JPH01319127A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体に関するものである。

［従来の技術］ 磁気記録媒体としては、ポリエステルに無機粒子を含有
せしめたフィルムの少なくとも片面に磁性層を設けてな
る磁気記録媒体が知られている（たとえば、特開昭５９
−２０３２２８号公報など）。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、上記従来の磁気記録媒体は、フィルムの加工工
程、たとえば磁性層塗布・カレンダー工程などの工程速
度の増大にともない、接触するロールによってフィルム
表面に傷がつくという欠点が最近、問題となってきてい
る。また、磁気記録媒体のひとつであるビデオテープは
最近ソフト用（制作された映像作品をパッケージ媒体に
記録固定、複製◆増製したもの）に用いられるケースが
多く、この場合、上記従来のビデオテープでは、「映像
作品を録画する工程」でマスターテープから高速でダビ
ング（記録複写）する時のＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比
、画質のパラメータ）の低下が大きく画質が悪くなると
いう問題点も出てきている。

本発明はかかる問題点を改善し、表面が傷つきにクク（
以下耐スクラッチ性良好という）、ダビングによる画質
（Ｓ／Ｎ＞の低下が少ない（以下耐ダビング性良好とい
う）磁気記録媒体を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、 （１）　　ポリエステルを主たる成分とする基材フィル
ムの片面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体であって、
該磁性層が磁性体に対し０．１〜２０重量％の無機粒子
を含有し、該基材フィルムが０゜０１〜８．０重量％の
不活性有機高分子粒子を含有し、かつ、咳高分子粒子の
真球度（長径／短径）が１．２以下、該基材フィルムの
少なくとも片面の突起高さ分布の標準偏差が４０〜２５
０ｎｍの範囲であるであることを特徴とする磁気記録媒
体、及び、 （２）　　ポリエステルを主たる成分とする基材フィル
ムの片面に磁性層、反対面にバックコート層を設けてな
る磁気記録媒体であって、該バックコート層が有機バイ
ンダーに対し５〜４００重量％の無機粒子を含有し、該
基材フィルムが０．０１〜８．０重量％の不活性有機高
分子粒子を含有し、かつ、該高分子粒子の真球度（長径
／短径）が１゜２以下、該基材フィルムの少なくとも片
面の突起高さ分布の標準偏差が１５０ｎｍ以下であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。

本発明におけるポリエステルは、エチレンテレフタレー
ト、エチレンα、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エ
タン−４，４゛−ジカルボキシレート、エチレン２．６
−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造
単位を主要構成成分とする。ただし、本発明を阻害しな
い範囲内、好ましくは１５モル％以内であれば他成分が
共重合されていてもよい。

また、エチレンテレフタレートを主要構成成分とするポ
リエステルの場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がよ
り一層良好となるので特に望ましい。

本発明における有機高分子粒子は、ポリエステルと共有
結合などをしない不活性な粒子であることが必要である
。ポリエステルと反応すると耐スクラッチ性が不良とな
るので好ましくない。

本発明における有機高分子粒子は、加熱減量曲線におけ
る１０％重量減量時温度が３６０℃、好ましくは３８０
℃、ざらに好ましくは４００℃以上である場合に耐スク
ラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となり、本発明
範囲の真球度も得られ易いので特に望ましい。

本発明における有機高分子粒子の平均粒径は特に限定さ
れず、上記の１０％重量減量時温度によっても必要な粒
径が変わるが、０．１〜１．０μｍ１好ましくは０．１
〜０．４５μｍの範囲である場合に本発明範囲の突起高
さ分布の標準偏差が得られやすいので望ましい。

ただし、本発明に用いる有機高分子粒子の真球度（長径
／短径）が１．２以下、好ましくは１゜１以下であるこ
とが必要である。有機高分子粒子の真球度が上記の範囲
より大きいと、耐スクラッチ性、耐ダビング性が不良と
なるので好ましくない。真球度の下限は１であり、全て
の粒子が完全真球の理想状態である。

本発明における有機高分子粒子の粒径の相対標準偏差は
特に限定されないが、０．６以下、好ましくは０．４５
以下の場合に本発明範囲の突起高さ分布が得られやすく
ざらに耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ま
しい。

本発明における有機高分子粒子のフィルム中含有量は０
．０１〜８．０重量％、好ましくは０゜０３〜５．０重
量％、ざらに好ましくは０．１〜２．０重量％である必
要がある。含有量が上記の範囲より少ないと耐スクラッ
チ性が不良となり、逆に多いと、耐ダビング性が不良と
なるので好ましくない。２種以上の有機高分子粒子を含
有する場合はその合計量が上記の範囲であることが必要
である。

本発明における有機高分子粒子の結晶化促進係数が一２
０〜２０℃、特に、−２０〜１０℃の範囲の場合に耐ダ
ビング性、耐スクラッチ性がより一層良好となるので望
ましい。

本発明フィルムは、上記組成物を主要成分とするが、本
発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレン
ドしてもよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫
外線吸収剤、核生成剤などの無機または有機添加剤が通
常添加される程度添加されていてもよい。

本発明を構成するフィルムは上記組成物を二軸配向せし
めたフィルムである。未延伸フィルム、−軸配向フィル
ムでは、耐スクラッチ性、耐ダビング性が不良となるの
で好ましくない。

また、その二軸配向の程度を表わす面配向指数は特に限
定されないが、０．９３５〜０．９７５、特に０．９４
０〜０．９７０の範囲である場合に、耐スクラッチ性、
耐ダビング性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムは、フィルム中の有機高
分子粒子の単一粒子指数が０．５以上、好ましくは０．
７以上、ざらに好ましくは０．８以上である場合に耐ス
クラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特
に望ましい。なお、単一粒子指数の上限は特に限定され
ないが、完全に単分散した場合では１となり、１を越え
ることは理論的に有り得ない。

本発明を構成する基材フィルムは、少なくとも片面の表
面突起について、突起の平均間隔が２０μｍ以下、特に
１５μｍ以下の場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性が
特に良好となるので望ましい。

本発明は、上記のフィルムを基材フィルムに用いた磁気
記録媒体でおって、次の２つのタイプがある。

（１）　　まず、上記基材フィルムの片面に磁性層を設
けてなる磁気記録媒体の場合について説明する。

この場合の基材フィルムは、少なくとも片面の突起高さ
分布の標準偏差が４０〜２５０ｎｍ、好ましくは４０〜
２００ｎｍ、さらに好ましくは５０〜１５０ｎｍの範囲
であることが必要である。

両面の突起高さ分布が上記の範囲より小さいと耐スクラ
ッチ性が不良となり、逆に大きいと、耐ダビング性が不
良となるので好ましくない。

また、磁性層の種類は特に限定されないが、公知の磁性
体、すなわち、γ−酸化鉄、Ｃｏ含含有−酸化鉄、二酸
化クロム、鉄、コバルト、あるいはそれらの合金などが
用いられる。また、バインダーの種類も特に限定されず
、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラ
ール、ポリウレタンなどを用いることができる。

本発明を構成する磁性層は無機粒子を磁性体粉に対して
、０．１〜２０重量％、好ましくは０゜５〜１０重量％
含有している必要がある。含有率が上記の範囲より少な
いと耐スクラッチ性が不良となり、逆に多いと、耐ダビ
ング性、耐スクラッチ性が不良となるので好ましくない
。２種以上の無機粒子を含有する場合はそれらの合計量
が上記の範囲でおることが必要である。

無機粒子の平均粒径は特に限定されないが３〜６００ｎ
ｍ、特に７〜３００ｎｍの範囲の場合に耐スクラッチ性
がより一層良好となるので特に望ましい。

無機粒子の種類は特に限定されないが、磁性体以外のｓ
１１粒子のことであり、α−酸化鉄、アルミナ、シリカ
、ジルコニア、二酸化チタン、カーボンブラックの場合
に、耐スクラッチ性がより一層良好となるので特に望ま
しい。

磁性層の厚さは特に限定されないが、１．５〜８μｍの
場合に耐スクラッチ性がより一層良好となるので特に望
ましい。

（２）　　次に、上記基材フィルムの片面に磁性層、反
対面にバックコート層を設けてなる磁気記録媒体の場合
について説明する。この・場合の基材フィルムは、少な
くとも片面の突起高さ分布の標′Ｑ＝偏差σが１５０ｎ
ｍ以下、好ましくは１１００ｎ以下、さらに好ましくは
７５ｎｍ以下であることが必要である。両面の突起高さ
分布が上記の範囲より大きいと耐ダビング性が不良とな
るので好ましくない。高さ分布の標準偏差の下限は特に
限定されないが、５ｎｍ程度が製造上の限界である。

また、磁性層の種類は特に限定されないが、公知の磁性
体、すなわち、γ−酸化鉄、Ｃｏ含含有−ｆｆｉ化鉄、
二酸化クロム、鉄、コバルト、あるいはそれらの合金な
どが用いられる。また、バインダーの種類も特に限定さ
れないず、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニ
ルブチラール、ポリウレタンなどを用いることができる
。またこの場合には、実質的に有機バインダーを用いず
、蒸着、スパッタリングなどの方法によって形成された
金属薄膜型の磁性層も用いることができる。バンクコー
ト層としても塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコー
ルおよびそれらの共重合体、ポリウレタン、セルロース
誘導体など公知のバインダーを主体とするものが使用で
きる。ただし、バックコート層に無機粒子を含有してい
る必要がある。

その無機粒子の含有量は有機バインダーに対して４００
〜５重量％、好ましくは３００〜２０重量％であること
が必要である。含有量が上記の範囲より多いと耐ダビン
グ性、耐スクラッチ性が不良となり、逆に含有量が上記
の範囲より少ないと、耐スクラッチ性が不良となるので
好ましくない。

無機粒子の平均粒径は特に限定されないが３〜６００ｎ
ｍ、特に７〜３００ｎｍの範囲の場合に耐スクラッチ性
がより一層良好となるので特に望ましい。

磁性層の厚さは特に限定されないが、有機バインダーを
含有する場合には１．５〜８μｍ、有機バインダーを含
有しない金属薄膜型の場合には０゜０５〜１．５μｍの
場合に耐スクラッチ性がより一層良好となるので特に望
ましい。

バックコート層の厚さは特に限定されないが、０．０５
〜２．５１ｍ、特に、０．１〜１．５μｍの場合に耐ス
クラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特
に望ましい。

無機粒子の種類は特に限定されないが、バックコート層
中の無機粒子がα−アルミナ、シリカ、ジルコニア、二
酸化チタン、カーボンブラックの場合に耐スクラッチ性
がより一層良好となるので特に望ましい。

次に本発明フィルムの製造方法について説明する。

まず、所定のポリエステルに有機高分子粒子を含有せし
める方法としては、重合前、重合中、重合後のいずれに
添加してもよいが、ポリエステルのジオール成分である
エチレングリコールに、スラリーの形で混合、分散せし
めて添加する方法が本発明の望ましい範囲の相対標準偏
差、単一粒子指数を満足させるのに有効でおる。また、
粒子の含有量を調節する方法としては、高濃度、好まし
くは１〜１０重量％のマスターペレットを製膜時に、実
質的に有機高分子粒子を含有しないポリエステルのペレ
ットで稀釈する方法が本発明の望ましい範囲の単一粒子
指数を満足させるのに有効である。また、高濃度、好ま
しくは１〜１０重量％のマスターベレットの固有粘度を
調整して、結晶化パラメータΔＴＣｇを６５〜８０’Ｃ
にしておき、固有粘度の調整によって、製膜前にこのマ
スタペレットよりも、結晶化パラメータΔＴＣＣＩの大
きい、好ましくは結晶化パラメータΔＴＣＱが７５〜９
５℃の実質的に不活性有機高分子粒子を含有しないポリ
エステルのペレットで希釈して該粒子の含有量を調節す
ることが有機高分子粒子を用いて本発明の範囲内の突起
高さ分布、望ましい範囲の単一粒子指数を満足させるの
に極めて有効である。上記のΔＴＣｇの関係を得るため
にはマスターポリマを共重合ポリエステルとするのが有
効である。

かくして、所定量の有機高分子粒子を含有するペレット
と実質的に有機高分子粒子を含有しないポリエステルの
ペレットを所定割合で混合したペレットを十分乾燥した
のち、公知の溶融押出機に供給し、２７０〜３３０℃で
スリット状のダイかうシート状に押出し、キャスティン
グロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。

この場合、ダイのスリット幅（間隙）と未延伸フィルム
の厚さの比（スリット幅／未延伸フィルム）を５〜３０
、好まし、はｄ〜２０の範囲にすることが本発明範囲の
真球度、突起高さ分布の標準偏差、望ましい範囲の単一
粒子指数を得るのに有効である。

次にこの未延伸フィルムを二輪延伸し、二軸配向せしめ
る。延伸方法としては、逐次二輪延伸法または同時二輪
延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方向
、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長
手方向の延伸を２段階、特に３段階以上に分【フて行な
う方法は本発明範囲の真球度、望ましい範囲の単一粒子
指数を得るのに有効である。長手方向の延伸温度は７０
〜１４０℃、速度は２００００〜１０００００％／分の
範囲が好適である。幅方向の延伸温度、速度は、８０〜
１６０’Ｃ，１０００〜２００００％／分の範囲が好適
である。延伸倍率は長手、幅方向ともに３〜５倍が好適
である。次にこの延伸フィルムを熱処理する。この場合
の熱処理条件としては、定長下、弛緩状態、微延伸状態
のいずれでもよく、１５０〜２２０℃、好ましくは１７
０〜２００℃の範囲で０．５〜６０秒間が好適である。

次に、このフィルムに磁性層を形成するが、タイプ別に
次の製法で製造される。

（１）　　上記のフィルムの片面に磁性層を形成する。

この場合は、磁性体を含有する塗料を塗布、屹燥後、カ
レンダー処理することによって製造できる。

それらの条件は公知の方法が使用できる。

（２）　　上記のフィルムの片面に磁性層、反対面にバ
ックコート層を形成する。この場合の磁性層の形成は上
記の方法に加えて、蒸着、スパッタ法で磁性金ＲＨ膜を
形成する方法も用いることができる。また、バックコー
ト層の形成は所定の組成の溶液を塗布、乾燥して行なわ
れる。バックコート層を形成する時期は磁性層形成前、
磁性層形成後カレンダー処理前、カレンダー処理後ある
いはキュア工程の後などいずれでもよい。

［作用］ 本発明は基材フィルム中に有機高分子粒子を含有せしめ
、磁性層、バックコート層の少なくとも片方に無機粒子
を含有する磁気記録媒体としだので、無機粒子と有機高
分子粒子の特異な相互作用によって、本発明の効果が得
られたものと推定される。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。

（１）　　有機高分子粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（
たとえばヤマト科学製ＰＲ−５０３型〉で除去し粒子を
露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒
子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ
　（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子に
よってできる光のＳ淡）をイメージアナライザー（たと
えばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９００）に
結び付け、観察箇所を変えて粒子ｒ＆５０００個以上で
次個数上処理を行ない、それによって求めた数平均径り
を平均粒径とする。

Ｄ＝ΣＤｉ　／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相光径、Ｎは個数である。

（２）磁性層、バックコート層中の無機粒子の平均粒径 磁性層、バックコート層中から磁性体粒子、有機バイン
ダーなど無機粒子以外のものを除去し、上記と同様の方
法で測定した。

（３）　　ガラス転移点Ｔｇ、冷結晶化温度ＴＣＣパー
キンエルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱量計）■型を用
いて測定した。ＤＳＣの測定条件は次の通りでおる。す
なわち、試料１０ｍ０をＤＳＣ装置にセットし、３００
℃の温度で５分間溶融した俊、液体窒素中に急冷する。

この急冷試料を］Ｏ℃／分で昇温し、ガラス転移点Ｔｇ
を検知する。

ざらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度ＴＣＣとした。

ここでＴｃｃとＴｇの差（ＴＣＣ−Ｔｑ＞をΔＴｃｇと
定義する。

＜４）１０％加熱減量時温度 島津製作所製の熱重量分析装置Ｔ０３０Ｍ型を用いて、
窒素中、昇温速度１０℃／分で測定した。

なお、試料重量は５ｍＱとした。

（５）結晶化促進係数（単位は℃） 上記方法で有機高分子粒子を含有するフィルムの６１０
ｇ（■）、およびこれから有機高分子粒子粒子を除去し
た同粘度のポリエステルの６１０ｇ（ＩＩ）を測定し、
ΔＴＣＱ　（ＩＩ）と６１０ｇ（Ｉ）の差［ΔＴｃｏ　
（ＩＩ）−ΔＴｃｏ（Ｉ＞１をもって、結晶化促進係数
とした。

（６）屈折率 ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を光源として、アツベ屈
折率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレ
ンを用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。

（７）　　面配向指数 上記の方法で、二軸配向フィルムの厚さ方向の屈折率（
Ａとする）および溶融プレス後１０℃の水中へ急冷して
作った無配向（アモルファス）フィルムの厚さ方向の屈
折率（Ｂとする）を測定し、Ａ／Ｂをもって面配向指数
とした。

（８）　　突起の平均間隔Ｓｍ 小板研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１Ｏを用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって値とした。

・触針先端半径＝０．５μｍ ・触針荷重　　：　５ｒｌ ・測定長　　　：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍ なお、突起の平均間隔３ｍの定義は、たとえば、奈良治
部著「表面粗さの測定・評価法」　（総合技術センター
、１９８３）に示されているものである。

（９）　　単一粒子指数 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ＞で写真観
察し、不活性有機高分子の粒子を検知する。１２察倍率
を１０００００倍程度に１れば、それ以上分けることが
できない１個の粒子が観察できる。粒子の占める全面積
をＡ１その内２個以上の粒子が凝集している凝集体の占
める面積をＢとした時、（Ａ−８＞／Ａをもって、単一
粒子指数とする。ＴＥＭ条件は下記のとおりであり１視
野面積：２μｍ２の測定を場所を変えて、５００視野測
定する。

・装置：日本電子！Ｉ！ＪＥＭ−１２００ＥＸ・観察倍
率：　１０００００倍 ・加速電圧：１００ｋＶ ・切片厚さ：約１０００オングストローム（ｌω　表面
突起分布の標準偏差σ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、
エリオニクス（株）！１４１においてフィルム表面の平
坦面の高さをＯとして走査した時の突起の高さ測定値を
画像処理装置［Ｉ　ＢＡＳ２０００、カールツアイス（
株）＠］に送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画
像を再構築する。次に、この表面突起画像で突起部分を
２値化して得られた個々の突起の面積から円相光径を求
めこれをその突起の平均径とする。また、この２値化さ
れた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さ
とし、これを個々の突起について求める。この測定を場
所をかえて５００回繰返し、測定された突起についてそ
の高さ分布を突起高さＯ（平坦面）を中心とする正規分
布の半分とみなして最小２乗法で近似して求めた。また
走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００〜８０００倍の間
の値を選択する。

θ１）真球度 上記（１）の測定において、下式で求められる個々の粒
子の長径（平均値）／短径（平均値）の比である。

長径−ΣＤｌｉ／Ｎ 短径＝Σ［）２ｉ／Ｎ ［）１ｉ、　［）２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（Ｒ
大径）、短径（最小径）、Ｎは総個数である。

（２）粒径の相対標準偏差 上記（１）の方法で測定された個々の粒子径Ｄｉ１平均
平均径０予 ＩＩ差σ（−ｆ（Σ　（Ｄｉ−Ｄ＞２／Ｎ））を平均径
りで割った値（σ／Ｄ＞で表わした。

（財）耐スクラッチ性 磁気記録テープ（幅１ｉ２インチ）をテープ走行性試験
機を使用して、ガイドピン（表面粗度：Ｒａ＝１００ｎ
ｍ）上を走行させ（走行速度５００ｍ／分、巻き付は角
：１８０’、テープ荷重２０ＯＣ＋＞た後いったん巻き
取る。このリールを再度上記のテープ走行性試験機にセ
ットして走行させるという操作を１０回繰り返した後、
非磁性面に入った傷を顕微鏡で観察し、はとんど傷がな
い場合は耐スクラッチ性良好、傷が、テープ幅あたり５
本以上入った場合耐スクラッチ性不良と判定した。した
がって、磁性面、非磁性面がともに強くないと磁性面か
ら削れた粉が非磁性面を傷つけたり、また、木材フィル
ムとバックコート層の相性によって耐スクラッチ性が良
くも悪くもなるものであり、この方法は実際のテープ加
工工程での傷つきにくさを示す評価方法でおる。

（ロ）耐ダビング性 磁気記録テープ原反を１／２インチにスリットし、パン
ケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの
長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープ
とした。

このテープに家庭用ＶＴＲを用いてシバツク製のテレビ
試験波形発生器（ＴＧ７／ＬＩ７０６）により１００％
クロマ信号を記録し、その再生信号からシバツク製カラ
ービデオノイズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎ
を測定しＡとした。また上記と同じ信号を記録したテー
プを磁界転写方式のビデオソフト高速プリントシステム
（たとえばソニーマグネスケール■製のスプリンタ）を
用いて同じ種類のテープ（未記録）のパンケーキへダビ
ングした後のテープのクロマＳ／Ｎを上記と同様にして
測定し、Ｂとした。このダビングによるクロマＳ／Ｎの
低下（Ａ−Ｂ）が４．０ｄＢ未満の場合は耐ダビング性
良好、４．０ｄＢ以上の場合は耐ダビング性不良と判定
した。　０９　粒子の含有量 ポリエステルやバインダーなどから粒子のみを取り出し
その重量を求めた。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜３、比較例１〜７ 平均粒径、１０３重量減量時温度の異なるジビニルベン
ゼン／スチレン架橋共重合体粒子（有機高分子粒子）を
含有するエチレングリコールスラリーを調整した。この
スラリーの熱処理条件を種々変更して、このエチレング
リコールスラリーとテレフタル酸ジメチルとをエステル
交換反応後、重縮合し、該粒子を含有するポリエチレン
テレフタレートの粒子マスターベレットを作った。また
、マスターベレットの固有粘度、共重合成分を変更しマ
スターベレットのΔＴＣＱを第１表に示したとおり変更
したものを作った。これらの粒子マスターペレットと、
実質的に有機高分子粒子を含有しないポリエチレンテレ
フタレートのペレット（ΔＴＣＣＩ：８０℃）を、有機
高分子粒子含有量が所定量となるよう混合したペレット
を１８０℃で３時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）　Ｌ／た。

このベレットを押出機に供給し、３００℃で溶融押出し
、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャス
ティング・ドラムに巻きつけて冷却固化し未延伸フィル
ムを作った。この時、口金のスリット幅／未延伸フィル
ム厚さの比を種々変更して未延伸フィルムを作った。こ
の未延伸フィルムを８０℃にて長手方向に４．５倍延伸
した。

この延伸はロールの周速差で行なわれ、延伸段数は３段
に分けて行なった。延伸速度の平均は１ｏｏｏｏ％／分
であった。この−軸延伸フィルムをステンタを用いて延
伸速度２０００％／分で１００℃で幅方向に３．６倍延
伸し、１．０１倍の微延伸下で、１９０℃にて５秒間熱
処理し、厚さ１５ｋｍの二軸配向フィルムを得た。

このフィルムに下記組成の磁性塗料をグラビアロールに
より塗布し、磁気配向させ、乾燥させた。

ざらに、小型テストカレンダー装置（スチールロール／
ナイロンロール、５段）で、温度＝７０℃、線圧：　２
００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後、７０’Ｃ，４
８時間キユアリングした。

上記テープ原反を１／２インチにスリットし、パンケー
キを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの長さ
をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとし
た。

（１性塗料の組成） −Ｃｏ含有酸化鉄（ＢＥＴ値５０ｍ２／１０　　）：１
００重量部 ・エスレツクＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共
重合体　　　　　　　　　：１０重量部・ニラボラン２
３０４　（日本ポリウレタン製ポリウレタンエラストマ
）　　　　　：１０重量部・コロネートしく日本ポリウ
レタン製ポリイソシアネート）　　　　　　　　　　　
：５重量部・レシチン　　　　　　　　　　　　＝１重
量部・メチルエチルケトン　　　　　　ニア５重量部・
メチルイソブチルケトン　　　　ニア５重量部・トルエ
ン　　　　　　　　　　　ニア５手量部・ラウリン酸　
　　　　　　　　：１．５重量部・α−アルミナ：Ｃｏ
含有酸化鉄に対して重量比率を第１表のとおり変更した
。

これらの磁気記録媒体の性能は第１表に示したとおりで
あり、本発明の必要要件を満足する磁気記録媒体は耐ス
クラッチ性、耐ダビング性がすべて優れたものが得られ
るが、そうでない場合は、耐スクラッチ性、耐ダビング
性を両立できないことがわかる。

実施例４〜６、比較例８〜１３ 実施例１と同様にして平均粒径、１０％重間減量時温度
の異なるジビニルベンゼン／スチレン架橋共重合体粒子
（有機高分子粒子）を含有する二軸配向ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを作った。これらのフィルムの表
面突起の高さ分布σは第２表に示したとおりであった。

このフィルムの片面に電子ビーム蒸着法で、ＣＯ／Ｎ　
ｉ合金（Ｃｏ／Ｎ　ｉ　＝７５／２５重量比）を厚さ１
８０ｎｍに斜方蒸着しく最小入射角：５ｏ’＞、磁性薄
膜を形成した。その反対面に下記組成物を塗布し、厚さ
０．５μｍのバックコート層を形成した。

（バックコート組成） ・ポリエステル（東洋紡バイロン２００＞８０重量部 ・ニトロセルロース　　　　　　　２０重量部・シリカ
粒子（平均粒径０．０１μｍ）（有機バインダーに対し
重量比率変更）・メチルエチルケトン　　　　　２００
重量部・トルエン　　　　　　　　　　２００重ω部・
シクロへキサノン　　　　　　２００重量部これらの磁
気記録媒体の性能は第２表に示したとおりであり、本発
明の必要要件を満足する磁気記録媒体は耐スクラッチ性
、耐ダビング性がすべて優れたものが得られるが、そう
でない場合は耐スクラッチ性、耐ダビング性を両立でき
ないことがわかる。

［発明の効果］ 本発明は基材フィルム中には有機高分子粒子を含有せし
め、磁性層、バックコート層の少なくとも片方に無機粒
子を含有する磁気記録媒体とし、かつ、該有機高分子粒
子の真球度、表面突起の高さ分布の標準偏差を特定範囲
としたので、耐スクラッチ性、耐ダビング性を両立する
磁気記録媒体が得られたものでおり、最近の苛酷な使用
条件、すなわち、磁気記録媒体の塗布、カレンダー工程
の高速化、ダビングや巻取り速度の高速化にも耐えつる
耐スクラッチ性のすぐれた磁気記録媒体が得られ、また
、今後のダビングシステムに対応した高画質磁気記録媒
体が得られたものである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　ポリエステルを主たる成分とする基材フィルム
   の片面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体であつて、該
   磁性層が磁性体に対し０．１〜２０重量％の無機粒子を
   含有し、該基材フィルムが０．０１〜８．０重量％の不
   活性有機高分子粒子を含有し、かつ、該高分子粒子の真
   球度（長径／短径）が１．２以下、該基材フィルムの少
   なくとも片面の突起高さ分布の標準偏差が４０〜２５０
   ｎｍの範囲であるであることを特徴とする磁気記録媒体
   。
2. （２）ポリエステルを主たる成分とする基材フィルムの
   片面に磁性層、反対面にバックコート層を設けてなる磁
   気記録媒体であつて、該バックコート層が有機バインダ
   ーに対し５〜４００重量％の無機粒子を含有し、該基材
   フィルムが０．０１〜８．０重量％の不活性有機高分子
   粒子を含有し、かつ、該高分子粒子の真球度（長径／短
   径）が１．２以下、該基材フィルムの少なくとも片面の
   突起高さ分布の標準偏差が１５０ｎｍ以下であることを
   特徴とする磁気記録媒体。