JPH0357118B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、有用なペプチドの製造方法、とくに
Ｈ−ARG−Ｘ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒを製造するた
めの溶液合成法およびその方法に有用な組成物に
関する。 米国特許第4190646号および特開昭55−149237
号公報には、胸腺の機能および免疫学的領域にお
いて有用な種々のペプチドが開示されている。前
記米国特許は「サイモボイエン（thymopoietin）
ペンタペプチド」（TP5）およびその置換誘導体
を開示しており、一方前記公開公報はTP5よりも
大きい効力を有するTP5のペプチド類似体を開示
している。この米国特許および公開公報をここに
引用によつて加える。参照した米国特許および公
開公報において、ペプチドは一般に「メリフイー
ルド（Merifield）合成」と記載される固相合成
技術により製造されている。また、この米国特許
および公開公報は、古典的技術（すなわち、溶液
合成技術）を用いてこれらの物質のあるものを製
造できることを開示しているが、特定の古典的方
法または合成法は具体的には開示されていない。 メリフイールドの固相合成技術は、実験室にお
ける少量のペプチドの製造に便利な技術である
が、大量（たとえば、約100gより多い量）のペ
プチドを製造するためには実際的でなくかつ不経
済であろう。このような大量のペプチドの製造に
は、溶液合成技術がいつそう適する。その上、溶
液合成技術は、使用する反応成分のあるものの単
位コストが非常に低いために、一般に固相技術よ
りも経費が非常に少ない。ポリペプチドの製造に
おいて使用されている多数の溶液合成技術のうち
で、所望のペプチドを便利にかつ経済的に製造す
る特定の合成法を本発明者らは見出した。 本発明は、式 Ｈ−ARG−Ｘ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒ 式中、 ＸおよびＹは両方ともSARであり、ＺはASP
であり、そしてＲはNH₂である、 の製造方法に関する。 本発明の方法は次の工程からなる： (a) 後述するようにしてＨ−Ｙ−TYR−Ｒから
成るフラグメント（fragment）を精製せし
め； (b) 後述するようにしてα−Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ
−OHから成るフラグメントを生成せしめ； (c) 後述するようにしてフラグメントおよびフ
ラグメントを一緒に結合させて、α−Ｔ−Ｘ
−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒから成るフラグ
メントを生成せしめ； (d) α−アミノ保護基Ｔを除去してフラグメント
Ａを生成せしめ； (e) フラグメントＡに、保護されたＬ−アルギ
ニン部分（α−Ｔ−ω−T′−ARG−OH）を、
後述するようにして付加して、保護されたペン
タペプチドを生成せしめ； (f) 保護基を除去し；そして (g) 生じるペプチドを単離し、精製する。 フラグメントは次の工程により生成せしめる
ことができる： Ｙ部分のα−アミノ基を、保護基Ｔを導入する
試薬と反応させることにより保護し； さらに後述するようにして、工程において
生成せしめた保護されたＹを、アミンによるカ
ルボキシ基における親核攻撃に関して活性化し
て、カルボキシ活性化され保護されたＹを生成
せしめ； 前記カルボキシ活性化され保護されたＹを
TYR−Ｒと反応させ；そして 保護基Ｔを除去し、これによりフラグメント
を生成せしめる。 フラグメントは工程により生成せしめること
できる： ω−Ｕ−Ｚ−OH（式中、ＵはＺアミノ酸の
ω−カルボキシ基の保護基である）を製造し； 特定的にα−アミノ基を保護するような方法
で、Ｘアミノ酸のα−アミノ基を、保護基Ｔを
導入する試薬と反応させることにより保護し； さらに後述するようにして、工程において
生成せしめた保護されたＸアミノ酸を、アミン
によるカルボキシ基における親核攻撃に関して
活性化して、カルボキシ活性化され保護された
Ｘアミノ酸を生成せしめ；そして 工程に記載するカルボキシ活性化され保護
されたＸアミノ酸を、工程において製造した
Ｚアミノ酸と反応させ、これによりα−Ｔ−Ｘ
−ω−Ｕ−Ｚ−OH（フラグメント）を生成
せしめた。 フラグメントは、α−カルボキシ基における
アミンによる親核攻撃に関して、フラグメント
のＺ部分を活性化し、そしてこの活性化されたフ
ラグメントをフラグメントと反応させること
により生成せしめられる。 α−アミノ保護基Ｔは、前記各アミノ酸につい
て同一であるか、あるいは異なることができ、そ
してアミノ酸基の接合のために用いる工程による
除去に対して安定であり、同時に接合工程の終り
においてペプチドのアミド結合を分裂しない条件
下で除去されるべきである。ある基（たとえば、
BOC）について、この除去は強酸（たとえば、
トリフルオロ酢酸）によりなされ、これは脱保護
された中間体を対応する酸付加塩（たとえば、ト
リフルオロアセテート）として与える。 グアニジノ保護基T′は、後述するような任意
の適当なアミノ保護、あるいはニトロ基ならびに
塩酸塩のような酸付加塩であることができる。ア
ミノ保護基のうちで、ウレタン保護基（下記の
式）および置換スルホン酸誘導体、たとえば、ｐ
−メトキシベンゼンスルホニルおよびトシルが好
ましい。塩酸塩が最も好ましい。このグアニジノ
保護基を、ここでは、それが連鎖の末端に存在す
ることを示すため「ω（オメガ）」基と呼ぶ。連鎖
上の多くのグアニジノ保護基の正確な位置は、明
確には知られていない。 カルボキシ保護基Ｕは、生ずるペプチドを破壊
しない条件下で容易に除去されると同時に、Ｔ基
の除去の間安定であるべきである。 Ｒ基はNH₂である。 適当なアミノ保護の例は次の式をもつものであ
る：

【式】ここで、R₁はベンジル、フエニル 環がハロ、ニトロ、低級アルキルおよび低級アル
コキシから選ばれる１〜３個の置換基で置換され
たベンジル、またはｔ−ブチルである； サルコシンのα−アミノ基上のアミノ保護基
は、アミノ基上のメチル置換基のため一座配置
（monodentate）でなくてはならない。残りのア
ミノ保護基は、すべてのアミノ酸のついて使用で
きる。 ここで使用する「ハロ」はフルオロ、クロロ、
ブロモおよびヨードを包含するが、クロロおよび
ブロモが好ましい。「低級アルキル」および「低
級アルコキシ」という語は、それぞれ、１〜６個
の炭素原子をもつ飽和脂肪族炭化水素、たとえ
ば、メチル、エチル、エチルイソプロピル、ｔ−
ブチル、ｎ−ヘキシルなど、および対応するアル
コキシド、たとえば、メトキシ、エトキシ、イソ
プロボキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ヘキソキシなど
を包含する。メチルは好ましい低級アルキルであ
り、そしてメトキシが好ましい低級アルコキシで
ある。 これらの保護基を導入するために使用する試薬
（通常対応する酸塩化物であるが、他の誘導体を
使用できる）は、時々ここでは「保護基試薬」と
呼ぶ。他の適当な保護基は、たとえば、
“Protective Groups in Organic Chemistry”、
J.F.W.McOmie，ed.，Plenum Press.N.Y.，
1973に開示されている。 Ｔはベンジルオキシカルボニル（CBZ）であ
ることが好ましい。T′−は塩酸塩であることが
好ましい。 前述のカルボキシ活性化された保護されたアミ
ノ酸残基を製造するために、種々の試薬を使用で
きる。 カルボキシ活性化され保護されたアミノ酸残基
の１つのタイプは、反応性エステルである。適当
な活性なエステルを製造するために使用する薬剤
の例は次のとおりである：フエニル環がハロ、
（例、クロロまたはフルオロ）、ニトロ、シアノお
よびメトキシから選ばれる１〜５員で置換された
フエノール；チオフエニル；Ｎ−ヒドロキシフタ
ルイミド；Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド；Ｎ−
ヒドロキシグルタルイミド；Ｎ−ヒドロキシベン
ズアミド；１−ヒドロキシベンゾトリアゾール；
など。他の適当な薬剤は、たとえば、前述の
“Protective Groups in Organic Chemistry”、
J.F.W.McOmie，et.に開示されている。下記の
特定の実施例では、一般にＮ−ヒドロキシスクシ
ンイミドまたは１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルを用いる。 他の活性化法、たとえば、混合または対称無水
物法、酸塩化物法、およびアジド法は、先行技術
においてよく知られており、たとえば、
Bodanszky，et．al．，“Peptide Synthesis、2nd
ed.，1976、pp85−128に記載されている。 便宜上、次の略号を種々のアミノ酸を示すため
に、ここに使用する： アミノ酸 略 号 Ｌ−リシン LYS Ｌ−バリン VAL Ｌ−チロシン TYR Ｌ−アスパラギン酸 ASP Ｌ−グルタミン酸 GLU サルコシン SAR Ｌ−アルギニン ARG 本発明の方法を次の反応図１に示す：

【表】 Ｈ−ARG−SAR−ASP−SAR−TYR−NH₂
の１つの典型的な製造を次の反応図２に示す：

【表】 上の反応図において、保護基は前述のＵ、Ｔお
よびT′で表わされているが、アミノ酸残基のカ
ルボキシ活性化は文字“OA”で示す。 上の反応図２を参照すると、フラグメントは
一般に次のように製造できる。サルコシンのアミ
ノ基を保護するために、サルコシンの水溶性塩基
付加塩を生成せしめ、水中に溶かす。便宜上、こ
の塩基付加塩はサルコシンをわずかにモル過剰量
の水酸化ナトリウム中に溶かして形成する。次い
でこの溶液に、保護基Ｔを導入する試薬（たとえ
ば、塩化ベンジルオキシカルボニルのような対応
する酸塩化物）のわずかに過剰量を同時に加え、
塩基（例、水酸化ナトリウム）の溶液を反応中に
生成した酸（例、HCl）と反応させる。保護基を
導入するための試薬は溶液または純粋な形である
ことができ、そして好ましくは酸塩化物である。
反応が完了した後、過剰の保護基を導入する試薬
を除去し（たとえば、ジエチルエーテルまたは水
と不混和性の他の有機溶媒による抽出）、次いで
保護されたサルコシンを未反応のサルコシンから
酸（例、塩酸）で処理することにより単離する。
この酸処理は、保護されないサルコシンの塩基付
加塩を保護されないサルコシンの酸付加塩に変え
る。しかしながら、この酸処理は、酸化付加塩を
保護されたアミノ基のためにつくることができる
ので、保護されたサルコシン塩基付加塩を保護さ
れたサルコシンに変えるだけである。この保護さ
れたサルコシンは、水不溶性であり、保護されな
いサルコシンの塩から、たとえば、前述の不混和
性有機溶媒で抽出することにより、容易に分離さ
れる。ここで使用する、「不混和性有機溶媒」は、
水と混合しないすべての普通の実験室の有機溶
媒、たとえば、ジエチルエーテル、酢酸エチル、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどを包含する。
好ましい保護されたサルコシン、Ｎ−ジンジルオ
キシカルボニルサルコシンは既知化合物である。
その製造法は、R.S.TiptonおよびB.A.Pawson、
Ｊ．Org．Chem．26、4698（1961）に示されてお
り、そしてこの化合物は（たとえば、Bachem，
Inc.Torrance，CA.から）商業的に入手できる。 この保護されたサルコシンとＬ−チロシンアミ
ド分子とを結合させてフラグメントを製造する
とき、アミノ保護されたサルコシンを通常何らか
の方法で活性化して結合の形成を促進すべきであ
る。この活性化を実施する好ましい方法は「活性
エステル」の生成によるが、この分野で知られて
いる他の活性化法、たとえば、混合または対称の
無水物、アジドまたは酸塩化物の方法を用いるこ
とができる。 保護されたサルコシンのいかなる活性エステル
も使用できると考えられる；１つの好ましい活性
エステルはヒドロキシスクシンイミドにより形成
されたものである。保護されたサルコシンの活性
エステルは、当量の保護されたサルコシンおよび
活性エステル物質と適当な有機溶媒、たとえば、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ピリジンなどの溶液中で反応させるこ
とにより製造される。次いで、この溶液に当量の
カツプリング剤、典型的にはジシクロヘキシカル
ボジイミドを加える。他のカツプリング剤は有効
であるが、ジシクロヘキシカルボジイミドは、カ
ツプリング反応の副生物が使用する溶媒の群中に
非常に不溶性であり、それゆえ濾過により容易に
除去して、溶液中にカツプリングされた生成物を
残すことができるので、とくに有用である。 Ｌ−チロシンアミドは（たとえば、Sigma
Chemical Company，St.Louis，MOから）商業
的に入手することができまたは既知の方法で製造
できる。 フラグメントの製造における次の工程は、モ
ル当量のＬ−チロシンアミドを保護されたサルコ
シン活性エステルを１当量の塩形成物質、たとえ
ば、第三アミンの存在で反応させることからな
る。いかなる有機第三級アミンも使用することが
できるが、トリエチルアミンは好適に使用できる
ことがわかつた。この溶媒は前述の適当な有機溶
媒である。未反応のアミノ酸は反応混合物を酸
（例、酢酸）で処理し、前述の不混和性有機溶媒
で抽出して分離することにより除去する。 最終工程はサルコシンからα−アミノ保護基
を、好ましくはトリフルオロ酢酸で、除去してフ
ラグメントを生成せしめることである。 フラグメントの製造は、β−カルボキシ基が保
護されたＬ−アスパラギン酸またはγ−カルボキ
シ基が保護されたＬ−グルタミン酸を用いて一般
に出発する。このβまたはγ−カルボキシ基は、
認められている命名法に従い、それが連鎖の端に
存在することを示すために、一般に「ω基」と呼
ぶ。 適当なカルボキシ保護基は、ベンジルまたはフ
エニル基がハロ（例、クロロまたはブロモ）、ニ
トロ、C₁〜C₃低級アルコキシ（例、メトキシ）
及びC₁〜C₃低級アルキル（例、メチル）から選
ばれる１〜３員で置換されたベンジル基である。
このような基のそれ以上の説明については前記の
McOmieテキスト参照のこと。ベンジルが好まし
い。このβ−保護されたＬ−アスパラギン酸およ
びγ−保護されたＬ−グルタミン酸は、（たとえ
ば、Bachmen，Inc.，Torrance，Californiaか
ら）商業的に入手でき、あるいは既知の方法によ
り製造できる。 次いで、このβ−保護されたＬ−アスパラギン
酸またはγ−保護されたＬ−グルタミン酸（ω−
Ｕ−Ｚ）を、前述のように活性化され（たとえ
ば、活性エステルへの転化により）α−アミノ保
護されたサルコシンと反応させて、フラグメント
を生成せしめる。反応図２において、Ｚは、
ASPである。 フラグメントおよびを結合して、保護され
たテトラペプチド−α−Ｔ−SAR−β−Ｕ−
ASP−SAR−TYR−HN₂（フラグメント）は、
当量を適当なプロトン溶媒、たとえば、ジメチル
ホルムアミド中でわずかに過剰のカツプリング
剤、たとえば、ジシクロヘキシルカルボジイミド
の存在で反応させることにより生成する。また、
この反応は、フラグメントのＬ−リシン部分上
のカルボキシル基に隣接するラセミ化を最小に
し、かつ反応速度を増大させる物質、たとえば、
１−ヒドロキシベンゾトリアゾールの存在で実施
することが好ましい。フラグメントの場合のよ
うに、フラグメントのサクロシン残基上のα−
アミノ保護基はトリフルオロ酢酸で除去してフラ
グメントＡを生成する。 最後に、フラグメントおよびを接合するた
めに使用したカツプリング反応に類似したカツプ
リング反応に従い、α−アミノおよびグアニジノ
保護されたＬ−アルギニン残基をフラグメント
Ａのアシノ末端に接合し、これはすべての保護基
を除去した後所望のペンタペプチドアミドを生成
する。保護基の除去は、たとえば、炭素担持パラ
ジウムの存在で、前述のような適当な溶媒（好ま
しくは水性酸）の存在で水素ガスで処理すること
により達成できる。水素ガスは１気圧よりも高い
圧力である必要はないが、圧力の使用は還元速度
を加速するので好適である。 生ずる不純な生成物の単離および精製は、結晶
化とイオン交換クロマトグラフイー（好ましくは
溶離剤として酢酸アンモニウム−PH５を用いる）
との組み合わせにより、薄層クロマトグラフイー
を用いて各フラクシヨン中の物質の同一性を監視
して実施できる。いくつかの単離および精製法は
次の実施例に記載されているが、他の方法を使用
することもできることは明らかである。 また、本発明の範囲内には、本発明の主題の方
法を実施するために有用な組成物（たとえば、フ
ラグメント、、、Ａおよび他の中間体）
ならびに保護された生成物が包含される。 実施例 フラグメント：SAR−TYR−NH₂の製造 Ａ：BOC−サルコシン−ヒドロキシスクシンイ
ミドエステル（BOC−SAR−OSu） BOC−サルコシン（24.78g、0.13モル）とＮ−
ヒドロキシスクシンイミド（15.5g、0.13モル）
を、300mlの乾燥THF中に溶かし、−５℃に冷却
した。100mlの乾燥THF中のジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（26.98g、0.13モル）の溶液を、15
分間かけて加えた。生ずる反応混合物を一夜かき
まぜ、放置して周囲温度にした。固体を濾過によ
り除去し、溶媒を減圧蒸発すると、白色固体が得
られた。この固体を250mlの無水エタノールから
４℃で結晶化させて、32g（85％）の白色固体を
得た、融点121−123℃。 分析：計算値：Ｃ，50.35；Ｈ，6.34；Ｎ，9.79 実測値：Ｃ，50.23；Ｈ，6.44；Ｎ，9.67 TLC：Rf＝0.81、CHCl₃／MeOH9／１ （シリカゲル G.250ミクロン） p.m.r.（δ，CDCl₃）：1.45、Ｓ，9H、 BOC；2.83、Ｓ，4H、−OSu：2.93、Ｓ，3H、Ｎ
−CH₃；4.27、Ｓ，2H、−CH₂−。 M.S.：Ｍ＋286 Ｂ BOC−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（BOC−SAR−TYR−NH₂） Ｌ−チロシンアミド（2.17g、10ミリモル）お
よびトリエチルアミン（1.01g、10ミリモル）を
25mlの乾燥メタノール中に溶かした。BOC−サ
ルコシルヒドロキシスクシンイミド（2.86g、10
ミリモル）を加え、この反応混合物を一夜周囲温
度でかきまぜた。揮発性物質を減圧除去し、残留
物をEtOAc（50ml）とNaCl溶液［50ml（25ml
H₂Ｏ＋25ml 飽和NaCl）］との間に分配した。
相を分離し、有機相を同じ組成のNaCl溶液でさ
らに２回洗い、次いでMgSO₄で乾燥した。乾燥
剤を濾過により除去し、溶媒を減圧除去し。残留
物をシリカール（Silicar）CC7の75g、１インチ
（2.51cm）のカラムで、溶離剤として酢酸エチル
を用いて、クロマトグラフイーにかけた。化合物
は390mlで現われ始めた。次の475mlを集め、蒸発
乾固して、1.55g（44％）の白色固体を得た。 分析：計算値：Ｃ，58.11；Ｈ，7.17；Ｎ，11.96 実測値：Ｃ，57.96；Ｈ，6.96；Ｎ，11.45 TLC：（シリカゲル GF）Rf＝0.46 CHCl₃／MeOH ９／１ Ｃ サルコシル−Ｌ−チロシンアミド、トリフル
オロアセテート（TFA−SAR−TYR−NH₂） BOC−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（1.30g、3.7ミリモル）を０℃において15mlトリ
フルオロ酢酸に溶かした。溶液を０℃で１時間か
きまぜ、溶媒を減圧除去した。生ずる油を50mlの
無水物エーテルで粉砕して1.27g（94％）の白色固
体を得た。 p.m.r.（δ，CD₃OD）：2.3、Ｓ，3H，Ｎ−CH₃；
3.00、ｄ，2H，−CH₂−Ｃ−；3.7、Ｓ，2H、−Ｎ
−CH₂−Ｃ＝Ｏ；6.9；ｑ，4H，芳香族 実施例 フラグメント：BOC−SAR−β−ベンジル−
ASP（BOC−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−
アスパラギン酸）の製造 トリエチルアミン（2.02g、20ミリモル）およ
びβ−ベンジル−Ｌ−アスパラギン酸（2.23g、
10ミリモル）を、50mlの乾燥THF中でかきまぜ
た。BOC−サルコシル−ヒドロキシスクシンイ
ミドエステル（2.68g、10ミリモル）を加え、こ
の溶液を周囲温度で一夜でかきまぜた。固体を濾
過により除去し、溶媒を減圧除去した。残留物を
酢酸エチル（100ml）と2NHCl（100ml）との間に
分配した。相を分離し、有機相を水（２×100
ml）、飽和NaCl溶液（１×100ml）で洗浄し、乾
燥（MgSO₄）した。乾燥剤を濾過により除去し、
溶媒を減圧除去した。残留物をヘキサンで粉砕し
た。ヘキサンをデカンテーションし、残留物を減
圧乾燥して2.64g（67％）の吸湿性固体を得た。 TLC：Rf＝0.73＋0.48における微量の不純物 CHCl₃／MeOH／HOAc 85／10／５ （シリカゲル Ｇ，250ミクロン） p.m.r.（δ，CH₃OD）：1.45、Ｓ，9H、BOC；
2.82、Ｓ，3H，Ｎ−CH₃；2.95、Ｍ，2H，−ＣH₂
−Ｃ；3.85、Ｓ，2H、−Ｎ−CH₂−Ｃ＝Ｏ；4.85，
ｔ，1H，−CH−；5.08、Ｓ，2H，−ＣH₂ ；5.46、
Ｓ，2H，−NH＋−CH₂Ｈ；7.38、Ｓ，5H、− ［α］_D17°＝＋13.3（Ｃ＝1.032，MeOH） 実施例 フラグメント：BOC−サルコシル−β−ベン
ジル−Ｌ−アスパラチル−サルコシル−Ｌ−チ
ロシンアミド（BOC−SAR−β−Bzl−ASP
−SAR−TYR−NH₂）の製造 BOC−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パラギン酸（0.52g、1.3ミリモル）および１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール１水和物（0.18g、
1.3ミリモル）を10mlの乾燥DM中に溶かし、こ
の溶液を０℃に冷却した。7.5mlの乾燥DMF中の
ジシクロヘキシルカルボジイミド（0.27g、1.3ミ
リモル）を加え、生ずる溶液を０℃で１時間かき
まぜた。サルコシル−Ｌ−チロシンアミド、トリ
フルオロアセテート（0.50g、1.3ミリモル）およ
びジイソプロピルエチルアミン（0.17g、1.3ミリ
モル）を５mlの乾燥DMF中に溶かし、第１溶液
に直ちに加えた。この反応混合物を一夜かきま
ぜ、周囲温度に到達させた。固体を濾過により除
去し、残留物を25mlの酢酸エチル中に溶かした。
有機相を連続して10％のクエン酸（２×25ml）、
水（２×25ml）、５％のNaHCO₃（２×25ml）、H₂
Ｏ（２×25ml），飽和NaCl（25ml）で洗浄し、無水
MgSO₄で乾燥した。乾燥剤を濾過により除去し、
溶媒を減圧除去して0.6g（73.5％）の白色固体を
得た。 TLC：Rf＝0.31 CHCl₃／MeOH ９／１ （シリカゲル G.250ミクロン） p.m.r.（δ，CDCl₃）：1.45、Ｓ，9H、BOC；
2.95、ｍ，10H，2xN−CH₂，−ＣH₂ −CH
（Asp），−CH₂−CH（Tyr）；3.8、ｍ，4H，2xN
−CH₂−Ｃ＝Ｏ−；4.6、ｍ，2H，−ＣＨ−CH₂
−，Asp，−ＣＨ−CH₂−（Tyr）；5.1、ｍ，2H，
−CH₂−；6.92、ｑ，4H，チロジンの芳香
族：7.25、Ｓ，5H，芳香族ベンジル［α］²¹ _D°＝
12.4°（Ｃ＝0.1049、MeOH） 分析：C₃₁H₄₁N₅O₉についての計算値： 実測値：Ｃ，59.32；Ｈ，6.58；Ｎ，11.16 Ｃ，58.73；Ｈ，6.80；Ｎ，10.76 実施例 フラグメントＡ：サルコシル−β−ベンジル
−Ｌ−アスパラチル−サルコシル−Ｌ−チロシ
ンアミド、トリフルオロアセテート（TFA−
SAR−β−Bzl−ASP−SAR−TYR−NH₂） BOC−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パラチル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（0.48g、0.76ミリモル）を10mlのTFA中に溶か
し、０℃で１時間かきまぜた。溶媒を減圧除去
し、残留物を一夜50mlの無水エーテルで粉砕し
た。懸濁液を濾過し、固体をエーテルでよく洗
い、真空乾燥して0.4ｇ（82％）の白色固体を得
た。 TLC：Rf＝0.56 ｎ−BuOH／HOAc／H₂Ｏ （シリカゲル GF） 実施例 ペンタペプチドの製造 Ａ α−フエニルメトキシカルボニル−Ｌ−アル
ギニル（HCl）−サルコシル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパラチル−サルコシル−Ｌ−チロシン
アミド［CBZ−ARG（HCl）−SAR−β−Bzl
−ASP−SAR−TYR−NH₂］ α−フエニルメトキシカルボニル−Ｌ−アルギ
ニンHCl（2.66g、7.8ミリモル）と１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール１水和物（1.06g、7.8ミリモ
ル）を、20mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶か
し、０℃に冷却した。ジシクロヘキシルカルボジ
イミド（1.61g、7.8ミリモル）を５mlに溶かし、
第１溶液に加えた。生ずる反応混合物を０℃で１
時間かきまぜた。サルコシル−β−ベンジル−Ｌ
−アスパラチル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミ
ドのTFA塩（5.0g、7.8ミリモル）を15mlの乾燥
DMF中にトリエチルアミン（0.79g、7.8ミリモ
ル）と一緒に溶かし、第１溶液に加えた。この反
応混合物を一夜かきまぜ、周囲温度に到達させ
た。この固体を濾過により除去し、揮発性物質を
減圧除去した。残留物を水で粉砕して残留物
（3g）を得た。 TLC：Rf＝0.60 ｎ−BuOH／HOAc／H₂Ｏ ３／１／１ （シリカゲル GF） Ｂ Ｌ−アルギニル−サルコシル−Ｌ−アスパラ
チル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（ARG−SAR−ASP−SAR−TYR−NH₂） α−フエニルメトキシカルボニル−Ｌ−アルギ
ニル（HCl）−サルコシル−β−ベンジル−Ｌ−
アスパラチル−サルコシル−Ｌ−チロシンアミド
（1.0g）を100mlの75％の水性酢酸中に溶かし、
0.5gの10％Pd／Ｃの存在で50psi（3.5Kg／cm²）に
おいて15時間還元した。触媒を濾過により除去
し、溶液を凍結乾燥して0.8ｇを得た。この物質
を７mlの水中に溶かし、3μの多孔質フイルター
に通して濾過し、PH５にNH₄OH（濃）で調整し、
SP−Ｃ−25カラム（2.5×100cm）で0.20モルの
NH₄OAc、PH5.0、100ml／時、20ml／管を用い
て、クロマトグラフイーにかけた。管71〜78をプ
ールし、凍結乾燥して、0.35gのArg−Sar−Asp
−Sar−Tyr−NH₂を得た。 TLC：Rf＝0.23 ｎ−BuOH／HOAc／H₂Ｏ ３／１／１ （シリカゲル GF） ［α］²¹ _D°＝＋54.9（Ｃ＝0.091、0.1ＮHOAc） 上の実施例において製造したペンタペプチドの
すべては、前記の米国特許および公開公報に開示
されたTP5と同一の薬理学的活性を有する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 α−Ｔ−ω−HCl−ARG−SAR−ω−Ｕ−
   ASP−SAR−TYR−NH₂ 式中、 Ｔは【式】であり、ここで R₁はベンジル、フエニル環がハロ、ニトロ、
   低級アルキル及び低級アルコキシから選ばれる１
   〜３個の置換基で置換されたベンジル、又はｔ−
   ブチルであり；そして Ｕはベンジル又はフエニル基がハロ、ニトロ、
   C₁〜C₃低級アルキル及びC₁〜C₃低級アルコキシ
   から選ばれる１〜３個の置換基で置換されたベン
   ジルである、 で示される保護されたペンタペプチド。 ２ Ｔが【式】であり、ここでR₁はベンジ ルであり、そしてＵがβ−ベンジルである特許請
   求範囲の第１項記載のペンタペプチド。 ３ 式 α−Ｔ−ω−HCl−ARG−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−
   Ｙ−TYR−Ｒ 式中、 Ｘ及びＹは両方ともSARであり； ＺはASPであり； Ｔは【式】であり、ここで R₁はベンジル、フエニル環がハロ、ニトロ、
   低級アルキル及び低級アルコキシから選ばれる１
   〜３個の置換基で置換されたベンジル、又はｔ−
   ブチルであり； Ｕはベンジル又はフエニル基がハロ、ニトロ、
   C₁〜C₃低級アルキル及びC₁〜C₃低級アルコキシ
   から選ばれる１〜３個の置換基で置換されたベン
   ジルであり；そして ＲはNH₂である、 のペプチドを製造するにあたり、 (a) Ｈ−Ｙ−TYR−Ｒから成るフラグメント
   を、 Ｙアミノ酸のα−アミノ基を、保護基Ｔを
   導入する試薬と反応させることにより保護
   し； 工程において生成した保護されたＹを、
   アミンによるカルボキシ基における親核攻撃
   に関して活性化して、カルボキシ−活性化さ
   れ保護されたＹアミノ酸を生成せしめ； 前記カルボキシ−活性化され保護されたＹ
   をTYR−Ｒと反応させ； そして 保護基Ｔを除去し、これによりフラグメン
   トを生成せしめる、 ことによつて生成せしめ； (b) α−Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−OH から成るフラグメントを、 ω−Ｕ−Ｚ−OH（式中、ＵはＺアミノ酸
   のω−カルボキシ基の保護基である）を製造
   し； Ｘアミノ酸のα−アミノ基を、保護基Ｔを
   導入する試薬と反応させることにより保護
   し； 工程において生成した保護されたＸを、
   アミンによるカルボキシ基における親核攻撃
   に関して活性化して、カルボキシ−活性化さ
   れ保護されたＸアミノ酸を生成せしめ；そし
   て 前記カルボキシ−活性化され保護されたＸ
   アミノ酸をω−Ｕ−Ｚ−OHと反応させ、こ
   れによりフラグメントを生成せしめる、 ことによつて生成せしめ； (c) フラグメントおよびフラグメントを反応
   させて、Ｔ−Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒ
   から成るフラグメントを生成せしめ； (d) フラグメントからＴ保護基を除去して、Ｈ
   −Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒから成るフ
   ラグメントＡを生成せしめ； (e) α−Ｔ−ω−T′−ARG（式中、ＴはＬ−アル
   ギニンのα−アミノ基の保護基であり、そして
   T′はＬ−アルギニンのグアニジノ基の保護基
   である）を製造し；そして (f) フラグメントＡをα−Ｔ−ω−HCl−
   ARGと反応させてα−Ｔ−ω−HCl−ARG−
   Ｘ−ω−Ｕ−Ｚ−Ｙ−TYR−Ｒを生成せしめ
   る； ことを特徴とする前記ペプチドの製造方法。 ４ Ｔが【式】であり、ここで、R₁はベン ジルであり、Ｕがβ−ベンジルである特許請求の
   範囲第３項記載の方法。