JPH01305015A - ホトクロミックネイルエナメル又はワニス組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ホトクロミックネイルエナメル又はワニス及
びその製法に係る。

ここで、「エナメル」とは、セラミックエナメルに類似
する顔料着色塗料を意味し、「ワニス」は、当分野で一
般的に許容されている定義に従い、透明な塗料（顔料着
色されていてもよく又は顔料着色されていなくてもよい
）を表す場合に使用される。

「ホトクロミック（ｐｈｏｔｏｃｈｒｏｍｉｃ）Ｊとは
、本発明によるネイルエナメル又はワニスが、電磁エネ
ルギを吸収する際に色相を迅速に変化させ、照射が中止
された後には元の色相に戻るものであることを意味する
。

従来のネイルラッカー組成物にホトクロミック性のスピ
ロ−［２Ｈ］　−１−ベンゾピラン−２，２′−インド
リンを添加することによって得られたホトクロミックネ
イルラッカーが各種文献に開示されている［特開昭５０
−５２２４５号（［ケミカル・アブストラクツ（Ｃｈｅ
ＩＩｌ、　Ａｂｓｔｒ、）Ｊ　８３．　Ｈ６７２９ｒ）
及び特開昭５６−１００７０９号（ｒｃｈｅｍ、　　Ａ
ｂｓｔｒ、Ｊ　　９６．　１１５１４ｄ）コ。

しかしながら、上記スピロ−ベンゾピラン−インドリン
は日光に対して露出される場合の安定性（光疲労）が非
常に低く、急激に非ホトクロミックのものに変質する。

さらに、スピロ−ベンゾピラン−インドリンでは、活性
化時間は短いにも拘わらず、元の非活性化状態に戻るに
は非常に長い時間が必要である。

従って、ネイルエナメルの調製にスピロ−ベンゾピラン
−インドリンを使用することは必ずしも有利ではない。

事実、まず光源にあてた後、照射を中止した場合、約１
時間後でなければ色相の変化が観察されず、しかも、こ
れら化合物が安定性に乏しいため、頻繁に塗布する必要
がある。

発明者は、１以上のスピロ−インドリン−ナフトオキサ
ジン又はスピロ−インドリン−ピリドベンズオキサジン
を使用して所望のホトクロミック特性を有する組成物を
調製する場合、日光又は好適な波長の紫外線成分を有す
る人工光源に露出される際、迅速に色相を変化し、照射
が中止された際には迅速に元の色相に戻り、しかも十分
に安定であって、従来のネイルエナメル又はワニスはど
頻繁に塗布する必要がないネイルエナメル又はワニスを
調製できることを見出した。

さらに詳述すれば、非常に少量の上記スピロ−インドリ
ン−ナフトオキサジン又はスピロ−インドリン−ピリド
ベンズオキサジンにより、従来のネイルエナメル又はワ
ニス組成物にホトクロミック特性を十分に付与できるこ
と、これら化合物は非常に短い「活性化」及び「脱活性
化」時間を示すこと（日光又は波長３２０ないし３８０
ｎｍの紫外線成分を有する他の光源に数秒間露出するこ
とにより、十分に完全なホトクロミック効果を発揮させ
ることができ、照射を中止した場合、２−３分間で十分
に元の色相に戻る）、疲労及び劣化に対する抵抗性が十
分に大きいこと、及び日光に対して露出される際、審美
上好ましい色調を呈すること等の知見を得た。

従って、本発明の第１の目的は、下記一般式（Ｉ）で表
される少なくともｌのホトクロミック化合物を含有する
ネイルエナメル又はワニス組成物を提供することにある
。

一般式（Ｉ） Ｏ Ｅ式中、Ｒ１及びＲ６は４，５．６又は７位のいずれか
に位置し、各々独立して水素、塩素、フッ素、臭素、直
鎖状又は分枝状の０１−、アルキル基（過フッ化されて
いてもよい）、直鎖状又は分枝状のＣｌ−１３アルコキ
シ基、ニトロ基又はシアノ基であり；Ｒ８及びＲ４は各
々独立して直鎖状又は分枝状のＣｌ−５アルキル基、フ
ェニル基又はベンジル基であり、又はＲ３及びＲ４は近
接する炭素原子と一緒になってＣ３−ｓシクロアルキル
環を形成していてもよ＜；Ｒ５は直鎖状又は分枝状のＣ
ｌ−５アルキル基、フェニル基、ベンジル基又はアリル
基であり；Ｒ８は水素、直鎖状又は分枝状の０１−５ア
ルキル基又は−ＮＲ，Ｒ，（ここで、Ｒ８は直鎖状又は
分枝状のＣｌ−５アルキル基、フェニル基又はベンジル
基であり、Ｒ１は水素又はＲｓと同意義であり、又はＲ
，及びＲ８は近接する窒素原子と一緒になって５−１２
員の環状構造（酸素及び窒素から選ばれるヘテロ原子を
さらに含有していてもよい）を形成していてもよい）で
あり：Ｒ７は７′、８′、９′又は１０’位のいずれか
に位置し、水素、フッ素、塩素、臭素、直鎖状又は分枝
状のＣ３−、アルキル基、直鎖状又は分枝状の０１−、
アルコキシ基、シアノ基、チオエーテル基、又はＣｔ−
ｔアルコキシカルボニル基であり、Ｒ？は縮合芳香環又
は異項環であり；Ｘは＝ＣＨ−又は二Ｎ−である。］本
発明の好適な具体例によれば、ネイルエナメル又はワニ
スは、一般式（Ｉ）におけるＲ３及びＲ８が各々独立し
て水素又はメチル基であり、　Ｒ３及びＲ４がメチル基
、又は近接する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル
基を形成し；Ｒ，がメチル基であり；Ｒｏが水素又は−
ＮＬＲ，［ここで、Ｒｏ及びＲ８は近接する窒素原子と
一緒になってピペリジル基、モルホリル基、ピロリジル
基、又はヘキサメチレンイミノ基を形成する］であり；
Ｒ７が水素であり、Ｘが＝ＣＨ−である、少なくともｌ
の化合物を含有する。

本発明で使用される好適なホトクロミック化合物の例は
、１，３．３，４．５−又は１，３，３，５．６−ペン
タメチル−スピロ［インドリン−２，３’　−［３１１
］ナフト［２，１−ｂ］　［１，４コオキサジン］、１
，３．３−　トリメチル−スピロ［インドリン−２，３
’　−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１、４］オキサ
ジン］、１，３．３−　）−リメチルースビロ［インド
リン−６’　−（１−ピペリジル）−２，３’−［３Ｈ
コナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］、Ｌ、
３，３，４，５−又は１，３，３，５．６−ペンタメチ
ル−スピロ［インドリン−６’　−（１−ピペリジル）
−２，３’−［３旧ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オ
キサジン］、１，３．３−トリメチル−スピロ［インド
リン−６’　−（１−モルホリル）−２゜３’　−［３
８コナフト［２，１−ｂ］［１，４コオキサジン］、１
．３゜３−トリメチル−スピロ［インドリン−ａ′−（
１−ピペリジル）−９′−メトキシ−２，３’−［３旧
ナフト［２，１−ｂコ［１，４］オキサジン］である。

本発明のネイルエナメル又はワニス組成物は、筆記一般
式ＣＩ）で表されるホトクロミック化合物を、従来のネ
イルエナメル又はワニス処方を構成する他の好適な成分
（ただし、該成分は酸性のもの以外のものの中から選ば
れる）に配合することによって調製される。

実際、一般式（１）のスピロ−インドリン−ナフトオキ
サジン及びスピロ−インドリン−ピリドベンズオキサジ
ンは塩基性であり、酸性物質によって容易に塩とされる
。

一般式（１）の化合物が塩となる場合には、活性形と非
活性形との間のシフトが阻止され、一般式（Ｉ）のスピ
ロ−インドリン−ナフトオキサジン及びスピロ−インド
リン−ピリドベンズオキサジンの分解を生じて、望まし
くないクロミック効果を有する化合物を生成する。

特に、本発明のネイルエナメル又はワニス用の「基礎」
組成は、たとえばセルロースエステル（セルロースアセ
トブチレート、セルロースアセトプロピオネート及び硝
酸セルロース等）、ポリアクリレート及びポリメタクリ
レート（ポリアルキルメタクリレート等）、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリスチレン等の如き１以上のフィルム形成剤、
及びたとえば低級アルカノール（エタノール、プロパツ
ール及びブタノール等）、有機酢酸エステル（酢酸エチ
ル、酢酸ブチル及び酢酸アミル等）、塩化メチレン、塩
化エチレン及び塩化プロピレン、トルエン、ナフテン系
芳香族化合物等の如き１以上の溶媒／希釈剤を含有する
。

代表的かつ好適な「基礎」組成は、さらに１以上の可塑
化剤を含有する。該可塑化剤はエナメルのいくつかの特
性を改善する（柔軟性を増大させ、塗布を容易にする）
ために使用されるものであり、使用されるフィルム形成
剤と適合するものでなければならず、上述の如く酸性の
ものであってはならない。

好適な可塑化剤は、たとえばフタル酸エステル（ジメチ
ルフタレート、ジブチルフタレートこジイソノニルフタ
レート及びビス（２−エチルヘキシル）フタレート等）
、リン酸エステル（トリフェニルホスフェート、トリブ
チルホスフェート、トリクレジルホスフェート及び第３
級ブチルフエニルジフェニルホスフェート等）、アジピ
ン酸誘導体（ジブチルアジペート、ベンジルアジペート
等）、トリアセチン、ショウノウ及び当分野で公知の他
の可塑化剤である。

組成物は、さらに、当分野で公知の如く、染料、無機性
又は有機性の顔料、光沢性顔料、又は蛍光塗料（フルオ
レセイン）を含有していてもよい。

さらに、組成物は、従来のネイルエナメル又はワニスの
調製において好適に使用されている他の添加剤と同様に
、爪に対するエナメル又はワニス塗膜の接着性を強化す
る補助フィルム形成剤、粘着剤を含有することも可能で
ある。

所望のホトクロミック効果を達成するために組成物中に
存在していなければらなないホトクロミック化合物の量
は一般に０．０１ないし５重量％であり、ワニスの調製
に関する最適濃度は好ましくは０．０２ないし２％、さ
らに好ましくは０，０５ないし１％であり、ネイルエナ
メルの調製に関しては、好ましくは０．０５ないし５％
、さらに好ましくは０．１ないし３％である。

実際、ワニス又はエナメルが本来着色されているもので
ある場合、光源に対して露出することによって獲得され
た新たな色調は、本来の色相と一般式（Ｉ）の化合物の
活性形によって呈される色相との配合の結果である。従
って、一般に強い色調のネイルエナメルの調製において
は、顕著なホトクロミック効果を得るためにホトクロミ
ック化合物が高濃度であることが要求される。

他の成分間の割合に関しては、当業者にとって公知の従
来の割合範囲から選択され、又は所望の結果に応じて各
人の知識に基き当業者によって容易に定められる。

次に、本発明によるネイルエナメル又はワニス組成物の
いくつかの例について詳述する。これら実施例は、代表
的な一般式（Ｉ）のホトクロミック化合物を含有するエ
ナメル及びワニス組成物のホトクロミック効果を示すも
のである。

実施例では下記の事項について報告する。

ａ）ワニス及びエナメルの組成 り）爪の上で乾燥させたエナメル又はワニス塗膜の本来
の色相 ｃ）５−２５℃において直射日光に露出する際のエナメ
ル又はワニス塗膜の色相 （塗布した爪を露出する雰囲気の温度が２５℃以下の場
合に、最良のホトクロミック効果、したがって最良の色
相変化が達成される。温度が高ければ高いほど、ホトク
ロミック効果は徐々に減少する。） ｄ）十分な活性化に要する時間 ｅ）ホトクロミック効果によって呈された色相変化の８
０−９０％が消滅する（脱活性化）に要する時間ｆ）色
相飽和の安定性及び約１０℃において朝の日光に露出す
る際の色調 実施例に 五五糺暖嵐 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．１ ヒトαキシル１．５重量％） 酢酸エチル　　　　　　　　　２５ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２５ エタノール　　　　　　　　　　５ トルエン　　　　　　　　　　１５ ジブチルフタレート　　　　　７．５ １．３．３−）リメチルースピＩ］［インどリン−２，
３’−［３Ｈコナ７ト［２，１−ｂ］　［１，４］−オ
今すシ゛ン］０．５ （一般式（Ｉ）において、Ｒｏ、Ｒｔ、Ｒｓ、Ｒ７”Ｈ
ｌＲｓ、Ｒｓ、Ｒｓ；　−Ｃ８４、Ｘ＝　　＝ＣＨ−）
ｂ）無色透明 Ｃ）緑がかった青 ｄ）１０秒 ｅ）３０秒 ｆ）露出４時間後、色相飽和及び色調は本来のものとほ
とんど変わらない。

実施例２ 二二五歓暖東 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．１　　　　　　　　１７（＄　ｗ
／ｗ）硝酸セルロース　　　　　　　３ 酢酸エチル　　　　　　　　　２５ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２５ エタノール　　　　　　　　　　５ トルエン　　　　　　　　　　１６ ジブチルフタレート　　　　　８．５ １．３，３，４．５−へ０ンタメチルースヒ＠ｒ１［イ
ンビリン−２，３’−［３旧ナツト［２，１−ｂコ［１
，４］−オ夫号シ゛ン］０．５ （一般式（Ｉ）において、Ｒｅ　、　Ｒｔ・ＨｌＲ，、
Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，＝−ＣＩ（、、Ｘ＝　＝Ｃ１（
−）ｂ）無色透明 Ｃ）緑がかった青 ｄ）１０秒 ｅ）３０秒 ｎｕ露出４時間後色相飽和及び色調は本来のものとほと
んど変わらない。

実施例３ ヱ丑入側腹散 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．１　　　　　　　　１７（＄　ｗ
／Ｗ）ポリメタクリレート　　　　　　５ 酢酸エチル　　　　　　　　　２５ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２５ エタノール　　　　　　　　　　５ トルエン　　　　　　　　　　１５ トリクレジルホスフエート　　７．８ １．３．３−）リメチルースビａ［インドリン−６′−
（１−ヒ°へ°リン゛ル）−２，３’−［３Ｈコナフト
［２，１−ｂコ［１，４］−オキサシ゛ンコ　　　　　
　　　０．２（一般式（Ｉ）において、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ
ｔ・ＨｌＲ，、Ｒ，、Ｒ，＝　　−ＣＨ３、Ｒａ＝１−
ピヘ１リシ′ル、　Ｘ＝　　＝ＣＨ−）ｂ）無色透明 Ｃ）紫 ｄ）１０秒 ｅ）６０秒 ｆ）露出４時間後、色相飽和は本来の約８０％であり、
色調は変わらない。

実施例４ ワニス組成物 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．１　　　　　　　　２２（％ｗ／
ｗ）酢酸エチル　　　　　　　　　２４ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２４ エタノール　　　　　　　　　　４ トルエン　　　　　　　　　　１３ ジブチルフタレート　　　　　７．８ パールエツセンス （魚の鱗から抽出した　　　　　　　５天然グアニン） １’、３．３−）リメチルーλビ０［インドリン−６７
−（１−ヒ°へ°リシ゛ル）−２，３’−［３１（］ナ
フト［２，１−ｂ］　［１，４］−オキチシ゛ン］０．
２（一般式（１）において、Ｒ１，Ｒｔ、Ｒ９・ＨｌＲ
ｔ、Ｒｔ、Ｒｇ’　　−ＣＩ５、　Ｒ６＝１−ビへ６リ
ノ゛ル、　Ｘ＝　　＝ＣＨ−）ｂ）無色（特徴的な真珠
様の外観を有する）Ｃ）真珠様光沢のある紫 ｄ）【０秒 ｅ）６０秒 ｆ）露出４時間後、色相飽和はなお本来の約８０％であ
り、色調は変わらない。

実施例５ エナメル組成物 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．１　　　　　　　　２２（％ｗ／
ｗ）酢酸エチル　　　　　　　　　２５ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２５ エタノール　　　　　　　　　　５ トルエン　　　　　　　　　　１４ ジブチルフタレート　　　　　７．４ Ｔｉｅ、　　　　　　　　　　　　　１．０５Ｄ＆Ｃレ
ッドＮｏ、３１　　　　　０．０５１．３．３４リメチ
ル一スビ口［インドリン−２，３’−［３Ｈ］す７）［
２，１−ｂコ［１，４］−オル号シ゛ン］０．５ （一般式（１）において、Ｒ１，Ｒｔ、Ｒａ、Ｒｔ＝Ｈ
１Ｒｓ、Ｒｔ、Ｒｓ＝　　−ＣＨ３、Ｘ＝　　＝ＣＨ−
）ｂ）淡いピンク Ｃ）紫 ｄ）１０秒 ｅ）３０秒 ｆ）露出４時間後、色相飽和及び色調は本来のものとほ
とんど変わらない。

次に、代表的な２種類のスピロ−ベンゾビラン−インド
リンを上述の実施例（さらに詳細には、実施例１）と同
様に配合し、得られたワニスを本発明のものと比較した
。

比較例に 二五延区敬 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．１　　　　　　　　２２（！％　
ｗ／ｗ）酢酸エチル　　　　　　　　　２５ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２５ エタノール　　　　　　　　　　５ トルエン　　　　　　　　　　　１５ ジブチルフタレート　　　　　７．８ １’、３’、３’４リメチル−６−ニトロ−Ｘヒ”ａ−
２Ｈ−１−Ａ’ン７’Ｌ”ラン−０，２２，２′−イン
ビリン 日光に露出した際、ワニス塗膜は１０秒間でその色相を
赤−青に変化させた。

無色の脱活性形に戻るために要する時間は非常に長い。

露出を中止して１時間後、塗膜は、なお日光に対する露
出の間に観察された色相飽和の約５０％であった。

さらに、１０℃で日光に対する露出を続ける際には、ホ
トクロミック化合物が急激に劣化した。実際、露出３０
分後、本来の約３０％の色相飽和が観察されるのみで、
２時間後では、ホトクロミック効果はほぼ０であり、塗
膜は不可逆性の不快な黄色がかった色相であった。

比較例２ Ｉ玉五虱腹髭 ａ）組成 ＣＡＢ　３８１−０．Ｌ　　　　　　　　　２２（％　
ｗ／ｗ）酢酸エチル　　　　　　　　　２５ 酢酸ブチル　　　　　　　　　２５ エタノール　　　　　　　　　　５ トルエン　　　　　　　　　　１５ ジブチルフタレート　　　　　７．８ １’　、３’　、３’−）ツメチル−８−メト什−６−
二トα−スヒ”［＋−２Ｈ−１−へ１ンソ′０．２ヒ０
ラン−２，２′−インドリン 日光に露出した際、本来前がかった色相の塗膜は数秒間
でその色相をブリリアントブルーに変化させた。

本来の色相に戻るために要する時間は非常に長い。露出
を中止して１時間後、塗膜は、なお日光に対する露出の
間に観察された色相飽和の約５０％であった。

さらに、１０℃で日光に対する露出を続ける際には、ホ
トクロミック化合物が急激に劣化した。実際、露出３０
分後、本来の約５０％の色相飽和が観察されるのみで、
２時間後では、ホトクロミック効果はほぼＯであり、塗
膜の色相は褐−紫であった。

この最終的な色相は不可逆性である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　１以上のフィルム形成剤、１以上の有機溶媒、及び
   任意に１以上の可塑化剤（ただし、酸性であってはなら
   ない）及びホトクロミズム上有効な量の下記一般式（
   I ）で表される少なくとも１の化合物を含有してなる、
   ホトクロミックネイルエナメル又はワニス組成物。 ￥一般式（ I ）￥ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１及びＲ＿２は４、５、６又は７位のいず
   れかに位置し、各々独立して水素、塩素、フッ素、臭素
   、直鎖状又は分枝状のＣ＿１＿−＿５アルキル基（過フ
   ッ化されていてもよい）、直鎖状又は分枝状のＣ＿１＿
   −＿５アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基であり；Ｒ
   ＿３及びＲ＿４は各々独立して直鎖状又は分枝状のＣ＿
   １＿−＿５アルキル基、フェニル基又はベンジル基であ
   り、又はＲ＿３及びＲ＿４は近接する炭素原子と一緒に
   なってＣ＿５＿−＿８シクロアルキル環を形成していて
   もよく；Ｒ＿５は直鎖状又は分枝状のＣ＿１＿−＿５ア
   ルキル基、フェニル基、ベンジル基又はアリル基であり
   ；Ｒ＿６は水素、直鎖状又は分枝状のＣ＿１＿−＿５ア
   ルキル基又は−ＮＲ＿８Ｒ＿９（ここで、Ｒ＿８は直鎖
   状又は分枝状のＣ＿１＿−＿５アルキル基、フェニル基
   又はベンジル基であり、Ｒ＿９は水素又はＲ＿８と同意
   義であり、又はＲ＿９及びＲ＿８は近接する窒素原子と
   一緒になって５−１２員の環状構造（酸素及び窒素から
   選ばれるヘテロ原子をさらに含有していてもよい）を形
   成していてもよい）であり；Ｒ＿７は７′、８′、９′
   又は１０′位のいずれかに位置し、水素、フッ素、塩素
   、臭素、直鎖状又は分枝状のＣ＿１＿−＿５アルキル基
   、直鎖状又は分枝状のＣ＿１＿−＿５アルコキシ基、シ
   アノ基、チオエーテル基、又はＣ＿１＿−＿３アルコキ
   シカルボニル基であり、又はＲ＿７は縮合芳香環又は異
   項環であり；Ｘは＝ＣＨ−又は＝Ｎ−である。］ ２　請求項１記載のものにおいて、前記一般式（ I ）
   におけるＲ＿１及びＲ＿２が各々独立して水素又はメチ
   ル基であり；Ｒ＿３及びＲ＿４がメチル基、又は近接す
   る炭素原子と一緒になってシクロヘキシル基を形成し；
   Ｒ＿５がメチル基であり；Ｒ＿６が水素又は−ＮＲ＿８
   Ｒ＿９［ここで、Ｒ＿８及びＲ＿９は近接する窒素原子
   と一緒になって５−１２員の環状構造（酸素及び窒素か
   ら選ばれるヘテロ原子をさらに含有していてもよい）を
   形成する］であり；Ｒ＿７が水素であり、Ｘが＝ＣＨ−
   である、ホトクロミックネイルエナメル又はワニス組成
   物。 ３　請求項２記載のものにおいて、前記Ｒ＿６が水素又
   は−ＮＲ＿８Ｒ＿９（ここで、Ｒ＿８及びＲ＿９は近接
   する窒素原子と一緒になってピペリジル基、モルホリル
   基、ピロリジル基、又はヘキサメチレンイミノ基を形成
   する）である、ホトクロミックネイルエナメル又はワニ
   ス組成物。 ４　請求項３記載のものにおいて、前記ホトクロミック
   化合物が、１，３，３，４，５−又は１，３，３，５，
   ６−ペンタメチル−スピロ［インドリン−２，３′−［
   ３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］、
   １，３，３−トリメチル−スピロ［インドリン−２，３
   ′−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジ
   ン］、１，３，３，４，５−又は１，３，３，５，６−
   ペンタメチル−スピロ［インドリン−６′−（１−ピペ
   リジル）−２，３′−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［
   １，４］オキサジン］、１，３，３−トリメチル−スピ
   ロ［インドリン−６′−（１−ピペリジル）−２，３′
   −［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン
   ］、１，３，３−トリメチル−スピロ［インドリン−６
   ′−（１−モルホリル）−２，３′−［３Ｈ］ナフト［
   ２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］及び１，３，３−
   トリメチル−スピロ［インドリン−６′−（１−ピペリ
   ジル）−９′−メトキシ−２，３′−［３Ｈ］ナフト［
   ２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］でなる群から選ば
   れるものである、ホトクロミックネイルエナメル又はワ
   ニス組成物。 ５　請求項１記載のものにおいて、前記一般式（ I ）
   で表される１以上の化合物が合計量０．０１ないし５重
   量％で存在する、ホトクロミックネイルエナメル又はワ
   ニス組成物。 ６　請求項１記載のものにおいて、安定な着色剤をさら
   に含有する、ホトクロミックネイルエナメル又はワニス
   組成物。 ７　請求項１記載のものにおいて、前記フィルム形成剤
   が、セルロースエステル、ポリアクリルエステル及びポ
   リメタクリルエステル、ポリ酢酸ビニル及びポリスチレ
   ンでなる群から選ばれるものである、ホトクロミックネ
   イルエナメル又はワニス組成物。 ８　請求項１記載のものにおいて、前記有機溶媒が、低
   級アルカノール、有機酢酸エステル、酸化メチレン、塩
   化エチレン、塩化プロピレン、トルエン及びナフテン系
   芳香族化合物でなる群から選ばれるものである、ホトク
   ロミックネイルエナメル又はワニス組成物。 ９　請求項１記載のものにおいて、前記可塑化剤が、フ
   タル酸エステル、リン酸エステル、アジピン酸誘導体、
   トリアセチン及びショウノウでなる群から選ばれるもの
   である、ホトクロミックネイルエナメル又はワニス組成
   物。 １０　請求項１記載のネイルエナメル又はワニス組成物
   の製法において、ホトクロミズム上有効な量の一般式（
   I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ
   ＿６、Ｒ＿７及びＸは請求項１記載のものと同意義であ
   る）で表される少なくとも１の化合物を、１以上のフィ
   ルム形成剤、１以上の有機溶媒、及び任意に他の一般的
   な添加剤（酸性のものを除く）と配合することを特徴と
   する、ネイルエナメル又はワニス組成物の製法。