JPH01298197A - 金属薄膜型磁気記録媒体用基板及びその製造方法 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体用基板及びその製造方法Info
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- JPH01298197A JPH01298197A JP12759588A JP12759588A JPH01298197A JP H01298197 A JPH01298197 A JP H01298197A JP 12759588 A JP12759588 A JP 12759588A JP 12759588 A JP12759588 A JP 12759588A JP H01298197 A JPH01298197 A JP H01298197A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はハードディスク、フロッピーディスク、磁気テ
ープ等に使用される金属薄膜型磁気記！？ ｈ！に体用
基板及びその製造方法に関するものである。
ープ等に使用される金属薄膜型磁気記！？ ｈ！に体用
基板及びその製造方法に関するものである。
［解決しようとする技術課題］
金属薄膜型磁気記録媒体は、近年、高密度記録用媒体と
して広＜ ？ｉＪｌ究され、記録再生特性か潰れている
ことはよく知られている。特に、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ
−Ｎｉ合金は記録再生特性が優れ、ｆｉ？ｆ ｒｉハ２
００ Ｋ Ｄ Ｐ Ｉ 、 ｔｋ名は９０ Ｋ Ｂ Ｐ
Ｉの線記録密度の達成が報告されている。しかし、現
在に至るまで広く実用化されるには至っていない。
して広＜ ？ｉＪｌ究され、記録再生特性か潰れている
ことはよく知られている。特に、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ
−Ｎｉ合金は記録再生特性が優れ、ｆｉ？ｆ ｒｉハ２
００ Ｋ Ｄ Ｐ Ｉ 、 ｔｋ名は９０ Ｋ Ｂ Ｐ
Ｉの線記録密度の達成が報告されている。しかし、現
在に至るまで広く実用化されるには至っていない。
その原因としては、記録ヘッドとの摩擦の問題か挙げら
れている。すなわち、金属薄膜磁気記録媒体は連続型媒
体であって、表面平滑度が高いため、；υ体間滑剤の保
持能力にＨ点が島って、磁気ヘッドとの摩擦により使用
中に潤滑剤か除去されてしまい、ヘンドクラッシュに至
ることも一つの原因である。
れている。すなわち、金属薄膜磁気記録媒体は連続型媒
体であって、表面平滑度が高いため、；υ体間滑剤の保
持能力にＨ点が島って、磁気ヘッドとの摩擦により使用
中に潤滑剤か除去されてしまい、ヘンドクラッシュに至
ることも一つの原因である。
このため、従来、基板表面にａｍ的に凹凸を設けてその
表面に磁気記録材料をコーチインクし、その凹凸により
磁気ヘッドとの接触面積を減らし、さらに、その凹部に
液体潤滑剤を入れて、その１呆持能力を増加させたもの
か試みられている。
表面に磁気記録材料をコーチインクし、その凹凸により
磁気ヘッドとの接触面積を減らし、さらに、その凹部に
液体潤滑剤を入れて、その１呆持能力を増加させたもの
か試みられている。
このような機械的な凹凸処理、例えばサンドペーパー等
によるメカニカル・テキスチュアー処理によるものは、
表面にパリが発生し、磁気ヘッドに付着してクラッシュ
に至る場合か多く、また、Ｒｔ’＋Ｍ的な凹凸処理によ
り表面が荒れるため、磁気ヘッド・媒体間の間隔が増加
して高密度記録が達成できない。
によるメカニカル・テキスチュアー処理によるものは、
表面にパリが発生し、磁気ヘッドに付着してクラッシュ
に至る場合か多く、また、Ｒｔ’＋Ｍ的な凹凸処理によ
り表面が荒れるため、磁気ヘッド・媒体間の間隔が増加
して高密度記録が達成できない。
本発明者らは、ケミカル又はフィジカル・エツチングに
より基板の表面に凹凸をつける方法（特願昭６２−２４
３０７４４３０７４号明細書アを化学処理により積極的
に拡大して表面に凹凸をつける方法（特願昭６２−２４
８７７１号明細書）等を堤案じているが、ケミカル又は
フィジカル・エツチングの場合は、第１２図に示すよう
に、基板１３１の表面より突出する針状の棒１３２が、
シャープなエツジを有している。このため、その上にコ
ーティングされる磁性材料１３３が薄い場合は、エツジ
に磁気ヘッドが当たり磁性膜及びその上の潤滑膜が破壊
され易い欠点があった。
より基板の表面に凹凸をつける方法（特願昭６２−２４
３０７４４３０７４号明細書アを化学処理により積極的
に拡大して表面に凹凸をつける方法（特願昭６２−２４
８７７１号明細書）等を堤案じているが、ケミカル又は
フィジカル・エツチングの場合は、第１２図に示すよう
に、基板１３１の表面より突出する針状の棒１３２が、
シャープなエツジを有している。このため、その上にコ
ーティングされる磁性材料１３３が薄い場合は、エツジ
に磁気ヘッドが当たり磁性膜及びその上の潤滑膜が破壊
され易い欠点があった。
第一発明は、基板表面にエツジのない均一な微小突起を
設けることにより、潤滑材の保持能力が向上され、しか
も、磁性）摸及び潤滑ｊ漠の破壊が発生しない金属薄膜
型磁気記録媒体用基板を提供しようとするものである。
設けることにより、潤滑材の保持能力が向上され、しか
も、磁性）摸及び潤滑ｊ漠の破壊が発生しない金属薄膜
型磁気記録媒体用基板を提供しようとするものである。
第二発明は、上記の基板を安価にかつ高品質を６って製
造できる方法を提供することを目自勺とする。
造できる方法を提供することを目自勺とする。
［課題を解決するための手段１
本発明による基板は、陽極酸化皮膜のポア中に充填され
た低融点金属、高分子材料、熱橋酸化物又はこれらの複
合材料などの陽極酸化皮膜と異なる材料を、加熱処理に
より基板表面に盛り上げさせてなるものである。
た低融点金属、高分子材料、熱橋酸化物又はこれらの複
合材料などの陽極酸化皮膜と異なる材料を、加熱処理に
より基板表面に盛り上げさせてなるものである。
その表面の凹凸の度合いは、加熱の温度と時間を制御す
ることにより、調整可能である。
ることにより、調整可能である。
まな、本発明による製造方法は、ポア中に上記材料を充
填し、その基板を研磨して表面を均一にした後、所要温
度で所要時間を６つで加熱処理して、表面に面記材料を
突出させることを特徴とする。
填し、その基板を研磨して表面を均一にした後、所要温
度で所要時間を６つで加熱処理して、表面に面記材料を
突出させることを特徴とする。
［作用］
ポア中に充填された低融点金属、高分子材料などは、加
熱により軟化し、さらに温度を上昇させると溶融する。
熱により軟化し、さらに温度を上昇させると溶融する。
軟化溶融した材料は、その体積膨張及びポア中に存在す
る空気又は水分の膨張力で、基板表面に押し出される。
る空気又は水分の膨張力で、基板表面に押し出される。
加熱により表面に押出された１１状の物体は表面が滑ら
かな形状をしている。
かな形状をしている。
「この発明の実施例］
第一実施例
基板材料に、４％Ｍｇを含むＭＦＫ−／Ｍ！合金を用い
、この基板を印加電圧４８Ｖのシュウ酸３％洛中で陽極
酸化処理を行い、ポア径３５０人、ポア間隔１１００人
のアルマイト皮膜を生成ｊ−た後、この基板をＣｕ Ｓ
Ｏａ浴内で゛こ解メツキ処理してポア中にＳｎを析出
光ＪＪＮさせた。その後、この基板の表面を０．１μ口
１径のアルミナ粉末を使用して５分＋ｉｉｌ ｎＴ ＋
Ｒし一〇ノ七面を平滑にし、アルマイトＪＥＩ ）”Ｊ
を０．５μｍとした。
、この基板を印加電圧４８Ｖのシュウ酸３％洛中で陽極
酸化処理を行い、ポア径３５０人、ポア間隔１１００人
のアルマイト皮膜を生成ｊ−た後、この基板をＣｕ Ｓ
Ｏａ浴内で゛こ解メツキ処理してポア中にＳｎを析出
光ＪＪＮさせた。その後、この基板の表面を０．１μ口
１径のアルミナ粉末を使用して５分＋ｉｉｌ ｎＴ ＋
Ｒし一〇ノ七面を平滑にし、アルマイトＪＥＩ ）”Ｊ
を０．５μｍとした。
そして、上記研磨後の基板を、２００℃で１０分間加熱
処理した。温度上昇に伴い、充填物か軟化し、さらに温
度が上昇すると溶融し、軟化溶融したＳｎがその体積膨
張及びポア底部に存する微量の空気又は水分の高圧膨張
力により基板表面に針状に突出した。
処理した。温度上昇に伴い、充填物か軟化し、さらに温
度が上昇すると溶融し、軟化溶融したＳｎがその体積膨
張及びポア底部に存する微量の空気又は水分の高圧膨張
力により基板表面に針状に突出した。
これにより、第１図の図面代用写真に表面状信を示すよ
うに、アルマイトへ１の表面から針状のＳｎが突出して
、基板表面に二次元的な凹凸が生成した。
うに、アルマイトへ１の表面から針状のＳｎが突出して
、基板表面に二次元的な凹凸が生成した。
突出物の直径は３００〜２０００人、突出高さは１０−
５００人、分布は１０５〜１０７ａ／ｍｍ２である。
５００人、分布は１０５〜１０７ａ／ｍｍ２である。
上記サーマル・テクスチャー（加熱処理）後の基板の触
針式あらさＪｔｌｌ定機による測定結果を、第２図に示
す。凹凸の最大差（’Ｉ’ Ｉ Ｒ）は８５人、平均値
は１５人である。
針式あらさＪｔｌｌ定機による測定結果を、第２図に示
す。凹凸の最大差（’Ｉ’ Ｉ Ｒ）は８５人、平均値
は１５人である。
そして、第３図に示すように、基板３１の表面に針状に
突出された１勿体３２ （Ｓｎ）は、表ｍ１が滑らかで
、丸みを４１２びている。
突出された１勿体３２ （Ｓｎ）は、表ｍ１が滑らかで
、丸みを４１２びている。
続いて、第４図に示すように、上記基板の表面に下地材
料Ｃｒをスパッタ法により膜ＩＶ１０００人にコーティ
ング（製ｊ摸）し、その上に磁性材第４Ｃｏ−Ｎｉ合金
を同じくスパッタｌ去により１摸）′ｌ−６００人にコ
ーティングして磁性膜３３を生成した後、さらに、その
上にカーボンＣをスパッタ法により）模１５３００人に
コーディングして保護膜３４を生成して、磁気ディスク
を形成した。第５図の写真は、この状！８の表面を示し
ている。この場合における最大凹凸高さは５００人であ
る。
料Ｃｒをスパッタ法により膜ＩＶ１０００人にコーティ
ング（製ｊ摸）し、その上に磁性材第４Ｃｏ−Ｎｉ合金
を同じくスパッタｌ去により１摸）′ｌ−６００人にコ
ーティングして磁性膜３３を生成した後、さらに、その
上にカーボンＣをスパッタ法により）模１５３００人に
コーディングして保護膜３４を生成して、磁気ディスク
を形成した。第５図の写真は、この状！８の表面を示し
ている。この場合における最大凹凸高さは５００人であ
る。
上記コーテイング後の基板について同様の表面あらさ測
定をした結果を第６図に示す。
定をした結果を第６図に示す。
凹凸の最大差は１９５人、平均値は２５人である。これ
は、コーティングがサーマル・テクスチャーによる凹凸
に忠実に行われ、しかも、コーディング後の表面あらさ
かサーマル・テクスチャーの約２．５倍か確保されるこ
とを意味する。しかし、従来のメカニカル・テクスチャ
ーに比し、あらさは格段に小さい。
は、コーティングがサーマル・テクスチャーによる凹凸
に忠実に行われ、しかも、コーディング後の表面あらさ
かサーマル・テクスチャーの約２．５倍か確保されるこ
とを意味する。しかし、従来のメカニカル・テクスチャ
ーに比し、あらさは格段に小さい。
第７［ＡはＬ記コーティング処理後の基板に対して、オ
ージェ分析を行って、深さ方向の組織を調べた結果を示
ず。磁気記録媒体の表面又はその至近にＳｎが存在する
場合は、媒体の電気磁気特性及び而（酸化性か低下して
好ましくないか、同図からも明らかなように、この発明
による基板は、媒体の表面及びその至近にＳｎか無いの
で、電気磁気特性及び耐酸化性に優れている。
ージェ分析を行って、深さ方向の組織を調べた結果を示
ず。磁気記録媒体の表面又はその至近にＳｎが存在する
場合は、媒体の電気磁気特性及び而（酸化性か低下して
好ましくないか、同図からも明らかなように、この発明
による基板は、媒体の表面及びその至近にＳｎか無いの
で、電気磁気特性及び耐酸化性に優れている。
次に、上記の磁気ディスクを使用して、磁気ヘッドに対
する摩擦１系数及び湿度特性を調べた結果を、第８図に
示す。
する摩擦１系数及び湿度特性を調べた結果を、第８図に
示す。
さらに、上記磁気ディスクを用いて、
ＣＳＳ （コンタクト・スタート・ストップ）テストを
行い、その耐久性を調べた。使用した磁気へソドは、材
料ＭｒｌＺｎフェライト、５ｉｒ重１５ｈ、レール幅４
００μｍ、移動速度０．２ｍ／ｓｅｃで、基板表面に液
体潤滑剤フォンプリン（デュポン社製品）を、４０人コ
ーティングした。表面あらさがメカニカル・テクスチャ
ーによるものより小さいので、ｂ’を末の磁気ディスつ
て゛はｉ？−Ｊ二足が０．３μｍ必要であったのに対し
て、この発明によるディスクではｌ乎ＩＪｔ０．１μｍ
がｉｆｒ止であった。
行い、その耐久性を調べた。使用した磁気へソドは、材
料ＭｒｌＺｎフェライト、５ｉｒ重１５ｈ、レール幅４
００μｍ、移動速度０．２ｍ／ｓｅｃで、基板表面に液
体潤滑剤フォンプリン（デュポン社製品）を、４０人コ
ーティングした。表面あらさがメカニカル・テクスチャ
ーによるものより小さいので、ｂ’を末の磁気ディスつ
て゛はｉ？−Ｊ二足が０．３μｍ必要であったのに対し
て、この発明によるディスクではｌ乎ＩＪｔ０．１μｍ
がｉｆｒ止であった。
問題のないＣ８Ｓ回数は、８万回以上であった。
続いて、上記磁気ディスク（ｃｏ−Ｎｉ膜厚６００人）
に対して行った記録再生特性テストの結果について、説
明する。
に対して行った記録再生特性テストの結果について、説
明する。
第９Ａ図ないし第９Ｃ図は、（株）日立製ｆ１＝所製メ
タル・イン・ギヤツブ形磁気ヘッド（製品記号ＨＭＩＧ
）を使用した場合の測定結果である（ヘンドギャップ０
．５μｍ、ｌ−ラック幅１５μｍ、浮−ト址０．１μｍ
）。
タル・イン・ギヤツブ形磁気ヘッド（製品記号ＨＭＩＧ
）を使用した場合の測定結果である（ヘンドギャップ０
．５μｍ、ｌ−ラック幅１５μｍ、浮−ト址０．１μｍ
）。
第９Ａ図は媒体にそれぞれ２．５Ｍｊ［ｚ及び５ Ｍ
）Ｉ ｚで記録する場合に磁気ヘッドに印加した電流と
、その媒体を再生する場合に磁気ヘッドに得られた出力
電圧との関係及びオーバーライｌ−時の出力減衰景を示
す記録再生特性図である。いずれの記録波長の場合も、
記録電流の如何によらず、安定したヘッド出力が得られ
る。
）Ｉ ｚで記録する場合に磁気ヘッドに印加した電流と
、その媒体を再生する場合に磁気ヘッドに得られた出力
電圧との関係及びオーバーライｌ−時の出力減衰景を示
す記録再生特性図である。いずれの記録波長の場合も、
記録電流の如何によらず、安定したヘッド出力が得られ
る。
第９Ｂ図はヘッド出力の最大値と最小値の変動状態を示
す出力波形図である。変動量が少ないことが判る。
す出力波形図である。変動量が少ないことが判る。
第９Ｃ図は記録周波数に対するヘッド出力の関係を示す
周波数特性図である。１００Ｋ１−【Ｚから２ Ｍ ＋
−ｒ ｚまでは殆ど出力値が一定であり、５Ｍｌｌ７．
においても約６ｒｎＶ低下するだけである。記録密度の
欄の数字はそれぞれ上側の周波数の場合に相当する記録
密度を意味する。
周波数特性図である。１００Ｋ１−【Ｚから２ Ｍ ＋
−ｒ ｚまでは殆ど出力値が一定であり、５Ｍｌｌ７．
においても約６ｒｎＶ低下するだけである。記録密度の
欄の数字はそれぞれ上側の周波数の場合に相当する記録
密度を意味する。
第１０Ａ図ないし第１０Ｃ図は、上記磁気ディスクに対
して、松下電器産業（株）製Ｍ ｎ −Ｚ ｎモノリシ
ック形磁気ヘッド（製品記号Ｍ５３６）を使用して行っ
た場合のそれぞれ第９Ａ図ないし第９Ｃ図に対応するも
のであり、それぞれ同様の結果を示している。
して、松下電器産業（株）製Ｍ ｎ −Ｚ ｎモノリシ
ック形磁気ヘッド（製品記号Ｍ５３６）を使用して行っ
た場合のそれぞれ第９Ａ図ないし第９Ｃ図に対応するも
のであり、それぞれ同様の結果を示している。
第二実施例
基板として、４％Ｍｇを含むＭｇ−Ａｊ！合金を用い、
この基板を印加電圧４８Ｖのシュウ酸３％浴中で陽極酸
化処理を行い、ポア径３５０人、ポア間隔１１００人の
アルマイト皮膜を生成した後、この基板をリン酸１％洛
中で陽極酸化処理を行い、ポア拡大処理を行い、ポア径
を６００人にし、この基板の表面に５ｉ０２８０人粒子
と有機シリコン３％の混合浴液を塗布した後、赤外線乾
燥によりポア中にＭ ｇ−Ａ ｊ２合金よりも耐熱温度
が低い固形物質を充填させた。その後、この基板の表面
を０．１μｍ径のアルミナ粉末を使用して５分間研磨し
て表面を平滑にし、アルマイト膜厚を０．５μｍとした
。
この基板を印加電圧４８Ｖのシュウ酸３％浴中で陽極酸
化処理を行い、ポア径３５０人、ポア間隔１１００人の
アルマイト皮膜を生成した後、この基板をリン酸１％洛
中で陽極酸化処理を行い、ポア拡大処理を行い、ポア径
を６００人にし、この基板の表面に５ｉ０２８０人粒子
と有機シリコン３％の混合浴液を塗布した後、赤外線乾
燥によりポア中にＭ ｇ−Ａ ｊ２合金よりも耐熱温度
が低い固形物質を充填させた。その後、この基板の表面
を０．１μｍ径のアルミナ粉末を使用して５分間研磨し
て表面を平滑にし、アルマイト膜厚を０．５μｍとした
。
そして、上記？ｉＪＩ磨後の基板を、３００°Ｃで１０
分間加熱処理した。温度上昇に伴い、充填物が軟化し、
さらに温度が上昇すると溶融し、軟化／８融した物質が
その体積膨張及びポア底部に存する微量の空気又は水分
の高圧膨張力により基板表面に針状に突出した。
分間加熱処理した。温度上昇に伴い、充填物が軟化し、
さらに温度が上昇すると溶融し、軟化／８融した物質が
その体積膨張及びポア底部に存する微量の空気又は水分
の高圧膨張力により基板表面に針状に突出した。
これにより、第一実施例の場合と同様に、アルマイトＡ
Ｉ！の表面から充填物が針状に突出して、基板表面に二
次元的な凹凸が生成した。この場合の最大凹凸は７００
人である。
Ｉ！の表面から充填物が針状に突出して、基板表面に二
次元的な凹凸が生成した。この場合の最大凹凸は７００
人である。
続いて、先の実施例の場合と同様に表面に磁性材料をコ
ーティングして磁気ディスクを形成し、これを用いてＣ
８Ｓテストを行った結果、問題のないＣ８Ｓ回数は３万
回以上であった。
ーティングして磁気ディスクを形成し、これを用いてＣ
８Ｓテストを行った結果、問題のないＣ８Ｓ回数は３万
回以上であった。
第１１図に、サーマル・テクスチャーにおける温度・時
間を種々変えて得られた凹凸深さを走査型電子顕微鏡に
より測定した値を示す。ポア中の電析材料はＳｎである
。可及的に短時間及び低コスｌ−熱エネルギーで好まし
いデクスチャー深さが得られる範囲は、２００〜３００
°Ｃ５１０〜２０分間である。
間を種々変えて得られた凹凸深さを走査型電子顕微鏡に
より測定した値を示す。ポア中の電析材料はＳｎである
。可及的に短時間及び低コスｌ−熱エネルギーで好まし
いデクスチャー深さが得られる範囲は、２００〜３００
°Ｃ５１０〜２０分間である。
上記実施例では、基板材料にＡＩ又はＡ１合金を用いた
場合を説明したが、この他の実施例として、基板材料に
ガラス板などの硬質基板を用い、その表面にＡ（又はＡ
１合金Ｔｉ又はＴ ｉ合金を気相成長により付着させた
ものを使用し、これを陽極酸化処理によるポア生成以下
の各工程を施して、上記の場合と同様に磁気ディスクを
作ることができる。
場合を説明したが、この他の実施例として、基板材料に
ガラス板などの硬質基板を用い、その表面にＡ（又はＡ
１合金Ｔｉ又はＴ ｉ合金を気相成長により付着させた
ものを使用し、これを陽極酸化処理によるポア生成以下
の各工程を施して、上記の場合と同様に磁気ディスクを
作ることができる。
［この発明の効果］
上述のように、第一発明による金ｍ薄膜型磁気記録媒体
用基板において、加熱により表面に押出された針状の物
体は表面が滑らかな形状をしているため、第一に、この
」二にコーティングされる磁性膜及び保護膜の機械的強
度が大きくなる。第二に、基板表面にはエッチのない均
一な微小突起が存するので、潤滑材の保持能力か良好で
あり、磁気ヘッドとの摩擦により磁性膜及び゛潤滑）模
が破壊されることがない また、第二発明によれば、材料充填後、研磨して表面を
均一化した後、基板を加熱処理することにより凹凸を設
けるから、基板表面の凹凸の高さか均一であり、従って
、磁気ヘラ）＜・媒体間の間隔にバラツキがなく、磁気
ヘッドの浮上量の減少が可能なため、高密度記録が達成
できるとともに、ケミカル・エツチングの場合のような
特別な薬品（リン酸、クロム酸溶液）又はフィジカル・
エツチングの場合のような高価なイオンエツチング″装
置等を必要としないので、工業生産上経済的である。
用基板において、加熱により表面に押出された針状の物
体は表面が滑らかな形状をしているため、第一に、この
」二にコーティングされる磁性膜及び保護膜の機械的強
度が大きくなる。第二に、基板表面にはエッチのない均
一な微小突起が存するので、潤滑材の保持能力か良好で
あり、磁気ヘッドとの摩擦により磁性膜及び゛潤滑）模
が破壊されることがない また、第二発明によれば、材料充填後、研磨して表面を
均一化した後、基板を加熱処理することにより凹凸を設
けるから、基板表面の凹凸の高さか均一であり、従って
、磁気ヘラ）＜・媒体間の間隔にバラツキがなく、磁気
ヘッドの浮上量の減少が可能なため、高密度記録が達成
できるとともに、ケミカル・エツチングの場合のような
特別な薬品（リン酸、クロム酸溶液）又はフィジカル・
エツチングの場合のような高価なイオンエツチング″装
置等を必要としないので、工業生産上経済的である。
第１図は加熱処理後の基板表面の状態を示す電子類ｍ鏡
写真、第２図はサーマル・テクスチャー後の表面あらさ
測定の結果を示すグラフ、第３図は突出物の形状を示す
模式図、第４図は磁性材料及び保護材料をコーティング
した状態における基板表面の組織を示す模式図、第５図
は同コーティング処理後の基板表面を示す電子型ｍｉａ
写真、第６図はコーチインク処理後の表面あらさ測定の
結果を示すグラフ、第７図はオージェ分析の結果を示す
グラフ、第８図はこの発明に係る磁気ディスクの磁気ヘ
ッドに対する摩擦係数及び湿度特性を表すグラフである
。 第９Ａ図ないし第９Ｃ図は一実施例による磁気ディスク
の一つの磁気ヘッド使用による記録再生特性を示すもの
であり、第９Ａ図は記録再生特性図、第９Ｂ図は出力波
形図、第９Ｃ図は周波数特性図である。 第１０Ａ図ないし第１０Ｃ図は他の磁気ｌ＼ジッド用い
た場合の同様の記録再生特性を示すグラフである。 第１１図は加熱温度・時間と凹凸深さの関係を示すグラ
フである。 第１２図は先行技術の突出物の形状及びその欠点を示す
模式図である。 第８図 湿度（％） 第７図 工ツチ／グ時間（秒） 第９Ｂ図 第１０Ｂ図 第９Ａ図 記録電流（ｎ抗） 第１０Ａ図
写真、第２図はサーマル・テクスチャー後の表面あらさ
測定の結果を示すグラフ、第３図は突出物の形状を示す
模式図、第４図は磁性材料及び保護材料をコーティング
した状態における基板表面の組織を示す模式図、第５図
は同コーティング処理後の基板表面を示す電子型ｍｉａ
写真、第６図はコーチインク処理後の表面あらさ測定の
結果を示すグラフ、第７図はオージェ分析の結果を示す
グラフ、第８図はこの発明に係る磁気ディスクの磁気ヘ
ッドに対する摩擦係数及び湿度特性を表すグラフである
。 第９Ａ図ないし第９Ｃ図は一実施例による磁気ディスク
の一つの磁気ヘッド使用による記録再生特性を示すもの
であり、第９Ａ図は記録再生特性図、第９Ｂ図は出力波
形図、第９Ｃ図は周波数特性図である。 第１０Ａ図ないし第１０Ｃ図は他の磁気ｌ＼ジッド用い
た場合の同様の記録再生特性を示すグラフである。 第１１図は加熱温度・時間と凹凸深さの関係を示すグラ
フである。 第１２図は先行技術の突出物の形状及びその欠点を示す
模式図である。 第８図 湿度（％） 第７図 工ツチ／グ時間（秒） 第９Ｂ図 第１０Ｂ図 第９Ａ図 記録電流（ｎ抗） 第１０Ａ図
Claims (6)
- （１）陽極酸化処理された基板のポア中に陽極酸化皮膜
と異なる材料を充填し、加熱処理をしてその充填物の一
部を表面に押出させることにより、基板表面に微細な凹
凸が形成されている金属薄膜型磁気記録媒体用基板。 - （２）充填物として、陽極酸化皮膜の耐熱温度以下で溶
融する材料を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第
１項に記載の金属薄膜型磁気記録媒体用基板。 - （３）充填物として、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｚｎ、高分子材料、
無機酸化物又はこれ等の複合材料を用いたことを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の金属薄膜型磁気記録
媒体用基板。 - （４）凹凸は、５０〜５００Åであることを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の金属薄膜型磁気記録媒体
用基板。 - （５）陽極酸化処理された基板のポア中に陽極酸化皮膜
と異なる材料を充填する第一工程、第一工程を経た基板
を研磨して表面を均一にする第二工程、第二工程を経た
基板を加熱処理して表面に凹凸を設ける第三工程からな
る金属薄膜型磁気記録媒体用基板の製造方法。 - （６）硬質基板の上にアルミニウム又はアルミニウム合
金、チタン又はチタン合金が気相成長により付着された
ものを使用して各工程を施すことを特徴とする特許請求
の範囲第５項に記載の金属薄膜型磁気記録媒体用基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12759588A JPH01298197A (ja) | 1988-05-25 | 1988-05-25 | 金属薄膜型磁気記録媒体用基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12759588A JPH01298197A (ja) | 1988-05-25 | 1988-05-25 | 金属薄膜型磁気記録媒体用基板及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01298197A true JPH01298197A (ja) | 1989-12-01 |
| JPH0338357B2 JPH0338357B2 (ja) | 1991-06-10 |
Family
ID=14963970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12759588A Granted JPH01298197A (ja) | 1988-05-25 | 1988-05-25 | 金属薄膜型磁気記録媒体用基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01298197A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5546320A (en) * | 1978-09-25 | 1980-04-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Combustion control system |
-
1988
- 1988-05-25 JP JP12759588A patent/JPH01298197A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5546320A (en) * | 1978-09-25 | 1980-04-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Combustion control system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0338357B2 (ja) | 1991-06-10 |
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