JPH0131767B2 - - Google Patents
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明は分子鎖中に対称面を持つ新規ポリスチ
レン及びその製造法に関する。 周知の如くポリスチレン及びその誘導体は蛋白
質、多糖類などの生化学関係、プラスチツク、ゴ
ム、繊維などの合成高分子等の分子量測定に利用
でき、具体的にはGPC(ゲルパーミエーシヨンク
ロマトグラフイー)や光散乱光度計の標準物質と
して広く使用されている。又、近年ポリスチレン
及びその誘導体は、プラズマエツチングのできる
レジスト用ポリマーとしても注目されている。 しかるに、この様な用途に於ては従来のポリス
チレンには以下のような欠点或は問題点があつ
た。即ち (1) 従来のポリスチレンは重合の開始反応がアル
キルリチウム(例えばブチルリチウム)等で行
なわれるために、得られたポリスチレンの一端
に開始剤のアルキル基(例えばブチル基)が付
加しており、従つてかかるポリスチレンを分子
量測定用として用いる場合、特に低分子量ポリ
スチレンについてはかかる末端基の影響は無視
できないものである。即ち分析精度に影響を与
えることになる。 (2) レジスト用ポリスチレンとしては、分子量分
布のせまいポリスチレンがレジストの解像度を
上げるために必要であるが、従来の重合方法で
得られたポリスチレンではかかる要求を満すこ
とが困難である。 本発明者らはスチレンの重合反応について種々
検討した結果、従来のポリスチレンの上記(1)、(2)
の欠点或は問題点を解決する新規ポリスチレン及
びその製造方法を見い出し本発明に到つたのであ
る。 即ち、本発明は下記の一般式で表わされる分子
鎖中に対称面を持ち且つ分子量分布のせまい新規
ポリスチレンに関するものである。 (ただし、n≧1) 本発明の上記一般式で表わされる両末端構造が
同じで対称性をもつポリスチレンは、スチレンを
溶剤中で3級アミン配位ベンジル金属化合物を開
始剤としてリビング重合することにより得られ
る。 本発明でかかる対称性を持ち分子量分布のせま
いポリスチレンが得られるのは、重合に際し重合
中に停止反応や連鎖移動反応が起らないリビング
重合を用い、又上記開始剤の重合開始速度が生長
速度に比べて充分大きく、解重合の反応速度が充
分小さいためであると考えられる。即ち、3級ア
ミン、特に3級ジアミン配位ベンジルアルカリ金
属等の開始速度がスチレンの重合速度に比べて充
分大きく、ポリスチレンの解重合がほとんど起ら
ないことによると考えられる。 本発明の重合反応に用いる開始剤である3級ア
ミン配位ベンジル金属化合物の一部を構成する3
級アミンとしては2ケ又はそれ以上の3級アミノ
基を有する化合物が適当であり、具体的に例示す
ると次の様なものである。 次の一般式で示されるN,N,N′,N′―テト
ラアルキルジアミン R1〜R4;アルキル(C1〜C10) R′;アルキレン(C1〜C10) 次の一般式で示される化合物 次の一般式で示される化合物 次式で示されるピリジン誘導体
レン及びその製造法に関する。 周知の如くポリスチレン及びその誘導体は蛋白
質、多糖類などの生化学関係、プラスチツク、ゴ
ム、繊維などの合成高分子等の分子量測定に利用
でき、具体的にはGPC(ゲルパーミエーシヨンク
ロマトグラフイー)や光散乱光度計の標準物質と
して広く使用されている。又、近年ポリスチレン
及びその誘導体は、プラズマエツチングのできる
レジスト用ポリマーとしても注目されている。 しかるに、この様な用途に於ては従来のポリス
チレンには以下のような欠点或は問題点があつ
た。即ち (1) 従来のポリスチレンは重合の開始反応がアル
キルリチウム(例えばブチルリチウム)等で行
なわれるために、得られたポリスチレンの一端
に開始剤のアルキル基(例えばブチル基)が付
加しており、従つてかかるポリスチレンを分子
量測定用として用いる場合、特に低分子量ポリ
スチレンについてはかかる末端基の影響は無視
できないものである。即ち分析精度に影響を与
えることになる。 (2) レジスト用ポリスチレンとしては、分子量分
布のせまいポリスチレンがレジストの解像度を
上げるために必要であるが、従来の重合方法で
得られたポリスチレンではかかる要求を満すこ
とが困難である。 本発明者らはスチレンの重合反応について種々
検討した結果、従来のポリスチレンの上記(1)、(2)
の欠点或は問題点を解決する新規ポリスチレン及
びその製造方法を見い出し本発明に到つたのであ
る。 即ち、本発明は下記の一般式で表わされる分子
鎖中に対称面を持ち且つ分子量分布のせまい新規
ポリスチレンに関するものである。 (ただし、n≧1) 本発明の上記一般式で表わされる両末端構造が
同じで対称性をもつポリスチレンは、スチレンを
溶剤中で3級アミン配位ベンジル金属化合物を開
始剤としてリビング重合することにより得られ
る。 本発明でかかる対称性を持ち分子量分布のせま
いポリスチレンが得られるのは、重合に際し重合
中に停止反応や連鎖移動反応が起らないリビング
重合を用い、又上記開始剤の重合開始速度が生長
速度に比べて充分大きく、解重合の反応速度が充
分小さいためであると考えられる。即ち、3級ア
ミン、特に3級ジアミン配位ベンジルアルカリ金
属等の開始速度がスチレンの重合速度に比べて充
分大きく、ポリスチレンの解重合がほとんど起ら
ないことによると考えられる。 本発明の重合反応に用いる開始剤である3級ア
ミン配位ベンジル金属化合物の一部を構成する3
級アミンとしては2ケ又はそれ以上の3級アミノ
基を有する化合物が適当であり、具体的に例示す
ると次の様なものである。 次の一般式で示されるN,N,N′,N′―テト
ラアルキルジアミン R1〜R4;アルキル(C1〜C10) R′;アルキレン(C1〜C10) 次の一般式で示される化合物 次の一般式で示される化合物 次式で示されるピリジン誘導体
【式】
(−)−スパルテインのような天然物として得
られる3級アミン、酒石酸から誘導される2,3
―ジメトキシ―1,4―ビス(ジメチルアミノ)
ブタン、ヘキサメチルフオスフオルトリアミド、
クラウンエーテル等。 本発明の重合反応に用いる上記開始剤の一部を
構成する金属としては、一般にアニオン重合に使
用される金属であればいかなるものでもよい。例
えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニ
ウム及びその類似金属があげられ、リチウム及び
ナトリウムが好ましい。 本発明のポリスチレンは、例えば上記3級アミ
ン配位ベンジルリチウムの溶液中にスチレンモノ
マーを入れて重合させることによつて得られるこ
とができるし、又スチレンモノマーの溶液中に3
級アミン配位ベンジルリチウム溶液を加えて重合
させてもよい。 この場合3級アミン配位ベンジルリチウムの量
は、目的とするポリスチレンの分子量に合わせて
適当量用いることができる。 なお、ベンジルリチウムは3級アミン存在下ト
ルエンとブチルリチウムとの反応でほぼ定量的に
生成するので、トルエン中で重合を行う際には、
ベンジルリチウムを特に合成する必要はなく、3
級アミンとブチルリチウムを使用すればよい。 本発明の重合反応に於ては、重合溶媒はリビン
グ重合を阻害しないものであれば何でも良いが、
好ましいのはヘキサン、トルエン、ベンゼン、テ
トラヒドロフラン、トルエン―テトラヒドロフラ
ン混合物等であり、特に好ましいのはトルエンで
ある。 重合温度は−78℃〜100℃が好ましく、特に好
ましいのは−20℃〜70℃である。 本発明の分子量分布のせまい単分散ポリスチレ
ンを得るための重合方法はリビング重合である
が、特に分子量分布が広ならないようにするため
には、生長末端と容易に反応する水分、酸素、二
酸化炭素などやプロトンドナーである不純物が混
入しないように注意しなければならない。具体的
にはスチレン、溶媒、開始剤等の種々の試薬の最
終精製装置や重合装置などは高真空に脱気し、重
合はできるだけ希薄な溶液にしてかきまぜ、モノ
マーを均一にし、開始剤とモノマーを迅速に混合
し、重合完了時まで反応させることが望ましい。
重合の停止はメタノール等のアルコールで行なう
ことが望ましい。 このような本発明の重合方法によれば、下記の
分散度を持つ重合度分布のせまいポリスチレンが
得られる。 一般式 1≦n≦10の場合 W/o<1.5 1≦n≦100の場合 W/o<1.5(好ましく
は<1.2) 100<n≦1000000の場合 W/o<1.7 但しoは数平均分子量、Wは重量平均分子量
であり、W/oにおいて数平均及び重量平均分
子量は開始剤断片を除いてある。 本発明の重合方法により得られる、上記の如き
重合度分布がせまく両末端構造が同じで対称性を
有するポリスチレンは、分子量測定の標準物質、
レジスト用ポリマー等種々の用途に有利に利用し
得る。 次に、本発明を実施例について説明するが、こ
れによつて本発明が限定されるものではない。尚
実施例中溶媒及びスチレンは以下のようにして精
製したものを使用した。 重合溶媒:トルエンを常法で精製した後、ブチル
リチウムを存在下で真空蒸留した。 スチレン:常法で精製した後CaH2とかきまぜて
真空蒸留した。 実施例 1 重合は十分に乾燥したガラス反応器中乾燥窒素
下で行なつた。トルエン(10ml)にブチルリチウ
ム(4.6mmole、ヘキサン重合)と(−)―スパ
ルテイン(5.5mmole)を室温で加え、30分後に
0℃に冷却した。これにスチレン(0.92g、
9.2mmole)を加え重合させた。1時間後少量の
メタノールで反応を停止し、反応液を希塩酸,水
で洗滌した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を留去すると、粘稠な液体が収率98%で得られ
た。 このポリスチレンの100MHz 1H核磁気共鳴ス
ペクトルを第1図に示した。(溶媒CCl4、基準物
質TMS、測定温度35℃)このスペクトルは1ppm
付近にブチル基に由来するピークがなく、重合末
端にブチル基がないことがわかる。 さらに、ジフエニルジクロロシラン処理したシ
リカゲルを充填したカラム(長さ25cm/内径0.46
cm)を使用し、高速液体クロマトグラフイーでポ
リマー(オリゴマー)の分布を測定した。 ピークの高さより求めた平均重合度はn=2.06
で、分子量分布W/oは1.19であつた。そのク
ロマトグラフを第2図に示した。 第2図と第1図の核磁気共鳴スペクトルの主鎖
のメチン及びメチレンのプロトンとベンゼン環の
プロトンの比の比較から、重合末端にベンジル基
のついたポリスチレンであることを確認した。 実施例 2 実施例1と同様の方法で、3級アミンとして
(−)―スパルテインの代りにN,N,N′,N′―
テトラメチルエチレンジアミンを使用し、スチレ
ンに対して1/50モルのブチルリチウムを用いて重
合した。得られた反応混合物を少量の塩酸を添加
したメタノールにより沈殿させ、別、洗滌後乾
燥した。 収率97%で得られたポリスチレンのGPC(ゲル
パーミエーシヨンクロマトグラフイー)を測定す
ると、平均重合度n=52、W/o=1.03であつ
た。
られる3級アミン、酒石酸から誘導される2,3
―ジメトキシ―1,4―ビス(ジメチルアミノ)
ブタン、ヘキサメチルフオスフオルトリアミド、
クラウンエーテル等。 本発明の重合反応に用いる上記開始剤の一部を
構成する金属としては、一般にアニオン重合に使
用される金属であればいかなるものでもよい。例
えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニ
ウム及びその類似金属があげられ、リチウム及び
ナトリウムが好ましい。 本発明のポリスチレンは、例えば上記3級アミ
ン配位ベンジルリチウムの溶液中にスチレンモノ
マーを入れて重合させることによつて得られるこ
とができるし、又スチレンモノマーの溶液中に3
級アミン配位ベンジルリチウム溶液を加えて重合
させてもよい。 この場合3級アミン配位ベンジルリチウムの量
は、目的とするポリスチレンの分子量に合わせて
適当量用いることができる。 なお、ベンジルリチウムは3級アミン存在下ト
ルエンとブチルリチウムとの反応でほぼ定量的に
生成するので、トルエン中で重合を行う際には、
ベンジルリチウムを特に合成する必要はなく、3
級アミンとブチルリチウムを使用すればよい。 本発明の重合反応に於ては、重合溶媒はリビン
グ重合を阻害しないものであれば何でも良いが、
好ましいのはヘキサン、トルエン、ベンゼン、テ
トラヒドロフラン、トルエン―テトラヒドロフラ
ン混合物等であり、特に好ましいのはトルエンで
ある。 重合温度は−78℃〜100℃が好ましく、特に好
ましいのは−20℃〜70℃である。 本発明の分子量分布のせまい単分散ポリスチレ
ンを得るための重合方法はリビング重合である
が、特に分子量分布が広ならないようにするため
には、生長末端と容易に反応する水分、酸素、二
酸化炭素などやプロトンドナーである不純物が混
入しないように注意しなければならない。具体的
にはスチレン、溶媒、開始剤等の種々の試薬の最
終精製装置や重合装置などは高真空に脱気し、重
合はできるだけ希薄な溶液にしてかきまぜ、モノ
マーを均一にし、開始剤とモノマーを迅速に混合
し、重合完了時まで反応させることが望ましい。
重合の停止はメタノール等のアルコールで行なう
ことが望ましい。 このような本発明の重合方法によれば、下記の
分散度を持つ重合度分布のせまいポリスチレンが
得られる。 一般式 1≦n≦10の場合 W/o<1.5 1≦n≦100の場合 W/o<1.5(好ましく
は<1.2) 100<n≦1000000の場合 W/o<1.7 但しoは数平均分子量、Wは重量平均分子量
であり、W/oにおいて数平均及び重量平均分
子量は開始剤断片を除いてある。 本発明の重合方法により得られる、上記の如き
重合度分布がせまく両末端構造が同じで対称性を
有するポリスチレンは、分子量測定の標準物質、
レジスト用ポリマー等種々の用途に有利に利用し
得る。 次に、本発明を実施例について説明するが、こ
れによつて本発明が限定されるものではない。尚
実施例中溶媒及びスチレンは以下のようにして精
製したものを使用した。 重合溶媒:トルエンを常法で精製した後、ブチル
リチウムを存在下で真空蒸留した。 スチレン:常法で精製した後CaH2とかきまぜて
真空蒸留した。 実施例 1 重合は十分に乾燥したガラス反応器中乾燥窒素
下で行なつた。トルエン(10ml)にブチルリチウ
ム(4.6mmole、ヘキサン重合)と(−)―スパ
ルテイン(5.5mmole)を室温で加え、30分後に
0℃に冷却した。これにスチレン(0.92g、
9.2mmole)を加え重合させた。1時間後少量の
メタノールで反応を停止し、反応液を希塩酸,水
で洗滌した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を留去すると、粘稠な液体が収率98%で得られ
た。 このポリスチレンの100MHz 1H核磁気共鳴ス
ペクトルを第1図に示した。(溶媒CCl4、基準物
質TMS、測定温度35℃)このスペクトルは1ppm
付近にブチル基に由来するピークがなく、重合末
端にブチル基がないことがわかる。 さらに、ジフエニルジクロロシラン処理したシ
リカゲルを充填したカラム(長さ25cm/内径0.46
cm)を使用し、高速液体クロマトグラフイーでポ
リマー(オリゴマー)の分布を測定した。 ピークの高さより求めた平均重合度はn=2.06
で、分子量分布W/oは1.19であつた。そのク
ロマトグラフを第2図に示した。 第2図と第1図の核磁気共鳴スペクトルの主鎖
のメチン及びメチレンのプロトンとベンゼン環の
プロトンの比の比較から、重合末端にベンジル基
のついたポリスチレンであることを確認した。 実施例 2 実施例1と同様の方法で、3級アミンとして
(−)―スパルテインの代りにN,N,N′,N′―
テトラメチルエチレンジアミンを使用し、スチレ
ンに対して1/50モルのブチルリチウムを用いて重
合した。得られた反応混合物を少量の塩酸を添加
したメタノールにより沈殿させ、別、洗滌後乾
燥した。 収率97%で得られたポリスチレンのGPC(ゲル
パーミエーシヨンクロマトグラフイー)を測定す
ると、平均重合度n=52、W/o=1.03であつ
た。
第1図は本発明のポリスチレンの一例の核磁気
共鳴スペクトル、第2図はその高速液体クロマト
グラフを示す図である。
共鳴スペクトル、第2図はその高速液体クロマト
グラフを示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記の一般式で表わされるポリスチレン (ただし、n≧1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8448982A JPS58201809A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 新規ポリスチレン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8448982A JPS58201809A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 新規ポリスチレン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201809A JPS58201809A (ja) | 1983-11-24 |
| JPH0131767B2 true JPH0131767B2 (ja) | 1989-06-28 |
Family
ID=13832062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8448982A Granted JPS58201809A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 新規ポリスチレン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201809A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JO3423B1 (ar) * | 2008-12-02 | 2019-10-20 | Albemarle Corp | مؤخرات لهب معالجة بالبروم و مواد مشتقه منها |
| JO3059B1 (ar) * | 2009-05-01 | 2017-03-15 | Albemarle Corp | معالجة بالبروم لتراكيب بوليمرات عطرية ذات وزن جزيئي منخفض |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP8448982A patent/JPS58201809A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58201809A (ja) | 1983-11-24 |
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