JPH013083A - Silicon carbide porous material and its manufacturing method - Google Patents

Silicon carbide porous material and its manufacturing method

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JPH013083A
JPH013083A JP62-157521A JP15752187A JPH013083A JP H013083 A JPH013083 A JP H013083A JP 15752187 A JP15752187 A JP 15752187A JP H013083 A JPH013083 A JP H013083A
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JP
Japan
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silicon carbide
porous
surface layer
porous body
oxidizing atmosphere
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JP62-157521A
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浩司 加古
喜田 徹
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Tokai Carbon Co Ltd
Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokai Carbon Co Ltd
Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、触媒担体、ろ適用フィルター、熱交換器用部
材等に用いられる炭化けい素多孔質体およびその製造方
法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a porous silicon carbide body used as a catalyst carrier, a filter for filtration, a member for a heat exchanger, etc., and a method for producing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、炭化けい素多孔質体とその製造方法としては、次
のような先行技術が知られている。
Conventionally, the following prior art techniques have been known for silicon carbide porous bodies and methods for producing the same.

(1)  炭素または炭素と炭化けい素からなる成形体
に、けい素を反応させる方法(特開昭48−39515
号、特開昭57−160971号、特開昭59−162
178号、特開昭60−86074号、特開昭60−9
0868号、特開昭61−10068号、特開昭615
2107号)。
(1) A method of reacting silicon with a molded body made of carbon or carbon and silicon carbide (Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-39515
No., JP-A-57-160971, JP-A-59-162
No. 178, JP-A-60-86074, JP-A-60-9
No. 0868, JP-A-61-10068, JP-A-615
No. 2107).

(2)β型炭化けい素麺微粉末に多結晶炭化けい素粉末
を混合・成形し、焼成する方法(特開昭61−1747
2号、特開昭61−53163号)。
(2) A method of mixing β-type silicon carbide somen fine powder with polycrystalline silicon carbide powder, molding it, and baking it (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-1747
No. 2, Japanese Patent Publication No. 61-53163).

(3)有機高分子発泡体を利用して、炭化けい素のセル
状骨格構造を形成する方法(特開昭58−122016
号、特開昭61−14181号、特開昭61−2572
17号)。
(3) Method of forming a cellular skeleton structure of silicon carbide using organic polymer foam (Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-122016
No., JP-A-61-14181, JP-A-61-2572
No. 17).

(4)β型炭化けい素粉末を出発原料とし、結晶成長助
剤を加え、あるいは加えずに、焼成する方法(特開昭6
0−255671号、特開昭60−264365号、特
開昭61−91076号、特開昭61−191575号
)。
(4) A method in which β-type silicon carbide powder is used as a starting material and is fired with or without adding a crystal growth aid (Unexamined Japanese Patent Publication No. 6
0-255671, JP-A-60-264365, JP-A-61-91076, JP-A-61-191575).

これらの方法で製造される炭化けい素多孔質体の構造は
、略3次元網目構造を持つものである。
The structure of the silicon carbide porous body produced by these methods has a substantially three-dimensional network structure.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、(1)の方法で製造される炭化けい素多
孔質体は、C+Si−*SiCなる反応により炭化けい
素を合成・焼結する故に、生成する炭化けい素の粒径を
制御する事は困難である。また、生成する炭化けい素の
形状は、粒状で、粒の一部が他の粒の一部と結合した状
態の炭化けい素多孔質体である。
However, in the silicon carbide porous body produced by method (1), silicon carbide is synthesized and sintered by the reaction C+Si-*SiC, so it is not possible to control the particle size of the silicon carbide produced. Have difficulty. Further, the shape of the silicon carbide produced is granular, and a porous silicon carbide body is formed in which a part of the grain is combined with a part of another grain.

この炭化けい素多孔質体の気孔率は、25〜35%程度
で、比較的小さい。このため、多孔質体中を流体が通過
する際の抵抗は、極めて高い。
The porosity of this porous silicon carbide body is about 25 to 35%, which is relatively small. Therefore, the resistance when fluid passes through the porous body is extremely high.

一方、多孔質体中を流体が通過する際の抵抗を低く抑え
るためには、気孔率を高くしなければならない。しかし
、気孔率を高くするためには、生成する炭化けい素の量
を少なくする必要があるfこめ、焼結体の強度が著しく
低下する。
On the other hand, in order to keep the resistance low when fluid passes through the porous body, the porosity must be increased. However, in order to increase the porosity, it is necessary to reduce the amount of silicon carbide produced, which significantly reduces the strength of the sintered body.

(2)の方法で製造される炭化けい素多孔質体は、β型
炭化けい素麺微粉末を多結晶炭化けい素粒どうしの結合
材として使用している。この場合、骨材となる多結晶炭
化けい素粒の配置によって、気孔率がほぼ決定する。多
結晶炭化けい素の粒間距離が小さければ、β型炭化けい
素麺微粉末結合材が少量で多孔質体を得られるが、その
気孔率は小さくなる。
The silicon carbide porous body produced by method (2) uses β-type silicon carbide fine powder as a binding material between polycrystalline silicon carbide grains. In this case, the porosity is approximately determined by the arrangement of polycrystalline silicon carbide grains that serve as the aggregate. If the distance between grains of polycrystalline silicon carbide is small, a porous body can be obtained with a small amount of β-type silicon carbide fine powder binder, but the porosity will be small.

また、多結晶炭化けい素の粒間距離を大きくすると、粒
どうしを結合するため、β型炭化けい素麺微粉末結合材
を多量に必要とする。結合材は、焼結後もそのまま残存
するため、極端な場合は、多結晶炭化けい素どうしの隙
間(気孔)に結合材が充填してしまい、やはり気孔率は
小さくなる。
Furthermore, when the distance between grains of polycrystalline silicon carbide is increased, a large amount of β-type silicon carbide fine powder binder is required to bond the grains together. Since the binding material remains as it is even after sintering, in extreme cases, the binding material will fill the gaps (pores) between polycrystalline silicon carbide, resulting in a decrease in porosity.

(3)の方法で製造される炭化けい素多孔質体は、大小
のセル状骨格から構成される。このため、高気孔率の多
孔質体が得られるが、比較的低い強度のものしか得られ
ない。
The silicon carbide porous body produced by the method (3) is composed of large and small cellular skeletons. For this reason, a porous body with high porosity can be obtained, but only one with relatively low strength can be obtained.

(4)の方法で製造される炭化けい素多孔質体は、板状
結晶がからみ合った3次元網目構造をとる。
The silicon carbide porous body produced by the method (4) has a three-dimensional network structure in which plate crystals are entangled.

この多孔質体は、上記問題点を幾分改良している。This porous body somewhat improves the above problems.

しかし、出発原料が、粒状であるが故に、多孔質体内部
にわたって均一に板状結晶を成長させることは困難であ
る。特に、大型の多孔質体を製造する場合、多孔質体の
中央部に板状に成長できず、粒状のままの炭化けい素が
残存してしまう傾向があった。
However, since the starting material is granular, it is difficult to uniformly grow plate crystals throughout the interior of the porous body. In particular, when producing a large porous body, silicon carbide tends to remain in the form of particles without being able to grow into a plate shape in the center of the porous body.

この多孔質体が、比較的高強度であるのは、多孔質体内
部に残存する粒状炭化けい素によるところが大きく、板
状結晶がからみ合う表面層は、それほど強度が大きい訳
ではない。
The relatively high strength of this porous body is largely due to the granular silicon carbide remaining inside the porous body, and the surface layer in which the plate crystals are entangled does not have such high strength.

したがって、表面層の摩耗か大きく、表面層が簡単にか
けてしまう等の問題があった。
Therefore, there were problems such as the surface layer being heavily worn and easily worn away.

本発明は、上述の問題点を解決するため、多孔質体の構
成を二重構造にすることによって、高強度かつ高気孔率
を併有する新規な炭化けい素多孔質体およびその製造方
法を提供するものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a novel silicon carbide porous body that has both high strength and high porosity by making the porous body have a double structure, and a method for manufacturing the same. It is something to do.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち、本発明の炭化けい素多孔質体は、からみあっ
た炭化けい素ウィスカーで構成された内層部と、粒子状
炭化けい素で構成された表層部とが一体的に形成されて
成ることを特徴とし、またその製造方法は、炭化けい素
ウィスカーの成形体に熱硬化性樹脂を含浸し、非酸化性
雰囲気中、800〜1200℃に加熱して熱硬化性樹脂
を焼成炭化し、次いで酸化雰囲気中800℃に加熱して
表層部の炭素を燃焼除去した後、非酸化性雰囲気中、1
800〜2200°Cで熱処理し、次いで酸化雰囲気中
800℃以下に加熱して多孔質体の遊離炭素を燃焼除去
することを特徴とする特許ある。
That is, the silicon carbide porous body of the present invention is characterized in that an inner layer portion made of entangled silicon carbide whiskers and a surface layer portion made of particulate silicon carbide are integrally formed. The manufacturing method is to impregnate a molded silicon carbide whisker with a thermosetting resin, heat it to 800 to 1200°C in a non-oxidizing atmosphere to carbonize the thermosetting resin, and then heat it in an oxidizing atmosphere. After heating to 800°C in a non-oxidizing atmosphere to burn off the carbon in the surface layer,
There is a patent which is characterized in that the porous body is heat treated at 800 to 2200°C, and then heated to 800°C or lower in an oxidizing atmosphere to burn off free carbon in the porous body.

次に、本発明を図面により説明する。第1図は本発明の
炭化けい素多孔質体を例示した断面図である。
Next, the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating the silicon carbide porous body of the present invention.

第1図において、lは、粒子状炭化けい素で構成された
表層部、2は、からみあった炭化けい素ウィスカーで構
成された内層部である。
In FIG. 1, 1 is a surface layer made of particulate silicon carbide, and 2 is an inner layer made of entangled silicon carbide whiskers.

炭化けい素ウィスカーは、直径0.1〜1.0μI長さ
30〜100μmの針状単結晶からなる微細繊維状物質
であり、本発明の炭化けい素多孔質体は、この炭化けい
素ウィスカーをからみ合せて、所望の形状・空隙率に形
成した成形体を用いて炭化けい素多孔質体とするもので
ある。しかしながら、この成形体は、炭化けい素ウィス
カー相互のからみ合いにより形成されるので、それ自体
の強度は、十分なものではない。そこで、成形体の表層
部を焼結した粒子状炭化けい素で構成することにより、
強度向上をはかるものである。
Silicon carbide whiskers are fine fibrous substances made of needle-like single crystals with a diameter of 0.1 to 1.0 μm and a length of 30 to 100 μm. A porous silicon carbide body is obtained by intertwining molded bodies formed into a desired shape and porosity. However, since this molded body is formed by intertwining silicon carbide whiskers with each other, the strength itself is not sufficient. Therefore, by composing the surface layer of the molded body with sintered particulate silicon carbide,
This is intended to improve strength.

この炭化けい素多孔質体は、次の方法で製造することが
できる。
This porous silicon carbide body can be manufactured by the following method.

まず、炭化けい素ウィスカーを水あるいは有機溶媒等の
適当な分散媒に均一に分散させたのち、ろ過し、所定形
状の成形体を得る。このとき、成形時の成形圧を変える
ことにより、成形体の空隙率を調節制御することができ
る。
First, silicon carbide whiskers are uniformly dispersed in a suitable dispersion medium such as water or an organic solvent, and then filtered to obtain a molded body of a predetermined shape. At this time, the porosity of the molded body can be adjusted and controlled by changing the molding pressure during molding.

次いで、成形体に熱硬化性樹脂を含浸し、アルゴン、窒
素等の非酸化性雰囲気中800〜1200℃に加熱して
、熱硬化性樹脂を焼成炭化する。このようにして、炭素
が均一に分散した炭化けい素ウィスカー成形体を得る。
Next, the molded body is impregnated with a thermosetting resin and heated to 800 to 1200° C. in a non-oxidizing atmosphere such as argon or nitrogen to sinter and carbonize the thermosetting resin. In this way, a silicon carbide whisker molded body in which carbon is uniformly dispersed is obtained.

この場合、熱硬化性樹脂をアルコール、エーテル等の有
機溶媒に溶解して粘度を下げると含浸操作が容易になり
、かつ均一に含浸させることができるので好ましい。有
機溶媒は、100℃前後に加熱して揮散除去する。
In this case, it is preferable to lower the viscosity by dissolving the thermosetting resin in an organic solvent such as alcohol or ether, since this facilitates the impregnation operation and enables uniform impregnation. The organic solvent is vaporized and removed by heating to around 100°C.

次いで、酸化性雰囲気中800℃以下の温度で適宜時間
加熱処理して成形体表層部に分散する炭素を燃焼除去し
た後、アルゴン、窒素等の非酸化性雰囲気中1800〜
2200℃で熱処理すると、成形体表層部の炭化けい素
ウィスカーは、粒子状に転化し、粒子の一部どうしが接
触・焼結し、高強度の表層部が形成する。炭素は、炭化
けい素の粒子化を抑制するため、内層部は、ウィスカー
状に保たれ、表層部のみが粒子化する。この場合、ひ在
する炭素が10重量%を下回ると、炭化けい素の粒子化
抑制効果が十分でないため、好ましくない。熱処理温度
を1800〜2200℃に設定するのは、熱処理温度が
、1800°Cを下回る場合は、表層部のウィスカーの
粒子化が十分でなく、2200°Cを」二回る場合は、
内層部にまで粒子化が進むjコめに気孔率が低下し、か
つ多孔質体の機能を低下させる閉気孔が形成されやすい
ためである。
Next, heat treatment is performed at a temperature of 800°C or less in an oxidizing atmosphere for an appropriate time to burn off the carbon dispersed in the surface layer of the compact, and then heat treatment is performed at a temperature of 1800°C or less in a non-oxidizing atmosphere such as argon or nitrogen.
When heat-treated at 2200° C., the silicon carbide whiskers in the surface layer of the compact are converted into particles, and some of the particles come into contact and sinter, forming a high-strength surface layer. Since carbon suppresses silicon carbide from becoming particulate, the inner layer is kept whisker-like and only the surface part becomes particulate. In this case, if the amount of carbon present is less than 10% by weight, the effect of suppressing the formation of silicon carbide particles will not be sufficient, which is not preferable. The heat treatment temperature is set at 1,800 to 2,200°C.If the heat treatment temperature is lower than 1,800°C, the whiskers in the surface layer will not be sufficiently granulated.
This is because as the particle formation progresses to the inner layer portion, the porosity decreases and closed pores are likely to be formed which deteriorate the function of the porous body.

次いで、酸化性雰囲気中800℃以下の温度で適宜時間
加熱処理して多孔質体中に残存する粒子化抑制剤として
の遊離炭素を燃焼除去することによって、炭化けい素多
孔質体を得ることができる。
Next, a silicon carbide porous body can be obtained by heat treatment in an oxidizing atmosphere at a temperature of 800° C. or less for an appropriate time to burn off free carbon as a particulate inhibitor remaining in the porous body. can.

また、はう素、アルミニウム等の焼結促進剤を表層部に
介在させると、表層部をより高強度にすることができる
。焼結促進剤は、溶液もしくは、分散液きして表層部に
介在させることができる。
Further, by interposing a sintering accelerator such as boron or aluminum in the surface layer, the strength of the surface layer can be increased. The sintering accelerator can be present in the surface layer in the form of a solution or a dispersion.

〔作 用〕[For production]

上記構成に基づき、本発明の炭化けい素多孔質体は、内
層部はからみあったウィスカーが集合した成形体で構成
され、表層部は粒子の一部どうしが接触した焼結体で構
成され、両者が一体的に形成されているので、ウィスカ
ー成形体による高気孔率ならびに粒子の一部どうしが接
触した焼結体による高強度化がはかれる。また、多孔質
体の気孔率らウィスカー成形体の成形時に容易に調節制
御することができる。この炭化けい素多孔質体は、炭素
の有する粒子化抑制効果を巧みに利用して成形体表層部
のみを粒子化焼結することができる。
Based on the above structure, the silicon carbide porous body of the present invention is constructed such that the inner layer part is composed of a molded body in which intertwined whiskers are aggregated, and the surface layer part is composed of a sintered body in which some of the particles are in contact with each other. Since they are integrally formed, high porosity can be achieved by the whisker molded body, and high strength can be achieved by the sintered body in which some of the particles are in contact with each other. Further, the porosity of the porous body can be easily adjusted and controlled during molding of the whisker molded product. In this porous silicon carbide body, only the surface layer of the molded body can be sintered to form particles by skillfully utilizing the particle formation suppressing effect of carbon.

〔実施例〕〔Example〕

次に、実施例により本発明を説明する。 Next, the present invention will be explained by examples.

実施例1 直径0.1〜1.0μ訳、長さ30〜100μ次の炭化
けい素ウィスカーをエタノール中に分散・混合した後ろ
過・乾燥し、次いで成形して50mxX50xix 5
0rix、重さ609の炭化けい素ウィスカー成形体を
得た。この炭化けい素ウィスカー成形体の気孔率は85
%であった。
Example 1 Silicon carbide whiskers with a diameter of 0.1 to 1.0μ and a length of 30 to 100μ are dispersed and mixed in ethanol, filtered and dried, and then molded to a size of 50m x 50xix 5.
A silicon carbide whisker molded body having a temperature of 0rix and a weight of 609 was obtained. The porosity of this silicon carbide whisker molded body is 85
%Met.

該炭化けい素ウィスカー成形体に、フェノール樹脂25
gをエタノール25肩gに溶解した溶液を含浸した。次
いで200℃で乾燥・硬化後アルゴン雰囲気中900 
’C1時間焼成炭化した。このときの炭素分は、炭化け
い素ウィスカー成形体に対して20重量%であった。
Phenol resin 25 is added to the silicon carbide whisker molded body.
It was impregnated with a solution prepared by dissolving 25 g of ethanol in 25 g of ethanol. Then, after drying and curing at 200°C, 900°C in an argon atmosphere.
'C was fired and carbonized for 1 hour. The carbon content at this time was 20% by weight based on the silicon carbide whisker molded body.

次いで空気中700°Cに5分保持し、成形体表層部の
炭素を燃焼除去した後アルゴン雰囲気中1900℃で1
時間熱処理して焼結した。
Next, the molded body was held at 700°C for 5 minutes in air to burn off the carbon on the surface layer, and then heated at 1900°C in an argon atmosphere for 1 hour.
It was heat treated and sintered for a period of time.

次いで空気中700°Cに2時間保持し、多孔質体の遊
離炭素を燃焼除去した。
The porous body was then held at 700°C for 2 hours to burn off free carbon.

得られた炭化けい素多孔質体は、気孔率85%、圧縮強
度300kg/cx”であった。この炭化けい素多孔質
体を切断し、断面の観察を行ったところ、表層部は厚さ
2 、1 xmの粒状炭化けい素であり、内層部は炭化
けい素ウィスカーかからみあった二重構造の炭化けい素
多孔質体であった。
The obtained porous silicon carbide body had a porosity of 85% and a compressive strength of 300 kg/cx. When this porous silicon carbide body was cut and the cross section was observed, the thickness of the surface layer was It was granular silicon carbide with a diameter of 2.1 x m, and the inner layer was a porous silicon carbide body with a double structure intertwined with silicon carbide whiskers.

実施例2 実施例1と同様にして、炭化けい素ウィスカー成形体に
フェノール樹脂を含浸・乾燥・硬化した後、焼成炭化し
た。次いでエタノール中に分散したアモルファスボロン
を塗布した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a silicon carbide whisker molded body was impregnated with a phenol resin, dried, and hardened, and then fired and carbonized. Amorphous boron dispersed in ethanol was then applied.

乾燥後、アルゴン雰囲気中2000℃で1時間焼結した
After drying, it was sintered at 2000° C. for 1 hour in an argon atmosphere.

得られた炭化けい素多孔質体は、気孔率8・1%、圧縮
強度410kg/cm″であった。この炭化けい素多孔
質体を切断し、断面の観察を行ったところ、表層部は厚
さ2 、4 sIlの粒状炭化けい素で、内部は炭化け
い素ウィスカーかからみあった二m +rlt造の炭化
けい素多孔質体であった。
The obtained porous silicon carbide body had a porosity of 8.1% and a compressive strength of 410 kg/cm''. When this porous silicon carbide body was cut and the cross section was observed, the surface layer was It was made of granular silicon carbide with a thickness of 2.4 sIl, and the inside was a 2 m+rlt porous silicon carbide body intertwined with silicon carbide whiskers.

比較例1 実施例1と同様にして成形した炭化けい素ウィスカー成
形体に樹脂を含浸しないで、そのままアルゴン雰囲気中
1900℃で1時間焼結しfコ。
Comparative Example 1 A silicon carbide whisker molded body molded in the same manner as in Example 1 was sintered as it was at 1900° C. for 1 hour in an argon atmosphere without impregnating it with resin.

得られた炭化けい素多孔質体は、気孔率85%、圧縮強
度63に9/cyt”であった。断面観察の結果、多孔
質体全体にわたって粒状炭化けい素か観察された。
The obtained porous silicon carbide body had a porosity of 85% and a compressive strength of 63/cyt''. As a result of cross-sectional observation, granular silicon carbide was observed throughout the porous body.

比較例2 焼成温度のみを2300℃にし、他は、実施例2と全く
同様にして炭化けい素多孔質体を得た。
Comparative Example 2 A porous silicon carbide body was obtained in the same manner as in Example 2 except that only the firing temperature was set to 2300°C.

得られた炭化けい素多孔質体は、気孔率75%、圧縮強
度410 kg/cm”であった。断面観察の結果、表
面層の厚さは5MRで閉気孔が多く多孔質体として好ま
しいものではなかった。
The obtained porous silicon carbide material had a porosity of 75% and a compressive strength of 410 kg/cm''. As a result of cross-sectional observation, the thickness of the surface layer was 5 MR, which was preferable as a porous material with many closed pores. It wasn't.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上記説明で明らかなように、本発明の炭化けい素多孔質
体は、高気孔率・高強度を兼備し、各種ろ適用フィルタ
ー、触媒担体、熱交換器用部材、エアレーション用部材
等の分野に好適に使用できる。
As is clear from the above description, the silicon carbide porous material of the present invention has both high porosity and high strength, and is suitable for various fields such as filters for various filtration applications, catalyst carriers, heat exchanger members, and aeration members. Can be used for

今後、セラミック多孔質体の用途がひろまるなかで、本
発明の産業上の役割は大きい。
As the uses of ceramic porous bodies expand in the future, the present invention will play a large role in industry.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の炭化けい素多孔質体を例示した断面図
である。 1・・・表層部   2・・・内層部 発 I 区
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating the silicon carbide porous body of the present invention. 1... Surface layer 2... Inner layer I Ward

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、からみ合った炭化けい素ウィスカーで構成された内
層部と、粒子状炭化けい素で構成された表層部とが一体
的に形成されて成ることを特徴とする炭化けい素多孔質
体。 2、炭化けい素ウィスカーの成形体に熱硬化性樹脂を含
浸し、非酸化性雰囲気中、800〜1200℃に加熱し
て熱硬化性樹脂を焼成炭化し、次いで酸化雰囲気中、8
00℃以下に加熱して表層部の炭素を燃焼除去した後、
非酸化性雰囲気中、1800〜2200℃で熱処理し、
次いで酸化雰囲気中、800℃以下に加熱して多孔質体
の遊離炭素を燃焼除去することを特徴とする炭化けい素
多孔質体の製造方法。 3、熱硬化性樹脂の含浸量が炭化けい素ウィスカーに対
して、炭素として10重量%以上である特許請求の範囲
第2項記載の炭化けい素多孔質体の製造方法。 4、炭化けい素ウィスカー成形体にほう素、アルミニウ
ム等の焼結促進剤を含む溶液もしくは分散液を塗布する
特許請求の範囲第2項記載の炭化けい素多孔質体の製造
方法。
[Claims] 1. A silicon carbide characterized by integrally forming an inner layer made of intertwined silicon carbide whiskers and a surface layer made of particulate silicon carbide. Elementary porous body. 2. A molded body of silicon carbide whiskers is impregnated with a thermosetting resin, heated to 800 to 1200°C in a non-oxidizing atmosphere to carbonize the thermosetting resin, and then heated in an oxidizing atmosphere.
After heating to below 00℃ to burn off the carbon in the surface layer,
Heat treated at 1800-2200°C in a non-oxidizing atmosphere,
A method for producing a porous silicon carbide body, which comprises then heating the porous body to 800° C. or lower in an oxidizing atmosphere to burn off free carbon in the porous body. 3. The method for producing a porous silicon carbide body according to claim 2, wherein the amount of impregnation of the thermosetting resin is 10% by weight or more as carbon based on the silicon carbide whisker. 4. The method for producing a porous silicon carbide body according to claim 2, wherein a solution or dispersion containing a sintering accelerator such as boron or aluminum is applied to the silicon carbide whisker molded body.
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