JPH01315421A - 芳香族ポリスルホン - Google Patents
芳香族ポリスルホンInfo
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- JPH01315421A JPH01315421A JP14754288A JP14754288A JPH01315421A JP H01315421 A JPH01315421 A JP H01315421A JP 14754288 A JP14754288 A JP 14754288A JP 14754288 A JP14754288 A JP 14754288A JP H01315421 A JPH01315421 A JP H01315421A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、熱費°定性の優れた成形温度範囲の広い芳香
族ポリスルホンに関するものである。
族ポリスルホンに関するものである。
（産業上の利用分野）
芳香族ポリスルホンは、耐熱性２機械性能及び耐薬品性
に優れており、商業的りこ実用性の高いものである。
に優れており、商業的りこ実用性の高いものである。
（従来の技術とその課題）
芳香族ポリスルホンは、高軟化点を有する熱可塑性樹脂
である。この高軟化点ゆえに、即ち高温における溶融粘
度が高いゆえに、射出成形等の成形加工時に３５０’Ｃ
前後の高温が必要となる。
である。この高軟化点ゆえに、即ち高温における溶融粘
度が高いゆえに、射出成形等の成形加工時に３５０’Ｃ
前後の高温が必要となる。
従って、熱分解温度が低いポリマーは、成形中に分解、
ゲル化等により溶融粘度が増加したり、著しく着色する
といった問題点を生ずる。
ゲル化等により溶融粘度が増加したり、著しく着色する
といった問題点を生ずる。
実際、特公昭４２−７７９９号、特公昭４５−２１３１
８号。
８号。
特公昭４６−２１４５８号及び特公昭５５−２３５７４
号等に開示されている方法で製造した芳香族ポリスルホ
ンは、成形中に溶融粘度が増加したり、色が淡黄色から
褐色に変化したりして、上記問題点を解決するのに満足
なものではない。
号等に開示されている方法で製造した芳香族ポリスルホ
ンは、成形中に溶融粘度が増加したり、色が淡黄色から
褐色に変化したりして、上記問題点を解決するのに満足
なものではない。
（課題を解決するための手段）
本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、驚くべきことに、熱重量分析（昇温速度２０℃／
分）における２、５％重量減少時温度が５０５℃以上の
芳香族ポリスルホンを用いると、成形中に溶融粘度が増
加したり、色が淡黄色から褐色に変化したりすることの
ない成形体が得られることを見出し、本発明を完成する
に至った。
結果、驚くべきことに、熱重量分析（昇温速度２０℃／
分）における２、５％重量減少時温度が５０５℃以上の
芳香族ポリスルホンを用いると、成形中に溶融粘度が増
加したり、色が淡黄色から褐色に変化したりすることの
ない成形体が得られることを見出し、本発明を完成する
に至った。
即ち本発明は、成形時に溶融粘度が増加したり、著しく
着色するといった問題点を生じない、熱重量分析（昇温
速度２０℃Ｉ分）における２、５％重量減少時の温度が
５０５℃以上である、一般式（Ｉ）で示される繰り返し
単位を有する芳香族ポリスルホンに関するものである。
着色するといった問題点を生じない、熱重量分析（昇温
速度２０℃Ｉ分）における２、５％重量減少時の温度が
５０５℃以上である、一般式（Ｉ）で示される繰り返し
単位を有する芳香族ポリスルホンに関するものである。
本発明でいう熱重量分析（昇温速度２０℃／分）におけ
る２、５％重量減少時の温度が５０５℃以上である芳香
族ポリスルホンは、下記に述べる方法で得ることが出来
るが、本発明はこれに限定されるものではなく、熱重量
分析（昇温速度２０℃／分）における２、５％重量減少
時の温度が５０５℃以上である芳香族ポリスルホンであ
れば、いかなる方法で製造してもかまわない。
る２、５％重量減少時の温度が５０５℃以上である芳香
族ポリスルホンは、下記に述べる方法で得ることが出来
るが、本発明はこれに限定されるものではなく、熱重量
分析（昇温速度２０℃／分）における２、５％重量減少
時の温度が５０５℃以上である芳香族ポリスルホンであ
れば、いかなる方法で製造してもかまわない。
く熱重量分析（昇温速度２０℃／分）における２、５％
重量減少時の温度が５０５℃以上である芳香族ポリスル
ホンの製造方法〉 一般に芳香族ポリスルホンは、以下の方法にて合成する
ことが出来る。例えば、極性溶媒中で二価フェノールと
アルカリ金属の水酸化物の水溶液より二価フェノールの
アルカリ金属二塩を合成し、系中の水分を除去した後、
ジハロゲノベンゼノイド化合物を添加して重縮合反応さ
せる方法、又は二価フェノールとジハロゲノベンゼノイ
ド化合物及びアルカリ金属水酸化物の水溶液とを、極性
溶媒中で系中の水分を除去させなから重縮合反応させる
方法、もしくは二価フェノールとジハロゲノベンゼノイ
ド化合物とを極性溶媒中アルカリ金属炭酸塩の存在下に
て重縮合反応させる方法等がある。
重量減少時の温度が５０５℃以上である芳香族ポリスル
ホンの製造方法〉 一般に芳香族ポリスルホンは、以下の方法にて合成する
ことが出来る。例えば、極性溶媒中で二価フェノールと
アルカリ金属の水酸化物の水溶液より二価フェノールの
アルカリ金属二塩を合成し、系中の水分を除去した後、
ジハロゲノベンゼノイド化合物を添加して重縮合反応さ
せる方法、又は二価フェノールとジハロゲノベンゼノイ
ド化合物及びアルカリ金属水酸化物の水溶液とを、極性
溶媒中で系中の水分を除去させなから重縮合反応させる
方法、もしくは二価フェノールとジハロゲノベンゼノイ
ド化合物とを極性溶媒中アルカリ金属炭酸塩の存在下に
て重縮合反応させる方法等がある。
本発明で言う熱重量分析（昇温速度２０６Ｃ／分）にお
ける２、５％重量減少時の温度が５０５℃以上である芳
香族ポリスルホンは、上記反応において末端を熱的に安
定な構造にすることにより得られる。そのような方法と
しては、例えば末端封止剤である一価のフェノール、も
しくはモノハロゲノベンゼノイド化合物を反応のはじめ
から、もしくは後添加にて反応させ末端封止する方法、
或いは上記反応方法において、はじめから二価フェノー
ルに対してジハロゲノベンゼノイド化合物を過剰に用い
て反応させる方法等により合成することが出来る。
ける２、５％重量減少時の温度が５０５℃以上である芳
香族ポリスルホンは、上記反応において末端を熱的に安
定な構造にすることにより得られる。そのような方法と
しては、例えば末端封止剤である一価のフェノール、も
しくはモノハロゲノベンゼノイド化合物を反応のはじめ
から、もしくは後添加にて反応させ末端封止する方法、
或いは上記反応方法において、はじめから二価フェノー
ルに対してジハロゲノベンゼノイド化合物を過剰に用い
て反応させる方法等により合成することが出来る。
本発明によって得られる芳香族ポリスルホンは、その優
れた耐熱性２機械性能及び耐薬品性により、電気絶縁用
途、耐熱部品、調理用具、コーティング材料、精密部品
等に用いることが出来る。
れた耐熱性２機械性能及び耐薬品性により、電気絶縁用
途、耐熱部品、調理用具、コーティング材料、精密部品
等に用いることが出来る。
（実施例）
本発明を以下の実施例及び比較例にて詳細に説明するが
、これをもって本発明を制限するものではない。
、これをもって本発明を制限するものではない。
実施例１
撹拌機、窒素導入管、温度計及び先端に受器を付した凝
縮器とを備えた４０モ反応缶内に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８，００
０モル）、４．４−ジクロロジフェニルスルホン（８。
縮器とを備えた４０モ反応缶内に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８，００
０モル）、４．４−ジクロロジフェニルスルホン（８。
１６０モル）、無水炭酸カリウム２２１１ｇ （１６．
０００モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１２
ｋｇを仕込み、１時間窒素ガスを導入し、系内を窒素に
置換した。温度を反応液の沸点まで上昇させ、２時間か
けて約２ｋｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを留出さ
せた。同時に約１４４ｇのＨ２Ｏが留出された。その後
、還流状態で更に４時間反応させた後、温度を室温まで
戻し、析出した塩及び過剰の炭酸カリウムをン戸別し、
ｆ液を大量のメタノール中に注いで生成ポリマーを沈殿
させた。生成ポリマーを単離し、数回メタノール及び水
で洗浄した後、１５０℃で３時間減圧乾燥させた。
０００モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１２
ｋｇを仕込み、１時間窒素ガスを導入し、系内を窒素に
置換した。温度を反応液の沸点まで上昇させ、２時間か
けて約２ｋｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを留出さ
せた。同時に約１４４ｇのＨ２Ｏが留出された。その後
、還流状態で更に４時間反応させた後、温度を室温まで
戻し、析出した塩及び過剰の炭酸カリウムをン戸別し、
ｆ液を大量のメタノール中に注いで生成ポリマーを沈殿
させた。生成ポリマーを単離し、数回メタノール及び水
で洗浄した後、１５０℃で３時間減圧乾燥させた。
得られたポリマーの収率は９８％で、１％ｗｔ ／ ｖ
ｏｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度ｒｌｒｅｄは０．４８ ｄ ｅ ／ ｇで、
２７０メガヘルツ（ＭＨｚ）、 ＩＨ−ＮＭＲ測定によ
りポリマーの末端基は９５％以上が であることがわかった。
ｏｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度ｒｌｒｅｄは０．４８ ｄ ｅ ／ ｇで、
２７０メガヘルツ（ＭＨｚ）、 ＩＨ−ＮＭＲ測定によ
りポリマーの末端基は９５％以上が であることがわかった。
このポリマーについて昇温速度２０℃／分で熱重量分析
を行ったところ、２８５％重量減少時の温度は５１３℃
であった。
を行ったところ、２８５％重量減少時の温度は５１３℃
であった。
次に、得られたポリマーを３４０℃で射出成形したが、
何ら異常は認められなかった。
何ら異常は認められなかった。
実施例２
撹拌機、窒素導入管、温度計及び先端に受器を付した凝
縮器とを備えた４０老反応缶内に、２，２．ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８，００
０モル）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン２２
５１ｇ（７，８４０モル）、（４−クロロフェニル）ス
ルホニルベンゼン８０．４ｇ （０，３２０モル）、無
水炭酸カリウム２２１１ｇ （１６，０００モル）及び
Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１２ｋｇを仕込み、１時
間窒素ガスを導入し、系内を窒素に置換した。温度を反
応液の沸点まで上昇させ、２時間かけて約２ｋｇのＮ、
Ｎ−ジメチルアセトアミドを留出させた。同時に約１４
４ｇのＨ２Ｏが留出された。その後、還流状態で更に４
時間反応させた後、温度を室温まで戻し、析出した塩及
び過剰の炭酸カリウムな一別し、ｒ液を大量のメタノー
ル中に注いで生成ポリマーを沈殿させた。生成ポリマー
を単離し、数回メタノール及び水で洗浄した後、１５０
℃で３時間減圧乾燥させた。
縮器とを備えた４０老反応缶内に、２，２．ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８，００
０モル）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン２２
５１ｇ（７，８４０モル）、（４−クロロフェニル）ス
ルホニルベンゼン８０．４ｇ （０，３２０モル）、無
水炭酸カリウム２２１１ｇ （１６，０００モル）及び
Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１２ｋｇを仕込み、１時
間窒素ガスを導入し、系内を窒素に置換した。温度を反
応液の沸点まで上昇させ、２時間かけて約２ｋｇのＮ、
Ｎ−ジメチルアセトアミドを留出させた。同時に約１４
４ｇのＨ２Ｏが留出された。その後、還流状態で更に４
時間反応させた後、温度を室温まで戻し、析出した塩及
び過剰の炭酸カリウムな一別し、ｒ液を大量のメタノー
ル中に注いで生成ポリマーを沈殿させた。生成ポリマー
を単離し、数回メタノール及び水で洗浄した後、１５０
℃で３時間減圧乾燥させた。
得られたポリマーの収率は９６％で、１％ｗｔ ／ ｖ
ｏｌのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度１１ｒｅｄは０．５５ ｄ ｔ ／ｇで、２
７０メガヘルツ（ＭＨｚ）、 ＩＨ−ＮＭＲ測定により
ポリマーの末端基は９５％以上が であることがわかった。
ｏｌのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度１１ｒｅｄは０．５５ ｄ ｔ ／ｇで、２
７０メガヘルツ（ＭＨｚ）、 ＩＨ−ＮＭＲ測定により
ポリマーの末端基は９５％以上が であることがわかった。
このポリマーについて、昇温速度２０℃／分で熱重量分
析を行ったところ、２，５％重量減少時の温度は５１２
℃であった。
析を行ったところ、２，５％重量減少時の温度は５１２
℃であった。
次に得られたポリマーを３４０℃で射出成形したが、何
ら異常は認められなかった。
ら異常は認められなかった。
実施例３
撹拌機、窒素導入管、温度計及び先端に受器を付した凝
縮器とを備えた４０テ反応缶内に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８，００
０モル）、４．４−ジクロロジフェニルスルホン（８．
１６０モル）、フェノール３０ｇ （０．３２０モル）
、無水炭酸カリウム２２１１ ｇ （１６．０００モル
）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１２ｋｇを仕込み
、１時間窒素ガスを導入し、系内を窒素に置換した。温
度を反応液の沸点まで上昇させ、２時間かけて約２ｋｇ
のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを留出させた。同時に
約１４４ｇのＨ２Ｏが留出された。その後、還流状態で
更に４時間反応させた後、温度を室温まで戻し、析出し
た塩及び過剰の炭酸カリウムを♂別し、Ｐ液を大量のメ
タノール中に注いで生成ポリマーを沈殿させた。生成ポ
リマーを単離し、数回メタノール及び水で洗浄した後、
１５０℃で３時間減圧乾燥させた。
縮器とを備えた４０テ反応缶内に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８，００
０モル）、４．４−ジクロロジフェニルスルホン（８．
１６０モル）、フェノール３０ｇ （０．３２０モル）
、無水炭酸カリウム２２１１ ｇ （１６．０００モル
）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１２ｋｇを仕込み
、１時間窒素ガスを導入し、系内を窒素に置換した。温
度を反応液の沸点まで上昇させ、２時間かけて約２ｋｇ
のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを留出させた。同時に
約１４４ｇのＨ２Ｏが留出された。その後、還流状態で
更に４時間反応させた後、温度を室温まで戻し、析出し
た塩及び過剰の炭酸カリウムを♂別し、Ｐ液を大量のメ
タノール中に注いで生成ポリマーを沈殿させた。生成ポ
リマーを単離し、数回メタノール及び水で洗浄した後、
１５０℃で３時間減圧乾燥させた。
得られたポリマーの収率は９６％で、１％ｗｔ ／ ｖ
ｏｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度１１ｒｅｄは０．４７ ａ ！− ／ ｇで
、２７０メガヘルツ −（ＭＨｚ）、”Ｈ−ＮＭＲ測定
によりポリマーの末端基は９５％以上が であることがわかった。
ｏｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度１１ｒｅｄは０．４７ ａ ！− ／ ｇで
、２７０メガヘルツ −（ＭＨｚ）、”Ｈ−ＮＭＲ測定
によりポリマーの末端基は９５％以上が であることがわかった。
このポリマーについて、昇温速度２０℃Ｉ分で熱重量分
析を行ったところ、２．５％重量減少時の温度は５１５
℃であった。
析を行ったところ、２．５％重量減少時の温度は５１５
℃であった。
次に得られたポリマーを３４０℃で射出成形したが、何
ら異常は認められなかった。
ら異常は認められなかった。
比較例１
撹拌機，窒素導入管，温度計及び先端に受器を付した凝
縮器とを備えた４０ｅ反応缶内に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８．００
０モル）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン２２
５１ｇ（７．８４０モル）、無水炭酸カリウム２２１１
ｇ （１６．０００モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド１２ｋｇを仕込み、１時間窒素ガスを導入し、系
内を窒素に置換した。温度を反応液の沸点まで上昇させ
、２時間かけて約２ｋｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ドを留出させた。同時に約１４４ｇのＨ２Ｏが留出され
た。その後、還流状態で更に４時間反応させた後、１０
０℃まで降温し、塩化メチルガスを１２で１分の流量で
３０分間吹き込んだ。その後、室温まで降温し、析出し
た塩及び過剰の炭酸カリウムをＰ別し、♂液を大量のメ
タノール中に注いで生成ポリマーを沈殿させた。生成ポ
リマーを単離し、数回メタノール及び水で洗浄した後、
１５０℃で３時間減圧乾燥させた。
縮器とを備えた４０ｅ反応缶内に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン１８２６ｇ （８．００
０モル）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン２２
５１ｇ（７．８４０モル）、無水炭酸カリウム２２１１
ｇ （１６．０００モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド１２ｋｇを仕込み、１時間窒素ガスを導入し、系
内を窒素に置換した。温度を反応液の沸点まで上昇させ
、２時間かけて約２ｋｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ドを留出させた。同時に約１４４ｇのＨ２Ｏが留出され
た。その後、還流状態で更に４時間反応させた後、１０
０℃まで降温し、塩化メチルガスを１２で１分の流量で
３０分間吹き込んだ。その後、室温まで降温し、析出し
た塩及び過剰の炭酸カリウムをＰ別し、♂液を大量のメ
タノール中に注いで生成ポリマーを沈殿させた。生成ポ
リマーを単離し、数回メタノール及び水で洗浄した後、
１５０℃で３時間減圧乾燥させた。
得られたポリマーの収率は９５％で、１％ｗｔ ／ ｖ
ｏｌのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度ｒｌｒｅｄは０．４６ ｄ ｅ ７ｇで、２
７０メガヘルツ（ＭＨｚ）、 ＩＨ−ＮＭＲ測定により
ポリマーの末端基は９５％以上がＣＨ３０−であること
がわかった。
ｏｌのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液中、２５℃で
の還元粘度ｒｌｒｅｄは０．４６ ｄ ｅ ７ｇで、２
７０メガヘルツ（ＭＨｚ）、 ＩＨ−ＮＭＲ測定により
ポリマーの末端基は９５％以上がＣＨ３０−であること
がわかった。
このポリマーについて、昇温速度２０℃Ｉ分で熱重量分
析を行ったところ、２．５％重量減少時の温度は４９９
℃であった。
析を行ったところ、２．５％重量減少時の温度は４９９
℃であった。
次に得られたポリマーを３４０℃で射出成形したところ
、成形品に着色が見られた。
、成形品に着色が見られた。
（発明の効果）
本発明の芳香族ポリスルホンは、熱分解温度が５０５℃
以上と高く、且つ溶融流動性に優れており、着色も少な
いものである。
以上と高く、且つ溶融流動性に優れており、着色も少な
いものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 熱重量分析（昇温速度２０℃／分）における２．５％重
量減少時の温度が５０５℃以上である、一般式（ I ）
で示される繰り返し単位を有する芳香族ポリスルホン。 ▲数式、化学式、表等があります▼……（ I ）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14754288A JPH01315421A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 芳香族ポリスルホン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14754288A JPH01315421A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 芳香族ポリスルホン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01315421A true JPH01315421A (ja) | 1989-12-20 |
Family
ID=15432676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14754288A Pending JPH01315421A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 芳香族ポリスルホン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01315421A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1057783C (zh) * | 1997-05-20 | 2000-10-25 | 吉林大学 | 窄分布高热稳定性聚醚砜树脂(pes)的合成 |
| WO2012133641A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 住友化学株式会社 | ハロゲン含有量が低減されたポリスルホンの製造方法 |
| JP2016511770A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-04-21 | ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ ユーエスエー， エルエルシー | 低塩素芳香族ポリスルホンで作られた携帯用電子機器 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5312991A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-06 | Ici Ltd | Process for producing aromatic polyether sulfone or ketone |
| JPS5334900A (en) * | 1976-07-12 | 1978-03-31 | Ici Ltd | Process for preparing polyether sulfone and*or* ketone |
| JPH01315422A (ja) * | 1988-06-14 | 1989-12-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 芳香族ポリスルホン |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP14754288A patent/JPH01315421A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5334900A (en) * | 1976-07-12 | 1978-03-31 | Ici Ltd | Process for preparing polyether sulfone and*or* ketone |
| JPS5312991A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-06 | Ici Ltd | Process for producing aromatic polyether sulfone or ketone |
| JPH01315422A (ja) * | 1988-06-14 | 1989-12-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 芳香族ポリスルホン |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2016511770A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-04-21 | ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ ユーエスエー， エルエルシー | 低塩素芳香族ポリスルホンで作られた携帯用電子機器 |
| CN111253747A (zh) * | 2012-12-18 | 2020-06-09 | 索尔维特殊聚合物美国有限责任公司 | 由低氯芳香族聚砜制成的移动电子装置 |
| CN111253747B (zh) * | 2012-12-18 | 2022-12-06 | 索尔维特殊聚合物美国有限责任公司 | 由低氯芳香族聚砜制成的移动电子装置 |
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