JPS6238417A - 環状パタ−ン形成方法 - Google Patents
環状パタ−ン形成方法Info
- Publication number
- JPS6238417A JPS6238417A JP17684285A JP17684285A JPS6238417A JP S6238417 A JPS6238417 A JP S6238417A JP 17684285 A JP17684285 A JP 17684285A JP 17684285 A JP17684285 A JP 17684285A JP S6238417 A JPS6238417 A JP S6238417A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- conical
- photoresist film
- refractor
- substrate
- Prior art date
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目 次〕
・概要
・ 産業上の利用分野
・ 従来の技術
・ 発明が解決しようとする問題点
・ 問題点を解決するための手段
・作用
・ 実施例
発明の効果
〔概 要〕
光ディスク等の微小間隔の同心環状溝を形成する場合、
コヒーレント光により円惟屈折体を介して基板上の感光
膜を照射し、感光膜上に同心円状の干渉縞を形成し、こ
の干渉縞を用いて環状パターンを形成する環状パターン
形成方法。
コヒーレント光により円惟屈折体を介して基板上の感光
膜を照射し、感光膜上に同心円状の干渉縞を形成し、こ
の干渉縞を用いて環状パターンを形成する環状パターン
形成方法。
本発明は、光ディスク等の微小間隔の同心環状溝を形成
するための環状パターン形成方法に関する。
するための環状パターン形成方法に関する。
光デイスク基板に同心環状溝（プリグループ）を形成す
る場合、従来は基板上にフォトレジスト膜をコーディン
グし、これをＨｅ −Ｃｄレーザ（ビーム径０．５μ以
下）で同心円状に露光し、これを現像することによって
作成していた。この場合、善導ごとにレーザ照射の焦点
を検出位置合せしディスクを回転させて環状パターンを
形成していた。
る場合、従来は基板上にフォトレジスト膜をコーディン
グし、これをＨｅ −Ｃｄレーザ（ビーム径０．５μ以
下）で同心円状に露光し、これを現像することによって
作成していた。この場合、善導ごとにレーザ照射の焦点
を検出位置合せしディスクを回転させて環状パターンを
形成していた。
前記従来の環状パターン形成方法においては、ディスク
回転に伴う面ぶれにより高精度のパターン形成ができず
サブミクロンオーダーの微小間隔のプリグループ形成は
困難であった。また、溝を１本づつレーザ露光するため
、各露光工程ごとに高精度の位置合せが必要となって、
作業時間が多大となりまた歩留りも低く生産性を低下さ
せていた。また、レーザ照射装置、位置合せ装置等の高
価な装置を必要とし、生産性の低下とともにコストの増
加を来していた。
回転に伴う面ぶれにより高精度のパターン形成ができず
サブミクロンオーダーの微小間隔のプリグループ形成は
困難であった。また、溝を１本づつレーザ露光するため
、各露光工程ごとに高精度の位置合せが必要となって、
作業時間が多大となりまた歩留りも低く生産性を低下さ
せていた。また、レーザ照射装置、位置合せ装置等の高
価な装置を必要とし、生産性の低下とともにコストの増
加を来していた。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、サブミクロンオーダーの超微細パターンの形成を高
精度で確実にしがも高価な機構を用いることなく可能と
する環状パターン形成方法の堤供を目的とする。
て、サブミクロンオーダーの超微細パターンの形成を高
精度で確実にしがも高価な機構を用いることなく可能と
する環状パターン形成方法の堤供を目的とする。
この目的を達成するため、本発明では、中心軸方向に照
射された平行光を該中心軸を含むすべての断面内で中心
軸に関し対称に屈折させる光学的円錐屈折体を介して基
板上の感光膜をコヒーレント光で照射し、屈折されたコ
ヒーレント光同士の干渉により感光膜上に環状の干渉縞
を形成し、該干渉縞を用いて基板上に環状パターンを形
成している。
射された平行光を該中心軸を含むすべての断面内で中心
軸に関し対称に屈折させる光学的円錐屈折体を介して基
板上の感光膜をコヒーレント光で照射し、屈折されたコ
ヒーレント光同士の干渉により感光膜上に環状の干渉縞
を形成し、該干渉縞を用いて基板上に環状パターンを形
成している。
基板上にフォトレジスト等の感光膜をコーティングし、
例えば直円錐形状の円錐屈折体を介してコヒーレント光
で円錐の中心軸方向に頂点側から感光膜を照射すれば、
感光膜上に同心円状の干渉縞が形成され、これを現象し
て環状パターンを得る。
例えば直円錐形状の円錐屈折体を介してコヒーレント光
で円錐の中心軸方向に頂点側から感光膜を照射すれば、
感光膜上に同心円状の干渉縞が形成され、これを現象し
て環状パターンを得る。
本発明方法の実施例を第１図および第２図を用いて説明
する。ガラス又はプラスチックからなるディスク型基板
１上にフォトレジスト（例えば商品名Ａ Ｚ １３５０
）からなる感光膜２が５００〜１０００人の厚さでコー
ティングされベータされている。この感光膜２上にガラ
スその他の透明部材からなる円錐屈折体３を介してコヒ
ーレント光（例えばＨｅ−Ｃｄレーザ光、Ａｒ レーザ
光等）を照射する。円錐屈折体３は、第２図に示すよう
に、直円錐形状である。このような円錐屈折体３に対し
中心軸方向に頂点側から平行光を照射すれば、中心軸を
含むすべての断面において、第１図に示すように、光は
中心軸に関し左右対称に屈折する。従って、感光膜２上
には同心の環状干渉縞（図示しない）が形成される。こ
の場合、干渉縞のピッチｄは円錐屈折体３がらの出射角
をθとすれば、λ ２ｓｉｎθ となる。例えば、Ｈｅ−Ｃｄレーザ光（波長λ＝３２５
ｎｍ）を用いθ＝２５°とすれば、ｄ＝３８４ｎｍとな
る。従って、ピッチ約０．０３８μｍの同心円干渉縞が
形成される。この干渉縞を現像処理゛することによりフ
ォトレジストの凹凸による微細環状パターンが得られる
。
する。ガラス又はプラスチックからなるディスク型基板
１上にフォトレジスト（例えば商品名Ａ Ｚ １３５０
）からなる感光膜２が５００〜１０００人の厚さでコー
ティングされベータされている。この感光膜２上にガラ
スその他の透明部材からなる円錐屈折体３を介してコヒ
ーレント光（例えばＨｅ−Ｃｄレーザ光、Ａｒ レーザ
光等）を照射する。円錐屈折体３は、第２図に示すよう
に、直円錐形状である。このような円錐屈折体３に対し
中心軸方向に頂点側から平行光を照射すれば、中心軸を
含むすべての断面において、第１図に示すように、光は
中心軸に関し左右対称に屈折する。従って、感光膜２上
には同心の環状干渉縞（図示しない）が形成される。こ
の場合、干渉縞のピッチｄは円錐屈折体３がらの出射角
をθとすれば、λ ２ｓｉｎθ となる。例えば、Ｈｅ−Ｃｄレーザ光（波長λ＝３２５
ｎｍ）を用いθ＝２５°とすれば、ｄ＝３８４ｎｍとな
る。従って、ピッチ約０．０３８μｍの同心円干渉縞が
形成される。この干渉縞を現像処理゛することによりフ
ォトレジストの凹凸による微細環状パターンが得られる
。
第３図および第４図に本発明の別の実施例を示す。この
実施例の円錐屈折体３は円錐台形状であり、その上部平
面部に光を遮蔽するカバー４を設けている。カバー４に
より上部平面部から直進する光が遮られ、円錐側面で屈
折する光同士の干渉によって干渉縞が形成される。その
他の構成、作用については、前記実施例と同様である。
実施例の円錐屈折体３は円錐台形状であり、その上部平
面部に光を遮蔽するカバー４を設けている。カバー４に
より上部平面部から直進する光が遮られ、円錐側面で屈
折する光同士の干渉によって干渉縞が形成される。その
他の構成、作用については、前記実施例と同様である。
本発明のさらに別の実施例を第５図に示す。この実施例
においては、円錐屈折体３は円錐台形状であり、上部平
面部からの直進光と円錐側面からの屈折光により干渉縞
を形成する。この実施例においては、感光膜２のパター
ンの溝が斜め方向に形成され、感光膜２の位置を変えて
斜めの向きを逆転させることができる。即ち、（１）の
位置においては、感光膜２の点Ｐにおいて、直進光（ａ
）と右側面からの屈折光（ｂ）により干渉縞が形成され
るためパターンの溝は（ｉ）図の５−１で示すように右
上りに形成される。一方、（ＩＩ）の位置においては、
同じ点Ｐにおいて、直進光（ａ）と左側面からの屈折光
（Ｃ）により干渉縞が形成されるためパターンの溝は、
（ｉｉ ）図の５−２で示すにように左上りに形成され
る。 （１）、 （ＩＩ）の位置での露光を組合せる
ことにより、（ｉｉｉ ）図に示すように、パターンの
溝５−３を台形断面とすることができる。この場合、直
進光を得るために、円錐屈折体３の中央部に、第６図に
示すように、円筒状の貫通孔６を形成してもよい。
においては、円錐屈折体３は円錐台形状であり、上部平
面部からの直進光と円錐側面からの屈折光により干渉縞
を形成する。この実施例においては、感光膜２のパター
ンの溝が斜め方向に形成され、感光膜２の位置を変えて
斜めの向きを逆転させることができる。即ち、（１）の
位置においては、感光膜２の点Ｐにおいて、直進光（ａ
）と右側面からの屈折光（ｂ）により干渉縞が形成され
るためパターンの溝は（ｉ）図の５−１で示すように右
上りに形成される。一方、（ＩＩ）の位置においては、
同じ点Ｐにおいて、直進光（ａ）と左側面からの屈折光
（Ｃ）により干渉縞が形成されるためパターンの溝は、
（ｉｉ ）図の５−２で示すにように左上りに形成され
る。 （１）、 （ＩＩ）の位置での露光を組合せる
ことにより、（ｉｉｉ ）図に示すように、パターンの
溝５−３を台形断面とすることができる。この場合、直
進光を得るために、円錐屈折体３の中央部に、第６図に
示すように、円筒状の貫通孔６を形成してもよい。
第７図に本発明のさらに別の実施例を示す。この実施例
の円錐屈折体３は、（ｂ）図に示すように、中央部に逆
円錐形の貫通孔６が設けられている。干渉縞は、（ａ）
図に示すように、リング状の円錐屈折体３の内側の斜面
および外側の斜面からの屈折光により形成される。この
構成により２つの干渉する光同士の光量の均一化が図ら
れる。
の円錐屈折体３は、（ｂ）図に示すように、中央部に逆
円錐形の貫通孔６が設けられている。干渉縞は、（ａ）
図に示すように、リング状の円錐屈折体３の内側の斜面
および外側の斜面からの屈折光により形成される。この
構成により２つの干渉する光同士の光量の均一化が図ら
れる。
干渉する光同士の光量の均一化を図るためにフィルタを
介してコヒーレント光を照射してもよい。
介してコヒーレント光を照射してもよい。
このようなフィルタの特性について第８図を用いて説明
する。円錐屈折体３の形状が直円錐形の場合の屈折光の
強度分布を（ａ）図に示す。平行光Ａ、Ｂ、Ｃが屈折し
て感光膜３上のＡ’、Ｂ’。
する。円錐屈折体３の形状が直円錐形の場合の屈折光の
強度分布を（ａ）図に示す。平行光Ａ、Ｂ、Ｃが屈折し
て感光膜３上のＡ’、Ｂ’。
Ｃ′の位置に照射される。中央の光Ａは分散するため、
Ａ′の位置で強度が最も弱い。光Ｂはすべて中心に集束
するためＢ′の位置の光の強度が最も強い。光Ｃは中心
に向って集束するため幾分強度が強くなり、Ｃ′の位置
ではＡ′とＢ′の中間の強度となる。このような強度分
布はグラフ（ｉ）の実線で表わされる。Ａ、Ｂ、Ｃと対
称な位置の光の強度分布は点線で示される。実線と点線
のグラフは中心軸に関し対称である。感光膜２上では実
線で示す光と点線で示す光との干渉により干渉縞が形成
される。干渉縞を効率良くしかも均一に形成するために
は干渉する光同士の強度がなるべく等しく均一に分布し
ていることが望ましい。このため、（ｂ）図のグラフ（
ｉｉ）で示す特性のフィルタ７を介して円錐屈折体３を
照射する。フィルタフの減衰率は（ａ）図の光Ａ、Ｂ、
Ｃの強度分布を示すグラフ（１）に対応して各光の強度
を露光膜２上で均一化するように定められる。このよう
なフィルタ７および円錐屈折体３を通過した光は感光膜
２上でグラフ（ｉｉｉ ）で示すようにほぼ強度が均一
化する。
Ａ′の位置で強度が最も弱い。光Ｂはすべて中心に集束
するためＢ′の位置の光の強度が最も強い。光Ｃは中心
に向って集束するため幾分強度が強くなり、Ｃ′の位置
ではＡ′とＢ′の中間の強度となる。このような強度分
布はグラフ（ｉ）の実線で表わされる。Ａ、Ｂ、Ｃと対
称な位置の光の強度分布は点線で示される。実線と点線
のグラフは中心軸に関し対称である。感光膜２上では実
線で示す光と点線で示す光との干渉により干渉縞が形成
される。干渉縞を効率良くしかも均一に形成するために
は干渉する光同士の強度がなるべく等しく均一に分布し
ていることが望ましい。このため、（ｂ）図のグラフ（
ｉｉ）で示す特性のフィルタ７を介して円錐屈折体３を
照射する。フィルタフの減衰率は（ａ）図の光Ａ、Ｂ、
Ｃの強度分布を示すグラフ（１）に対応して各光の強度
を露光膜２上で均一化するように定められる。このよう
なフィルタ７および円錐屈折体３を通過した光は感光膜
２上でグラフ（ｉｉｉ ）で示すようにほぼ強度が均一
化する。
第９図に本発明のさらに別の実施例を示す。この実施例
では中央に孔６を有する２つの円錐屈折体３を組合せて
用いたものである。その他の構成、作用については前記
実施例と同様である。
では中央に孔６を有する２つの円錐屈折体３を組合せて
用いたものである。その他の構成、作用については前記
実施例と同様である。
以上説明したように、本発明においては、円錐屈折体を
介してコヒーレント光により感光膜を照射することによ
り感光膜上に同心円状の干渉縞を形成し、これを現像処
理等によって基板上に環状パターンを形成している。従
って、簡単な構造で高精度に短時間でサブミクロンオー
ダーの超微細な環状パターンを形成することができる。
介してコヒーレント光により感光膜を照射することによ
り感光膜上に同心円状の干渉縞を形成し、これを現像処
理等によって基板上に環状パターンを形成している。従
って、簡単な構造で高精度に短時間でサブミクロンオー
ダーの超微細な環状パターンを形成することができる。
なお、本発明において「円錐屈折体」は円錐形、円錐台
形、および中央に孔を有するリング状の円錐台形等の形
状を含むものである。
形、および中央に孔を有するリング状の円錐台形等の形
状を含むものである。
第１図は本発明方法の実施例の説明図、第２図は第１図
の実施例で用いる円錐屈折体の斜視図、第３図は本発明
方法の別の実施例の説明図、第４図は第３図の実施例で
用いる円錐屈折体の斜視図、第５図は本発明方法のさら
に別の実施例の斜視図、第６図は円錐屈折体の別の例の
斜視図、第７図は本発明方法のさらに別の実施例の説明
図、第８図は本発明に係る円錐屈折体の光強度分布に関
する説明図、第９図は円錐屈折体の組合せの説明図であ
る。 １・・・基板、 ２・・・感光膜、 ３・・・円錐屈折体。 第１図 第２図 】°・・ 基 板 ３・・・円錐屈折
体２・、・ 感光膜 ３・・・ 円錐屈折体 本発明の別の実施例の説明図 円錐屈折体の別の例の
斜親図３・・・円錐屈折体 ４・・・カバー 円錐屈折体の別の例の斜視図 第６図 ３・・・ 円錐屈折体 ６・・・孔 （ａ） （ｂ） 本発明の別の実施例の説明図 ′＄７図 １・・・基板 ６・・・孔 円錐屈折体の光強度特性説明図 第８図 円錐屈折体の組合せの説明図 第９図 ３・・・ 円錐屈折体 ６・・・孔
の実施例で用いる円錐屈折体の斜視図、第３図は本発明
方法の別の実施例の説明図、第４図は第３図の実施例で
用いる円錐屈折体の斜視図、第５図は本発明方法のさら
に別の実施例の斜視図、第６図は円錐屈折体の別の例の
斜視図、第７図は本発明方法のさらに別の実施例の説明
図、第８図は本発明に係る円錐屈折体の光強度分布に関
する説明図、第９図は円錐屈折体の組合せの説明図であ
る。 １・・・基板、 ２・・・感光膜、 ３・・・円錐屈折体。 第１図 第２図 】°・・ 基 板 ３・・・円錐屈折
体２・、・ 感光膜 ３・・・ 円錐屈折体 本発明の別の実施例の説明図 円錐屈折体の別の例の
斜親図３・・・円錐屈折体 ４・・・カバー 円錐屈折体の別の例の斜視図 第６図 ３・・・ 円錐屈折体 ６・・・孔 （ａ） （ｂ） 本発明の別の実施例の説明図 ′＄７図 １・・・基板 ６・・・孔 円錐屈折体の光強度特性説明図 第８図 円錐屈折体の組合せの説明図 第９図 ３・・・ 円錐屈折体 ６・・・孔
Claims (1)
- １、中心軸方向に照射された平行光を該中心軸を含むす
べての断面内で中心軸に関し対称に屈折させる光学的円
錐屈折体を介して基板上の感光膜をコヒーレント光で照
射し、屈折されたコヒーレント光同士の干渉により感光
膜上に環状の干渉縞を形成し、該干渉縞を用いて基板上
に環状パターンを形成する環状パターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17684285A JPS6238417A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 環状パタ−ン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17684285A JPS6238417A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 環状パタ−ン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6238417A true JPS6238417A (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=16020784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17684285A Pending JPS6238417A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 環状パタ−ン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6238417A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284449A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多数溝同時形成方法 |
| US5706139A (en) * | 1995-10-17 | 1998-01-06 | Kelly; Shawn L. | High fidelity optical system for electronic imaging |
| CN113608359A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-11-05 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种模式可调的腔内涡旋光束生成装置 |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP17684285A patent/JPS6238417A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284449A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多数溝同時形成方法 |
| US5706139A (en) * | 1995-10-17 | 1998-01-06 | Kelly; Shawn L. | High fidelity optical system for electronic imaging |
| CN113608359A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-11-05 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种模式可调的腔内涡旋光束生成装置 |
| CN113608359B (zh) * | 2021-08-19 | 2023-08-11 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种模式可调的腔内涡旋光束生成装置 |
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