JPH01308298A - テトラペプチド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、有用なペプチドの製造方法、とくにＨ−ＡＲ
Ｃ，Ｘ、−Ｚ’Ｙ−ＴＹ、Ｒ−Ｒを製造す、るための溶
液合成法およびその方法に有用な組成物に関する。

米国特許第４，１９０，６４６号および特開昭５５−１
４９２３７号公報には、胸腺の機能および免疫学的領域
において有用な種々のペプチドが開示されている。前記
米国特許は［サイモポイエチン（Ｌｈｙｍｏｐｏｉｅｔ
ｉｎ）ペンタペプチドＪ　　（ＴＰ５）−３＝ およびその置換誘導体を開示しており、一方前記公開公
報はＴＰ５よりも大きい効力を有するＴＰ５のペプチド
類似体を開示している。この米国特許および公開公報を
ここに引用によって加える。参照した米国特許および公
開公報において、ヘプチドは一般に「メリフィールド（
Ｍｅｒｉ　ｆ　１ｅｌｄ）　合成」と記載される固相合
成技術により製造されている。また、この米国特許およ
び公開公報は、古典的技術（すなわち、溶液合成技術）
を用いてこれらの物質のあるものを製造できることを開
示しているが、特定の古典的方法または合成法は具体的
には開示されていない。

メリフィールドの固相合成技術は、実験室における少量
のヘプチドの製造に便利な技術であるが、大量（たとえ
ば、約１００２よシ多い量）のペプチドを製造するため
には実際的でなくかつ不経済であろう。このような大量
のペプチドの製造には、溶液合成技術がいっそう適する
。その上、溶液合成技術は、使用する反応成分のあるも
のの単位コストが非常に低いために、一般に固相技術よ
シも経費が非常に少ない。ポリペプチドの製造において
使用されている多数の溶液合成技術のうちで、所望のベ
プチ・ドを便利にかつ経済的に製造する特定の合成法を
本発明者らは見出した。

本発明は、式 ％式％ 式中、ＸはＬＹＳであシそしてＹはＶＡＬであるか、あ
るいはＸおよびＹは両方とも８ＡＲであシ、Ｚ（ｄＡＳ
ＰまたはＧＬＵであシ、そしてＲはＮＨ，またはＱＨで
ある、から成るフラグメント（ｆｒａｇｍｅｎｔ）　ｉ
を生成せしめ： ｂ）　後述するようにしてα−Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ−２．−
ＯＨから成るフラグメン）ＩＩＩｅ生成せしめ； Ｃ）　後述するようにしてフラグメント■およびフラグ
メントＨｅ−緒に結合させて、α−Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ、−
Ｚ　−Ｙ　−Ｔ　Ｙ　Ｒ＝Ｒ’から成るフラグメントｍ
−＋生成せしめ；ｄ）　α−アミノ保護基Ｔ−（ｚ除去
してフラグメント■Ａを生成せしめ； ｅ）　フラグメント’［ｌＡに、保護されたＬ　−アル
ギニン部分（アルファー丁−ω−Ｔ′−ＡＲＧ−ＯＨ）
を、後述するようにして加えて、保護されたペンタペプ
チドを生成せしめ； ｆ）　保護された基を除去し：そして ｇ）　生ずるペプチドを単離し、精製する。

別法として、上記の工程ｂ　−ｃの代わりに次の工程ｈ
−ｋを使用できる： ｈ）　後述のようにして、保護された２部分（α−Ｔ−
ω−Ｕ−Ｚ−ＯＨ）をフラグメント■に加えて、α−Ｔ
−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−ＴＹ、Ｒ−Ｒ’から成るフラグメン
ト■を生成せしめ； 」）　保護基Ｔをフラグメン）ＩＶの２部分のα−アミ
ン位置から除去して、フラグメント■Ａを生成せしめ； ｋ）　後述のようにして保護されたＸ部分（α−Ｔ−Ｘ
）をフラグメント■Ａに加えて、フラグメント■を生成
せしめる。

第２の別の道筋において、フラグメン）ＩＶＡ（Ｈ−ω
−Ｕ−Ｚ−Ｙ−ＴＹＲ−Ｒ’、）をフラグメント■（α
−Ｔ−ω−Ｔ　／　−ＡＲＧ−Ｘ−ＯＨ）に後述するよ
うに結合せしめる。フラグメント■は後述するようにし
て製造でなる。この第２の別の道筋は、困難であシ、時
には不可能な仕事である、最終生成物からのＬ−アルギ
ニン不純物の除去の必要性を排除する。

フラグメントＩは次の工程によシ生成せしめることがで
きる： ｉ）　Ｙ部分のα−アミン基を、保護基Ｔを導入する物
質と反応によシ保護し； １１）　　さらに後述するようにして、工程ｉ）におい
て生成せしめた保護されたＹを、アミンによるカルボキ
ン基における親核攻撃に関して活性化して、カルボキシ
活性化され、保護されたＹ−ｉ生成せしめ；１１１）　
　前記カルボキシ活性化され、保護されたＹをＴＹＲ−
、Ｒ’と反応させ；そしてＩＶ）　　保護基Ｔｉ除去し
、これによシフラグメン）Ｉを生成せしめる。

フラグメン）ＴＩは次の工程によシ生成せしめる一〇　
− ことができる： １）　ω−Ｕ−Ｚ−ＯＨＩ式中、ＵはＺアミノ酸のω−
カルボキシ基の保護基である）を製造し； １１）　　特定的にα−アミン基を保護するような方法
で、Ｘアミノ酸のα−アミノ基全、保護基Ｔ＝ｉ導入す
る物質との反応によシ保護し１ １１１）　　さらに後述するようにして、工程１１）に
おいて生成せしめた保護されたＸアミノ酸を、アミンに
よるカルボキシル基における親核攻撃に関して活性化し
て、カルボキシ活性化され、保護されたＸアミノ酸を生
成せしめ；そして ＋Ｖ　）　　工程１１１）に記載するカルボキシ活性化
され、保護されたＸアミノ酸を、工程１）において製造
したＺアミノ酸と反応させ、これによシα−Ｔ−Ｘ−ω
−Ｕ−Ｚ−ＯＨ（フラグメント■）を生成せしめる。

フラグメント■は、α−カルボキシ基におけるアミンに
よる親核攻撃に関して、フラグメン）ＩＩの２部分を活
性化し、そしてこの活性化されたフラグメント■をフラ
グメントＩと反応させることによ、シ生成せしめられる
。

フラグメントＶは次の工程により生成せしめることがで
きる： ′１）　Ｌ−アルギニンのα−アミノ基およびグアニジ
ノ基を、保護基ＴおよびＴｌを導入する物質との反応に
よシ保護し； １１）　　さらに後述するようにして、工程ｉ）におい
て生成せしめた保護されたＡＲＧを、アミンによるカル
ボキン基における親核攻撃に関して活性化して、カルボ
キシ活性化され、保護されたＡＲＧを生成せしめ；そし
て １１１）　　前記カルボキシ活性化され、保護された。

ｌｏ−ｉＸアミノ酸と反応させ、これによってフラグメ
ントｖを生成せしめる：もちろん、ＸがＬＹＳであると
き、そのε−アミン基は、Ｘを含有するフラグメントの
製造の間およびそれらを使用して最終生成物の欠ブチド
を製造する間、アミン保護基により同様に保護しなくて
は々ら々い。Ｔ“基は、生ずるペプチドを破壊しない条
件下で容易に除去さ扛えなくてはならず、同時にＴ基の
除去の間安定でなくてはならない。

α−アミン保護基Ｔは、前記各アミノ酸について同一で
あるか、あるいは異なることができ、そしてアミノ酸基
の接合のために用いる工程による除去に対して安定であ
り、同時に接合工程の終りにおいてペプチドのアミド結
合を分裂し力い条件下で除去されるべきである。ある基
ｆたとえば、ＨＯＣ）　　について、この除去は強酸（
たとえば、トリプルオロ酢酸）に上り力され、これは脱
保護された中間体を対応する酸付加塩（たとえば、トリ
フルオロアセテート）として与える。

グアニジノ保護基Ｔ′は、後述するような任意の適当々
アミノ保護、あるい゛はニトロ基ならびに塩酸塩のよう
ガ酸付加塩であることができる。アミン保護基のうちで
、ウレタン保護基（下記の式）および置換スルホン酸誘
導体、たと見ば、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルおよ
びトシルが好ましい。塩酸塩が最も好捷しい。こ゛のグ
アニジノ保護基を、ここでは、それが連鎖の末端に存在
することを示すため「ω（オメガ）ｊ基と呼上。連鎖上
の多くめグアニジノ保護基の正確な位置は、明確には知
られていない。

カルボキシ保護基Ｕは、生ずるペプチドを破壊Ｘ３− しない条件下で容易に除去されると同時に、Ｔ基の除去
の間安定であるべきである。

Ｒ′基はＮＨ２（ＲがＮＨ２である生成物めペプチドに
ついて）才たはＯ’Ｕ’（ＲがＯＨである生成物のペプ
チドについて）である。

適当なアミン保護の例は次の式をもつものである：　　
　　　０ ａ）　刊、−０Ｃ−ここで、Ｒ１はアリール（タトエば
、フェニル、トリルまたはキシリル）：アダマンチル；
モノ置換メチル（たとえば、アリル、ベーターシアノエ
チル、））ｂオレニルメチル、ベンジル、またはフェニ
ル環がノー口、ニトロ、低級アルキルおよび低級アルコ
キシから選はれたｌ〜３員で置換されたベンジル）；ジ
置換メチル（たとえば、ジイソブロピルンチル、ジフェ
ニルメチル、シクロへ＝１４− キシル、シクロベンチルオたはビニル；トリ置換メチル
（たとえば、ｔ−ブチル、１−アミル、ジメチルトリフ
ルオロメチルメチノへ才たはジメチルビフェニルメチル
）である； ○ Ｉ ｂ）■ｔ２Ｃ−ここで、Ｒ２は２〜４個炭素原子をもつ
低級アルキノペたとえば、エチル、イングロビル、ｔ−
ブチルなと、′１．たは１〜５個のノ・口塞で置換され
た１〜４個の炭素原子をもつ低級アルキル、たとえば、
トルフルオロメチノペクロロメチル、ペンタクロロエチ
ルなどである；Ｃ）１１ Ｒ３０−Ｐ−ここで、■は８寸たはＯでＲ４ あり、そしてＲ１およびＲ４は各々ベンジルまたは低級
アルキルである； Ｒ７およびＲ８は各々水素捷たは低級アルキルである： Ｏトロである。

アミン保護基ｆ）は、二連配位（ｂｉｄｅｎｔａｔｅ）
であシ、Ｌ−アルギニン捷たはＬ−バリンのアルファー
アミノ基あるいはＬ−リシンのα−アミノ基およびε−
アミン基のみに使用できるが、サルコシンのα−アミン
基に使用でき々い。サルコシンのα−アミノ基上のアミ
ノ保護基は、アミン基上のメチル置換基のため一座記位
ｆｍｏｎｏｄｅｎｔａ−ｔｅ）でなくではならない。残
りのアミン保護基は、すべてのアミノ酸について使用で
きる。

ここで使用する「ハロ」はフルオロ、クロロ、ブロモお
よびヨードを包含するが、クロロおよびブロモが好まし
い。「低級アルキル」および「低級アルキル」という語
は、それぞれ、１〜６個の炭素原子をもつ飽和脂肪族炭
化水素、たとえば、メチル、エチル、エチルイソプロピ
ノペ　ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシルなど、および対応する
アルコキシド、たトエば、メトキシ、エトキシ、インプ
ロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ヘキソキシ々どを包含す
る。メチルは好ましい低級アルキルであシ、そしてメト
キシが好ましい低級アルコキシである。

これらの保護基を導入するために使用する試薬（通常対
応する酸塩化物であるが、他の誘導体を使用できる）は
、時々ここでｉｄ「保護基試薬」と呼ぶ。他の適当な保
護基は、たとえば、”Ｐｒｏｔｅ−ｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏ
ｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒａｇｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”
、Ｊ、　Ｆ、　Ｗ、　ＭｃＯｍｉ　ｅ、　ｅｄ、　、　
Ｐｈｅｎｕｍ　Ｐｒｅｓｓ、　Ｎ。

￥、　、　１９７３に開示されている。

各ＴおよびＴ“は同一であり、そしてベンジルオキシカ
ルボニルｆｃＢ］ま；ｉはトリフルオロアセチル（ＴＦ
Ａ）であることが好ましい。Ｔ′は塩酸塩であることが
好ましい。

前述のカルボキシ活性化され保護されたアミノ酸残基全
製造するために、種々の試薬を使用できる。

カルボキシ活性化さ扛保護されたアミノ酸残基の１つの
タイプは、反応性エステルである。適当な活性なエステ
ルｆｌＲ造するために使用する薬剤の例は次のとおりで
ある：フェニル環がハロ（例、クロロまたはフルオロ）
、ニトロ、シアンおよびメトキシから選ばれる１〜５員
で誼換されたフェノール；チオフェニル；Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミド；Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド；Ｎ−
ヒドロキシグルタルイミド：Ｎ−ヒドロキシベンズアミ
ド；１−ヒドロキシベンゾトリアゾール；など。

他の適当な薬剤は、たとえば、前述の’Ｐｒｏｔｅ−ｃ
ｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ”、Ｊ、　Ｆ、　Ｗ、　ＭｃＯｍ　ｉ
　ｅ、　ｅ　ｔ、に開示されテイル。下記の特定の実施
例では、一般にＮ−ヒドロキシスクシンイミド捷たは１
−ヒドロキシベンゾトリアゾールを用いる。

他の活性化法、たとえば、混合″！、たは対称無水物法
、酸塩化物法、およびアジド法は、先行技術においてよ
く知られておシ、たとえば、Ｂｏｄａ−ｎｓｚｋｙ、　
ｅｔ　　ａｌ、　、　”Ｐｅｐｔｉｄｅ　５ｙｎｔｈｅ
ｓ１ｓ”。

２ｎｄ　　ｅｄ、、１９７６．１）ｐ８５−１２８　　
に記載されている。

便宜上、次の略号を種々のアミノ酸を示すために、ここ
に使用する： Ｌ−リシン　　　　　　　　　　　　ＬＹＳＬ−バリン
　　　　　　　　　　ＶＡＬＬ−チロシン　　　　　　
　　　　’ｉ”　ｙ　ＲＬ−アスパラギン酸　　　　　
　　ＡＳＰＬ−グルタミン酸　　　　　　　　ＧＬＵサ
ルコシン　　　　　　　　　　Ｓ　Ａ　ＲＬ−アルギニ
ン　　　　　　　　　ＡＲＧ本発明の方法を次の反応図
１に示す： 第１の別法を次の反応図２に示す二 第２の別法を次の反応図３に示す： Ｈ−ＡＲＧ−８ＡＲ−ＡＳＰ−８ＡＲ−ＴＹＲ−Ｎ、Ｈ
２の１つの典型的な製造を次の反応図４に・示す：Ｈ−
ＡＲＧ−ＬＹＳ−ＡＳ、Ｐ−ＶＡＬ−ＴＹＲ＝ＯＨの１
つの典型的な製造を次の反応図５に示す二上の反応図に
おいて、保護基は前述のＵＸＴ。

Ｔ′およびＴ“で表わされているが、アミノ酸残基のカ
ルボキシ活性化は文字ｔＮ　ＯＡ　ＰＩで示す。

上の反応図４を参照すると、フラグメント■は一般に次
のように製造できる。サルコシンのアミン基を保護する
ために、サルコシンの水溶性塩基付加塩を生成せしめ、
水中に溶かす。便宜上、この塩基付加塩はサルコシンを
わずかにモル過剰量の水酸化す）　ＩＪウム中に溶かし
て形成する。次いでこの溶液に、保護基Ｔを導入する試
薬（たとえば、塩化ベンジルオキシカルボニルのような
対応する酸塩化物）のわずかに過剰量を同時に加え、塩
基Ｃ例、水酸化す）　ＩＪウム）の溶液を反応中に生成
した酸伸、ＨＣＩ　）と反応させる。保護基を導入する
ためめ試薬は溶液−またけ純粋な形であることができ、
そして好ましくは酸塩化物である。反応が完了した後、
過剰の保護基を導入する試薬を除去しくたとえば、ジエ
チルエーテルまたは水と不混和性の他の有機溶媒による
抽出）、次いで保護されたサルコシンを未反応のサルコ
シンから酸（例、塩酸）で処理することによシ単離する
。この酸処理は、保護されないサルコシンの塩基付加塩
を保護されないサルコシンの酸付加塩に変える。

しかしながら、この酸処理は、酸化付加塩を保護された
アミノ基のためにつくることができるので、保護された
サルコシン塩基付加塩を保護されたサルコシンに変える
だけである。この保護されたサルコシンは、水不溶性で
あシ、保護されないサルコシンの塩から、たとえば、前
述の不混和性有機溶媒で抽出することによシ、容易に分
離される。

ここで使用する、「不混和性有機溶媒」は、水と混合し
ないすべての普通の実験室の有機溶媒、たとえば、ジエ
チルエーテル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどを包含する。好ましい保護されたサルコシン、
Ｎ−ジンジルオキシカルボニルサルコシンは既知化合物
である。その製造法は、Ｒ，Ｓ、　Ｔｉｐｔｏｎおよび
Ｂ、　Ａ、　Ｐａｗｓｏｎ。

Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、２６．　４６９８（１９６１）
　　に示されており、そしてこの化合物は（たとえば、
Ｂａｃｈｅｍ、　Ｉｎｃ、　Ｔｏｒｒａｎｃｅ、　ＣＡ
、から）商業的に入手できる。

この保護されたサルコシンとＬ−チロシンアミド分子と
を結合させてフラグメント■ｖｓ造するとき、アミン保
護されたサルコシンを通常何らかの方法で活性化して結
合の形成を促進すべきである。この活性化を実施する好
ましい方法は「活性エステル」の生成によ゛るが、この
分野で知られている他の活性化法、たとえば、混合捷た
は対称の無水物、アジドまたは酸塩化物の方法を用いる
ことができる。

保護されたサルコシンのいかなる活性エステルも使用で
きると考えられる；１つの好ましい活性エステルはヒド
ロキシスクシンイミドによシ形成されたものである。保
護されたサルコシンの活性エステルは、当量の保護され
たサルコシ４ンおよび活性エステル物質と適当な有機溶
媒、たとえば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミド、ピリジンなどの溶液中で反応させる
ことにより製造される。次いで、この溶液に当量のカッ
プリング剤、典型的にはシンクロヘキシルカルボジイミ
ドを加える。他のカップリング剤は有効であるが、ジシ
クロへキシルカルボジイミドは、カップリング反応の副
生物が使用する溶媒の群中に非常に不溶性であシ、それ
ゆえ濾過によシ容易に除去して、溶液中にカップリング
された生成物を残すことができるので、とくに有用であ
る。

Ｌ−チロシンアミドは（たとえば、ＳｉｇｍａＣｈｅｍ
ｉｃａｌ　　Ｃｏｍｐａｒ！ｙ、　Ｓｔ、　Ｌｏｕｉｓ
、　ＭＯから）商業的に入手することができまだは既知
の方法で製造できる。

フラグメント■の製造における次の工程は、モル当量の
Ｌ−チロシンアミドを保護されたサルコシン活性エステ
ルを１当量の塩形成物質、たとえば、第三アミンの存在
で反応させることからなる。

いかなる有機第三級アミンも使用することができるが、
トリエチルアミンは好適に使用できることがわかった。

この溶媒は前述の適当な有機溶媒である。未反応のアミ
ノ酸は反応混合物を酸（例、酢酸）で処理し、前述の不
混和性有機溶媒で抽出して分離することによシ除去する
。

最終工程はサルコシンからα−アミン保護基を、好まし
くはトリフルオロ酢酸で、除去してフラグメント■を生
成せしめることである。

フラグメント■の製造は、β−カルボキシ基が保護され
たＬ−アスパラギン酸またはγ−カルボキシ基が保護さ
れたＬ−グルタミン酸を用いて一般に出発する。このβ
才たはγ−カルボキシ基は、認められている命名法に従
い、それが連鎖の端に存在することを示すために、一般
に「ω基」と呼ぶ。

適当なカルボキシ保護基は、ベンジルまたはフェニル基
カハロ（例、クロロオタハブロモ）、ニトロ、Ｃ１−Ｃ
５低級アルコギシ（例、メトキシ）および低級アルキル
（例、メチル）から選ばれる１〜３員で置換されたベン
ジル基である。このような基のそれ以上の説明について
は前記のＭｃ　Ｏｍ　ｉ　ｅ　テキスト参照のこと。ベ
ンジルが好ましい。このβ−保護されたＬ−アスパラギ
ン酸およびγ−保護されたＬ−グルタミン酸は、（たと
えば、Ｂａｃｈｅｍ、Ｉｎｃ、、Ｔｏｒｒａｎｃｅ、Ｃ
ａ１ｉ−ｆｏｒｎｉａから）商業的に入手でき、あるい
は既知の方法により製造できる。

次いで、とのβ−保護されたＬ−アスパラギン酸または
γ−保護されたＬ−グルタミン酸（ω−Ｕ−Ｚ）ｉ、前
述のように活性化され（たとえば、活性エステルへの転
化によシ）α−アミン保護されたサルコシンと反応させ
て、フラグメント■を生成せしめる。反応図４において
、ＺはＡＳＰである。

フラグメント■および■を結合して、保護されたテトラ
ペプチド−α−Ｔ−８ＡＲ−β−Ｕ−Ａ８Ｐ−＝ＳＡＲ
−ＴＹＲ−ＮＨ，（フラグメントＩＩＩ）は、当量を適
当々非プロトン溶媒、たとえば、ジメチルホルムアミド
中でわずかに過剰のカップリング剤、たとえば、ジシク
ロへキシルカルボジイミドの存在で反応させることによ
り生成する。壕だ、この反応は、フラグメント■のＬ−
リシン部分上のカルボキシル基に隣接するラセミ化を最
小にし、かつ反応速度を増大させる物質、たとえば、１
−ヒドロキシベンゾトリアゾールの存在で実施すること
が好ましい。フラグメント■の場合のように、フラグメ
ント■のサクロシン残基上のα−アミノ保護基はトリフ
ルオロ酢酸で除去してフラグメント■Ａを生成する。

最後に、フラグメン）Ｉおよび■を接合するために使用
したカップリング反応に類似したカンプリング反応−に
従い、α−アミノおよびグアニジノ保護されたＬ−アル
ギニン残基金フラグメン）１１１１Ａのアシノ末端に接
合し、これはすべての保護基を除去した後所望のペンタ
ペプチドアミドを生成する。保護基の除去は、たとえば
、炭素担持パラジウムの存在で、前述のような適当な溶
媒（好ましくは水性酸）の存在で水素ガスで処理するこ
とにより達成できる。水素ガスは１気圧よシも高い圧力
テある必要はないが、圧力の使用は還元速度を加速する
ので、好適である。

別の製造法は、前述と同一の一般法で達成される。

すなわち、第１の別の道筋において、保護されたＺ部分
をフラグメント■に加えてフラグメントＩＶｋ生成せし
め、この付加は、たとえば、保護されたＺアミノ酸の活
性エステルを生成し、これをフラグメント■と、シラグ
メント■の前述した反応と同じように、反応させること
によって行うことができる。次いで、Ｚ部分上のα−ア
ミン保護基を、好ましくはトリフルオロ酢酸で除去し、
次いで保護されたＸアミノ酸をフラグメン）ＴＶに、た
とえば、活性エステルの道筋を経て、フラグメント■を
生成せしめる。

第２の別の道筋において、α−アミノおよびグアニジノ
保護されたＬ−アルギニンをモル当量のＸアミノ酸と、
たとえば、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールの存在で
反応させて、フラグメント■を製造する。次いで、フラ
グメントＶ’（ｉ＝フラグメント■’Ａに、フラグメン
トＩおよび■の接合した方法に類似する方法で接合せし
める。

生ずる不純な生成物の単離および精製は、結晶化とイオ
ン交換クロマトグラフィー（好ましくは溶離剤として酢
酸アンモニウム−１）Ｈ’５’：／、！ｌ−用いる）と
の組み合わせにより、薄層クロマトグラフィーを用いて
各フラクション中の物質の同一性を監視して実施できる
。いくつかの単離および精製法は次功実施例に記載され
ているが、他の方法を使用することもできることは明ら
かである。

また、本発明の範囲内には、本発明の主題の方法を実施
するために有用な組成物（たとえば、フラグメント■、
■、■、［ＩＡ、■、ＩＶＡ、およびＶおよび他の中間
体）ならびに保護された生成物が包含される。

実施例■ フラグメントＩ：　５ＡＲ−ＴＹＲ−ＮＨ２の製造ＢＯ
Ｃ−フルコシン（２４，７８Ｓ’、０．１３モル）とＮ
−ヒドロキシスクシンイミド責１５．５７．０．１３モ
ル）を、３００−の乾燥ＴＨＦ中に溶かし、−５℃に冷
却した。１００ゴの乾燥ＴＨＦ中のジシクロへキシルカ
ルボジイミド（２６，９８９，０，１３モル）の溶液を
、１５分間かけて加えた。

生ずる反応混合物を一夜かきまぜ、放置して周囲温度に
した。固体を濾過によシ除去し、溶媒を減圧蒸発すると
、白色固体が得られた。この固体を２５０ｄの無水エタ
ノールから４℃で結晶化させて、３２ｙ（ｓ６％）の白
色固体を得た、融点１２１−１２３℃。

分析：計算値：　ｃ、　５０．３５　、　　Ｈ，６，３
４；Ｎ、９．７９ 実測値ゴＣ，５’０．２：３　；Ｈ，６，４４；Ｎ、　
９６７ＴＬＣ二　　　　　　　Ｒｆ＝０．８１　、　Ｃ
ＨＣＩ、／Ｍｅ　０Ｉ（９／１（シリカゲルＧ、　、２
．５０ミクロン）ｐ、　ｍ、　ｒ、　　（δ、ＣＤＣｌ
５）：　１．４５．Ｓ、９Ｈ。

ＢＯＣ；　２．８３．　Ｓ、　４Ｈ，−０８ｕ　；　２
．９３．　Ｓ、　３Ｈ。

Ｎ−ＣＨ３，４，、，２７，Ｓ、、２Ｈ，−ＣＨ２−。

Ｍ、　Ｓ、　　：　Ｍ＋２８６ Ｌ−チロシンアミド（’２．ｉ７’ｒ、１０ミリモル）
およびトリエチルアミン（１，０１ｉ、’１０’ミリモ
ル）　ｋ　２　ｓ　ｍｔの乾燥メタノール中に溶かした
。□Ｂ　Ｏ’Ｃ’−サルコシンヒドロキシスクシンイミ
ト（２，８６？、ｌ　Ｑ　ミ＋）モル）を加え、この反
応混合物を一夜周囲温度でかきまぜた。揮発性物質を減
圧除去し、残留物ｉ’Ｅ’ｔ　ＯＡ’ｃ　（’　５　’
Ｏｍ！　）とＮ　ａ　Ｃ１−３７’− 溶液［５０ｍ（２５ｔ／’Ｈ２０＋２５ｄ飽和ＮａＣＩ
））との間に分配した。相を分離し、有機相を同じ組成
のＮａＣ１溶液でさらに２回洗い、次いでＭｇＳＯ４で
乾燥した。乾燥剤を濾過によシ除去し、溶媒を減圧除去
した。残留物をシリカール（Ｓｉｌｉｃ’ａｒ）ＣＣ７
の７５７．１インチ（２，５４ｃｒｎ）のカラムで、溶
離剤として酢酸エチルを用いて、クロマトグラフィーに
かけた。化合物は３９０４で現われ始めた。次の４７’
５’ＩＱ−集め、蒸発乾固して、１、’５　’５　？　
（’４４％）の白色面′体を得た。

分析：計算値：　ｃ、　ｓｓ、１ｉ　；Ｈ，’７．ｉ’
７　；Ｎ、　１１．９６実測値：ｃｙｓ７．ｃ＋６；Ｈ
，６，９６；Ｎ、’　１’１．４’５ＴＬＣ：　（’ｙ
リカ’ｙ’ル　ＧＦ）Ｒｆ−０，４６ＣＨＣＩ　、７Ｍ
’ｅ　６Ｈ９／　Ｉ ＢＯＣ−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド（１，３０９
，３，７ミリモル）を０℃において１５−のトリフルオ
ロ酢酸に溶かした。溶液を０℃で１時間かきまぜ、溶媒
を減圧除去した。生ずる油を５Ｑｍの無水エーテルで粉
砕して１．２７　ｆ　（，９４％）の白色固体を得た。

ｐｌｍ、　ｒ、　（δ、　ＣＤ３０Ｄ）　：　２．３．
　Ｓ、　３Ｈ，Ｎ−ＣＨ３゜３．００．　ｄ、　２Ｈ，
−ＣＨ２−Ｃ−；　３．７．　Ｓ、　２Ｈ。

−Ｎ−ＣＨ２−Ｃ＝０　、６．９　、　ｑ、　４Ｈ，芳
香族トリエチルアミン（２，０２Ｆ、２０ミリモル）お
よびβ−ベンジル−Ｌ−アスパラギン酸（２，２，Ｍ、
１０ミリモル）を、５０ｄの乾燥ＴＨＦ中でかきまぜ７
’（ｏＢＯＣ−サルコシン−ヒドロキシスクシンイミド
エステル（，２，６８９、］０ミ０ミリ）を加え、この
溶液を周囲温度で一夜かきまぜた。固体を濾過によシ除
去し、溶媒を減圧除去した。残留物を酢酸エチル（１０
０ｍｔ　）と２Ｎ、ＨＣｌ　（，１００ｍ）との間に分
配した。相を分離し、有機相を水（２ｘｔｏｏ＊）、飽
和ＮａＣ１溶液（ＩＸｌｏｏｍ）で洗浄し、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ４）した。乾燥剤’ｔ濾過によシ除却し、溶媒を減
圧除却した。残留物をヘキサンで粉砕した。

ヘキサンをデカンテーションし、残留物を減圧乾燥して
２．６４ｙ（６７％）の吸湿性固体を得た。

ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．７３＋０．４８における微量の不純
物ＣＨＣｌ　ｓ　７Ｍ　ｅ　ＯＨ／ＨＯＡ　ｃ　　８５
　／　１０　／　５（シリカゲル０，２５０ミクロン） ｐｏｍ、　ｒ、　（δ、ＣＨ３０Ｄ）：　１．４５．Ｓ
、９Ｈ，ＢＯＣ。

２．８２．’Ｓ、　３Ｈ，Ｎ−ＣＨ３，２，９５，Ｍ、
　２Ｈ。

−ＣＨ２−Ｃ；　３．８５　、　Ｓ’、　２Ｈ，−Ｎ−
ＣＨ，−Ｃ＝Ｏ；４．８５．　ｔ、　１Ｂ、　−ＣＨ−
；　５．Ｏｓ：　Ｓ、　２Ｈ，−ＣＨ２゜５．４６．　
Ｓ、　２Ｈ，−ＮＨ＋　−ＣＯ，、Ｈ；　７．３．、、
Ｓ。

５Ｈ，−φ 〔α〕Ｄ１７°＝−１−１３．３°（Ｃ＝１．０３２．
ＭｅＯＨ）Ｂ　ＯＣ−４ルコシルーβ−ベンジル−Ｌ−
７スパラギン酸（０，５２ｆ、１．３ミリモル）および
１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物（０，１８
ｆ、　　１．３ミリモル）をｉｏｍの乾燥ＤＭＦ中に溶
かし、この溶液を０℃に冷却した。７．５　ｍｌの乾燥
ＤＭＦ中のジシクロへキシルカルボジイミド（０，２７
？、１．３ミリモル）を加え、生１する溶溶を０℃で１
時間かきまぜた。サルコシル−Ｌ、　−チロシンアミド
、トリフルオロアセテート＝４１− （０，５０５’、１．３ミリモル）およびジイソプロピ
ルエチルアミン（０，１７Ｆｌ、１．．３ミリモル）を
５１の乾燥ＤＭＦ中に溶かし、第１溶液に直ちに加えた
。この反応混合物を一夜かきまぜ、周囲温度に到達させ
た。固体を濾過によシ除去しＡ残留物−１２５ｍの酢酸
エチル中に溶かした。有機相を連続して１０チのクエン
酸（２Ｘ２５＋ｄ）、水（２Ｘ　２５１Ｉｔ）、５　％
（ＤＮａＨＣＯ３（２Ｘ　２．５　ｗｌ　）、Ｈ２ｏ（
２Ｘ２５Ｎ）、飽和ＮａＣ１，（２５Ｑ　）テ洗浄し、
無水ＭｇＳＯ４で乾燥した。乾燥剤を濾過にょシ除去し
、溶媒ヲ畔圧除去して０．６　ｙ（７３，５チ）の白色
固体を得た。

ＴＬＣ：Ｒｆ二０．３１ ＣＨＣＩ、／ＭｅＯＨ９／１ （シリカゲル０，２５０ミクロン）　　１ｐ０ｍ、　’
ｒ、”　（δ、　ＣＤｃ’ｌ　、）　＝１’１４５．　
Ｓ、　（ＩＨ。

ＢＯＣ；　２．９５’；　ｍ、１０Ｈ，２ｘ　　Ｎ−Ｃ
Ｈ３，−ＣＨ２−ＣＨ（Ａｓｐ）、−ＣＨ２−ＣＨ（Ｔ
ｙｒ　）；　３．８．ｍ、４Ｈ。

２　ｘ　Ｎ−ＣＨ２−Ｃ＝Ｏ；　４．６．　ｍ、　２Ｈ
，−ＣＨ−ＣＨ２−。

Ａｓ　ｐ、　−Ｃ旦−ＣＨ２−（Ｔｙ　ｒ　）　；　５
．１　、　ｍ、　２Ｈ。

−ＣＨ＋２−φ、　６．９２．　ｑ、　４Ｈ，チロシン
の芳香族；７．２５．　Ｓ、　５Ｈ，、芳香族のベンジ
ル〔α〕２１０−１２．４゜（Ｃ＝Ｏ，ｉ’０４６．Ｍ
ｅＯＨ） 分析”　３１　Ｈ４１Ｎ５０９についての計算値：Ｃ，
５９，３２；Ｈ，６，５８，Ｎ、　１１．ｔ６実測値： ｃ、　５８．７３’；Ｈ，’６．８０’；Ｎ、　ｉｏ、
７６ＢＯＣ−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アスパル
チル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド（０，４８？、
０フロミリモル）を１０ｄのＴＦ’Ａ中に０℃で溶かし
、０℃で１時間かきまぜた。溶媒全減圧除去し、残留物
を一夜５０’ｍｌの無水エーテルで粉砕した。懸濁溶を
濾過し、固体をエーテルでよく洗い、真空乾燥して０．
４グ（８２％’　）の白色固体を得た。

ＴＬＣ：　Ｒｆ＝０．５６ ｎ７ＢｕＯＨ／ＨＯＡｃ／Ｈ２０ 〔シリカゲル　ＧＦ） 一β−Ｂｚ　１−ＡＳＰ−８ＡＲ＝ＴＹＲ−ＮＨ２］α
−フェニルメトキシカルボニル−Ｌ−アルギニンＨＣＩ
（２゜６６２．７．８ミリモル）と１−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール１水和物（１，０６Ｆ、７８ミリモル）
を、２ＯＮの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、０℃
に冷却した。ジシクロへキシルカルボジイミド（１，６
１ｆ、７．８ミリモル）ｆ　５　ｍｌに溶かし、第１溶
液に加えた。生ずる反応混合物を０℃で１時間かきまぜ
た。サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−サ
ルコシル−Ｌ−チロシンアミドのＴＦＡ塩Ｕ５．ｏｙ、
７．８ミリモル）ｉｌ！Ｍの乾燥Ｄ　Ｍ’Ｆ中にトリエ
チルアミン（０，７９ｙ、　　７．８ミリモル）と−緒
に溶かし、第１溶液に加えた。この反応混合物を一夜か
きまぜ、周囲温度に到達させた。この固体ｔ濾過によシ
除去し、揮−発性物質を減圧除去した。残留物を水で粉
砕して残留物（３ｒｌｄ：得た。

Ｔ　Ｌ　Ｃ：　Ｒ（＝　０．６’　Ｏ ｎ　−Ｂ　ｕ　ＯＨ／ＨＯＡ　ｃ／Ｆ（２０３／　１　
／　１（シリカゲル　　ＯＦ） α−フェニルメトキシカルボニル−Ｌ−アルギニル（Ｈ
ＣＩ　）−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチ
ル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド（１，Ｏｒ）を１
００ｄの７５％の水性酢酸中□に溶かし、０．５２の１
０係Ｐｄ／Ｃの存在で５０ｐＳｉ（３，’５　Ｋｒ７’
　ｏｎ”　）において１５時間還元した。触媒を濾過に
よシ除去し、溶液を凍結乾燥して０８２を得た。この物
質を７ｄの水中に溶かし、３μの多孔質フィルターに通
して濾過し、ｐＨ５にＮＨ，’ＯＨ（濃）で調整し、５
Ｐ−Ｃ−２５カラλ（２，５Ｘ’ｌ’　００ｃＩｎ）　
’ｔｌ”０．２’０モルのＮＨ４０Ａｃ。

４６一 ｐＨｓ、ｏ、１００ｍ７時、２０ゴ／管を用いて、クロ
マトグラフィーにかけた。管７１〜７８をプールし、凍
結乾燥して、０．３５９のＡｒｇ−８ａｒ−Ａｓ　ｐ−
８ａ　ｒ−Ｔｙ　ｒ−ＮＨ２を得た。

ＴＬＣ：Ｒｆ二０．２３ ｎ−ＢｕＯＨ／ＨＯＡｃ、／Ｈ２０３／１／１（シリカ
ゲルＯＦ） 実施例Ｉ−Ｖの手順に従うが、そこで使用した保護され
たサルコシンの代わりに実施例■において当量の適当に
保護されたＬ−バリンおよび実施例■において当量の適
当に保護されたＩ、　　＋）シンを使用すると、Ｉ−Ｉ
−ＡＲＧ−ＬＹＳ−ＡＳＰ−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＮＨ２が
製造される。

実施例１〜■の手順に従うが、当量の適当な出発物質を
用いると、次のものが製造される：ｌ−１−ＶＡＬ−Ｔ
ＹＲ，−ＮＨ２ Ｈ−ＶＡＬ−ＴＹＲ，−ベンジルエステルＨ−８ＡＲ−
ＴＹＲ−ベンジルエステルＨ−ＡＲＧ−ＬＹＳ−ＡＳＰ
−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＯＩ−ＩＩ−Ｔ、−Ａｌｌ（、Ｇ−
ＬＹＳ、−ＧＬＵ−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＯＨＨ−ＡＲＧ−
８ＡＲ−ＧＬＵ−８ＡＲ−ＴＹＲ−ＮＩ（２Ｈ−Ａｒｔ
ｏＬｒ、ｙｓ−ＧＬＵ−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＮＨ２ＢＯＣ
−イプシロン−ＣＢＺ−Ｌ、ＹＳ−β−ベンジル−５Ｐ
−ＯＨ ＢＯＣ−イプシロン−ＣＢＺ−ＬＹＳ−γ−ベンジルー
ＬＵ−ＯＨ ＢＯＣ−８ＡＲ−γ−ベンジルー〇ＬＵ−ＯＨＢＯＣ−
イプシロン−ＣＢＺ＝ＬＹＳ−ベーターベンジル−ＡＳ
Ｐ−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＯＨ−ベンジルエステルＢＯＣ−
イプシロン−ＣＢＺ−ＬＹＳ−γ−ベンジルーＧＬＵ−
ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＯＲ−ベンジルニス−ｉ−／ｌ／実施
例■ ＢＯＣ−β−ベンジル−Ｌ−アスパラギン酸およびモル
当量の１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１水和物を、
乾燥ＤＭＦ中に溶かし、この溶液を０℃に冷却した。次
いで、モル当量のジシクロへキシルカルボジイミドを溶
液に加え、全体を０℃で１時間かきまぜた。次いで、こ
の反応混合物（で１モル当量のトリエチルアミンおよび
Ｌ−パリ／ｌ／−Ｌ−チロシンベンジルエステル、トリ
フルオロアセテート（実施例■の方法に従うが、そこで
使用したサルコシンの代わシに当量のＬ−バリンを使用
して製造した）のＤＭＦ中の溶液ヲ加え、＝４９− 全体を周囲温度で一夜かきまぜた。反応完了後、生成物
を反応混合物から単離し、ＢＯＣ基を除去して所望の物
質を生成した。

ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−バリル−Ｌ　−ＢＯ
Ｃ−ε−ＣＢＺ−Ｌ−リシンヒドロキシスクシンイミド
を、モル当量のトリエチルアミンおヨヒβ−ベンジルー
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−バリル−Ｌ−チロシンベンジル
ニステルトリフルオロアセテートの乾燥ＴＨＦ中の溶液
に加え、全体を一夜かきまぜた。固体を除去した後、生
成物を溶液から除去した。

フラグメント■：　トリーＣＢＺ−１ｔＧ−ε−ＣＢＺ
３ｍｔのＴＨＦ中のトリーＣＢＺ−Ｌ−アルギニンパラ
−ニトロフェニル−エステル（１，４ｏｒ、２ミリモル
）の懸濁液に、ε−ＣＢＺ−Ｌ−リシン（６’２５　ｍ
ｌ、　　２．２．ミ・、リモル、）を加えた。次いでト
リエチルアミン（４５０■、４．４ミリモル）を加え、
全体を周囲温度で４８時間かきまぜた。これに引き続い
て、溶媒を減圧除去し、２０ｄのメタノールを生ずる固
体に加えた。メタノールを濾過し、固体をさらに１０ｍ
のメタノールで洗浄した。合わせたＦ液と洗液を減圧蒸
発して油が得られ、これを１０ゴのシ１月カゲルで０〜
５チのメタノール／クロロホルムを溶離液として使用し
てクロマトグラフィーにかけた。このカラムから出た第
２物質は、ｐ、ｍ、ｒ、で示されるように、所望生成物
であった；収量７５■。

分析：Ｃ４＜ＨｓｏＮａＯｔｔ　・２／３ＣＨＣＩ　、
についテノ計算値：　Ｃ，５８，４１、Ｈ，５゜５６；
Ｎ、９．１５実測値：　Ｃ，５８，８８；Ｈ，５，５０
；Ｎ、　９．２９モル当量のトリーＣＢＺ−Ｌ−アルギ
ニル−イプシロン−ＣＢＺ−Ｌ−リシンおよび１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾールを乾燥ＤＭＦ中に溶かし、モ
ル当量のジシクロへキシルカルボジイミドをかきまぜな
がら加える。この溶液に、ＤＭＦ中のモル当量のβ−ベ
ンジル−Ｌ−７スパルチルーＬ−バリル−Ｌ−チロシン
ベンジルニステルトリフルオロアセテートおよびトリエ
チルアミンの溶液を・加え、全体を一夜かきまぜる。固
体残留物を除去した後生成物を反応混合物から単離し、
保護基を除去してＨ−ＡＲＧ−ＬＹＳ−ＡＳＰ−ＶＡＬ
−ＴＹＲ−ＯＲを生成する。

実施例■−Ｍの手順に従うが、当量の出発物質を用いる
と、次のものが製造される： ββ−ペンジル−Ｓ　Ｐ　−Ｓ　ＡＲ，−Ｔ　ＹＲ−Ｎ
Ｈγ−ベンジル−ＧＬＵ−８ＡＲ−ＴＹＲ−ＮＨＡＲＧ
”−８ＡＲ−ＡｓＰ−８ＡＲ，−ＴＹＲ−ＮＨ。

ＡＲｏ−Ｌ−ｓＡｒ＋−ＧＬＵ−ｓＡａ−ＬＴｙｇ−Ｎ
Ｈ２ＡＲＧ−ＬＹＳ−ＡＳＰ−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＯＨＡ
ＲＧ−ＬＹＳ−ＧＬ’Ｕ−ＶＡＬ−ＴＹＲ−ＯＨ上の実
施例において製造したペンタペプチドのすべては、前記
の米国特許および公開公報に開示されたＴＰ５と同一の
薬理学的活性を有する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 Ｈ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−ＴＹＲ−Ｒ′ 式中、Ｒ′はＯＵまたはＮＨ＿２であり； Ｘはε−Ｔ″−ＬＹＳでありかつＹはＶＡＬであるか、
   あるいはＸおよびＹは両方とも ＳＡＲであり； ＺはＡＳＰまたはＧＬＵであり； Ｔ″は ａ）▲数式、化学式、表等があります▼ここで、Ｒ＿１
   はフェニル；トリル；キシリル；アダマンチル；アリル
   ；β−シアノエチル；フルオレニルメチル；ベンジル、
   フェニル環がハロ、ニトロ、低級アルキルおよび低級ア
   ルコキシから選ばれる１〜３員で置換されたベンジル；
   ジイソプロピルメチル；ジフエニルメチル；ヘクロヘキ
   シル；シクロペンチル；ビニル；ｔ−ブチル；ｔ−アミ
   ル；ジメチルトリフルオロメチルメチル；またはジメチ
   ビフエニルメチルである； ｂ）▲数式、化学式、表等があります▼ここで、Ｒ＿２
   は２〜４個の炭素原子をもつ低級アルキルまたは１〜５
   個のハロ基で置換された１〜４個の炭素原子をもつ低級
   アルキルである； ｃ）▲数式、化学式、表等があります▼ここで、ＶはＳ
   またはＯであり、 そしてＲ＿３およびＲ＿４は各々ベンジルまたは低級ア
   ルキルである； ｄ）▲数式、化学式、表等があります▼ここで、Ｒ＿５
   およびＲ＿６は独立に低級アルキルであか、あるいはＲ
   ＿５および Ｒ＿６は一緒になって ▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿７およびＲ＿８は各々水素または低級アルキルであ
   る； ｅ）▲数式、化学式、表等があります▼ここで、Ｒ＿９
   は水素またはニトロである； および ｆ）▲数式、化学式、表等があります▼ここで、Ｒ＿１
   ＿０は水素、メチル、ハロまたはニトロである； から成る群より選ばれる１員であり；そしてＵはベンジ
   ルまたはフェニル基がハロ、ニトロ、Ｃ＿１−Ｃ＿３低
   級アルキルおよびＣ＿１−Ｃ＿３低級アルコキシから選
   ばれる１〜３員で置換されたベンジルである、 のテトラペプチド。 ２、Ｈ−ＳＡＲ−ω−Ｕ−Ｚ−ＳＡＲ−ＴＹＲ−Ｒ′で
   ある特許請求の範囲第１項記載のテトラペプチド。 ３、Ｈ−ε−ＣＢＺ−ＬＹＳ−ω−Ｕ−Ｚ−ＶＡＬ−Ｔ
   ＹＲ−Ｒ′である特許請求の範囲第１項記載のテトラペ
   プチド。