータ線に選択
的に導通に制御するための読み出しセレクトスイッチを
pチャンネル型MOSFETによって構成し、書き込み
ビット線を書き込みコモンデータ線に選択的に導通に制
御するための書き込みセレクトスイッチをnチャンネル
型MOSFETによって構成して成るものであることを
特徴とする特許請求の範囲第6項又は第7項記載の多ポ
ートRAM。
[Scope of Claims] 1. A write system for providing write data to a write bit line of a memory cell selected by a write address, and a write system for externally supplying data to a read bit line from a memory cell selected by a read address. In a multi-port RAM that is equipped with a read system for reading data and is capable of writing and reading data independently, the address match detecting means detects a match between a write address and a read address, and the address match detecting means detects a match between a write address and a read address. A multi-port RAM characterized in that it is provided with a transmission means for directly transmitting write data given to a write system from the outside to a read system in response to coincidence detection. 2. Claim 1, wherein the transmission means is a switch element that transmits data externally applied to the write system via a write common data line to a read common data line included in the read system. Multi-port RAM as described in section. 3. The memory cell includes a static latch circuit,
The write bit lines and read bit lines that are individually coupled to the data input/output terminals of this memory cell, and the write common data lines and read common data lines that can be selectively made conductive with these, have relatively low levels. The switch element is precharged to one of the higher power supply voltage levels, and serves as a transmission means for selectively controlling the write common data line and the read common data line to be conductive, and is constituted by a p-channel MOSFET. A multi-port RAM according to claim 2, characterized in that the multi-port RAM comprises: 4. In response to the coincidence detection between the write address and the read address by the address coincidence detection means, the read selector for selectively making the read bit line conductive and the read common data line conductive can be controlled to make all the read selectors non-conductive. The multi-port RA according to claim 2, characterized in that it is equipped with an address decoder.
M. 5. The above-mentioned transmission means is a switch element that transmits write data to an output latch circuit provided between the output of a sense amplifier included in the read system and the input of a data output buffer circuit. The multi-port RAM described in the first range. 6. A write system that can independently perform data write and read operations for static memory cells coupled to a write bit line and a read bit line, using one relatively high power supply voltage level as a precharge level. A multi-port RAM comprising a readout system and a readout system,
The write transfer gate for coupling the write bit line and the static memory cell is an n-channel MOSFET, and the read transfer gate for coupling the read bit line and the static memory cell is a p-channel MOSFET. A multi-port RAM characterized by: 7. The read system includes a sense amplifier coupled to the read common data line, and the sense amplifier shifts the precharge level of the differential amplifier and the read common data line to near the operating point of the differential amplifier. 7. The multi-port RAM according to claim 6, further comprising a level shift circuit for supplying signals to input terminals of said differential amplifier. 8. A read select switch for controlling the read bit line to be selectively conductive to the read common data line is configured by a p-channel MOSFET, and a read select switch for selectively controlling the conductive state for the write bit line to the write common data line. 8. The multi-port RAM according to claim 6, wherein the write select switch is constituted by an n-channel type MOSFET.
JP63126891A 1988-01-28 1988-05-24 Multi-port RAM Expired - Fee Related JP2613257B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63126891A JP2613257B2 (en) 1988-05-24 1988-05-24 Multi-port RAM
KR1019890000939A KR0141494B1 (en) 1988-01-28 1989-01-28 High speed sense semiconductor device using level shift circuit
US07/303,472 US4984204A (en) 1988-01-28 1989-01-30 High speed sensor system using a level shift circuit
US07/637,591 US5053652A (en) 1988-01-28 1991-01-04 High speed sensor system using a level shift circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63126891A JP2613257B2 (en) 1988-05-24 1988-05-24 Multi-port RAM

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01296486A true JPH01296486A (en) 1989-11-29
JP2613257B2 JP2613257B2 (en) 1997-05-21

Family

ID=14946419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63126891A Expired - Fee Related JP2613257B2 (en) 1988-01-28 1988-05-24 Multi-port RAM

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2613257B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0460992A (en) * 1990-06-27 1992-02-26 Toshiba Corp Semiconductor memory device
US5335199A (en) * 1991-03-19 1994-08-02 Fujitsu Limited Multiport memory
US5444658A (en) * 1989-07-18 1995-08-22 Fujitsu Limited Elastic store memory circuit
US5495190A (en) * 1993-06-28 1996-02-27 Texas Instruments Incorporated Arbiter circuit
US5761147A (en) * 1997-02-21 1998-06-02 International Business Machines Corporation Virtual two-port memory structure with fast write-thru operation
US6229754B1 (en) 2000-02-09 2001-05-08 International Business Machines Corporation Write through function for a memory
JP2007122863A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Sony Corp SRAM dynamic sense amplifier
US7907459B2 (en) 2007-04-12 2011-03-15 Renesas Electronics Corporation Semiconductor memory device and method of testing same
JP2014135111A (en) * 2013-01-14 2014-07-24 Freescale Semiconductor Inc Multiport memory with matching address and data line control

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01285088A (en) * 1988-05-10 1989-11-16 Nec Corp Semiconductor storage device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01285088A (en) * 1988-05-10 1989-11-16 Nec Corp Semiconductor storage device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5444658A (en) * 1989-07-18 1995-08-22 Fujitsu Limited Elastic store memory circuit
JPH0460992A (en) * 1990-06-27 1992-02-26 Toshiba Corp Semiconductor memory device
US5335199A (en) * 1991-03-19 1994-08-02 Fujitsu Limited Multiport memory
US5495190A (en) * 1993-06-28 1996-02-27 Texas Instruments Incorporated Arbiter circuit
US5761147A (en) * 1997-02-21 1998-06-02 International Business Machines Corporation Virtual two-port memory structure with fast write-thru operation
US6229754B1 (en) 2000-02-09 2001-05-08 International Business Machines Corporation Write through function for a memory
JP2007122863A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Sony Corp SRAM dynamic sense amplifier
US7907459B2 (en) 2007-04-12 2011-03-15 Renesas Electronics Corporation Semiconductor memory device and method of testing same
JP2014135111A (en) * 2013-01-14 2014-07-24 Freescale Semiconductor Inc Multiport memory with matching address and data line control

Also Published As

Publication number Publication date
JP2613257B2 (en) 1997-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0141494B1 (en) High speed sense semiconductor device using level shift circuit
US6522163B1 (en) Apparatus and method for coupling a first node to a second node using switches which are selectively clocked for fast switching times
KR930004625B1 (en) Sensor amplifier
TWI478172B (en) Word line driver using level shifter on the area control circuit
US6614710B2 (en) Semiconductor memory device and data read method thereof
JPH0583999B2 (en)
US5481495A (en) Cells and read-circuits for high-performance register files
JPH0456398B2 (en)
US20020080668A1 (en) Current controlled multi-state parallel test for semiconductor device
JPH01296486A (en) Multi-port ram
JPH0679440B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
KR0155986B1 (en) Semiconductor memory
US20150022238A1 (en) Apparatuses and methods for line charge sharing
JPH0447397B2 (en)
US5053652A (en) High speed sensor system using a level shift circuit
US4583202A (en) Semiconductor memory device
JPH0386997A (en) Semiconductor memory
US5469402A (en) Buffer circuit of a semiconductor memory device
US6885595B2 (en) Memory device
JP3064561B2 (en) Semiconductor storage device
US6836446B2 (en) Semiconductor memory device
US4435791A (en) CMOS Address buffer for a semiconductor memory
KR100313731B1 (en) Semiconductor integrated circuit device having clamp circuit for accelerating data transfer on data bus
US7075834B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPS6242359B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees