JPH01302135A - 表面上にある薄い試料の処理を促進するための方法および装置 - Google Patents
表面上にある薄い試料の処理を促進するための方法および装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は処理液と接触する表面上にある薄い試料の処理
法、特に組織学的および血液学的染色液、免疫学的試薬
ならびに核酸プローブ試薬などの処理液による薄い試料
、たとえば組織の処理を促進する方法に関する。
法、特に組織学的および血液学的染色液、免疫学的試薬
ならびに核酸プローブ試薬などの処理液による薄い試料
、たとえば組織の処理を促進する方法に関する。
（従来の技術）
薄い試料を処理液で処理するために一般に用いられる機
器の一形態は自動スライド染色装置である。この機器は
試料を保有するスライドを処理液に順次浸漬するもので
ある。
器の一形態は自動スライド染色装置である。この機器は
試料を保有するスライドを処理液に順次浸漬するもので
ある。
フィッシャー・サイエンティフィック・カンパニーから
１９８０〜１９８６年に市販されたこの種のスライド染
色装置の１つはヒストマチック（ＩＩ ＩＳＴＯＭＡＴ
ＩＣ）スライド染色装置、１７２型（フィンシャー８
６カタログＮｏ、 １５−１８５−１７２）であり、こ
れは間隔を置いて平行に垂直方向に配置されたスライド
を保持したラックが染色プロセスの開始時に自動的に挿
入される乾燥室を備えている。この機器はプログラムさ
れていると、空気を電気的に加熱された金属線上に吹き
付け、スライド上におけるホルマリン固定組繊の保持を
高めるため組織の周りに施されていたパラフィンを融解
するために、この温風を乾燥室内へ送り、一連のスライ
ドに導通する。この金属線は赤熱するように設計されて
おらず、機器内におけるその配置はスライドの輻射加熱
に適してもいない。
１９８０〜１９８６年に市販されたこの種のスライド染
色装置の１つはヒストマチック（ＩＩ ＩＳＴＯＭＡＴ
ＩＣ）スライド染色装置、１７２型（フィンシャー８
６カタログＮｏ、 １５−１８５−１７２）であり、こ
れは間隔を置いて平行に垂直方向に配置されたスライド
を保持したラックが染色プロセスの開始時に自動的に挿
入される乾燥室を備えている。この機器はプログラムさ
れていると、空気を電気的に加熱された金属線上に吹き
付け、スライド上におけるホルマリン固定組繊の保持を
高めるため組織の周りに施されていたパラフィンを融解
するために、この温風を乾燥室内へ送り、一連のスライ
ドに導通する。この金属線は赤熱するように設計されて
おらず、機器内におけるその配置はスライドの輻射加熱
に適してもいない。
ボーン・ダイアグノスティック・センター社の公開され
た国際特許出願間８７１００００４号（１９８７年１月
１５日）明細書、１８〜１９頁には、組織の固定、脱水
、包理、封入および染色に際して、スライド上での組織
試料の染色を促進するためのマイクロ波の種々の用途が
記載されている。その他のマイクロ波の使用に関しては
国際特許出１ｊｌＷＯ８７１００００４号と共に公表さ
れた調査報告書に報告された各種文献中に記載されてい
る。
た国際特許出願間８７１００００４号（１９８７年１月
１５日）明細書、１８〜１９頁には、組織の固定、脱水
、包理、封入および染色に際して、スライド上での組織
試料の染色を促進するためのマイクロ波の種々の用途が
記載されている。その他のマイクロ波の使用に関しては
国際特許出１ｊｌＷＯ８７１００００４号と共に公表さ
れた調査報告書に報告された各種文献中に記載されてい
る。
リンナーの米国特許第４，５６７．８４７号明細書（１
９８６年）には、超微細構造分析用生物組織の低温調製
（ｃｒｙｏｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ）のための装置およ
び方法が記載されている。１５欄には組織の温度を制御
下に上昇させるための各種輻射加熱手段が述べられてい
る、マイクロ波を含む種々の電磁エネルギー源が単独で
、または磁束と組合わせた状態で適切であることが示さ
れているが、ただし赤外線は避けるべきであるとされて
いる。
９８６年）には、超微細構造分析用生物組織の低温調製
（ｃｒｙｏｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ）のための装置およ
び方法が記載されている。１５欄には組織の温度を制御
下に上昇させるための各種輻射加熱手段が述べられてい
る、マイクロ波を含む種々の電磁エネルギー源が単独で
、または磁束と組合わせた状態で適切であることが示さ
れているが、ただし赤外線は避けるべきであるとされて
いる。
Ｎ、プリン、“マイクロ波炉を用いる迅速組織学的金属
染色法″Ｊ、ｏｆ ｌｌｉｓｔｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ
＋ ｖｏｌ、６＋ｎｏ、３． ｐｐ、１２５−１２９（
１９８３）にはマイクロ波照射の採用による特定の染色
処理の促進について記載されている。染色液（たとえば
メタンアミン銀使用液）が入ったプラスチック製コブリ
ンジャーにスライドを入れ、ジャーにキャップをゆるく
ねじ込み、ジャーをマイクロ波炉内に約１分間置く、多
くの場合、スライドはジャーが炉から取出されたのち数
秒間または数分間、高温の使用液中に残留させると支持
されている。この方法は金属染色および特定の他の染色
処理を促進するために採用できると示されているが、マ
イクロ波輻射時に処理液の浴に浸漬されるスライドに代
わるものについては何ら記載がない、この浸漬法は、マ
イクロ波エネルギーを分散させ、これにより組織切片の
過熱およびその後のそれらの分解を制限する補助として
用いられる。
染色法″Ｊ、ｏｆ ｌｌｉｓｔｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ
＋ ｖｏｌ、６＋ｎｏ、３． ｐｐ、１２５−１２９（
１９８３）にはマイクロ波照射の採用による特定の染色
処理の促進について記載されている。染色液（たとえば
メタンアミン銀使用液）が入ったプラスチック製コブリ
ンジャーにスライドを入れ、ジャーにキャップをゆるく
ねじ込み、ジャーをマイクロ波炉内に約１分間置く、多
くの場合、スライドはジャーが炉から取出されたのち数
秒間または数分間、高温の使用液中に残留させると支持
されている。この方法は金属染色および特定の他の染色
処理を促進するために採用できると示されているが、マ
イクロ波輻射時に処理液の浴に浸漬されるスライドに代
わるものについては何ら記載がない、この浸漬法は、マ
イクロ波エネルギーを分散させ、これにより組織切片の
過熱およびその後のそれらの分解を制限する補助として
用いられる。
ブリガティの米国特許第４，７３１，３３５号明細書（
１９８８年３月１５日交付）（英国特許出願第２．１８
０．６４７Ａ号明細書、１９８７年４月１日発行も参照
されたい）には、表面、たとえば顕微鏡スライド上の薄
い試料、たとえば組織を処理するための毛管作用を伴う
方法が記載されている。要約すると、処理液は２枚のス
ライドの間を毛管作用により吸込まれ、特に垂直に上方
へ吸上げられて、一方（または双方）のスライド上の試
料と接触する。そこに示された、多数のスライド対が平
行して垂直に配列保持された器具の場合、器具全体が自
動スライド染色装置の試薬ステーション間を搬送され、
あるいは各スライド対の基底部が液体（液滴状またはプ
ール中）と接触することにより処理液を吸取り、次いで
各スライド対の基底部が吸収材料と接触することにより
処理液が除去される。上記明細書に示されたスライドホ
ルダーは、液体で満たされた間隙を含む配列を自動スラ
イド染色装置の１か所に位置する３７度の湿潤室内に配
置しうる状態で外側へ伸びたフランジ４５１を備えてい
る。具体的な多段免疫細化学的方法においては、スライ
ド配列が、工程１３では酵素系消化試薬で満たされ、工
程１５では遮断試薬で満たされ、工程１７ではビオチニ
ル化−次抗体を含有する試薬で満たされ、工程２０では
酵素含有試薬で満たされ、工程２４および２５では色原
体試薬で満たされた湿潤室内に置かれる。
１９８８年３月１５日交付）（英国特許出願第２．１８
０．６４７Ａ号明細書、１９８７年４月１日発行も参照
されたい）には、表面、たとえば顕微鏡スライド上の薄
い試料、たとえば組織を処理するための毛管作用を伴う
方法が記載されている。要約すると、処理液は２枚のス
ライドの間を毛管作用により吸込まれ、特に垂直に上方
へ吸上げられて、一方（または双方）のスライド上の試
料と接触する。そこに示された、多数のスライド対が平
行して垂直に配列保持された器具の場合、器具全体が自
動スライド染色装置の試薬ステーション間を搬送され、
あるいは各スライド対の基底部が液体（液滴状またはプ
ール中）と接触することにより処理液を吸取り、次いで
各スライド対の基底部が吸収材料と接触することにより
処理液が除去される。上記明細書に示されたスライドホ
ルダーは、液体で満たされた間隙を含む配列を自動スラ
イド染色装置の１か所に位置する３７度の湿潤室内に配
置しうる状態で外側へ伸びたフランジ４５１を備えてい
る。具体的な多段免疫細化学的方法においては、スライ
ド配列が、工程１３では酵素系消化試薬で満たされ、工
程１５では遮断試薬で満たされ、工程１７ではビオチニ
ル化−次抗体を含有する試薬で満たされ、工程２０では
酵素含有試薬で満たされ、工程２４および２５では色原
体試薬で満たされた湿潤室内に置かれる。
発行された英国特許出願第２．１８０．６４７Ａ号明細
書（１９８７年４月１日）にも同じ記載がある。
書（１９８７年４月１日）にも同じ記載がある。
改良された型のスライドホルダーおよび配列がクオモお
よびプリガティの米国特許第４，８０１，４３１号明細
書（１９８９年１月３１日交付）に記載されている。そ
の図２Ｂに示されたフランジ５１はスライド配列がその
ステーション内に置かれた際に湿潤室を完全に閉じるた
めの同様な作用をもつであろう。
よびプリガティの米国特許第４，８０１，４３１号明細
書（１９８９年１月３１日交付）に記載されている。そ
の図２Ｂに示されたフランジ５１はスライド配列がその
ステーション内に置かれた際に湿潤室を完全に閉じるた
めの同様な作用をもつであろう。
米国特許第４，７３１，３３５および４，８０１，４３
１号明細書中の方法および装置は多工程処理法における
費用および時間の制御および節約を高めるが、特定の重
要な個々の工程に必要な時間は依然として長い。
１号明細書中の方法および装置は多工程処理法における
費用および時間の制御および節約を高めるが、特定の重
要な個々の工程に必要な時間は依然として長い。
たとえば米国特許第４，７３１，３３５号明細書中の一
例である免疫細胞化学的方法の場合、ステーション間の
ロボット工学的運動の時間を基本的な試薬付与時間に加
算すると、全処理時間１３１分のうち湿潤室における６
期間は９４分を構成する。この方法を改良し、各工程を
慎重に制御することによってこれらの期間はある程度は
短縮されるかも知れないが、スライド配列が指示された
工程を完了するために（たとえば免疫化学的結合または
酵素による発色）湿潤室内に留まらなければならない最
小期間は依然として必要である。さらに、スライドホル
ダーに金属を使用するため、マイクロ波輻射はこれらの
工程の促進には不適当であろう。
例である免疫細胞化学的方法の場合、ステーション間の
ロボット工学的運動の時間を基本的な試薬付与時間に加
算すると、全処理時間１３１分のうち湿潤室における６
期間は９４分を構成する。この方法を改良し、各工程を
慎重に制御することによってこれらの期間はある程度は
短縮されるかも知れないが、スライド配列が指示された
工程を完了するために（たとえば免疫化学的結合または
酵素による発色）湿潤室内に留まらなければならない最
小期間は依然として必要である。さらに、スライドホル
ダーに金属を使用するため、マイクロ波輻射はこれらの
工程の促進には不適当であろう。
（発明の要約）
本発明は、特に処理液が毛管作用により吸込まれて試料
と接触している状態で処理液による薄い試料の処理を促
進するために赤外線を用いる。従って本発明は一観点に
おいては、 （ａ） 第１表面上に薄い試料を施し、（ｂ） 第
２表面を第１表面に実質的に平行に、これから第１距離
だけ間隔を置いて保持し、これにより第１表面と第２表
面の間に間隙を設け、（ｃ） この間隙に処理液を導
入し、（ｄ） 処理液を毛管作用により間隙内へ吸込
んで１い試料と接触させ、そして （ｅ） 薄い試料と接触した処理液を、該処理液によ
る薄い試料の処理を促進するのに十分な照射計および期
間において赤外線照射すべく赤外線を発生させる ことよりなる、表面上にある薄い試料の処理法を提供す
る。
と接触している状態で処理液による薄い試料の処理を促
進するために赤外線を用いる。従って本発明は一観点に
おいては、 （ａ） 第１表面上に薄い試料を施し、（ｂ） 第
２表面を第１表面に実質的に平行に、これから第１距離
だけ間隔を置いて保持し、これにより第１表面と第２表
面の間に間隙を設け、（ｃ） この間隙に処理液を導
入し、（ｄ） 処理液を毛管作用により間隙内へ吸込
んで１い試料と接触させ、そして （ｅ） 薄い試料と接触した処理液を、該処理液によ
る薄い試料の処理を促進するのに十分な照射計および期
間において赤外線照射すべく赤外線を発生させる ことよりなる、表面上にある薄い試料の処理法を提供す
る。
本発明は、
（ａ） 第１表面上に薄い試料を施し、（ｂ） 第
１表面上に薄い試料と接触した処理液の薄層を形成し、 （ｃ） 赤外線を発生させ、そして （ｄ） 処理液の薄層を、該処理液による薄い試料の
処理を促進するのに十分な照射量およびこれに十分な照
射期間において赤外線照射する工程からなる、処理液に
よる生物学的検体の処理を促進する方法をも提供する。
１表面上に薄い試料と接触した処理液の薄層を形成し、 （ｃ） 赤外線を発生させ、そして （ｄ） 処理液の薄層を、該処理液による薄い試料の
処理を促進するのに十分な照射量およびこれに十分な照
射期間において赤外線照射する工程からなる、処理液に
よる生物学的検体の処理を促進する方法をも提供する。
本発明は
（ａ） 底壁および直立した側壁を備えた処理室であ
って、該処理室が上部開口を形成するもの、（ｂＪ
複数の平面小片の上端とかみ合ってこれら平面小片を保
持手段から下方へ実質的に垂直方向に延びた平行配列状
に保持するための保持手段、（ｃ） 保持手段と共同
して、処理室により形成される上部開口を実質酷に覆う
ための、保持手段に付随するフランジ手段、および （ｄｌ フランジ手段および保持手段が実質的に上部
開口を覆った処理室内に赤外線を発生し、上記平面小片
を赤外線照射するための輻射手段からなる、処理液によ
る薄い試料の処理の促進するための装置をも提供する。
って、該処理室が上部開口を形成するもの、（ｂＪ
複数の平面小片の上端とかみ合ってこれら平面小片を保
持手段から下方へ実質的に垂直方向に延びた平行配列状
に保持するための保持手段、（ｃ） 保持手段と共同
して、処理室により形成される上部開口を実質酷に覆う
ための、保持手段に付随するフランジ手段、および （ｄｌ フランジ手段および保持手段が実質的に上部
開口を覆った処理室内に赤外線を発生し、上記平面小片
を赤外線照射するための輻射手段からなる、処理液によ
る薄い試料の処理の促進するための装置をも提供する。
図面について簡単に述べる。
第１図は本発明の第１形態による処理室上方にある、ス
ライドを装填したスライドホルダーの正両立面図である
。
ライドを装填したスライドホルダーの正両立面図である
。
第２図はすべて本発明の第１形態による、処理室上のス
ライドホルダーおよび処理室内へ伸びたスライドの一部
断面状の正両立面図である。
ライドホルダーおよび処理室内へ伸びたスライドの一部
断面状の正両立面図である。
第３図は第１図の線３−３に沿って得た、スライドホル
ダー内におけるスライドの配列を示す底部平面図である
。
ダー内におけるスライドの配列を示す底部平面図である
。
第４図は第１図の線４−４に沿って得た、処理室上部を
通る開口を示す上面平面図である。
通る開口を示す上面平面図である。
第５図は本発明の第２形態による処理室の、−部所面状
の正両立面図である。
の正両立面図である。
第６図は本発明の第３形態に用いられる、水平配置スラ
イド用処理室の透視図である。
イド用処理室の透視図である。
（発明の詳細な記述）
本発明方法は第１表面上の薄い試料を処理液の薄層と接
触させ、次いで処理液の薄層を赤外線で照射して薄い試
料の処理を促進することを含む。
触させ、次いで処理液の薄層を赤外線で照射して薄い試
料の処理を促進することを含む。
本発明の多くの形態において、処理液の薄層はたとえば
米国特許第４．７３１，３３５号明細書に記載されるよ
うに第１表面と第２表面の間の間隙内に保持される。こ
の形態のうちある種の場合、複数対のスライドが複数の
この種の間隙を定め、試料を保有する部分の間隙が処理
室内に置かれ、ここで赤外線が与えられる。以下の詳述
において、複数対のスライドおよび１個の処理室を伴う
本発明の形態についてまず記述する０次いで本発明を実
施するための他の代表的形態について簡単に述べる。
米国特許第４．７３１，３３５号明細書に記載されるよ
うに第１表面と第２表面の間の間隙内に保持される。こ
の形態のうちある種の場合、複数対のスライドが複数の
この種の間隙を定め、試料を保有する部分の間隙が処理
室内に置かれ、ここで赤外線が与えられる。以下の詳述
において、複数対のスライドおよび１個の処理室を伴う
本発明の形態についてまず記述する０次いで本発明を実
施するための他の代表的形態について簡単に述べる。
ただし、最初の記述に述べる各特色は本発明を実施する
ための他の形態にも適用されるが、これは必ずしも必須
ではないと解すべきである。
ための他の形態にも適用されるが、これは必ずしも必須
ではないと解すべきである。
本発明の好ましい形態において、ホルダー、または保持
手段は複数の平面小片、たとえばＷ４微鏡スライドの上
端とかみ合うべ（設けられる。この種のホルダーのうち
特に好ましい形態は、クオモおよびプリガティの米国特
許第４，８０１，４３１号明細書に記載された型のスラ
イドホルダーである。この種のスライドホルダーの第１
形態（米国特許第４．８０１．４３１号明細書の図１お
よび米国特許第４．７３１，３３５号の図５に示された
もの）の場合、ホルダーの下側にスロットが設けられる
。平らな顕微鏡スライドの多対がカバースリップなどの
ジムを２枚のスライドの上端の間に入れた状態で各スロ
フトに挿入され、これにより各スライド対の主要部分は
ホルダーの下方へ伸び、２枚のスライド間にシムの厚さ
、たとえば５０〜５００−１好ましくは１００〜２５０
−５特に１５０〜２００４の間隙を形成する。
手段は複数の平面小片、たとえばＷ４微鏡スライドの上
端とかみ合うべ（設けられる。この種のホルダーのうち
特に好ましい形態は、クオモおよびプリガティの米国特
許第４，８０１，４３１号明細書に記載された型のスラ
イドホルダーである。この種のスライドホルダーの第１
形態（米国特許第４．８０１．４３１号明細書の図１お
よび米国特許第４．７３１，３３５号の図５に示された
もの）の場合、ホルダーの下側にスロットが設けられる
。平らな顕微鏡スライドの多対がカバースリップなどの
ジムを２枚のスライドの上端の間に入れた状態で各スロ
フトに挿入され、これにより各スライド対の主要部分は
ホルダーの下方へ伸び、２枚のスライド間にシムの厚さ
、たとえば５０〜５００−１好ましくは１００〜２５０
−５特に１５０〜２００４の間隙を形成する。
第２形態のスライドホルダーは米国特許筒４．８０１，
４３１号明細書の図２Ａ〜２Ｄ、ならびに本明細書の第
１．２および３図に示されている。このスライドホルダ
ーは、ホルダーの水平カバーから下方へ伸びる仕切りブ
ラケット、および仕切りブラケットそれぞれに、スライ
ド対がそのスライド対の頂部の一方側において２個のク
リップに受容され、スライド対の頂部の他方側において
は向き合った仕切りブラケット上の２個のクリップ内に
受容されるように配置された垂直方向に間隔を置いたク
リップ対を備えている。この種のスライド対に用いられ
るスライドはジムで分離された平らなスライドであって
もよいが、好ましくは上方の表面に塗膜が施され、対向
させた際にこれが塗膜の下方の部分に間隙を定めるスラ
イドである。この種のスライドは米国特許筒４．７７０
，７８１号明細書（１９８８年１０月１１日交付）に、
より詳細に述べられている。しかし、適切なエラストマ
ー素子などが対のスライドの一方もしくは両方の裏面に
、またはスロットの内側に施され、これが変形してスラ
イド対をスロット内に保持する力をスライドに及ぼすな
らば、この種の塗膜付きスライドはスライドを米国特許
筒４，７３１．３３５号明細書、図５のホルダーのスロ
ット内へはめ込むためにも利用しうることは認められる
であろう。
４３１号明細書の図２Ａ〜２Ｄ、ならびに本明細書の第
１．２および３図に示されている。このスライドホルダ
ーは、ホルダーの水平カバーから下方へ伸びる仕切りブ
ラケット、および仕切りブラケットそれぞれに、スライ
ド対がそのスライド対の頂部の一方側において２個のク
リップに受容され、スライド対の頂部の他方側において
は向き合った仕切りブラケット上の２個のクリップ内に
受容されるように配置された垂直方向に間隔を置いたク
リップ対を備えている。この種のスライド対に用いられ
るスライドはジムで分離された平らなスライドであって
もよいが、好ましくは上方の表面に塗膜が施され、対向
させた際にこれが塗膜の下方の部分に間隙を定めるスラ
イドである。この種のスライドは米国特許筒４．７７０
，７８１号明細書（１９８８年１０月１１日交付）に、
より詳細に述べられている。しかし、適切なエラストマ
ー素子などが対のスライドの一方もしくは両方の裏面に
、またはスロットの内側に施され、これが変形してスラ
イド対をスロット内に保持する力をスライドに及ぼすな
らば、この種の塗膜付きスライドはスライドを米国特許
筒４，７３１．３３５号明細書、図５のホルダーのスロ
ット内へはめ込むためにも利用しうることは認められる
であろう。
この種のホルダーは本発明において１対のスライドを保
持するために使用できるが、ホルダーが多数のスライド
対、たとえば１０〜１００対、より一般的には２０〜６
０対のスライド（図示した形態の場合は３０スライド対
）のためのスペースをもつことがきわめて有利である。
持するために使用できるが、ホルダーが多数のスライド
対、たとえば１０〜１００対、より一般的には２０〜６
０対のスライド（図示した形態の場合は３０スライド対
）のためのスペースをもつことがきわめて有利である。
しかしホルダーが完全に満たされている必要はなく、特
にＭｉ織化学、免疫細胞化学および核酸ハイブリダイゼ
ーションなどの用途の場合、研究所では処理プロトコー
ルが同時処理可能である限り、−度に処理および評価で
きる検体を有する多数のスライド対を同時に試験するこ
とが予想される。しかし、この場合、各スライド対の間
隙内にある試料につき同一処理を行う必要はない、これ
は米国特許筒４，７３１，３３５号明細書に、より詳細
に説明されるように、試薬アイソレーターを用いること
により各スライド対に施される処理液を区別することが
できるからである。
にＭｉ織化学、免疫細胞化学および核酸ハイブリダイゼ
ーションなどの用途の場合、研究所では処理プロトコー
ルが同時処理可能である限り、−度に処理および評価で
きる検体を有する多数のスライド対を同時に試験するこ
とが予想される。しかし、この場合、各スライド対の間
隙内にある試料につき同一処理を行う必要はない、これ
は米国特許筒４，７３１，３３５号明細書に、より詳細
に説明されるように、試薬アイソレーターを用いること
により各スライド対に施される処理液を区別することが
できるからである。
たとえば多工程免疫細胞化学的方法において、３０スラ
イド対を同一処理から、たとえば３０種の異なる一次抗
体を１種ずつ３０の異なる間隙に１工程で施すことによ
り異なる３０種の処理方式にまで及ぶ方法によって処理
することができる。しかし一般に等しいと思われるもの
は、各組の試料に与えられる一連の時間および温度であ
る。しかしこの場合でも特定の処理工程（たとえば消化
工程）を若干のスライド対については省略するが他につ
いては行いたい場合、第１群のスライド対については他
の対に消化液が吸込まれる際に不活性！１ ｉＪｉ ｅ
を吸込んでおき、次いで両者を本発明に従って照射する
ことができる。
イド対を同一処理から、たとえば３０種の異なる一次抗
体を１種ずつ３０の異なる間隙に１工程で施すことによ
り異なる３０種の処理方式にまで及ぶ方法によって処理
することができる。しかし一般に等しいと思われるもの
は、各組の試料に与えられる一連の時間および温度であ
る。しかしこの場合でも特定の処理工程（たとえば消化
工程）を若干のスライド対については省略するが他につ
いては行いたい場合、第１群のスライド対については他
の対に消化液が吸込まれる際に不活性！１ ｉＪｉ ｅ
を吸込んでおき、次いで両者を本発明に従って照射する
ことができる。
表面の幾何学的配列様式（好ましい場合はスライド対の
各スライドにより定められる）は本発明にとって重要で
はないが、好ましい配列様式はスライド対がホルダーか
ら下方へ垂直に伸びるものである。スライド対が平行な
列に配列され、各列のスライド対が平行であり、水平方
向に規則的距離（種々の先行出願において第２距離と記
述され、−ａに５〜１ｍである。その意味は各アリコー
トの処理液が間隙内へ吸込まれる際に主として関係する
）を置くことがしばしば好都合である。スライド対の全
体的水平プロフィルは、上壁にスライド対が開口全体に
わたって自由に動くのに十分なほど大きな水平寸法の開
口を備えた処理室を設けたい場合に重要である。
各スライドにより定められる）は本発明にとって重要で
はないが、好ましい配列様式はスライド対がホルダーか
ら下方へ垂直に伸びるものである。スライド対が平行な
列に配列され、各列のスライド対が平行であり、水平方
向に規則的距離（種々の先行出願において第２距離と記
述され、−ａに５〜１ｍである。その意味は各アリコー
トの処理液が間隙内へ吸込まれる際に主として関係する
）を置くことがしばしば好都合である。スライド対の全
体的水平プロフィルは、上壁にスライド対が開口全体に
わたって自由に動くのに十分なほど大きな水平寸法の開
口を備えた処理室を設けたい場合に重要である。
同様に赤外線を処理室内において、または処理室内へ施
す様式に応じて、スライド対はそれぞれの間隙内の各処
理液に照射線が均一に分布すべく配列することができる
。この制限は照射線が上方へ垂直に向けられる場合（本
明細書、第２図）よりむしろ水平に向けられる場合（本
明細書、第５図）の方が重要であろう、この制限は１処
理室に垂直および水平に向かう照射線を組合わせること
により克服できる。このように組合わせる一方式は、ス
ライドホルダーの下側および処理室の側壁を研磨し、ま
たは光沢のある恨めつき金属表面処理し、線源を処理室
の底に配置し、これにより処理液を含む間隙間に照射線
を分布および均一化することであろう。
す様式に応じて、スライド対はそれぞれの間隙内の各処
理液に照射線が均一に分布すべく配列することができる
。この制限は照射線が上方へ垂直に向けられる場合（本
明細書、第２図）よりむしろ水平に向けられる場合（本
明細書、第５図）の方が重要であろう、この制限は１処
理室に垂直および水平に向かう照射線を組合わせること
により克服できる。このように組合わせる一方式は、ス
ライドホルダーの下側および処理室の側壁を研磨し、ま
たは光沢のある恨めつき金属表面処理し、線源を処理室
の底に配置し、これにより処理液を含む間隙間に照射線
を分布および均一化することであろう。
本発明方法において試料と接触している処理液に赤外線
を施すための好ましい様式は、処理室の使用によるもの
である。処理液および試料を処理室内に入れた時点で、
処理室内に施される赤外線が処理室から光として認めら
れるほど漏出しない程度に処理室が閉鎖されることが好
ましい、この種の閉鎖を達成するだめの好ましい手段は
、処理室に内部反射性の底壁および直立側壁を施すこと
である。一般に４側壁が用いられるが、角型の水平断面
が必須というわけではない、さらにこの種の処理室はホ
ルダーがない場合は一部または全部が解放される上面を
もつ。このような場合、好ましくはホルダーが少なくと
も一方向にはスライド対の水平プロフィルを越えて、た
とえば処理室の土壁の残部もしくはいずれかの部分と、
または処理室の１または２以上の側壁の上端とかみ合う
かまたはこれに乗る１または２以上のフランジの形でホ
ルダーが水平方向に伸びていることにより、ホルダーが
上面を密閉しうる。スライドホルダーの下側には研磨さ
れた金属または他の反射面を施すことができる。単一サ
イズの上部開口を備えた１個の処理室を、それぞれ異な
る水平プロフィルのスライド配列を保持しうる多種のホ
ルダーと組合わせて用いることも考慮される。ただしこ
の種のスライド配列の水平配列はそれぞれ開口を通って
受容されるものであり、かつ各ホルダーはスライド配列
のプロフィル内にない開口の残部を覆うフランジまたは
これに類する構造をもつ。
を施すための好ましい様式は、処理室の使用によるもの
である。処理液および試料を処理室内に入れた時点で、
処理室内に施される赤外線が処理室から光として認めら
れるほど漏出しない程度に処理室が閉鎖されることが好
ましい、この種の閉鎖を達成するだめの好ましい手段は
、処理室に内部反射性の底壁および直立側壁を施すこと
である。一般に４側壁が用いられるが、角型の水平断面
が必須というわけではない、さらにこの種の処理室はホ
ルダーがない場合は一部または全部が解放される上面を
もつ。このような場合、好ましくはホルダーが少なくと
も一方向にはスライド対の水平プロフィルを越えて、た
とえば処理室の土壁の残部もしくはいずれかの部分と、
または処理室の１または２以上の側壁の上端とかみ合う
かまたはこれに乗る１または２以上のフランジの形でホ
ルダーが水平方向に伸びていることにより、ホルダーが
上面を密閉しうる。スライドホルダーの下側には研磨さ
れた金属または他の反射面を施すことができる。単一サ
イズの上部開口を備えた１個の処理室を、それぞれ異な
る水平プロフィルのスライド配列を保持しうる多種のホ
ルダーと組合わせて用いることも考慮される。ただしこ
の種のスライド配列の水平配列はそれぞれ開口を通って
受容されるものであり、かつ各ホルダーはスライド配列
のプロフィル内にない開口の残部を覆うフランジまたは
これに類する構造をもつ。
赤外線は処理室内で発生させるか、または後記のように
処理室の外側で発生させ、そして処理室内へ伝達するこ
とができる。処理室内での発生のためには、線源を室内
の、スライドによって占有されないいかなる位置に配置
することもできるが、好ましくは壁、たとえば底壁また
はｌもしくは２以上の側壁の内側に配置する。線源を底
壁上に配置する場合は、線源上に付着する処理液の不都
合な作用に対して保証することが好ましい。この種の付
着は、室内に持込まれる液体がすべて毛細間隙内にある
場合は起こらないと思われる。照射器具は一般に赤外線
を放出する熱素子、および熱素子を保護しかつ赤外線を
透過させるカバー素子（ｉｆｆｉ常はセラミック）を含
む。
処理室の外側で発生させ、そして処理室内へ伝達するこ
とができる。処理室内での発生のためには、線源を室内
の、スライドによって占有されないいかなる位置に配置
することもできるが、好ましくは壁、たとえば底壁また
はｌもしくは２以上の側壁の内側に配置する。線源を底
壁上に配置する場合は、線源上に付着する処理液の不都
合な作用に対して保証することが好ましい。この種の付
着は、室内に持込まれる液体がすべて毛細間隙内にある
場合は起こらないと思われる。照射器具は一般に赤外線
を放出する熱素子、および熱素子を保護しかつ赤外線を
透過させるカバー素子（ｉｆｆｉ常はセラミック）を含
む。
赤外線とは可視光線（７５０ｎｍまたは０．７５４以上
）から１２，０００ｎｍ （１２＊）に及ぶ波長の電磁
線（光）を意味する。これに対しマイクロ波（前記のあ
る種の先行技術方法に用いられるもの）は一般に１〜３
００ｒｖ（１０００〜３０．０００１！ｍ）のものであ
ると考えられる。赤外線とマイクロ波の間の波長（すな
わち１２〜１０００−）の線は空気中の通過という点で
は光というよりむしろ熱であると考えられる。それは、
空気中の気体分子がこの線を多量に吸収し、従って有効
な輻射加熱手段ではないがらである。
）から１２，０００ｎｍ （１２＊）に及ぶ波長の電磁
線（光）を意味する。これに対しマイクロ波（前記のあ
る種の先行技術方法に用いられるもの）は一般に１〜３
００ｒｖ（１０００〜３０．０００１！ｍ）のものであ
ると考えられる。赤外線とマイクロ波の間の波長（すな
わち１２〜１０００−）の線は空気中の通過という点で
は光というよりむしろ熱であると考えられる。それは、
空気中の気体分子がこの線を多量に吸収し、従って有効
な輻射加熱手段ではないがらである。
用いられる赤外線は近赤外（好ましくは０．７〜０．８
ｎ）または遠赤外（好ましくは２．８〜８−）にピーク
を示し、低波長からピーク領域へ向かって妥当な程度に
急激に上昇し、ピーク領域から高波長へ向かって妥当な
程度に徐々に降下する通常のエネルギ一対波長の形状を
もつ。バンド幅の狭い赤外線（たとえばレーザーからの
もの）も採用できる。具体例で用いたサーマ−チック（
Ｔ）ＩＥＲＭＡ−ＴＥＣＩＩ） Ｂ型赤外線パネルは、
６５０°Ｃ（１２００下）に加熱された線源から発光し
、セラミック製カバーを通して主として３．５〜６．０
−の遠赤外部において発光すべく設計されている。この
種のパネルは製造業者によれば有効な中強度ヒーターで
あり、線速度が中速ないし高速である場合に良好であり
、表面の熱透過が必要であるにすぎないと述べられてい
る。特にマイクロ波と比較した場合の赤外線の一般的特
性は、赤外線は透過するのではな（表面にエネルギーを
付与する点である。
ｎ）または遠赤外（好ましくは２．８〜８−）にピーク
を示し、低波長からピーク領域へ向かって妥当な程度に
急激に上昇し、ピーク領域から高波長へ向かって妥当な
程度に徐々に降下する通常のエネルギ一対波長の形状を
もつ。バンド幅の狭い赤外線（たとえばレーザーからの
もの）も採用できる。具体例で用いたサーマ−チック（
Ｔ）ＩＥＲＭＡ−ＴＥＣＩＩ） Ｂ型赤外線パネルは、
６５０°Ｃ（１２００下）に加熱された線源から発光し
、セラミック製カバーを通して主として３．５〜６．０
−の遠赤外部において発光すべく設計されている。この
種のパネルは製造業者によれば有効な中強度ヒーターで
あり、線速度が中速ないし高速である場合に良好であり
、表面の熱透過が必要であるにすぎないと述べられてい
る。特にマイクロ波と比較した場合の赤外線の一般的特
性は、赤外線は透過するのではな（表面にエネルギーを
付与する点である。
線源の強度は種々の方法で、一般には１または２以上の
パラメーターを監視し、次いでこの監視結果および目的
とする処理条件に基づいて線源に供給されるエネルギー
を調整することによって制御できる。たとえば赤外線自
体を光導電体により監視することができるが、光源のカ
バーまたは処理室内のある地点（これはスライド体の配
列のプロフィル内にあってもよく、そうでなくてもよい
）の温度を検知する方が好ましい。たとえば上記Ｂ型装
置には場合によりセラミック製カバーの温度を監視する
温度計が製造業考によって設置されている。あるいは光
源にエネルギー源として供給される電流を監視すること
もできる。いずれの場合も目的とする線量、検知された
温度または検知された電流量を特定の形状のスライドホ
ルダーおよび処理液の種類につき目的とする処理方式と
算術的または経験的に相関させることができる（たとえ
ばＩＲ吸収性染料を含まない水性処理液は有機処理液ま
たはＩＲ吸収性発色団を含む水性染色液と異なる特性を
もつであろう）。
パラメーターを監視し、次いでこの監視結果および目的
とする処理条件に基づいて線源に供給されるエネルギー
を調整することによって制御できる。たとえば赤外線自
体を光導電体により監視することができるが、光源のカ
バーまたは処理室内のある地点（これはスライド体の配
列のプロフィル内にあってもよく、そうでなくてもよい
）の温度を検知する方が好ましい。たとえば上記Ｂ型装
置には場合によりセラミック製カバーの温度を監視する
温度計が製造業考によって設置されている。あるいは光
源にエネルギー源として供給される電流を監視すること
もできる。いずれの場合も目的とする線量、検知された
温度または検知された電流量を特定の形状のスライドホ
ルダーおよび処理液の種類につき目的とする処理方式と
算術的または経験的に相関させることができる（たとえ
ばＩＲ吸収性染料を含まない水性処理液は有機処理液ま
たはＩＲ吸収性発色団を含む水性染色液と異なる特性を
もつであろう）。
たとえば米国特許第４，７３１，３３５号明細書中の誘
導加熱される湿潤室を用いる場合、室内温度３７°Ｃに
おいて６０分が適切であることがｉｆ ＬＵされる（米
国特許第４，７３１，３３５号に示された多工程法にお
ける一次抗体インキューヘーション工程について）。
導加熱される湿潤室を用いる場合、室内温度３７°Ｃに
おいて６０分が適切であることがｉｆ ＬＵされる（米
国特許第４，７３１，３３５号に示された多工程法にお
ける一次抗体インキューヘーション工程について）。
従って本発明における対応する工程は処理液を速やかに
３７°Ｃ以上となすべく設計されなければならない。赤
外線は同一処理温度を用いても対流加熱炉に勝る利点を
与える。先行方法の場合、６０分のうちの多くが実際に
は一次抗体液を３７°Ｃに加温するのに費やされからで
ある。赤外線はこの温度への加温を数秒間、多くとも１
分または２分間で達成しうる。さらに処理温度を通常は
いっそう高めて工程をさらに促進することができる。た
だし有害な作用（たとえば−次抗体または検出酵素の変
性）を起こすほどには高めない。後記のように一次抗体
と組織の反応などの工程は赤外線を用いると２分間で達
成されることが認められた。抗体溶液の温度は正確には
測定されなかった。
３７°Ｃ以上となすべく設計されなければならない。赤
外線は同一処理温度を用いても対流加熱炉に勝る利点を
与える。先行方法の場合、６０分のうちの多くが実際に
は一次抗体液を３７°Ｃに加温するのに費やされからで
ある。赤外線はこの温度への加温を数秒間、多くとも１
分または２分間で達成しうる。さらに処理温度を通常は
いっそう高めて工程をさらに促進することができる。た
だし有害な作用（たとえば−次抗体または検出酵素の変
性）を起こすほどには高めない。後記のように一次抗体
と組織の反応などの工程は赤外線を用いると２分間で達
成されることが認められた。抗体溶液の温度は正確には
測定されなかった。
さらに赤外線は連続した強度範囲にわたって施こすこと
ができ、処理時間にわたって強度を一定に、または変化
させてプログラムすることができるため、多様な処理温
度プロプイルを達成することができる。たとえばＤＮ＾
ハイプリダイゼーション工程については、二本鎖ＤＮＡ
を含むホルマリン固定組織試料を、標識プローブ（たと
えばビオチンで標識したもの）を含む処理液と接触させ
、このアセンブリングを赤外線照射して、処理液および
試料を速やかに変性温度（９０〜１０５°Ｃ）となすこ
とができる、採用する架橋固定の程度および目的温度の
超過に対する組織の感度に応じて、この昇温は５分以下
の短時間で起こりうる。次いで線源の強度を低下させる
と、組繊試料および処理液は速やかにハイブリダイゼー
ション温度（たとえば３７〜４２°Ｃ）にまで冷却し、
これを制御された連続的または定期的な赤外線放出によ
って維持することができる。このハイブリダイゼーショ
ン温度はハイブリダイゼーション混合物中の塩類および
ホルムアミドの濃度を、これらの濃度と有効ハイブリダ
イゼーション温度の周知の関係に基づいて調整すること
により選択できる。スライドアセンブリーを変性工程後
に処理室から取出し、組織試料および液体が冷却するの
に伴って他の室内で（これは赤外線を備えていてもよく
、備えていなくてもよい）再生工程を行うことも適切で
あるが、これは必要ではない。このような状況下では標
識プローブ（処理液中に過剰に供給する）が組織試料中
の完全変性ＤＮＡに効果的に結合するために再生温度で
１〜５分程度の短期間で十分であろう。
ができ、処理時間にわたって強度を一定に、または変化
させてプログラムすることができるため、多様な処理温
度プロプイルを達成することができる。たとえばＤＮ＾
ハイプリダイゼーション工程については、二本鎖ＤＮＡ
を含むホルマリン固定組織試料を、標識プローブ（たと
えばビオチンで標識したもの）を含む処理液と接触させ
、このアセンブリングを赤外線照射して、処理液および
試料を速やかに変性温度（９０〜１０５°Ｃ）となすこ
とができる、採用する架橋固定の程度および目的温度の
超過に対する組織の感度に応じて、この昇温は５分以下
の短時間で起こりうる。次いで線源の強度を低下させる
と、組繊試料および処理液は速やかにハイブリダイゼー
ション温度（たとえば３７〜４２°Ｃ）にまで冷却し、
これを制御された連続的または定期的な赤外線放出によ
って維持することができる。このハイブリダイゼーショ
ン温度はハイブリダイゼーション混合物中の塩類および
ホルムアミドの濃度を、これらの濃度と有効ハイブリダ
イゼーション温度の周知の関係に基づいて調整すること
により選択できる。スライドアセンブリーを変性工程後
に処理室から取出し、組織試料および液体が冷却するの
に伴って他の室内で（これは赤外線を備えていてもよく
、備えていなくてもよい）再生工程を行うことも適切で
あるが、これは必要ではない。このような状況下では標
識プローブ（処理液中に過剰に供給する）が組織試料中
の完全変性ＤＮＡに効果的に結合するために再生温度で
１〜５分程度の短期間で十分であろう。
線強度および／または温度についての他のプロトコール
は各種の個々の処理工程（たとえば染色、結合、ハイブ
リダイゼーション、消化、酵素による発色、または周囲
温度を上回る温度によって促進される各種プロセスの他
の工程）について経験的に確立することができる。多工
程法、たとえば免疫細胞化学的方法においては、本発明
による赤外線の使用によって少なくとも１工程、通常は
数工程を促進しうると考えられる。
は各種の個々の処理工程（たとえば染色、結合、ハイブ
リダイゼーション、消化、酵素による発色、または周囲
温度を上回る温度によって促進される各種プロセスの他
の工程）について経験的に確立することができる。多工
程法、たとえば免疫細胞化学的方法においては、本発明
による赤外線の使用によって少なくとも１工程、通常は
数工程を促進しうると考えられる。
前記のように赤外線を処理室の外側で発生させ、次いで
これを室内へファイバーオプチックス、ミラー、レンズ
、導波管またはこれらに類する他の手段によって伝達す
ることも考慮される。赤外線がそれを通して室内へ入る
、処理室の上壁、側壁または底壁のわずかな部分は一般
に処理室内裏のごく一部を占めるにすぎないので、有意
の赤外線漏出源とはならない。
これを室内へファイバーオプチックス、ミラー、レンズ
、導波管またはこれらに類する他の手段によって伝達す
ることも考慮される。赤外線がそれを通して室内へ入る
、処理室の上壁、側壁または底壁のわずかな部分は一般
に処理室内裏のごく一部を占めるにすぎないので、有意
の赤外線漏出源とはならない。
他の場合、本発明方法は前記の表面、試料および処理液
が手動で導入される処理室を使用する。
が手動で導入される処理室を使用する。
たとえば本明細書、第６図に示すように、通常のスライ
ド加温室を改良して赤外線発生装置をカバ一部材内に組
込むことができる。
ド加温室を改良して赤外線発生装置をカバ一部材内に組
込むことができる。
さらに他の場合、本発明方法は赤外線源を通過して搬送
される、試料を保有しかつ処理液の薄層で覆われた表面
に適用できる。この種の形態はマコーミックおよびジョ
ンソンの米国特許第３．４３１，８８６号（１９６９年
）ならびにジョンソンの第４．２００，０５６号（１９
８０年）明細書を参照して説明される。これらはマイル
ズ・ラボラトリーズによりヘマーテック（Ｈ［！ＭＡ−
ＴＥＫ） ２血液学的束色装置として市販されているも
のに類似の染色装置を示したものである。この種の装置
においては試料（一般に血液スミア）を保有するスライ
ドをまず、スライドの各かどに１個ずつ２個のねし込み
式駆動装置の均等な溝により、概して垂直方向に保持す
る。
される、試料を保有しかつ処理液の薄層で覆われた表面
に適用できる。この種の形態はマコーミックおよびジョ
ンソンの米国特許第３．４３１，８８６号（１９６９年
）ならびにジョンソンの第４．２００，０５６号（１９
８０年）明細書を参照して説明される。これらはマイル
ズ・ラボラトリーズによりヘマーテック（Ｈ［！ＭＡ−
ＴＥＫ） ２血液学的束色装置として市販されているも
のに類似の染色装置を示したものである。この種の装置
においては試料（一般に血液スミア）を保有するスライ
ドをまず、スライドの各かどに１個ずつ２個のねし込み
式駆動装置の均等な溝により、概して垂直方向に保持す
る。
次いで各スライドをねじ込み式駆動装置に沿った一点に
おいて溝の離隔を増すことにより前方へほぼ９０度傾斜
させる。次いでスライドを平らな金属製上面を備えたプ
ラテンに沿って、ねし込み式駆動装置の共同作業によっ
て移動させる。プラテンの平らな金属製上面はスライド
下で平らな金属製下面として機能する。スライドはこの
水平位置において移動するので、組織試料または血液ス
ミアは下方にある平らな金属面と向き合う、処理液、た
とえば染色液がプラテンのオリフィスを通して上向きに
注入され、表面張力によりプラテンとスライドの近接し
た表面間へ拡散する０次いでスライドがプラテンを離れ
るのに伴って過剰の液体がスライドからぬぐい去られる
。スライドが次のプラテンへ達した時点で、スライドが
ねじの共同作業により移動するのに伴って次のプラテン
の平らな金属製下面にある第２の孔から施される第２処
理液によって第１処理液が置換される。
おいて溝の離隔を増すことにより前方へほぼ９０度傾斜
させる。次いでスライドを平らな金属製上面を備えたプ
ラテンに沿って、ねし込み式駆動装置の共同作業によっ
て移動させる。プラテンの平らな金属製上面はスライド
下で平らな金属製下面として機能する。スライドはこの
水平位置において移動するので、組織試料または血液ス
ミアは下方にある平らな金属面と向き合う、処理液、た
とえば染色液がプラテンのオリフィスを通して上向きに
注入され、表面張力によりプラテンとスライドの近接し
た表面間へ拡散する０次いでスライドがプラテンを離れ
るのに伴って過剰の液体がスライドからぬぐい去られる
。スライドが次のプラテンへ達した時点で、スライドが
ねじの共同作業により移動するのに伴って次のプラテン
の平らな金属製下面にある第２の孔から施される第２処
理液によって第１処理液が置換される。
染色過程の終了時に場合によりスライドを乾燥のために
加熱する（温風を吹付けることにより）。
加熱する（温風を吹付けることにより）。
本発明の態様に従って、これらのスライドは特定の処理
液（たとえばライトーギムザ染色液）で処理されたのち
赤外線源を通過して搬送され、試料および付着した液体
が速やかに昇温され（たとえば３７°Ｃ）、そこで試料
内への染色液の浸透が促進されるであろう、たとえば水
平方向に移動するスライドを頭上赤外線源を通過して搬
送し、これにより、スライド前面にある試料および処理
液はスライド裏面を貫通する輻射エネルギーによって加
温される。
液（たとえばライトーギムザ染色液）で処理されたのち
赤外線源を通過して搬送され、試料および付着した液体
が速やかに昇温され（たとえば３７°Ｃ）、そこで試料
内への染色液の浸透が促進されるであろう、たとえば水
平方向に移動するスライドを頭上赤外線源を通過して搬
送し、これにより、スライド前面にある試料および処理
液はスライド裏面を貫通する輻射エネルギーによって加
温される。
本発明方法の態様を実施するための他の具体的形態には
、スライド対を赤外線処理室に水平方向へ貫通搬送し、
ここで各スライド対を赤外線照射することが含まれる。
、スライド対を赤外線処理室に水平方向へ貫通搬送し、
ここで各スライド対を赤外線照射することが含まれる。
たとえば一方または双方の長壁上にある垂直に伸びた赤
外線源を備えた薄い処理室に１列のスライド対を貫通搬
送し、赤外線を各スライド対の一方または双方から間隙
内へ向けることができる。
外線源を備えた薄い処理室に１列のスライド対を貫通搬
送し、赤外線を各スライド対の一方または双方から間隙
内へ向けることができる。
第１〜４図は本発明の第１形態を示す、まず第１図につ
いて述べると、スライドホルダー３０は水平方向に伸び
たカバー３２、カバー３２上の上部ハンドル４３、カバ
ー３２から下方へ伸びた２個のアングルブラケット３６
、およびアングルブラケット間にカバー３２から下方へ
伸びた仕切りブラケット３８が見える。この回において
見える仕切りブラケットはこの種の仕切りブラケット３
８の６個のうちの１個である（のちに第３図に関連して
より詳細に述べる。米国特許出願筒０３２，８７４号明
細書中には仕切りブラケット１４７ａ〜１４７ｆとして
示されている）。
いて述べると、スライドホルダー３０は水平方向に伸び
たカバー３２、カバー３２上の上部ハンドル４３、カバ
ー３２から下方へ伸びた２個のアングルブラケット３６
、およびアングルブラケット間にカバー３２から下方へ
伸びた仕切りブラケット３８が見える。この回において
見える仕切りブラケットはこの種の仕切りブラケット３
８の６個のうちの１個である（のちに第３図に関連して
より詳細に述べる。米国特許出願筒０３２，８７４号明
細書中には仕切りブラケット１４７ａ〜１４７ｆとして
示されている）。
この図で見える仕切りブラケット３８の下端の後側から
下方へ多数のスライド対が伸びており、この図ではこれ
がｌＯ対見える。各スライド対は第１スライド１０およ
び向き合った、すなわち第２のスライド１１０からなる
。
下方へ多数のスライド対が伸びており、この図ではこれ
がｌＯ対見える。各スライド対は第１スライド１０およ
び向き合った、すなわち第２のスライド１１０からなる
。
処理室４０は第１図ではそれぞれ各スライド１０および
向き合ったスライド１１０の下端１４および１１４の下
方に示されている。この図では概して角型の処理室４０
の前壁４２、左壁４４、右壁４５および底壁４６が見え
る。
向き合ったスライド１１０の下端１４および１１４の下
方に示されている。この図では概して角型の処理室４０
の前壁４２、左壁４４、右壁４５および底壁４６が見え
る。
スライドホルダー３０の上部ハンドル３４は第１図に示
した位置（スライド１０および１１０は処理室４０の上
方にあり、完全にその外側にある）から第２図に示す位
置（スライド１０および１１０が処理室内に下方へ伸び
ている）へ手動で、または自動化された機器により下降
させることができる。このために好ましい型の機器は長
年来フィッシャー・サイエンティフィック・カンパニー
（ペンシルバニア州ピッツバーグ、本出願人）から入手
できるヒストマチック スライド染色装置１７２型を基
礎とする。この機器のこのような初期の形態も採用しう
るが、１９８７年半ば以来コード−オン（ＧＯＤＢ−Ｏ
Ｎ）シリーズのヒストマチック スライド染色装置（フ
ィッシャー・カタログＮｏ、 １５−１８５）として市
販されているものを含めた後続形態が、ハンドル３４と
かみ合うアームのプログラミングに対する制御が向上し
ているため好ましい、この制御に含まれるものは、ハン
ドル３４が下降するのに伴う抵抗を検知し、次いでそれ
以上の下降運動を停止させるソレノイドである。処理室
４０はこの種のスライド染色装置内の、特に米国特許第
４，７３Ｌ３３５号および英国特許出願第２１８０６４
７Ａ号の図６中にドライヤー５２０と表示された位置に
組込まれるであろう。
した位置（スライド１０および１１０は処理室４０の上
方にあり、完全にその外側にある）から第２図に示す位
置（スライド１０および１１０が処理室内に下方へ伸び
ている）へ手動で、または自動化された機器により下降
させることができる。このために好ましい型の機器は長
年来フィッシャー・サイエンティフィック・カンパニー
（ペンシルバニア州ピッツバーグ、本出願人）から入手
できるヒストマチック スライド染色装置１７２型を基
礎とする。この機器のこのような初期の形態も採用しう
るが、１９８７年半ば以来コード−オン（ＧＯＤＢ−Ｏ
Ｎ）シリーズのヒストマチック スライド染色装置（フ
ィッシャー・カタログＮｏ、 １５−１８５）として市
販されているものを含めた後続形態が、ハンドル３４と
かみ合うアームのプログラミングに対する制御が向上し
ているため好ましい、この制御に含まれるものは、ハン
ドル３４が下降するのに伴う抵抗を検知し、次いでそれ
以上の下降運動を停止させるソレノイドである。処理室
４０はこの種のスライド染色装置内の、特に米国特許第
４，７３Ｌ３３５号および英国特許出願第２１８０６４
７Ａ号の図６中にドライヤー５２０と表示された位置に
組込まれるであろう。
この位置は従来前記のスライド乾燥ステーションによっ
て占有されていたものである。
て占有されていたものである。
第２および４図について述べると、カバー３２が処理室
４０の上部開口４８上に水平方向に伸びた状態でスライ
ドホルダー３０が処理室４０の上部を覆う。
４０の上部開口４８上に水平方向に伸びた状態でスライ
ドホルダー３０が処理室４０の上部を覆う。
アングルブラケット３６は土壁部分４７上に乗り、コン
ベヤーアームに下降するスライドホルダー３０を停止さ
せる抵抗を成立させるのはこのはめ合わせである。
ベヤーアームに下降するスライドホルダー３０を停止さ
せる抵抗を成立させるのはこのはめ合わせである。
スライドｌＯおよび１１０はアングルブラケット３６の
後方から下方の処理室４０の底壁４６までの距離の大部
分（すべてではない）を下方へ伸びる。直立した左壁４
４、右壁４５、後壁４３および前壁４２が処理室内のス
ライド配列の囲いを完成する。赤外線ヒーター装置５０
が処理室４０の底壁４６に取付けられ、これはセラミッ
ク製カバー５４を乗せた水平に伸びるエミッター素子５
２（光′ａ）を含む。図示されている市販の輻射ヒータ
ー装置５０にュージャージー州）サウス・パターンのサ
ーマチック・コーポレーションから； “サーマチック
赤外線ヒーターおよびシステム”と題する、版権日付１
９８３年の同社の雑誌ＴＴ−００５７−１−８４に示さ
れる１０１０Ｘ１５ （４ｘ４インチ）Ｂ型赤外線パネ
ルが一例）においてはセラミック製カバーは黒色であり
、遠赤外線に対して透明である。従ってスライド１０お
よび１１０の基底部を照射する光は主として３．５〜６
．Ｏｎの部分の遠赤外線である。熱電対５６がセラミッ
ク製カバー５４の下方に配置される。サーミスタまたは
これに頻する他の装置も使用でき、セラミック製カバー
５４の下、上または上方に配置することができる。
後方から下方の処理室４０の底壁４６までの距離の大部
分（すべてではない）を下方へ伸びる。直立した左壁４
４、右壁４５、後壁４３および前壁４２が処理室内のス
ライド配列の囲いを完成する。赤外線ヒーター装置５０
が処理室４０の底壁４６に取付けられ、これはセラミッ
ク製カバー５４を乗せた水平に伸びるエミッター素子５
２（光′ａ）を含む。図示されている市販の輻射ヒータ
ー装置５０にュージャージー州）サウス・パターンのサ
ーマチック・コーポレーションから； “サーマチック
赤外線ヒーターおよびシステム”と題する、版権日付１
９８３年の同社の雑誌ＴＴ−００５７−１−８４に示さ
れる１０１０Ｘ１５ （４ｘ４インチ）Ｂ型赤外線パネ
ルが一例）においてはセラミック製カバーは黒色であり
、遠赤外線に対して透明である。従ってスライド１０お
よび１１０の基底部を照射する光は主として３．５〜６
．Ｏｎの部分の遠赤外線である。熱電対５６がセラミッ
ク製カバー５４の下方に配置される。サーミスタまたは
これに頻する他の装置も使用でき、セラミック製カバー
５４の下、上または上方に配置することができる。
あるいはサーミスタをスライドｌＯまたは１１０（外表
に、またはホルダー３０の下のスライド対間の表面に）
付着させることもできる。コントローラー５８が処理室
４０の外側に配置され、熱電対またはサーミスタ５６か
らの入力および外部情報（ダイヤル５７により示される
）に基づいて、エミッター素子５２に供給される電流を
変化させる。この種の制御情報は好ましくはスライド染
色装置の制御回路部品により提供される（たとえばｘ′
Ｃを７秒または分間というプログラムされた値に基づい
て）。検知された温度の結果、エミッター素子５２に印
加する電圧を多様に変化させることができる。ある例で
は連続的に印加される電圧を変化させる。好ましい形態
においてはパルス電流を与え、パルスの持続時間または
周波数を変化させて、エミッター素子５２によって期間
中スライドに与えられる熱の量を制御する。
に、またはホルダー３０の下のスライド対間の表面に）
付着させることもできる。コントローラー５８が処理室
４０の外側に配置され、熱電対またはサーミスタ５６か
らの入力および外部情報（ダイヤル５７により示される
）に基づいて、エミッター素子５２に供給される電流を
変化させる。この種の制御情報は好ましくはスライド染
色装置の制御回路部品により提供される（たとえばｘ′
Ｃを７秒または分間というプログラムされた値に基づい
て）。検知された温度の結果、エミッター素子５２に印
加する電圧を多様に変化させることができる。ある例で
は連続的に印加される電圧を変化させる。好ましい形態
においてはパルス電流を与え、パルスの持続時間または
周波数を変化させて、エミッター素子５２によって期間
中スライドに与えられる熱の量を制御する。
第３図は第１図の線３−３に沿ってスライドの下端の下
方より見た図から、スライドホルダー３０内のスライド
１０および１１０の配列を示す。この回は米国特許第４
．８０１．４３１号明細書の図２Ｂに類似するが、図２
Ｂはスライドが挿入されていないスライドホルダーの下
側を示すので、それおよび米国特許第４，８０１．４３
１号明細書中の付随する記述をここで３０と表示される
スライドホルダーの構造の詳細に関して参照することが
できる。仕切りブラケット３８がカバー３２の下側を３
列に仕切る（カバー３２の下側に表示Ａ、ＢおよびＣに
より表示する）。
方より見た図から、スライドホルダー３０内のスライド
１０および１１０の配列を示す。この回は米国特許第４
．８０１．４３１号明細書の図２Ｂに類似するが、図２
Ｂはスライドが挿入されていないスライドホルダーの下
側を示すので、それおよび米国特許第４，８０１．４３
１号明細書中の付随する記述をここで３０と表示される
スライドホルダーの構造の詳細に関して参照することが
できる。仕切りブラケット３８がカバー３２の下側を３
列に仕切る（カバー３２の下側に表示Ａ、ＢおよびＣに
より表示する）。
米国特許第４，８０１．４３１号明細書の図２Ｂに示さ
れるように、１列または各列のＩＯスライド対を表わす
ためにカバー３２の下側にさらにパｌ″〜°゛１０″の
表示を施すことができる。下側クリップ（図示されてい
ない）が各スライド対のぞれぞれの側とかみ合い、各ス
ライド１０を隣接するスライド１１０に向かって押しつ
ける。上側クリップ（図示されていない）も同様に下側
クリップそれぞれの上方でスライド対とかみ合う、各ス
ライド対の一方または両方のスライド１０および／また
は１１０上に塗膜（またはシム）が存在しくこれのより
良い図については米国特許出願第０３２，８７４号明細
書の図２Ｄを参照されたい）、目的とする厚さの間隙を
維持する（たとえば１５０ｎ）。
れるように、１列または各列のＩＯスライド対を表わす
ためにカバー３２の下側にさらにパｌ″〜°゛１０″の
表示を施すことができる。下側クリップ（図示されてい
ない）が各スライド対のぞれぞれの側とかみ合い、各ス
ライド１０を隣接するスライド１１０に向かって押しつ
ける。上側クリップ（図示されていない）も同様に下側
クリップそれぞれの上方でスライド対とかみ合う、各ス
ライド対の一方または両方のスライド１０および／また
は１１０上に塗膜（またはシム）が存在しくこれのより
良い図については米国特許出願第０３２，８７４号明細
書の図２Ｄを参照されたい）、目的とする厚さの間隙を
維持する（たとえば１５０ｎ）。
第３図に見られるように、カバー３２はスライド配列の
前方および後方へ伸びている（列Ａ、ＢおよびＣの前方
および後方へ）、アングルブラケット３６も列Ａ、Ｂお
よびＣのプロフィルを越えて左右へ伸びている。カバー
３２のこれら外側部分はフランジと考えることができる
。
前方および後方へ伸びている（列Ａ、ＢおよびＣの前方
および後方へ）、アングルブラケット３６も列Ａ、Ｂお
よびＣのプロフィルを越えて左右へ伸びている。カバー
３２のこれら外側部分はフランジと考えることができる
。
第４図に見られるように、処理室４０内を見上した上部
平面図は処理室４０の水平プロフィルの外周のみを占め
る上壁部分４７を示す。上部開口４８は処理室４０の水
平プロフィルの中央の主要部分を占める。
平面図は処理室４０の水平プロフィルの外周のみを占め
る上壁部分４７を示す。上部開口４８は処理室４０の水
平プロフィルの中央の主要部分を占める。
セラミック製カバー５４が底壁４６上に見られ、上部開
口４８より若干小さな水平プロフィルを占める。
口４８より若干小さな水平プロフィルを占める。
−船釣な寸法は上壁部分４７の外側について１６１ｃｍ
Ｘ１１３ＣＴＩ、上壁部分４７の下方の全体的処理室に
ついては１４８ｃ＋ａＸ９５．５ｃｍ、上部開口４８に
ついて９７ｃ＋ｎ×９２１、およびセラミック製カバー
について１１７ＣＩＩＸ７３．２ＣＩである。
Ｘ１１３ＣＴＩ、上壁部分４７の下方の全体的処理室に
ついては１４８ｃ＋ａＸ９５．５ｃｍ、上部開口４８に
ついて９７ｃ＋ｎ×９２１、およびセラミック製カバー
について１１７ＣＩＩＸ７３．２ＣＩである。
第５図は別形態の処理室１４０を示す、この図において
素子３０．３２．３４．３６．４０．４２．４３．４４
および４７は第１．２および４図において同一表示を保
有するものと等しい素子を意味する。輻射加熱装置１５
０がこの第２形態では第１形態の場合のように底壁でな
く側壁２４５の延長部内に配置される。
素子３０．３２．３４．３６．４０．４２．４３．４４
および４７は第１．２および４図において同一表示を保
有するものと等しい素子を意味する。輻射加熱装置１５
０がこの第２形態では第１形態の場合のように底壁でな
く側壁２４５の延長部内に配置される。
第５図に示された底壁１４６は先の各図における底壁４
６と類似するが、これは閉じている（第２図に示すよう
にセラミック製素子５４が占めているのではなく）、上
記のように第５図の底壁４６の内部は赤外線に対して反
射性にされており、これにより赤外線を処理室４０全体
に分布させる。輻射加熱装置１５０は加熱素子１５２、
垂直に伸びたセ）ミック製カバー１５４（先の形態にお
いて側壁４５があったところ）および温度プローブ１５
６からなり、これらはすべて延長された側壁２４５の内
側にある。温度の検知および装置１５０の操作は先の形
態における装置５０の操作と同様である。
６と類似するが、これは閉じている（第２図に示すよう
にセラミック製素子５４が占めているのではなく）、上
記のように第５図の底壁４６の内部は赤外線に対して反
射性にされており、これにより赤外線を処理室４０全体
に分布させる。輻射加熱装置１５０は加熱素子１５２、
垂直に伸びたセ）ミック製カバー１５４（先の形態にお
いて側壁４５があったところ）および温度プローブ１５
６からなり、これらはすべて延長された側壁２４５の内
側にある。温度の検知および装置１５０の操作は先の形
態における装置５０の操作と同様である。
第５回に示す形態を赤外線装置１５０が第５図において
反時計回りに傾斜し、これにより赤外線が底壁４６の反
射性内面上へ向かうべく変更することも考えられる。
反時計回りに傾斜し、これにより赤外線が底壁４６の反
射性内面上へ向かうべく変更することも考えられる。
第６図に示すように、スライド加温室３００は静置ベー
ス部分３０１を備え、これにカバ一部分３０２が丁番付
けされている。スライド加温装置に一般的であるように
、ベース部分３０１の上面にくぼみ部分３４６が形成さ
れ、これは一連の平行なプラントホーム３０８を備え、
ここに試料を含むスライド３１０が乗せられる。くぼみ
部分３４６、プラットホーム３０８およびカバ一部分３
０２は、カバ一部分３０２を閉じた際にプラットホーム
３０８の上部が若干のプラットホーム３０８上のスライ
ド３１０の上方を空気が循環するのに十分な程度にカバ
一部分３０２の下方に間隔を置いた状態で、くぼみ部分
３４６が閉鎖室となる寸法である。
ス部分３０１を備え、これにカバ一部分３０２が丁番付
けされている。スライド加温装置に一般的であるように
、ベース部分３０１の上面にくぼみ部分３４６が形成さ
れ、これは一連の平行なプラントホーム３０８を備え、
ここに試料を含むスライド３１０が乗せられる。くぼみ
部分３４６、プラットホーム３０８およびカバ一部分３
０２は、カバ一部分３０２を閉じた際にプラットホーム
３０８の上部が若干のプラットホーム３０８上のスライ
ド３１０の上方を空気が循環するのに十分な程度にカバ
一部分３０２の下方に間隔を置いた状態で、くぼみ部分
３４６が閉鎖室となる寸法である。
本発明によれば、前記の装置５０および１５０と同様な
（寸法を除いて）赤外線装置３５０がカバ一部分３０２
の下側に組込まれる。従ってカバ一部分３０２を閉じた
場合、装置３５０を始動させてスライド３１０を赤外線
照射することができる。
（寸法を除いて）赤外線装置３５０がカバ一部分３０２
の下側に組込まれる。従ってカバ一部分３０２を閉じた
場合、装置３５０を始動させてスライド３１０を赤外線
照射することができる。
くぼみ部分３４６はプラットホーム３０８上のスライド
から流れ出る液体を除去するための外部導管３７０に接
続した排液管３４８をも備えている。これによって、処
理液を施しく通常は手で）、そして洗い流すことが可能
となる。促進したい処理液については、カバ一部分３０
２を閉じ、後記のように装置３５０を始動させる。処理
工程が終結した時点でこれらのスライド３１０をそれぞ
れリンスすることができ、その際流出液は排液管３４８
から流出する。
から流れ出る液体を除去するための外部導管３７０に接
続した排液管３４８をも備えている。これによって、処
理液を施しく通常は手で）、そして洗い流すことが可能
となる。促進したい処理液については、カバ一部分３０
２を閉じ、後記のように装置３５０を始動させる。処理
工程が終結した時点でこれらのスライド３１０をそれぞ
れリンスすることができ、その際流出液は排液管３４８
から流出する。
装置３５０には種々の制御様式を採用しうる。第６図に
は処理水準に関するゲージ３５６および処理時間に関す
るゲージ３６１を示す。ボタン３５８．３５９および３
６０はそれぞれ設定すべきパラメーターの上昇、低下ま
たは変更のためのものを示す。たとえば個々の処理工程
の前にゲージ３６１に示された処理水準をボタン３５８
により高め、次いでボタン３６０を押し、次いでゲージ
３５６に示された処理時間を高める。いずれかのパラメ
ーターを低下させたい場合、ボタン３５９が用いられる
。カバ一部分３０２を閉じると、装置３５０はゲージ３
５６に示された処理水準にされ、ゲージ３６１に示され
た処理期間その状態に保持されるであろう。その期間が
終了した時点で装置３５０は停止し、カバー３０２が自
動的に開くか、もしくは信号が鳴るか、または双方が行
われるであろう。
は処理水準に関するゲージ３５６および処理時間に関す
るゲージ３６１を示す。ボタン３５８．３５９および３
６０はそれぞれ設定すべきパラメーターの上昇、低下ま
たは変更のためのものを示す。たとえば個々の処理工程
の前にゲージ３６１に示された処理水準をボタン３５８
により高め、次いでボタン３６０を押し、次いでゲージ
３５６に示された処理時間を高める。いずれかのパラメ
ーターを低下させたい場合、ボタン３５９が用いられる
。カバ一部分３０２を閉じると、装置３５０はゲージ３
５６に示された処理水準にされ、ゲージ３６１に示され
た処理期間その状態に保持されるであろう。その期間が
終了した時点で装置３５０は停止し、カバー３０２が自
動的に開くか、もしくは信号が鳴るか、または双方が行
われるであろう。
第１〜５図の装置と比較して第６図の装置はより少数の
スライドを処理するために、またより少数の工程を伴う
処理のために適している。スライド表面の温度を直接ま
たは間接的に監視しうる方法は多様であり、この種のモ
ニターが装Ｗ ３５０上のセラミック製カバー３５４内
に組込まれているが（先の各形態の場合と同様）、また
はプラットホーム３０８内に組込まれている。ゲージ３
６１の水準設定は装置３５０に施される電力水準または
プラントホーム３０８の温度水準であり、これは装２３
５０に供給される電圧水準またはパルス持続時間を調節
することにより維持される。
スライドを処理するために、またより少数の工程を伴う
処理のために適している。スライド表面の温度を直接ま
たは間接的に監視しうる方法は多様であり、この種のモ
ニターが装Ｗ ３５０上のセラミック製カバー３５４内
に組込まれているが（先の各形態の場合と同様）、また
はプラットホーム３０８内に組込まれている。ゲージ３
６１の水準設定は装置３５０に施される電力水準または
プラントホーム３０８の温度水準であり、これは装２３
５０に供給される電圧水準またはパルス持続時間を調節
することにより維持される。
第６図の形態は赤外線装置３５０を使用する場合は常に
、特に長期間使用する場合は、各スライド３１０をまず
液体で覆ったのちカバー量子で覆うことによって改良す
ることが考慮される。このカバースライドはスライド３
１０の全体または一部（ただし少なくとも試料を保有す
る部分）を覆い、事実上、先の各形態におけるスライド
１０および１１０と同様な毛管間隙を備えたスライド対
を形成してもよい。この方法で、照射処理中の液体の蒸
発が抑えられ、かつ液層をより均一番ごすることができ
、これによってスライド表面に沿った、および同様に赤
外線照射される一連のスライド間の温度が均等になる。
、特に長期間使用する場合は、各スライド３１０をまず
液体で覆ったのちカバー量子で覆うことによって改良す
ることが考慮される。このカバースライドはスライド３
１０の全体または一部（ただし少なくとも試料を保有す
る部分）を覆い、事実上、先の各形態におけるスライド
１０および１１０と同様な毛管間隙を備えたスライド対
を形成してもよい。この方法で、照射処理中の液体の蒸
発が抑えられ、かつ液層をより均一番ごすることができ
、これによってスライド表面に沿った、および同様に赤
外線照射される一連のスライド間の温度が均等になる。
さらに、カバースライドを後続処理全体にわたってスラ
イド３１０上に残しておき、カバースライドの下方、ス
ライド３１０の上方に毛管間隙が形成されている場合、
後続の液体を毛管作用によって間隙の端から間隙内へ導
入することができ、かつ吸取りにより、または間隙の端
に真空を施すことにより間隙から液体を取出すことがで
きる。キャンベルらの米国特許第４，４４７．１４０号
明細書（１９８４年）には、特にたとえば多数の試料を
カバーするために多数の間隙を得たい場合に、カバー量
子が水平に伸びたスライド上にこの種の間隙を形成する
方法の例が示されている。
イド３１０上に残しておき、カバースライドの下方、ス
ライド３１０の上方に毛管間隙が形成されている場合、
後続の液体を毛管作用によって間隙の端から間隙内へ導
入することができ、かつ吸取りにより、または間隙の端
に真空を施すことにより間隙から液体を取出すことがで
きる。キャンベルらの米国特許第４，４４７．１４０号
明細書（１９８４年）には、特にたとえば多数の試料を
カバーするために多数の間隙を得たい場合に、カバー量
子が水平に伸びたスライド上にこの種の間隙を形成する
方法の例が示されている。
（実施例）
以下の例ＩＡ〜４Ｂそれぞれにおいて最初の部分（Ａと
表示すル）ニはヒス） ７ チア り（ＩＩＩＳＴＯＭ
ＡＴＩＣ）スライド染色装置について本出願人／発明者
の１人であるデイビット、Ｊ、ブリガティが用いた既存
の処理プロトコールをまとめる。その記載は本発明に関
する先行技術である場合とそうでない場合があるが、主
として本発明の用途、および赤外線の不在下で特定の処
理工程に必要な時間を示すために提示した。各側の後続
部分（ＢまたはＣと表示する）は、Ａに記載した多工程
法のうち１または２以上の工程が本発明方法の採用によ
っていかに促進されるかを示すものである。
表示すル）ニはヒス） ７ チア り（ＩＩＩＳＴＯＭ
ＡＴＩＣ）スライド染色装置について本出願人／発明者
の１人であるデイビット、Ｊ、ブリガティが用いた既存
の処理プロトコールをまとめる。その記載は本発明に関
する先行技術である場合とそうでない場合があるが、主
として本発明の用途、および赤外線の不在下で特定の処
理工程に必要な時間を示すために提示した。各側の後続
部分（ＢまたはＣと表示する）は、Ａに記載した多工程
法のうち１または２以上の工程が本発明方法の採用によ
っていかに促進されるかを示すものである。
例ＩＡ−へマドキシリン・エオンン組織学的染色ヒスト
マチック スライド染色装置−旧式の１７２型または新
型のコード−オン（ｃＯＤＥ−ＯＮ） シリーズ−に
より組織学的検体を染色するための村準法を第１表にま
とめる。
マチック スライド染色装置−旧式の１７２型または新
型のコード−オン（ｃＯＤＥ−ＯＮ） シリーズ−に
より組織学的検体を染色するための村準法を第１表にま
とめる。
上記第１表および以下の表すべてにおいて“周囲”は周
囲温度（たとえば２０°Ｃ）であり、“混合′。
囲温度（たとえば２０°Ｃ）であり、“混合′。
の欄の“有”は機器を指示された期間中、指示さたステ
ーションにおいて各６秒間上下させる（溶液中に出し入
れする）ことによりスライドのラックを動かすことを意
味する。指示された時間は機器がスライド配列をステー
ション間で搬送する短い期間を含まない。
ーションにおいて各６秒間上下させる（溶液中に出し入
れする）ことによりスライドのラックを動かすことを意
味する。指示された時間は機器がスライド配列をステー
ション間で搬送する短い期間を含まない。
例ＩＢ
第１表にまとめたプロセスの特定の工程に対する赤外線
照射の効果を評価するために、スライドホルダーをヒス
トマチックスライド染色装置コードオンシリーズに入れ
た。このホルダーは本明細書の第１．２および３図に示
すように３０対のスライド用のスロットを備え、各スラ
イドは上部３２胴の部分に厚さ７５−の塗膜が施され、
かつ下角に米国特許出願第０３２．８７４号明細書の第
２Ｅ図に示されるものと同様な小型の三角形の塗膜が施
されている−より詳細にはバビソトおよびプリガティの
米国特許出願第１１２，４０４号明細書（１９８７年１
０月２６日出願）に記述される（欧州特許出願第０２９
１１５３号明細書も参照されたい。１９８８年１１月１
１日発行）。
照射の効果を評価するために、スライドホルダーをヒス
トマチックスライド染色装置コードオンシリーズに入れ
た。このホルダーは本明細書の第１．２および３図に示
すように３０対のスライド用のスロットを備え、各スラ
イドは上部３２胴の部分に厚さ７５−の塗膜が施され、
かつ下角に米国特許出願第０３２．８７４号明細書の第
２Ｅ図に示されるものと同様な小型の三角形の塗膜が施
されている−より詳細にはバビソトおよびプリガティの
米国特許出願第１１２，４０４号明細書（１９８７年１
０月２６日出願）に記述される（欧州特許出願第０２９
１１５３号明細書も参照されたい。１９８８年１１月１
１日発行）。
この種のスライドは現在ではフィッシャー・サイエンテ
ィフィック・カンパニーからプローブオン（１’ＲＯＢ
Ｅ−ＯＮ）スライド（カタログＮｏ、 １５−１８７Ｍ
）として市販されている。この実験ではこの種のスライ
ド４対（多対のスライドが両方ともパラフィン包埋組織
の薄い切片を保有）をホルダーに挿入した。
ィフィック・カンパニーからプローブオン（１’ＲＯＢ
Ｅ−ＯＮ）スライド（カタログＮｏ、 １５−１８７Ｍ
）として市販されている。この実験ではこの種のスライ
ド４対（多対のスライドが両方ともパラフィン包埋組織
の薄い切片を保有）をホルダーに挿入した。
まず第１表の工程１および２を、スライドの基底部をキ
シレンと接触させ（手動で、機器の外側において）、次
いでこの配列を第２図に示すように処理室へ挿入するこ
とにより評価した。エミッター素子５２へ電流を流す電
線に接続した電圧調整器（第２図参照）を５０Ｖに設定
し、キシレンを含むスライドを２０秒間加温した（各ス
ライド対の間隙内のキシレンをその引火点以上に加熱す
るのを慎重に避けなが（ｂ）、視覚的にこれらのスライ
ドは完全に脱ろうされたように見えたが、この結果をさ
らに以下に従って評価した。この機器上でスライドの下
端をプロッターに乗せ、次いで順次１００χアルコール
、１００χアルコール、１００χアルコール、９５χア
ルコール、９５χアルコール、３０χＢＲＩＪ３５界面
活性剤溶液０．２５χを含有する水、およびステーショ
ン６のへマドキシリン溶液（ハリスのへマドキシリン）
を導入および吸取りすることにより排液した。２分後に
ヘマトキシリン溶液を吸取り、スライドを水道水中で洗
浄した０次いでスライドをホルダーから取出し、ｉ！Ｊ
ｌ ＠ ｍ下で検査した。ヘマトキシリンが完全にかつ
均一に核を染色し、組織に浸透したことは、パラフィン
が先行技術方法の場合の２回の照射における合計５分間
と比べて、赤外線の存在下では１回の操作においてわず
か２０秒間で完全に除去されたことを示した。同一操作
を採用し、ただしキシレン充填スライドの照射を２０秒
ではなく１０秒とした場合、スライドの視覚的検査およ
び鏡検の双方により証明されるように除去がより不完全
であった。
シレンと接触させ（手動で、機器の外側において）、次
いでこの配列を第２図に示すように処理室へ挿入するこ
とにより評価した。エミッター素子５２へ電流を流す電
線に接続した電圧調整器（第２図参照）を５０Ｖに設定
し、キシレンを含むスライドを２０秒間加温した（各ス
ライド対の間隙内のキシレンをその引火点以上に加熱す
るのを慎重に避けなが（ｂ）、視覚的にこれらのスライ
ドは完全に脱ろうされたように見えたが、この結果をさ
らに以下に従って評価した。この機器上でスライドの下
端をプロッターに乗せ、次いで順次１００χアルコール
、１００χアルコール、１００χアルコール、９５χア
ルコール、９５χアルコール、３０χＢＲＩＪ３５界面
活性剤溶液０．２５χを含有する水、およびステーショ
ン６のへマドキシリン溶液（ハリスのへマドキシリン）
を導入および吸取りすることにより排液した。２分後に
ヘマトキシリン溶液を吸取り、スライドを水道水中で洗
浄した０次いでスライドをホルダーから取出し、ｉ！Ｊ
ｌ ＠ ｍ下で検査した。ヘマトキシリンが完全にかつ
均一に核を染色し、組織に浸透したことは、パラフィン
が先行技術方法の場合の２回の照射における合計５分間
と比べて、赤外線の存在下では１回の操作においてわず
か２０秒間で完全に除去されたことを示した。同一操作
を採用し、ただしキシレン充填スライドの照射を２０秒
ではなく１０秒とした場合、スライドの視覚的検査およ
び鏡検の双方により証明されるように除去がより不完全
であった。
同様にして電圧調整器を５０Ｖに設定した赤外線処理室
内での２０秒間が第１表の工程１６についても十分であ
ることが示された。
内での２０秒間が第１表の工程１６についても十分であ
ることが示された。
例１Ｃ
第１表のへマドキシリン工程（工程６）は周囲温度が２
５°Ｃである場合は通常は２分間で達成されるが、周囲
温度がこれより低い場合はより長時間を要する（たとえ
ば２１’Ｃでは６分間）０例ＩＢに記載した処理室およ
び条件をこの工程につき試みたところ、厚さ５−の切片
の完全な染色が２０秒間で証明された。
５°Ｃである場合は通常は２分間で達成されるが、周囲
温度がこれより低い場合はより長時間を要する（たとえ
ば２１’Ｃでは６分間）０例ＩＢに記載した処理室およ
び条件をこの工程につき試みたところ、厚さ５−の切片
の完全な染色が２０秒間で証明された。
例２Ａ
例ＩＡの場合と同じヒストマチックスライド染色装置を
用いた標準的な細胞片的処理は第２表に示すとおりであ
る。
用いた標準的な細胞片的処理は第２表に示すとおりであ
る。
第２表
このプロセスは、細胞スミアを施し、５０％アルコール
中で固定した標準的スライドについて行うことができる
。このプロセスをそのまま毛細間隙を備えたスライド対
に適用する場合、スミアをプローブオンスライドガラス
表面に施し、５０％アルコールを施し、風乾し、塗膜面
を合わせてスライドホルダーに挿入する。
中で固定した標準的スライドについて行うことができる
。このプロセスをそのまま毛細間隙を備えたスライド対
に適用する場合、スミアをプローブオンスライドガラス
表面に施し、５０％アルコールを施し、風乾し、塗膜面
を合わせてスライドホルダーに挿入する。
例２Ｂ
２組のスライド対それぞれの両スライド上にヒトのほお
上皮細胞が塗抹された２組のスライド対を例ＩＢに記載
したホルダー内に使用し、第２表の工程ｌ、３、ｌＯお
よび１２に及ぼす赤外線の効果を別個に評価した。それ
ぞれの場合、エミッター素子５２に印加される電圧はｔ
ｏｏ ｖであり、連続的に印加された。工程１について
は処理室内において３０秒で、細胞スミア上に施された
固定用塗膜カルボワックス（ベクトンーディソキンソン
・コーポレーションのクレイーアダムス部門により同社
の商標スプレィサイト（ＳＰＲＡＹＣＹＴＥ）として市
販されている）（フィッシャー・サイエンテインク・カ
ンパニーのフィッシャー８８カタログ、１４４５頁も参
照されたい）を除去するのに十分であった。工程１０に
ついては処理室内において１０秒間で、オレンジＧ６に
よって良好に染色するのに十分であった。
上皮細胞が塗抹された２組のスライド対を例ＩＢに記載
したホルダー内に使用し、第２表の工程ｌ、３、ｌＯお
よび１２に及ぼす赤外線の効果を別個に評価した。それ
ぞれの場合、エミッター素子５２に印加される電圧はｔ
ｏｏ ｖであり、連続的に印加された。工程１について
は処理室内において３０秒で、細胞スミア上に施された
固定用塗膜カルボワックス（ベクトンーディソキンソン
・コーポレーションのクレイーアダムス部門により同社
の商標スプレィサイト（ＳＰＲＡＹＣＹＴＥ）として市
販されている）（フィッシャー・サイエンテインク・カ
ンパニーのフィッシャー８８カタログ、１４４５頁も参
照されたい）を除去するのに十分であった。工程１０に
ついては処理室内において１０秒間で、オレンジＧ６に
よって良好に染色するのに十分であった。
工程３および１２については、処理室内において２０秒
間で、ジル（Ｇｉｌｌ）Ｉｌｌヘマトキシリン（工程３
）またはエオシン・アズア（Ｅｏｓｉｎ Ａｚｕｒｅ）
（工程１２）によって良好に染色するのに十分であった
。
間で、ジル（Ｇｉｌｌ）Ｉｌｌヘマトキシリン（工程３
）またはエオシン・アズア（Ｅｏｓｉｎ Ａｚｕｒｅ）
（工程１２）によって良好に染色するのに十分であった
。
例３Ａ
第３表にはたとえば米国特許第４，７３１，３３５号明
細書に詳述されたものと同様な概念の免疫細胞化学的染
色法に関するプロトコールを示す、同一発明者（ブリガ
ティ）による上記特許の出願以来、本発明には特に関係
のない多数の相違点が取入れられている。
細書に詳述されたものと同様な概念の免疫細胞化学的染
色法に関するプロトコールを示す、同一発明者（ブリガ
ティ）による上記特許の出願以来、本発明には特に関係
のない多数の相違点が取入れられている。
２１ ８ ０．３ 喚取り２２ ３
０．１ 周囲 ９５χエタノール５８ １０
０．１ 周囲 緩衝液７１ １１ ０．５
吸取り操作２４．２６．３３．３５．３７．４
２．４４．５１．５８および６８に用いたステーション
１０の緩衝液は、０．ＩＭＦリスＩＩｃ／、０．１Ｍ−
ＮａｌＪおよび０．２５χの３０％ Ｂｒ１ｊ３５溶液
（シグマ・ケミカルより入手）を含有するｐＨ７，５ト
リス緩衝液であった。操作４６．６０．６４．６６およ
び７０に用いたＢｒ１ｊ ３５を含む蒸留水は３０χＢ
ｒ１ｊ３５溶？ｒｉ、０．２５χを含有していた。界面
活性剤Ｂｒ１ｊ３５を含む緩衝液および水のこのような
使用は現在では米国特許第４，７３１，３３５号明細書
に記載のトライトンＸ−１００を基礎とした対応する溶
液より好ましい、特に操作３１および４０に注目すべき
である。これらはそれぞれプロセス全体のうち３０分間
を費やす。
０．１ 周囲 ９５χエタノール５８ １０
０．１ 周囲 緩衝液７１ １１ ０．５
吸取り操作２４．２６．３３．３５．３７．４
２．４４．５１．５８および６８に用いたステーション
１０の緩衝液は、０．ＩＭＦリスＩＩｃ／、０．１Ｍ−
ＮａｌＪおよび０．２５χの３０％ Ｂｒ１ｊ３５溶液
（シグマ・ケミカルより入手）を含有するｐＨ７，５ト
リス緩衝液であった。操作４６．６０．６４．６６およ
び７０に用いたＢｒ１ｊ ３５を含む蒸留水は３０χＢ
ｒ１ｊ３５溶？ｒｉ、０．２５χを含有していた。界面
活性剤Ｂｒ１ｊ３５を含む緩衝液および水のこのような
使用は現在では米国特許第４，７３１，３３５号明細書
に記載のトライトンＸ−１００を基礎とした対応する溶
液より好ましい、特に操作３１および４０に注目すべき
である。これらはそれぞれプロセス全体のうち３０分間
を費やす。
例３Ｂ
各スライドがホルマリン固定したパラフィン包埋組織切
片を保有する４組のスライド体を保持したスライドホル
ダーをヒストマチック スライド染色装置、コードオン
シリーズの機器に保持させ、第３表のプロセスを行った
。ただし−次抗体を施す工程（操作３０）の前でホール
ド（ｈｏｌｄ）をプログラムに組込んだ１次いでホルダ
ーを機器から取出し、試薬アイソレーターの適切なウェ
ルに入れた抗体溶液滴とスライド対の基底部を手動で接
触させることにより一次抗体を施した。この工程に用い
た抗体の例には、適宜希釈された家兎抗−５１００蛋白
（１： １００）、家兎抗−前立１１．５＋酸性ホスフ
ァターゼ（１： １００）、モルモット抗−インシュリ
ン（ｌ：１００）およびマウス抗−胎児性癌抗原（ｌ：
１０）が含まれる６次いでスライドホルダーを第１．２
および４に示される処理室内の第２図に示す位置に挿入
し、５０■に設定された電圧をエミッター素子５２に１
〜２分間連続的に印加した。各実験において光源は初期
には室温またはその付近であった。次いでホルダーを処
理室から取出し、機器のロポント工学的アーム上に戻し
た０次いでプログラムは第３表の操作３２〜７１を再開
した。スライドの鏡検によって、例３Ａに従って゛染色
されたものと同様な切片と同等に染色されたことが明ら
かになった。
片を保有する４組のスライド体を保持したスライドホル
ダーをヒストマチック スライド染色装置、コードオン
シリーズの機器に保持させ、第３表のプロセスを行った
。ただし−次抗体を施す工程（操作３０）の前でホール
ド（ｈｏｌｄ）をプログラムに組込んだ１次いでホルダ
ーを機器から取出し、試薬アイソレーターの適切なウェ
ルに入れた抗体溶液滴とスライド対の基底部を手動で接
触させることにより一次抗体を施した。この工程に用い
た抗体の例には、適宜希釈された家兎抗−５１００蛋白
（１： １００）、家兎抗−前立１１．５＋酸性ホスフ
ァターゼ（１： １００）、モルモット抗−インシュリ
ン（ｌ：１００）およびマウス抗−胎児性癌抗原（ｌ：
１０）が含まれる６次いでスライドホルダーを第１．２
および４に示される処理室内の第２図に示す位置に挿入
し、５０■に設定された電圧をエミッター素子５２に１
〜２分間連続的に印加した。各実験において光源は初期
には室温またはその付近であった。次いでホルダーを処
理室から取出し、機器のロポント工学的アーム上に戻し
た０次いでプログラムは第３表の操作３２〜７１を再開
した。スライドの鏡検によって、例３Ａに従って゛染色
されたものと同様な切片と同等に染色されたことが明ら
かになった。
例３Ｃ
例３Ｂと同じ処理を行い、ただしホールドを操作３９の
前に置いた０次いで二次抗体試薬（ヤギ抗−マウス抗体
とヤギ抗−家兎抗体の混合物、ワサビダイコンペルオキ
シダーゼと複合体形成したもの）をスライド体の基底部
に手動で施した。この場合も、電圧を５０■に連続的に
設定した処理室に２分間入れたのち、ホルダーを機器に
戻し、次いで操作４１において処理を再開した。スライ
ドの鏡検により、例３＾に従って染色された同様な切片
と同等に染色されたことが明らかになった。
前に置いた０次いで二次抗体試薬（ヤギ抗−マウス抗体
とヤギ抗−家兎抗体の混合物、ワサビダイコンペルオキ
シダーゼと複合体形成したもの）をスライド体の基底部
に手動で施した。この場合も、電圧を５０■に連続的に
設定した処理室に２分間入れたのち、ホルダーを機器に
戻し、次いで操作４１において処理を再開した。スライ
ドの鏡検により、例３＾に従って染色された同様な切片
と同等に染色されたことが明らかになった。
現在まで試みてはいないが、第３表の処理における他の
工程を赤外線の適切な使用によって促進することが可能
であろう、特に例２Ｂに基づいて、第１表の工程２（キ
シレンによる清浄化）を赤外線によって促進しうること
は明らかである。こうして促進しうる他の工程は色原体
発色（操作４９および５６）および内性酵素遮断（操作
１４および１６）である。
工程を赤外線の適切な使用によって促進することが可能
であろう、特に例２Ｂに基づいて、第１表の工程２（キ
シレンによる清浄化）を赤外線によって促進しうること
は明らかである。こうして促進しうる他の工程は色原体
発色（操作４９および５６）および内性酵素遮断（操作
１４および１６）である。
例４Ａ
改良された形態のコードオン染色装置により行った場合
の’ｒｎ ５ｉｔｕ ＤＮＡハイブリダイゼーションア
ッセイに適した多工程処理を第４表に示す。特に工程５
０については、組織切片内の二本１’＜ＤＮＡを変性す
るためにステーション１９に熱対流路がある（乾燥室の
位置に）、このように改良された限られた数の染色装置
が本出願人であるフィッシャー・サイエンティフィック
・カンパニーにより市販されている。このプロトコール
は赤外線を用いる以下の改良の前に、エリザヘス・Ｒ・
アンガーおよびデイビット・Ｊ・ブリガティーの共同研
究によるものである。プリガティ博士は本発明者の１人
である。
の’ｒｎ ５ｉｔｕ ＤＮＡハイブリダイゼーションア
ッセイに適した多工程処理を第４表に示す。特に工程５
０については、組織切片内の二本１’＜ＤＮＡを変性す
るためにステーション１９に熱対流路がある（乾燥室の
位置に）、このように改良された限られた数の染色装置
が本出願人であるフィッシャー・サイエンティフィック
・カンパニーにより市販されている。このプロトコール
は赤外線を用いる以下の改良の前に、エリザヘス・Ｒ・
アンガーおよびデイビット・Ｊ・ブリガティーの共同研
究によるものである。プリガティ博士は本発明者の１人
である。
第−１２表
３４ １１ ０．６ 吸取り３８ １
１ ０．６ 吸取り３９ ６ ０．
３ ９５χエタノール４０ １１ ０．６
吸取りイゼーション ７１ １０ ２．０． ｉ！衝液液下記
試薬には界面活性剤を供給する。
１ ０．６ 吸取り３９ ６ ０．
３ ９５χエタノール４０ １１ ０．６
吸取りイゼーション ７１ １０ ２．０． ｉ！衝液液下記
試薬には界面活性剤を供給する。
ステーション１ｏ：ｉｉ街液にＯ，１Ｍ）す刈ＩＣＩ、
０．１Ｍ ・ＮａＣ１’（ｐＨ７，４）および０．２５
％の３０％Ｂｒ１ｊ３５溶液が含有される。
０．１Ｍ ・ＮａＣ１’（ｐＨ７，４）および０．２５
％の３０％Ｂｒ１ｊ３５溶液が含有される。
ステーション８：蒸留水に０．２５％の３０％Ｂｒ１ｊ
３５から含有される。
３５から含有される。
ステーション１．２および３において２ ｘｓｓｃ。
０．２ＸＳＳＣおよび０．１６ＸＳＳＣ榎衝？夜（ＳＳ
Ｅは）飄イプリダイゼーション操作に用いられる標準ク
エン酸ナトリウム１１街液を意味する）にはそれぞれ０
．１％ドデシル硫酸ナトリウムが含有される。
Ｅは）飄イプリダイゼーション操作に用いられる標準ク
エン酸ナトリウム１１街液を意味する）にはそれぞれ０
．１％ドデシル硫酸ナトリウムが含有される。
ステーション１５で用いたアルブミン遮断薬はウシ血清
アルブミンの１％溶液であった。使用した他の試薬は慣
用されるものでた。
アルブミンの１％溶液であった。使用した他の試薬は慣
用されるものでた。
この処理において使用できるプローブ試薬（ステーショ
ン１４）、検出システム（ステーション１６）および色
原体（ステーション１７）の組合わせの一例は、ビオチ
ン標識プローブ、アビジン−アルカリホスファターゼ検
出系、および２成分系色原体ＢＣＩＰ＋ＩＮ？またはＢ
ＣＩＰ＋ＮＢＴである。同じビオチン標識プローブをア
ビジン−ワサビダイコンペルオキシダーゼおよび色原体
３−アミノ−９−エチルカルバゾールを用いて検出する
ことができる。
ン１４）、検出システム（ステーション１６）および色
原体（ステーション１７）の組合わせの一例は、ビオチ
ン標識プローブ、アビジン−アルカリホスファターゼ検
出系、および２成分系色原体ＢＣＩＰ＋ＩＮ？またはＢ
ＣＩＰ＋ＮＢＴである。同じビオチン標識プローブをア
ビジン−ワサビダイコンペルオキシダーゼおよび色原体
３−アミノ−９−エチルカルバゾールを用いて検出する
ことができる。
この処理をわずかに変更して、この種の他の組合わせ、
たとえばジニトロフェニル標識プローブと抗−ＤＮＰ抗
体ＨＲＰ複合体（検出系として） 、１−ＩＡＩ？修飾
プローブと抗−）ＩＡＩＴ抗体＋１ＲＰ複合体（検出系
として）を用いることができる。この系においてスルホ
ン化ＤＮＡプローブはアルカリホスファターゼ複合また
はワサビダイコンペルオキシダーゼ複合した抗−ＤＮＡ
スルホネート抗体と共に使用しうる。ステーション１４
において酵素に直接結合した酵素を使用し、ステーショ
ン１６を空にしておくこともできる。
たとえばジニトロフェニル標識プローブと抗−ＤＮＰ抗
体ＨＲＰ複合体（検出系として） 、１−ＩＡＩ？修飾
プローブと抗−）ＩＡＩＴ抗体＋１ＲＰ複合体（検出系
として）を用いることができる。この系においてスルホ
ン化ＤＮＡプローブはアルカリホスファターゼ複合また
はワサビダイコンペルオキシダーゼ複合した抗−ＤＮＡ
スルホネート抗体と共に使用しうる。ステーション１４
において酵素に直接結合した酵素を使用し、ステーショ
ン１６を空にしておくこともできる。
第４表の方法につき本発明に関係のる個々の特色には工
程３．６．２５および８２−これらはそれぞれ前記各側
と同様に赤外線の使用によって促進されるであろう−な
らびに操作５０〜５２−これらはある意味でハイブリダ
イゼーシッンアッセイに特有であるーが含まれる。
程３．６．２５および８２−これらはそれぞれ前記各側
と同様に赤外線の使用によって促進されるであろう−な
らびに操作５０〜５２−これらはある意味でハイブリダ
イゼーシッンアッセイに特有であるーが含まれる。
例４Ｂ
先に例ＩＢに記載したホルダーに３組のスライド対を装
填した。各スライドはヘルペスウィルスを含むことが分
かっている厚さ５−のパラフィン包埋副腎切片を保有し
ていた。この処理を例４Ａに示す操作４９まで実施した
。この時点で、ホルダーを１０５°Ｃに設定された変性
炉に１５〜２０分間入れる代わりに、本明細書の第１．
２および４図に示す処理室に、スライドが第２図に示す
ように処理室へ進入した状態で入れた。スライドを導入
した時点で光源５２の開始条件につき数種の変更を試み
た（低温；加温、ただしオフおよびオン）、このような
試みの１つにおいては、光ｌ！Ｘ５２を低温にして、電
圧設定１００■で３分間を採用した０次いでホルダーを
機器に戻し、第４表の操作５１においてプロセスを再開
した。この実験では、プローブはビオチンで標識した全
へルベスウィルスゲノムＤＮＡであり、組織基質はこの
ウィルスのタイプ２株に感染した副腎のパラフィン包埋
切片であった。
填した。各スライドはヘルペスウィルスを含むことが分
かっている厚さ５−のパラフィン包埋副腎切片を保有し
ていた。この処理を例４Ａに示す操作４９まで実施した
。この時点で、ホルダーを１０５°Ｃに設定された変性
炉に１５〜２０分間入れる代わりに、本明細書の第１．
２および４図に示す処理室に、スライドが第２図に示す
ように処理室へ進入した状態で入れた。スライドを導入
した時点で光源５２の開始条件につき数種の変更を試み
た（低温；加温、ただしオフおよびオン）、このような
試みの１つにおいては、光ｌ！Ｘ５２を低温にして、電
圧設定１００■で３分間を採用した０次いでホルダーを
機器に戻し、第４表の操作５１においてプロセスを再開
した。この実験では、プローブはビオチンで標識した全
へルベスウィルスゲノムＤＮＡであり、組織基質はこの
ウィルスのタイプ２株に感染した副腎のパラフィン包埋
切片であった。
このプロセスの終了時にスライドを鏡検し、スライドが
工程５０において１０５°Ｃに予熱された炉内で１５分
間処理した場合に達成されたものと同等に染色されたこ
とが認められた。
工程５０において１０５°Ｃに予熱された炉内で１５分
間処理した場合に達成されたものと同等に染色されたこ
とが認められた。
工程５２での６０分間（湿潤室内）の代わりに、赤外線
装置を備えた処理室内ではよりいっそう短い期間を採用
しうると考えられる。たとえば変性工程が終了した時点
で光源への電圧を断ち、間隙内の流体を目的の再ハイブ
リダイゼーション温度（たとえば３７°Ｃ）にまで放冷
するだけでよい、この温廖で再ハイブリダイゼーション
は、使用するプローブおよび試料の種類に応じて５〜１
０分間で実質的に完了するであろう。
装置を備えた処理室内ではよりいっそう短い期間を採用
しうると考えられる。たとえば変性工程が終了した時点
で光源への電圧を断ち、間隙内の流体を目的の再ハイブ
リダイゼーション温度（たとえば３７°Ｃ）にまで放冷
するだけでよい、この温廖で再ハイブリダイゼーション
は、使用するプローブおよび試料の種類に応じて５〜１
０分間で実質的に完了するであろう。
第１図は本発明の第１形態による処理室上方にある、ス
ライドを装填したスライドホルダーの正両立面図でる。 第２図は本発明の第１形態による処理室上のスライドホ
ルダーおよび処理室内へ伸びたスライドの一部断面状の
正両立面図である。 第３図は第１図の腺３−３に沿って得た、スライドホル
ダー内におけるスライドの配列を示す底部平面図である
。 第４図は第１図の腺４−４に沿って得た、処理室上部を
通る開口を示す上面平面図である。 第５図は本発明の第２形態による処理室の、−部所面状
の正両立面図である。 第６図は本発明の第３形態に用いられる、水平配置スラ
イド用処理室の透視図である。 各図において記号は下記のものを表わす。 １０、１１０，３１０ ニスライド。 １４．１１４７スライドの下端。 ３０ニスライドホルダー、３２：カバー。 ３４：ハンドル。 ３６：アングルブラケット ３８：仕切りブラケット、 ４０，１４０：処理室。 ４２．４３，４４，４５，２４５ ：側壁。 ４６、１４６ ：底壁、４７：上壁１ ４８ ： ４０の上部開口。 ５０、１５０，３５０ ：赤外線装置。 ５２、１５２ ：エミッター素子。 ５４．１５４，３５４ ：カバー。 ５６．１５６：温度プローブ。 ５７：ダイヤル（外部情報）。 ５８：コントローラー。 ３００ニスライド加温室。 ３０１：ベース。 ３０２：カバー。 ３０８ニブラツトホーム。 ３４６：＜ぼみ。 ３４８：排液管。 ３５６：ゲージ（処理水準）５ ３５８．３５９，３６０ ：ボタン。 ３６１：ゲージ（処理時間）。 ３７０：導管 ＦＩＧ、 １ ＦＩＧ、２
ライドを装填したスライドホルダーの正両立面図でる。 第２図は本発明の第１形態による処理室上のスライドホ
ルダーおよび処理室内へ伸びたスライドの一部断面状の
正両立面図である。 第３図は第１図の腺３−３に沿って得た、スライドホル
ダー内におけるスライドの配列を示す底部平面図である
。 第４図は第１図の腺４−４に沿って得た、処理室上部を
通る開口を示す上面平面図である。 第５図は本発明の第２形態による処理室の、−部所面状
の正両立面図である。 第６図は本発明の第３形態に用いられる、水平配置スラ
イド用処理室の透視図である。 各図において記号は下記のものを表わす。 １０、１１０，３１０ ニスライド。 １４．１１４７スライドの下端。 ３０ニスライドホルダー、３２：カバー。 ３４：ハンドル。 ３６：アングルブラケット ３８：仕切りブラケット、 ４０，１４０：処理室。 ４２．４３，４４，４５，２４５ ：側壁。 ４６、１４６ ：底壁、４７：上壁１ ４８ ： ４０の上部開口。 ５０、１５０，３５０ ：赤外線装置。 ５２、１５２ ：エミッター素子。 ５４．１５４，３５４ ：カバー。 ５６．１５６：温度プローブ。 ５７：ダイヤル（外部情報）。 ５８：コントローラー。 ３００ニスライド加温室。 ３０１：ベース。 ３０２：カバー。 ３０８ニブラツトホーム。 ３４６：＜ぼみ。 ３４８：排液管。 ３５６：ゲージ（処理水準）５ ３５８．３５９，３６０ ：ボタン。 ３６１：ゲージ（処理時間）。 ３７０：導管 ＦＩＧ、 １ ＦＩＧ、２
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（ａ）第１表面上に薄い試料を施し、 （ｂ）第２表面を第１表面に実質的に平行に、これから
第１距離だけ間隔を置いて保持し、これにより第１表面
と第２表面の間に間隙を設け、 （ｃ）この間隙に処理液を導入し、 （ｄ）処理液を毛管作用により間隙内へ吸込んで薄い試
料と接触させ、そして （ｅ）薄い試料と接触した処理液を、該処理液による薄
い試料の処理を促進するのに十分な照射量および期間に
おいて赤外線照射すべく赤外線を発生させる ことよりなる、表面上にある薄い試料の処理法。 ２、導入工程（ｃ）が間隙の端を処理液に接触させるこ
とよりなる、請求項１に記載の方法。 ３、第１および第２表面が導入工程（ｃ）吹込み工程（
ｄ）および発生工程（ｅ）の期間中、実質的に垂直方向
に伸びている、請求項１または２に記載の方法。 ４、複数の第１表面にそれぞれ薄い試料を施し、第２表
面を各第１表面に実質的に平行に、これから第１距離だ
け間隔を置いて保持し；処理液を各間隙に導入し、毛管
作用により間隙内へ吸込んで薄い試料それぞれと接触さ
せ；そして薄い試料それぞれと接触した処理液を赤外線
照射することよりなる、請求項１ないし３のいずれかに
記載の方法。 ５、吸込み工程（ｄ）の後に、第１および第２表面を処
理室内へ搬送し、そして発生工程（ｅ）において赤外線
を該処理室内で発生させる、請求項１ないし４のいずれ
かに記載の方法。 ６、（ａ）第１表面上に薄い試料を施し、 （ｂ）第１表面上に薄い試料と接触した処理液の薄層を
形成し、 （ｃ）赤外線を発生させ、そして （ｄ）処理液の薄層を、該処理液による薄い試料の処理
を促進するのに十分な照射量およびこれに十分な照射期
間において赤外線照射する工程からなる、処理液による
生物学的検体の処理を促進する方法。 ７、薄い試料がターゲットヌクレオチド配列を有する二
本鎖状の核酸を含有し、かつ処理液が該ターゲットヌク
レオチド配列に実質上相補的なターゲット結合領域を有
する核酸プローブを含有し、そして照射工程（ｄ）にお
いて照射量および照射期間は二本鎖核酸が解離し、次い
でターゲット結合領域が試料の解離した核酸鎖ターゲッ
トヌクレオチド配列にハイブリダイズするのに十分なも
のである、請求項６に記載の方法。 ８、薄い試料が抗原部位を含有し、かつ処理液が該抗原
部位に特異的な抗体を含有し、そして照射工程（ｄ）に
おいて照射量および照射時間が抗原部位への抗体の結合
を促進するのに十分なものである、請求項６に記載の方
法。 ９、底壁および直立した側壁を備えた処理室であって、
該処理室が上部開口を形成するもの、（ｂ）複数の平面
小片の上端とかみ合ってこれら平面小片を保持手段から
下方へ実質的に垂直方向に延びた平行配列状に保持する
ための保持手段、（ｃ）保持手段と共同して、処理室に
より形成される上部開口を実質的に覆うための、保持手
段に付随するフランジ手段、および （ｄ）フランジ手段および保持手段が実質的に上部開口
を覆った処理室内に赤外線を発生し、上記平面小片を赤
外線照射するための輻射手段 からなる、処理液による薄い試料の処理を促進するため
の装置。 １０、輻射手段が処理室内における赤外線用光源からな
る、請求項９に記載の装置。 １１、保持手段が複数対の小片を平行に垂直方向に保持
し、各対の第１小片が各対の第２小片から、第１小片と
第２小片の間の間隙に毛管作用により液体を保持するの
に十分なほど小さい第１距離だけ間隔を置いた、請求項
９または１０に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US168173 | 1988-03-15 | ||
| US07/168,173 US5023187A (en) | 1985-09-13 | 1988-03-15 | Method and device for accelerated treatment of thin sample on surface |
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|---|---|
| JPH01302135A true JPH01302135A (ja) | 1989-12-06 |
| JP2509693B2 JP2509693B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=22610425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5023187A (ja) |
| EP (1) | EP0334534B1 (ja) |
| JP (1) | JP2509693B2 (ja) |
| AT (1) | ATE103709T1 (ja) |
| CA (1) | CA1333467C (ja) |
| DE (1) | DE68914182T2 (ja) |
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