JPH01302702A - サーミスタユニットの保護被覆層形成方法 - Google Patents

サーミスタユニットの保護被覆層形成方法

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JPH01302702A
JPH01302702A JP30636087A JP30636087A JPH01302702A JP H01302702 A JPH01302702 A JP H01302702A JP 30636087 A JP30636087 A JP 30636087A JP 30636087 A JP30636087 A JP 30636087A JP H01302702 A JPH01302702 A JP H01302702A
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JP
Japan
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thermistor
layer
underlayer
protective coating
thermistor element
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JP30636087A
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English (en)
Inventor
Akio Mitomo
三友 明夫
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Hitachi Global Life Solutions Inc
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Hitachi Heating Appliances Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電気オープン、電子レンジ等に使用する耐食性
能を有するサーミスタユニットの保護被覆層形成方法に
関する。
従来の技術 一般に、電気オープンや電子レンジ等に使用するサーミ
スタユニットは、オープン庫内や排気口のフード内に設
置され、常温から約300℃までの空気温度を検知する
為のものである。すなわち、この種のサーミスタユニッ
トは、温度によりサーミスタ素子の抵抗値が変化する特
性を有し、この性質を利用してサーミスタ素子の両端に
電界を印加し、その電圧の変化を制御回路で捉えて、オ
ープン庫内を加熱する発熱体の電力量をコントロールす
る為の温度検知手段である。また、オープン庫内や排気
口フードは、500℃近くの高温雰囲気になるだけでな
く1食品から発生した水分が結露したり1食品から飛散
した油や塩分等の汚れが付着し易いことから、非常に過
酷な腐食環境下になっている。
従来、この種の過酷な環境下で使用されるサーミスタユ
ニットの構造は1例えば、感熱素子をジーメノト線から
なる一対の電極体で挾みかつガラスで封止してなるサー
ミスタ素子と、このサーミスタ素子の電極体を、オープ
ン壁等に取り付は易くする為に設けた耐熱絶縁性の基体
に所定の間隔で平行直立させて設けた一対の金属支柱と
スポット切接で固定させたものである。さらに水分や塩
分の付着によって生じる絶縁性の低下による誤動作や腐
食あるいは高温酸化を防止し、かつ直流電界の印加によ
って生じる電解腐食現象で電極体や金楓支柱が腐食断線
するのを抑制させる為に、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ンリコーン等からなる溶剤を含有する耐熱性のエナ
メル塗料をデイツプ法やスプレー法によりサーミスタユ
ニ、ノドの表面に塗布した後、乾燥焼付けをして保護被
覆層を形成していた。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、従来のサーミスタユニットは。
(、〕)保護被覆層をデイツプ法により形成すると。
寸法が変化する部分にタマリが生じ易く、その部分が乾
燥焼付は時にスプレを起こしてピンホールを形成し、そ
の部分から水分や塩分がサーミスタ素子に浸透すること
(l〕)保護被覆層をスプレー法により形成すると。
皮膜のスケや影の部分の膜厚が薄くなり易いことから、
耐水性と耐高温酸化性の皮膜を得難いこと。
(c)  溶剤を含有するエナメル塗料は、乾燥時lこ
溶剤が皮膜から揮発する際にピンホールを形成してしま
うことから、塗布工程、乾燥工程および焼き付は工程を
数回重ねても皮膜欠陥を皆無にできないこと 等から、素子表面の絶縁低下を起こして誤動作を起こし
たり、高温で酸化したり、あるいは電解腐食により電極
体が断線を起こし易い等から、長期間使用した際の耐久
性が劣るだけでなく、保護被覆層のコーティング作業性
が悪い欠点があった。
本発明は、従来例が持つ以上の様な欠点を取り除いたサ
ーミスタユニットを提供することを目的とする。
問題点を解決するだめの手段 本発明は、上記問題点を解決する為になされたものであ
り、サーミスタ素子を基体に所定の間隔をおいて貫通さ
せて設けた金属支柱に電気的に接続保持させるとともに
それらの外周囲に下地層と上地層とからなる保護被覆層
を設けてなるサーミスタユニットの保護被覆層形成方法
において、前記保護被覆層を、スプレー塗布により下地
層となす第1工程と、該下地層を乾燥する第2工程と。
該下地層の外周囲に300〜350℃で溶融しかつはつ
水性を有する10〜50μの粒度の粉体樹脂を静電塗装
により上地層となす第3工程と,該上地層を320〜4
50℃で溶融して皮膜化させる第4工程とから形成した
ものである。
作  用 本発明のサーミスタユニットの保護被覆層形成方法は上
述した方法としたことにより、スプレー塗布による第一
工程はサーミスタユニットと上地層との間に下地層を形
成し密着と耐食信頼性を向上させ、下地層を乾燥させる
第2工程は下地層に含まれる溶剤を完全に揮発させ、粉
体樹脂を静電塗装する第3工程は均一な厚みの皮膜の上
地層を形成し、上地層を溶融する第4工程はサーミスタ
素子の特性変化を越すことなく上地層をピンホールレス
に溶融させる作用をする。
実施例 以下1本発明の一実施例を図面に従い詳述する。
第1図は1本発明のサーミスタユニットの保護被覆層形
成方法の一実施例を示したものである。
1は鉄、ニッケル、マンガン、コバルト等の遷移金属の
酸化物を主成分とする負の抵抗温度特性を有する感熱素
子の両端に一対の電極体1a、Ibで挾みかつガラスで
封止してなるサーミスタ素子、3゜4はサーミスタ素子
1の電極体ia、Ibk電気的に接続保持するステンレ
ス、コバール等からなる金属支柱、2は金属支柱ろ、4
を所定の間隔に設けた貫通口2a、 2bに直立平行に
貫通し接着剤2Cで固定した耐熱絶縁性のステアタイト
、アルミナ等の基体、5はサーミスタ素子1.一対の金
属支柱ろ、4および基体2の表面にスプレー塗布で設け
たフッ素化合物を含有するポリイミド、ポリアミドイミ
ド等からなる下地層6と300〜350℃で溶融しかつ
ばっ水性を有するψ11えば四フッ化エチレンパーフロ
ロアルコキシエチレン共重合樹脂の粉体樹脂を静電塗装
により下地層乙の外周囲に形成した上地層7とからなる
保護被覆層である。
次に前記構成に於ける作用を説明する。
本発明の保護被覆層5の形成は次の製造方法で得られる
。先ず、第1工程はサーミスタ素子1゜金属支柱6,4
および基体2の外周囲にフッ素化合物を含有するブライ
マーをスプレー塗布により下地層6を5〜20μの厚み
に形成する。次に、第2工程では第1工程で塗布した下
地層6を100〜150℃の炉中で乾燥する。更に、第
3工程においては第2工程で乾燥した下地層6の外周囲
に300〜350℃で溶融しかつばつ水性を有する10
〜50μの粒度の粉体樹脂例えば四フッ化エチレンパー
フロロアルコキシエチレン共重合樹脂を静電塗装により
上地層7を設ける。最後の第4工程において上地層7を
320〜450℃で溶融して皮膜化させたものである。
サーミスタユニットの表面に設けた下地層6ば、はっ水
性を有する例えばフッ素樹脂系の上地層7と密着性を向
上させる為、フッ素化合物を含有していることが必要で
あり、上地層7と同一成分のものでもよい。また、下地
層6は上地層7との蜜着と耐食信頼性を向上させる為て
設けたものであるから、皮膜が完全なピンホールレスで
なくもよく、従ってスプレー塗布が適し、その厚みは上
地層7の1/2以下の5〜20μでよい。
第2工程は塗布された下地層乙に含まれる溶剤を100
〜150℃の炉中で完全に揮発させ、第4工程において
上地層7が溶融皮膜化する際に発砲し7ない為に行なう
ものである。
第ろ工程において、保護被覆層5の上地層7 K粉体樹
DWの四フッ化エチレンパーフロロアルコキンエチレン
共重合樹脂を静電塗装により設ける理由は次による。四
フッ化エチレンパーフロロアルコキンエチレン共重合樹
脂は、融点が602〜310℃であることから、320
〜450℃の温度により溶融してピンホールレスの皮膜
を形成し易いこと、300℃以下であれば熱老化し難い
こと、静電塗装の原理から明らかな如く、粉体の付着は
設定した静電電圧に応じて薄い部分には付着するが、一
定の厚みKなった部分にはそれ以上に付着しない性質が
あることから、スプレやスケの発生もなく信頼性のある
均一な皮膜が得られること、形成された皮膜が疎水性と
ばっ水性を有するので絶縁低下を起こし難い等である。
また、保護被覆層5の上地層7樹脂を300〜350℃
に融点を有する熱溶融性に限定した理由は次の通りであ
る。先ず、熱溶融性樹脂は溶剤を含まず。
熱を加えれば溶融してピンホールレスの皮膜を形成する
性質があり、この性質が保護被覆層5には絶対不可欠で
ある。次に、サーミスタユニットは。
オーブンレンジ庫内の温度を検知することから。
通常200〜280℃、短時間的には約600℃に達す
る環境にさらされる。従って、約600℃の耐熱を有し
ていなければならず、樹脂の融点は300℃以上が必要
である。一方、樹脂の融点が例えば四フッ化エチレンの
ように350℃以上の場合、400℃以上で焼成しなけ
ればならない。しかし、サーミスタユニットは、金属、
セラミック、ガラス等の異種材質から構成されている為
に約450℃以上になると熱膨張率差が大きくなって破
損し易くなることと、サーミスタ素子1が約450℃以
上になると特性変化金蔵こしやすいこと、電極体2,3
が熱により酸化してしまうこと等の不具合が生じて好ま
しくない。従って、樹脂の融点は約350℃以下が適し
ている。以上の理由により、保護被覆層5の上地層7樹
脂の融点は300〜350℃が適しており、602〜3
10’Cに融点全有する四フッ化エチレンパーフロロア
ルコキンエチレン共重合樹脂が最適といえる。
さらに、粉体樹脂の粒度を10〜50μに限定下理由は
次による。すなわち、粉体粒径が10μ以下になると粉
体の凝集力が大きくなって固まってしまうことから、静
電塗装が効率よく出来ず、一方粉体粒径が50μを越え
た場合、サーミスタユニットのサーミスタ素子1や金属
支柱ろ、4か細くかつ複雑な構造をしていることから、
それらの外周囲に20〜80μの厚みの均一な皮膜を形
成させることが出来なくなる。このことから、粉体樹脂
の粒度ば10〜50μ、より好ましくは20〜40りが
適している。
第4工程において、サーミスタユニット表面(ζ付着さ
せた粉体樹脂例えば四フッ化エチレンパーフロロアルコ
キシエチレン共重合m脂162o〜450℃で溶融させ
て皮膜化させるが、皮膜化させる温度を620〜450
℃に限定した理由は次による。皮膜化させる温度が32
0℃より低い場合、溶融が不充分となりピンホールを形
成し、一方400℃を越えた場合、サーミスタ素子1の
特性変化や高温酸化が生じて好ましくない。従って、皮
膜化させる最適温度は620〜450℃、より好ましく
は350〜400℃が適し、その時間は10〜40分で
よい。
サーミスタユニットの表面に設ける保護被覆層5ば、厚
みバラツキやピンホールの有無にトラワれる必要のない
下地層6と静電塗装により均一に樹脂を付着させて溶融
皮膜化させた上地層7とで形成出来ることから、膜厚管
理が簡便で作業性と品質の向上が計れる。
サーミスタユニットは、長期間水分や塩分の付着する腐
食環境下で通常6〜6V直流電圧が印加されると、サー
ミスタ素子5のプラス側に位置する電極体1a、1bや
金属支柱6.4の部分が腐食断線するいわゆる電解腐食
現象がある。そこで1本発明のサーミスタユニットと従
来例との耐電解腐食性能を調べると表−1になる。
表−1 ppR四フッ化エチレンパーフロロアルコキシエチレン
共重合樹脂の略 表−1は、10%の食塩水を40℃にして噴霧状にした
雰囲気に、6vの電圧を印加したサーミスタユニットを
放置し、電極体1a、 1bが腐食断線する壕での時間
を示したものである。本結果より1本発明のサーミスタ
ユニットは、保護被覆層5がピンホールレスでばっ水性
を有していることから。
耐電食性が著しく向上している。
発明の効果 以上詳述した如く1本発明のサーミスタユニットの保護
被覆形成方法によれば1次の効果が期待できるので、そ
の産業上の効果は犬なるものがある。
(イ) サーミスタ素子表面の絶縁性が確保できるので
、誤動作が防止できる。
←)サーミスタ素子の耐熱性、耐食性および耐電解腐食
が著しく向上できるので、苛酷な環境下でも長期間の使
用に耐える。
C′l  保護被覆層の形成法はコーティング作業性も
優れ、ピンホール、フクレ、スケ等の欠陥を引き起こし
難いので品質管理がやり易い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のサーミスタユニット保護被
積層形成方法を示す破砕断面図である。 1・・サーミスタ素子、  2・・・基体。 ろ、4・・・金属支柱    5・・・保護被覆層。 6・・下地層、      7・・上地層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. サーミスタ素子(1)を基体(2)に所定の間隔をおい
    て貫通させて設けた金属支柱(3)及び(4)に電気的
    に接続保持させるとともに,それらの外周囲に保護被覆
    層(5)を設けてなるサーミスタユニットの保護被覆層
    形成方法において,前記保護被覆層(5)を,スプレー
    塗布により下地層(6)となす第1工程と,該下地層(
    6)を乾燥する第2工程と,該下地層(6)の外周囲に
    300〜350℃で溶融する10〜50μの粒度の粉体
    樹脂を静電塗装により上地層(7)となす第3工程と,
    該上地層(7)を320〜450℃で溶融して皮膜化さ
    せる第4工程とから形成したことを特徴とするサーミス
    タユニットの保護被覆層形成方法。
JP30636087A 1987-12-03 1987-12-03 サーミスタユニットの保護被覆層形成方法 Pending JPH01302702A (ja)

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