JPH01302220A - ホロゴンおよびその製作方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、デユーティサイクルを上げるようにホロゴン
のファセットの横側境界における回折効果を重ね合せる
ようにしたホロゴンおよびその製作方法に関する。

ｂ）従来技術 周知のように、ホロゴンはそれが回転されたときにそれ
に当てられた静止ビームを１つの線に沿って反復走査さ
せる装置である。高速で回転するように装着されたディ
スクを含むホロゴンは周知である。ディスクは回転軸が
それに対し直角な平坦な面上に複数の扇形状ファセット
ヲ有する。各ファセットは回折格子を含む０もしｎ個の
ファセットが存在すれば、あるファセット内の格子線の
隣接ファセット内の線に対する傾斜角は（３６０／／ｎ
）。

である。線は「接線方向」でもまたは「半径方向」でも
よい。もし「半径方向」であれば、ファセットの線はフ
ァセットヲ二等分する半径に平行である。もし「接線方
向」であれば、線はファセットを二等分する半径に直角
である。格子は反射式でも透過式でもよい。ンングル格
子ノくターンを含むホロゴンもまた周知である。このよ
うなシングルファセットホロゴンは１回転につき２つの
走査を行わせる。ｎ個のファセツＩ−を有するマルチフ
ァセットホロゴンは１回転につきｎの走査を行わせる。

各ファセットがパワーを有するホロゴンもまた周知であ
る。

ディスクにホトレジストをコーティングすることにより
ホロゴンを製作することは周知である。

放射ビーム（通常レーザビームが使用される）は分割さ
れ、その結果得られた２本のビームはコーティングが直
線干渉パターンに露出されるようにホトレジストコーテ
ィングのところで干渉される。露出により感光コーティ
ング内に格子パターンの前兆が作成される。作成される
前兆の範囲は、半径方向内側および半径方向外側の２つ
の境界およびディスクの回転軸に対し半径方向の向かい
合う横側境界とにより部分的に境界が形成された開口を
有するマスクにより制限される。線の間に含まれる角度
はファセットの内包角すなわち（３６０／）Ｏに等しい
０１つのファセットが露出された後にディスクは、マス
クおよびディスに放射ビームを当てるだめの手段とに対
し相対的に（３６０／）Ｏの角度だけ回転されて他のフ
ァセットが露出される。ｎ個のファセットがすべて露出
された後に、感光コーティング内の前兆から作動格子を
製作するためにコーティングが処理される。

第１図および第２図に、ホトレジストコーティング２４
を有するガラスディスク２２からなる周知のホロゴン２
０が示されている。ディスク２２は、軸と一緒に回転す
るようにホロゴンが固定される駆動軸（図示なし）を受
入れるためにディスク２２の幾何学的軸２８と同軸の開
口２６を有する。

第１図に示すホロゴン２０は、各々軸２８に対し６００
の角に拡がる６個のファセットＦ、　−Ｆ６を有する。

ファセットＦ１とＦ２との間、Ｆ２とＦ３との間などに
それぞれ半径方向境界Ｂ１２゜Ｂ２３　、　Ｂ３４　、
　Ｂ４５　、　Ｂ５６およびＢ６１がある。

各ファセットは半径方向内側境界２３および半径方向外
側境界２５を有し、そのいずれもそれぞれの円の弧であ
る。ファセットは境界２３により頭が切られた扇形では
あるが、−２般的に扇形形状と呼んでもよい。

各ファセット内のホトレジストコーティング２４は露出
されかつ処理されて回折格子パターンを呈示する。回折
格子は間隔が密な複数本の真直な線３０であり（図では
そのうちのきわめてわずかな本数しか示されていない）
、光が格子に入射したときこの線は光を回折させる。本
実施例においては各ファセットＦ１−Ｆ６内の線３０は
それぞれのファセットヲ二等分する半径である線Ｒ１−
Ｒ６に対しそれぞれ平行である。他の実施例においては
各ファセット内の線は接線方向の線と呼ばれ、それぞれ
のファセット内の線Ｒ１−Ｒ６に対し直角である。

各ファセットＦｌ−Ｆ６内の回折格子線３０は、干渉パ
ターンがホトレジスト上に作成されるように２本のコヒ
ーレントビームの干渉により形成される。干渉パターン
はホトレジスト内に格子パターンの前兆を作成する。マ
スクは干渉パターンの範囲を制限する。１回露出が終る
と、他のファセットが露出可能なように相対移動が行わ
れる。すべてのファセットの露出が終ると、ホトレジス
トが処理されてその結果格子パターンが形成される。

第３図はホトレジストコーティング２４内に格子パター
ン前兆を作成するための装置３２を略図で示す。装置は
軸３６のまわりに回転するようにベース３８上に装着さ
れた回転テーブル３４を含む。テーブル３４を回転駆動
してそれを所定の位置に保持するための駆動手段４０が
設けられている０ 支持構造４４によりベース３８上にプリズム組立体４２
が装着される。プリズム組立体４２は２個のプリズム４
８．５０の間にビーム分割インターフェース４６を有す
る。インターフェース４６の平面は軸３６を含む。

マスク５２はプリズム組立体４２とディスク２２との間
に配置され、支持構造４４により支持される。

レーザ５４はコリメート化ビーム５６としてプリズム組
立体４２の面５８に蟲てられる実質的に単色のコヒーレ
ント光の光源を提供する。

マスク５２は第４図に示され、開口６２を有する不透明
板６０からなる。開口は、半径方向内側の小直径口の円
弧境界６４と、半径方向外側の大直径内の円弧境界６６
と、を有する。境界６４゜６６の円弧形状は共通の中心
６８を有する。ここでは向かい合う横側境界と呼ぶ開口
６２の他の２つの境界７０．７２は直線であり、図示の
ように境界６４．６６の円弧形状の半径方向にある。支
持構造４４により支持されるマスク５２は、中心６８が
軸３６と一致するよう配置される。

ホロゴンを形成するために、その上にホトレジストコー
ティング２４を有するガラスディスク２２がテーブル３
４上に配置される。レーザ５４が励起されるとその出力
ビーム５６は面５８からプリズム組立体４２内にはいる
。ビームがインターフェース４６に入射されると、イン
ターフェースはビームをビーム７４とビーム７６とに分
割する。ビーム７４は面７８で反射されてビーム８゜と
して面８２からプリズム組立体４２を離れる。

ビーム７６は面８４で反射されてビーム８６として面８
８からプリズム組立体４２を離れる。

ビーム８０．８６が開口６２を充満するようにプリズム
４２は配置されかつそのようにビーム５６はその断面寸
法と形状とを有する。ビーム８０．８６は干渉してホト
レジストコーティング２４上に干渉パターンを形成する
。干渉パターンは輝線と暗線とからなる複数の平行な線
であり、これらの線はマスク５２の開口６２の向かい合
う横側境界７０．７２の間に挾まれた角度を二等分しか
つ軸３６から出る半径に平行である。適当な時間露出さ
れた後にレーザ５４のスイッチが切られ、レーザおよび
プリズム組立体とディスク２２との間に相対移動を行わ
せるために駆動手段４０が起動される。相対移動はベー
ス３８上のテーブル３４を回転させる駆動手段４０によ
り行われる。

本実施例においては製作されるホロゴンは６個のファセ
ット’を有し、したがって駆動手段４０はテーブルを正
確に６０°すなわち（３６０／　）Ｏずつ回転してテー
ブル３４をその新しい位置に保持する０露出工程が反復
されてテーブルは再び次のステップに移る。この工程が
さらに４回繰返され、これによりコーティングが露出さ
れた６つの干渉のパターンによってホトレジストコーテ
ィング２４内に６個のファセッ）Ｆｌ−Ｆ６の前兆が作
成される。

本発明の前の従来技術によれば、開口６２の端縁７０，
７２は中心６８に対する半径であり、６個のファセット
を有する例においては端縁７０゜７２は６００の角を含
みかつ中心６８は軸３６上にあった。

問題点は上記のようなホロゴン製作方法にある。

この問題点とは、マスク５２内の開口６２の向かい合う
横側境界７０．７２に回折が起ることである。この回折
は、コーティングを処理したときに好ましくない回折効
果を作成する前兆をホトレジスト内に作成する。回折効
果はホロゴンのデユーティサイクルを低減させる。デユ
ーティサイクルとは走査が有効である時間の百分率を意
味すると理解されてきた。たとえば入射ビームが２個の
ファセット上に入射しているときは走査は有効ではない
。ある人はデユーティサイクルを、ビームが１個のファ
セット上にのみ入射している時間の百分率と考えていた
。しかしながら、走査器はまた、マスクの向かい合う横
側境界により発生される回折により生ずる回折効果領域
にビームが一部または完全に入射するときも有効ではな
い。

２個のファセット間の各継目には、各ファセットに１個
ずつの２セツトの回折効果が存在するのは明らかであり
、これらはそれぞれ時計方向または反時計方向に継目か
らファセット内に伸長する。

回折効果は実質的には一定の幅を有するので、これらの
デユーティサイクルへの影響は回転軸からの半径方向距
離によって変り；軸に近づくほど影響は大きくなる。

好ましくない回折は、マスク開口を通して露出された領
域内に端縁に平行な輝線と暗線との干渉パターンの形状
の回折効果領域７５を作成する０第５図は、前兆を処理
した後のたとえば２個のファセット　Ｆ、、Ｆ２の間の
境界Ｂ１２の両側の干渉パターンの一部を示す０第５図
に示す線は境界７０．７２における回折により作成され
たものであること；これらは第５図が複製された写真内
に示すにはあまりにも細すぎる、ビーム８０．８６の干
渉により作成された線ではないこと；およびこれらは境
界７０．７２に対しくおよび境界Ｂ１２に対し）平行で
あってファセットの二等分線Ｒには平行ではないこと；
どがわかるであろう。

第６図は第５図における境界Ｂ１２　　の右側に示され
た干渉パターン内の光の強度を示す。理解を助けるため
に第６図内に境界Ｂ１２の位置が描かれている。

ここで回折効果と呼ばれる、マスク開口６２の境界７０
．７２における回折により作成される干渉パターンはホ
トレジスト内に前兆を作成し、この前兆はホトレジスト
コーティングが処理されたときに線パターンを作成する
。回折により作成される線パターンは利用できるファセ
ットの角度範囲を減少し、したがってホロゴンのデユー
ティサイクルが低減される。このような低減は好ましく
なく、この低減を減少し理論的デユーティサイクルによ
り近づけることが本発明の目的である。

回折により形成された第５図に示すような干渉パターン
は、第７図に示すようにたとえば図示の境界Ｂ１２の両
側に伸長する。第７図は従来技術による製作の場合の３
個のファセット　Ｆ、、Ｆ２およびＦ６内の回折効果領
域７５を示す。各領域７５はその間ではホロゴンが利用
できない幅りを有するものとして図示されている。した
がって各境界Ｂには、利用できない幅２Ｄが存在する。

境界Ｂ１２から時計方向の領域はフナセットＦ２が露出
されるときに作成され、境界Ｂ１２から反時計方向にあ
るパターンはファセットＦ１が露出されるときに作成さ
れることがわかるであろう。

回折効果の幅（すなわち特定の半径の位置で考えたとき
の角度方向距離）を減少することによりデユーティサイ
クルを増加することが本発明の目的である０本発明によ
れば、隣接するファセットの横側境界における回折によ
り作成される前兆は感光層の重ならず連続した部分とし
てではなく相互に重ね合わされる。これはマスク内の開
口ヲ（３６０／）０より大きい広がり角とすることによ
り達成されろが、ここでｎはファセットの数である。重
なり合いは一方の回折効果が他方の回折効果の上に完全
に重なってもよく、または全体が重なるのでなく一部の
みの重なり合いがあってもよい。全体の重なり合いがあ
るときが最も有利な結果が得られる。

本発明によれば、使用時にホロゴンがそのまわりに回転
される軸を有する基板を設けることを含む、ｎ個の複数
のファセットヲ有するホロゴンの製作方法が提供される
。基板上に感光層が設けられる。層上に干渉パターンを
作成するために層内に回折格子の前兆を形成するように
ビーム発生手段から感光層に放射ビームが当てられる。

干渉パターンが軸のまわりで測定して（３６０／）０よ
りわずかに大きい角度範囲を有する層の予め選択した領
域上にのみ存在するようにビームはマスによリマスキン
グされる。一方の基板と他方のビームおよびマスクとが
軸のまわりに（３６０／）０の角度だけ相対的に回転移
動される。ビームを当てかつビームをマスキングする前
述のステップが反復され、これにより、サイズが最初に
記載の領域に類似しかつそれとわずかに重なり合う感光
層の第２の前選択領域上に干渉パターンが作成されかつ
回折格子がその中に形成され、および第２の領域内に干
渉パターンを作成する間に、マスクの端縁により作成さ
れる回折効果が最初に記載の領域内に干渉パターンを作
成する間にマスクの他の端縁により作成された回折効果
と重なり合う。干渉パターンによって感光層内に形成さ
れた前兆から回折格子が作成されるように感光層が処理
される。

本発明はまた、使用時に基板がそのまわりに回転される
軸を有する基板を含む、複数のファセットを有するホロ
ゴンにも関する。各ファセットは、半径方向内側境界、
半径方向外側境界および向かい合う横側境界とを有する
。基板上には感光材料を加工して形成されたコーティン
グがある。ファセットの各々はコーティング内に回折格
子パターンを含み、回折格子パターンの前兆はマスクを
含む手段により光学的に感光材料内に形成されている０ 回折格子パターンの各は軸から出て７アセツトを二等分
する半径に平行かまたはそれに直角な線を含む。各７７
セツトはファセットの向かい合う横側境界の各々とそれ
ぞれ相接する２つの回折効果領域を含み；回折効果はマ
スクの端縁における回折により発生したものである。回
折効果領域の各々はそれぞれの回折領域が相接する向か
い合い横側境界に平行な線を含む。各ファセットはその
隣接ファセットと重なり合い、および各回折効果領域は
隣接の７アセツトの回折効果領域と重な９合う。

本発明によれば、上述の回折により作成された干渉パタ
ーンはたとえば第８図に示すように重ね合わされ、これ
により使用できない領域の幅寸法はＤのように小さくな
ろう。第８図は完全に重ね合わされた例を示すが、他の
実施例では部分的に重ね合わされる。このような他の実
施例もまた最大の改良は得られないけれどもデユーティ
サイクルを改善する。回折パターンの重なり合いは、マ
スク５２内の開口６２を、中心６８のまわりの円弧方向
において（３６０／）０より大きい範囲に形成すること
により得られるが、ここでｎはファセットの数である。

このように大きい範囲の開口は、境界７０．７２間に含
まれる角度を（３６０／）０より大きい角に増加するこ
とによっても得られるが、または含まれる角度は（３６
０／　）ｏとして境界７０．７２の交点を軸３６から後
方へ離してもよい。第９図は前者の実施例を示し、第１
０図は後者の実施例を示す。

第８図ないし第１２図では、理解を助けるためにファセ
ットの境界Ｂ１２＋Ｂ２３などが含められている○しか
しながら、これらは本発明の実施例においてはもはや存
在しない。しかしながら、これらはホロゴンの（３６０
／　）０扇形（ｎはファセットの数）の境界を指示する
ものとみなすことができる。

第９図に示す実施例は、幅すなわち円弧方向ないし接続
方向に測定した寸法が半径とともに変るような回折パタ
ーンの重なり合いを導くことは明らかであろう。一方策
１０図に示す実施例は半径に関係なく均一な重なり合い
金与える。前者ははじめは後者より好ましくないように
みえるけれども、ホロゴンの使用法はおそらくその製作
中にはすでにわかっているので、使用時に小断面のビー
ムがホロゴン上に入射する位置の半径もまたわかってい
ることを心に留めておくべきである。したがって、２つ
の境界７０．７２の間に含まれる角度は、使用時に光ビ
ームがホロゴン上に入射するであろう半径位置において
、円弧方向すなわち接線方向に、２つの回折効果領域の
重なシが所定の大きさを有するように選択可能である。

このような配置により、選択半径より半径方向外側では
重なり合いは過大になり、選択半径より半径方向内側で
は重なシ合いは最大デユーティサイクルを提供するもの
より小さくなろう。

ビームがホロゴン上に入射する点の半径がγでありかつ
回折パターンの幅が前と同様にＤであるとしたならば、
開けられるべき開口の幅は第１１図かられかるように、 で与えられる。したがって、マスクの境界７０′。

３６０　。

りけ（／＋２ｔａｎ−１Ｄ／）トナロウ。

ｎ　　　　　　　　　　　　　２γ 第９図においてはファセットにＦ１′−Ｆ６′と記号が
つけられ、軸２８に対しく３６０／＋α）０の広かり角
を有する。

第１０図は、マスクの横側境界によって含まれる角が（
３６０／／）０である代替態様を示すが、横側境界の線
の交点は軸２８の後方に移動される。

第１０図においてはファセットにＦ、“−Ｆ６“　と記
号がつけられるが、マスクの横側境界の感光コーティン
グ２４上への投影にはそれぞれ７０Ａ。

７２Ａの記号がつけられている。マスクの横側境界の線
の交点にはＸの記号がつけられている。これらの横側境
界はほぼ半径方向とみなしてよい。

このように、マスク端縁の線の交点は、ファセットＦ１
が露出されているときはＸｌと記号がつけられ、ファセ
ットＦ２が露出されているときはＸ２と記号がつけられ
、以下同様である。点ＸニーＸ６はその半径がｈである
円上にあることは明らかであろう。第１２図は、ｈと、
各露出中に作成されかつ使用が不可能な回折効果領域の
幅の前と同様な寸法りとの間の関係を示す。第１０図に
おいては、使用不可能な領域は幅寸法りとの重なり合い
で示される。

であることがわかるであろう。

上記の説明において、回折格子の前兆を重ね合わせる２
つの特定の方法を説明してきた。他の実施例においてマ
スク端縁における回折により形成される回折パターンを
重ね合わせる他の方法が採用可能であることを理解すべ
きである。

ｆ）発明の効果 本発明においては前節で説明したように、各ファセット
の端縁における好ましくない回折効果は、隣接のファセ
ットの端縁における好ましくない回折効果と重ね合され
る。この重ね合わせは、回折効果が存在する領域の角方
向幅を減少し、したがってホロゴンのデユーティサイク
ルを増大する。

【図面の簡単な説明】

第１図は周知ホロゴンめ平面図； 第２図は第１図のａ２−２による断面図；第３図はホロ
ゴン製作装置の略図； 第４図は第３図に示す装置内に含められるマスクの図； 第５図は製作工程中に作成される回折パターン；第６図
は第５図に示す回折パターン部分における強度； 第７図は第５図に示すような回折パターンを含む領域を
有する、従来技術による第１図に示すようなホロゴンの
部分図； 第８図は本発明の実施例を示す第７図に類似の図； 第９図は本発明を実施す唇際に、全体として第４図に示
すようなマスクの開口寸法の決定に使用可能な路線図； 第１０図はマスクの開口寸法の他の決定に使用可能な他
の路線図； 第１１図は第９図における角度の値の求め方を示す線図
；および 第１２図は第１０図における寸法の求め方を示す線図で
ある。 ２０・・・ホロゴン　　　　２２・・・基　板２４・・
・コーティング（感光層） ２８・・・基板の軸、　４２．５４・・・ビーム発生手
段５２・・・マスク　　　　　６２・・・マスク開ロア
０．７２・・・マスク端縁、７４・・・回折効果８０．
８６・・・放射ビーム　　Ｆ・・・ファセット。 （外４名） ＦＩＧ、　１ ｄ、７２８ ＩＱ　　９ −しθ ＦＩＧ、　５ ＦＩＧ、　８ 手続補正書く方式） １．事件の表示 昭和６６年　特許　願第２４２１８９号ホロゴンおよび
その製作方法 ろ補正をする者 事件との関係　　出　願　人 住所 名　称　　（７０７）イーストマン・コダック・力〃（
ニー４、代理人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ｎ個の複数のファセットを有するホロゴンの製作方
   法において： 使用時にホロゴンがそのまわりに回転される軸を有する
   基板を設けるステップ； 前記基板上に感光層を設けるステップ； 前記層上に第１の干渉パターンを作成するために前記層
   内に回折格子の前兆を形成するようにビーム発生手段か
   ら前記感光層に放射ビームを当てるステップ； 前記干渉パターンが前記軸のまわりで測定して（３６０
   ／ｎ）°よりわずかに大きい角度範囲を有する前記層の
   予め選択した領域上にのみ存在するように前記ビームを
   マスクによりマスキングするステップ； 前記基板と前記ビームならびにマスクとを前記軸のまわ
   りに（３６０／ｎ）°の角度だけ相対的に回転移動して
   ビームを当てかつ前記ビームをマスキングする前記ステ
   ップを反復するステップであつて、これにより、サイズ
   が最初に記載の領域に類似しかつそれとわずかに重なり
   合う前記感光層の第２の予め選択した値域上に干渉パタ
   ーンが作成されかつ回折格子がその中に形成されるよう
   に、および前記第２の領域内に干渉パターンを作成する
   間に、前記マスクの端縁により作成される回折効果が最
   初に記載の領域内に干渉パターンを作成する間に前記マ
   スクの他の端縁により作成された回折効果と重なり合う
   ようにしたステップ；および 干渉パターンによつて感光層内に形成された前記前兆か
   ら回折格子が作成されるように前記感光層を処理するス
   テップ； とを含むようにしたホロゴンの製作方法。 ２、重なり合う回折効果が前記軸に向かつてテーパを有
   する範囲内にあるように各前記領域が前記軸に対し半径
   方向の側辺を有するようにした請求項１記載の方法。 ３、重なり合う回折効果が全体として平行な側辺で囲ま
   れた範囲内にあるように各前記領域が、側辺の線が前記
   軸から間隔をなしかつ前記領域から離れた前記軸の側部
   の点で交差するような側辺を有するようにした請求項１
   記載の方法。 ４、回転軸と、前記軸のまわりに均等に配置された全体
   として扇形形状の１個より多いｎ個のファセットと、を
   有するホロゴンであつて、前記軸から半径方向距離γに
   おいてその上に、前記軸のまわりのホロゴンの回転によ
   り静止から走査へ変換される放射ビームを入射させるこ
   とを意図するホロゴンの製作方法において： 基板を設けること； 前記基板上に感光層を設けること； 前記層上に第１の干渉パターンを作成するために前記感
   光層に放射ビームを当てること；前記軸に対し半径方向
   またはほぼ半径方向を向く第１および第２の境界端縁で
   あつて前記半径γにおいて前記軸に対し円弧により形成
   されかつ前記第１および第２の境界端縁間の広がり角は
   （３６０／ｎ）°よりαだけ大きいような第１および第
   ２の境界端縁により部分的に境界が形成された開口を有
   するマスクにより前記ビームをマスキングすることであ
   つて、これにより、回折格子の第１の前兆が感光層内に
   形成され、前記前兆が前記半径γにおいて前記軸に対し
   （３６０／ｎ）°＋αの角に拡がる円弧状広がりを有す
   る全体として扇形状の領域を占めるようにマスクにより
   前記ビームをマスキングすること；前記基板と前記ビー
   ムならびにマスクとを相対的に回転移動して第１の格子
   パターンの線に対し（３６０／ｎ）°の角で傾斜する他
   の格子パターンの線を有する他の格子パターンの前兆を
   作成する他の干渉パターンを作成することであつて、前
   記他の前兆は前記軸のまわりで測定して角αだけ拡がる
   前記半径γにおける円弧距離だけ前記第１の前兆と重な
   り合い、これにより、第１の干渉パターンの作成の間に
   前記開口の第１の境界端縁により作成された回折パター
   ンの前兆が前記他の回折パターンの作成の間に前記開口
   の第２の境界端縁により作成された回折パターンの前兆
   と重なり合うように前記基板と前記ビームならびにマス
   クとを相対的に回転移動して他の干渉パターンを作成す
   ること；および回折格子を形成するために前記感光層を
   処理すること； とを含むようにしたホロゴンの製作方法。 ５、複数のファセット（Ｆ＿１′、Ｆ＿１″）を有した
   ホロゴンにおいて、使用時に基板（２２）がそのまわり
   に回転される軸（２８）を備えた基板（２２）を有し、
   前記ファセットの各々は半径方向内側境界、半径方向外
   側境界（２３、２５）および向かい合う横側境界を有し
   、また、感光材料を加工して形成された前記基板（２２
   ）上のコーティング（２４）が設けられ、ファセット（
   Ｆ＿１′、Ｆ＿１″）の各々は、前記コーティング（２
   ４）に回折格子パターンを含み、前記回折格子パターン
   の前兆がマスクを含む手段により光学的に前記感光材料
   内に形成されてあり、回折格子パターンの各々が前記軸
   （２８）から出てファセット（Ｆ＿１′、Ｆ＿１″）を
   二等分する半径（Ｒ＿１）に平行かまたはそれに直角な
   線（３０）を含み、各ファセット（Ｆ＿１′、Ｆ＿１″
   ）がファセット（Ｆ＿１′、Ｆ＿１″）の向かい合う横
   側境界の各々とそれぞれ相接する２つの回折効果領域（
   ７５）を含み、前記回折効果はマスク（５２）の端縁（
   ７０、７２）における回折により発生し、前記回折効果
   領域（７５）の各々はそれぞれの回折領域が相接する向
   かい合う横側境界に平行な線を含み、各ファセット（Ｆ
   ＿１′、Ｆ＿１″）がその隣接ファセットと重なり合い
   、および各回折効果領域（７４）が隣接のファセット（
   Ｆ＿１′、Ｆ＿１″）の回折効果領域（７４）と重なり
   合うようにしたホロゴン。