JPH07111777B2 - メタル塗布型磁気記録媒体 - Google Patents
メタル塗布型磁気記録媒体Info
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- JPH07111777B2 JPH07111777B2 JP2002084A JP208490A JPH07111777B2 JP H07111777 B2 JPH07111777 B2 JP H07111777B2 JP 2002084 A JP2002084 A JP 2002084A JP 208490 A JP208490 A JP 208490A JP H07111777 B2 JPH07111777 B2 JP H07111777B2
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- magnetic recording
- thermoplastic resin
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はメタル塗布型磁気記録媒体に関するものであ
る。
る。
［従来の技術］ メタル塗布型磁気記録媒体としては、ポリエステルフィ
ルムにメタル塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が
知られている（たとえば特開昭60−66319号公報）。
ルムにメタル塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が
知られている（たとえば特開昭60−66319号公報）。
［発明が解決しようとする課題］ 支持フィルム上にメタル塗布型磁性層を設けた磁気記録
媒体は、その出力特性、周波数特性のため高密度記録用
磁気記録媒体として重要視されている。しかし、上記従
来のメタル塗布型磁気記録媒体では、一般に、平滑なベ
ースフィルムが用いられるため、摩擦係数が大きく、滑
らず走行性が不十分であり、また、走行性を向上させる
ために粒子のサイズを大きくすると出力特性が不良とな
る問題点があった。
媒体は、その出力特性、周波数特性のため高密度記録用
磁気記録媒体として重要視されている。しかし、上記従
来のメタル塗布型磁気記録媒体では、一般に、平滑なベ
ースフィルムが用いられるため、摩擦係数が大きく、滑
らず走行性が不十分であり、また、走行性を向上させる
ために粒子のサイズを大きくすると出力特性が不良とな
る問題点があった。
本発明はかかる課題を改善し、本来メタル塗布型磁気記
録媒体が有する優れた出力特性を維持しつつ（以下、出
力特性に優れるという）、走行性に優れた（以下、走行
性に優れるという）メタル塗布型磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
録媒体が有する優れた出力特性を維持しつつ（以下、出
力特性に優れるという）、走行性に優れた（以下、走行
性に優れるという）メタル塗布型磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明は、（１）基材フィルムの少なくとも片面にメタ
ル塗布型磁性層を設けてなるメタル塗布型磁気記録媒体
であって、該基材フィルムが熱可塑性樹脂Ａよりなる層
（Ａ層）の少なくとも片面に不活性粒子を含有する熱可
塑性樹脂Ｂよりなる層（Ｂ層）を積層してなる二軸配向
フィルムであり、Ｂ層に含有される不活性粒子の平均粒
径dBが10〜600nm、該粒子のＢ層における含有量が1.5〜
40重量％、Ｂ層の厚さtBと平均粒径dBの比tB/dBが0.1〜
３の範囲であることを特徴とするメタル塗布型磁気記録
媒体、（２）基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に
メタル塗布型磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ
層に含有される不活性粒子の平均粒径dBが10〜450nmで
あることを特徴とする上記（１）記載のメタル塗布型磁
気記録媒体、（３）基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ
層を積層してなる二軸配向フィルムであり、Ａ層側にの
みメタル塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有
される不活性粒子の平均粒径dBが50〜600nmであること
を特徴とする上記（１）記載のメタル塗布型磁気記録媒
体、（４）基材フィルムが、熱可塑性樹脂Ａよりなる層
（Ａ）の一方の面に不活性粒子を含有する熱可塑性樹脂
Ｂよりなる層（Ｂ層）を、他面に不活性粒子を含有する
熱可塑性樹脂Ｃよりなる層（Ｃ層）を積層してなる二軸
配向フィルムであって、該基材フィルムのＢ層側にのみ
メタル塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有さ
れる不活性粒子の平均粒径dBが10〜450nm、該粒子のＢ
層における含有量が1.5〜40重量％、Ｂ層の厚さtBと平
均粒径dBの比tB/dBが0.1〜３、該Ｃ層に含有される不活
性粒子の平均粒径dCが50〜600nm、該粒子のＣ層におけ
る含有量が1.5〜40重量％、Ｃ層の厚さtCと平均粒径dC
の比tC/dCが0.1〜３であることを特徴とするメタル塗布
型磁気記録媒体に関するものである。
ル塗布型磁性層を設けてなるメタル塗布型磁気記録媒体
であって、該基材フィルムが熱可塑性樹脂Ａよりなる層
（Ａ層）の少なくとも片面に不活性粒子を含有する熱可
塑性樹脂Ｂよりなる層（Ｂ層）を積層してなる二軸配向
フィルムであり、Ｂ層に含有される不活性粒子の平均粒
径dBが10〜600nm、該粒子のＢ層における含有量が1.5〜
40重量％、Ｂ層の厚さtBと平均粒径dBの比tB/dBが0.1〜
３の範囲であることを特徴とするメタル塗布型磁気記録
媒体、（２）基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に
メタル塗布型磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ
層に含有される不活性粒子の平均粒径dBが10〜450nmで
あることを特徴とする上記（１）記載のメタル塗布型磁
気記録媒体、（３）基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ
層を積層してなる二軸配向フィルムであり、Ａ層側にの
みメタル塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有
される不活性粒子の平均粒径dBが50〜600nmであること
を特徴とする上記（１）記載のメタル塗布型磁気記録媒
体、（４）基材フィルムが、熱可塑性樹脂Ａよりなる層
（Ａ）の一方の面に不活性粒子を含有する熱可塑性樹脂
Ｂよりなる層（Ｂ層）を、他面に不活性粒子を含有する
熱可塑性樹脂Ｃよりなる層（Ｃ層）を積層してなる二軸
配向フィルムであって、該基材フィルムのＢ層側にのみ
メタル塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有さ
れる不活性粒子の平均粒径dBが10〜450nm、該粒子のＢ
層における含有量が1.5〜40重量％、Ｂ層の厚さtBと平
均粒径dBの比tB/dBが0.1〜３、該Ｃ層に含有される不活
性粒子の平均粒径dCが50〜600nm、該粒子のＣ層におけ
る含有量が1.5〜40重量％、Ｃ層の厚さtCと平均粒径dC
の比tC/dCが0.1〜３であることを特徴とするメタル塗布
型磁気記録媒体に関するものである。
本発明の基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂Ａ、Ｂ、
Ｃは同じでも、異なる種類のものでも良く、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスル
フィドなど特に限定されることはないが、特に、ポリエ
ステル、中でも、エチレンテレフタレート、エチレン
α，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−4,4′
−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に走行性がより一層良好となるので望まし
い。
Ｃは同じでも、異なる種類のものでも良く、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスル
フィドなど特に限定されることはないが、特に、ポリエ
ステル、中でも、エチレンテレフタレート、エチレン
α，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−4,4′
−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に走行性がより一層良好となるので望まし
い。
また、本発明を構成する熱可塑性樹脂Ｂ及び／またはＣ
は結晶性である場合に走行性がより一層良好となるので
きわめて望ましい。ここでいう結晶性とはいわゆる非晶
質ではないことを示すものであり、定量的には結晶化パ
ラメータにおける冷結晶化温度Tccが検出され、かつ結
晶化パラメータΔTcgが150℃以下のものである。さら
に、示差走査熱量計で測定された融解熱（融解エンタル
ピー変化）が7.5cal/g以上の結晶性を示す場合に走行性
がより一層良好となるのできわめて望ましい。また、エ
チレンテレフタレートを主要構成成分とするポリエステ
ルと場合に走行性がより一層良好となるので特に望まし
い。
は結晶性である場合に走行性がより一層良好となるので
きわめて望ましい。ここでいう結晶性とはいわゆる非晶
質ではないことを示すものであり、定量的には結晶化パ
ラメータにおける冷結晶化温度Tccが検出され、かつ結
晶化パラメータΔTcgが150℃以下のものである。さら
に、示差走査熱量計で測定された融解熱（融解エンタル
ピー変化）が7.5cal/g以上の結晶性を示す場合に走行性
がより一層良好となるのできわめて望ましい。また、エ
チレンテレフタレートを主要構成成分とするポリエステ
ルと場合に走行性がより一層良好となるので特に望まし
い。
なお、本発明を阻害しない範囲内で、熱可塑性樹脂Ａ、
Ｂ、Ｃから選ばれる少なくとも一種に他種の熱可塑性樹
脂を混合してもよいし共重合ポリマを用いても良い。ま
た、本発明の目的を阻害しない範囲内で、熱可塑性樹脂
Ａ、Ｂ、Ｃから選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。
Ｂ、Ｃから選ばれる少なくとも一種に他種の熱可塑性樹
脂を混合してもよいし共重合ポリマを用いても良い。ま
た、本発明の目的を阻害しない範囲内で、熱可塑性樹脂
Ａ、Ｂ、Ｃから選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。
本発明を構成する基材フィルムのＢ層中の不活性粒子の
平均粒径dBは走行性、出力特性の点から10〜600nmであ
る必要があり、さらにＢ層側に磁性層が設けられる場合
には10〜450nm、磁性層が設けられない場合には50〜600
nmが好ましい。また本発明の基材フィルムＢ層中の不活
性粒子の含有量は1.5〜40重量％、好ましくは２〜30重
量％、さらに好ましくは３〜20重量％であることが必要
である。含有量が上記の範囲より多いと出力特性が満足
できず、少ないと走行性が不良となり好ましくない。さ
らに本発明の基材フィルムＢ層の厚さtBと該Ｂ層中に含
有する不活性粒子の平均粒径dBの比、tB/dBは0.1〜３、
好ましくは0.2〜2.0、さらに好ましくは0.3〜1.5の範囲
であることが必要である。tB/dBが上記の範囲より小さ
いと走行性が不良となり、逆に大きいと出力特性が不良
となるので好ましくない。
平均粒径dBは走行性、出力特性の点から10〜600nmであ
る必要があり、さらにＢ層側に磁性層が設けられる場合
には10〜450nm、磁性層が設けられない場合には50〜600
nmが好ましい。また本発明の基材フィルムＢ層中の不活
性粒子の含有量は1.5〜40重量％、好ましくは２〜30重
量％、さらに好ましくは３〜20重量％であることが必要
である。含有量が上記の範囲より多いと出力特性が満足
できず、少ないと走行性が不良となり好ましくない。さ
らに本発明の基材フィルムＢ層の厚さtBと該Ｂ層中に含
有する不活性粒子の平均粒径dBの比、tB/dBは0.1〜３、
好ましくは0.2〜2.0、さらに好ましくは0.3〜1.5の範囲
であることが必要である。tB/dBが上記の範囲より小さ
いと走行性が不良となり、逆に大きいと出力特性が不良
となるので好ましくない。
また本発明を構成する基材フィルムのＣ層中の不活性粒
子の平均粒径dCは、良好な走行性、出力特性を得るため
に50〜600nmが必要である。さらに、基材フィルムＣ層
中に含有する不活性粒子の含有量は、良好な走行性、出
力特性を有する磁気記録媒体とするために1.5〜40重量
％、好ましくは２〜15重量％であることが必要である。
またこのＣ層の厚さtCと、含有する不活性粒子の平均粒
径dCの比tC/dCは0.1〜３の範囲である場合に走行性、出
力特性がより一層良好となるので望ましい。
子の平均粒径dCは、良好な走行性、出力特性を得るため
に50〜600nmが必要である。さらに、基材フィルムＣ層
中に含有する不活性粒子の含有量は、良好な走行性、出
力特性を有する磁気記録媒体とするために1.5〜40重量
％、好ましくは２〜15重量％であることが必要である。
またこのＣ層の厚さtCと、含有する不活性粒子の平均粒
径dCの比tC/dCは0.1〜３の範囲である場合に走行性、出
力特性がより一層良好となるので望ましい。
さらに、基材フィルムＡ層中に不活性粒子を含有してい
る必要は特にないが、平均粒径が５〜600nm、特に10〜4
50nmの不活性粒子が0.001〜0.15重量％、特に0.005〜0.
05重量％含有されていると走行性、出力特性がより一層
良好となるので望ましい。
る必要は特にないが、平均粒径が５〜600nm、特に10〜4
50nmの不活性粒子が0.001〜0.15重量％、特に0.005〜0.
05重量％含有されていると走行性、出力特性がより一層
良好となるので望ましい。
本発明に使用する不活性粒子は、粒径比（粒子の長径／
短径）が1.0〜1.3の粒子、特に、球形状の粒子の場合に
走行性、出力特性がより一層良好となるので望ましい。
本発明に使用する不活性粒子は基材フィルム中での単一
粒子指数が0.7以上、好ましくは0.9以上である場合に走
行性、出力特性がより一層良好となるので特に望まし
い。本発明に使用する不活性粒子は粒径の相対標準偏差
が0.6以下、好ましくは0.5以下の場合に走行性、出力特
性がより一層良好となるので望ましい。
短径）が1.0〜1.3の粒子、特に、球形状の粒子の場合に
走行性、出力特性がより一層良好となるので望ましい。
本発明に使用する不活性粒子は基材フィルム中での単一
粒子指数が0.7以上、好ましくは0.9以上である場合に走
行性、出力特性がより一層良好となるので特に望まし
い。本発明に使用する不活性粒子は粒径の相対標準偏差
が0.6以下、好ましくは0.5以下の場合に走行性、出力特
性がより一層良好となるので望ましい。
本発明に使用する不活性粒子の種類は特に限定されない
が、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリスチレ
ン）等があるが、特に10重量％減量時温度（窒素中で熱
重量分析装置島津TG−30Mを用いて測定。昇温速度20℃
／分）が380℃以上になるまで架橋度を高くした架橋高
分子粒子の場合に走行性、出力特性がより一層良好とな
るので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起因す
る球形シリカの場合にはアルコキシド法で製造された、
ナトリウム含有量が少ない、実質的に球形のシリカの場
合に走行性、出力特性がより一層良好となるので特に望
ましい。しかしながら、その他の粒子、冷えば炭酸カル
シウム、二酸化チタン、アルミナ等他の粒子でも熱可塑
性樹脂Ｂ層の厚さtBと平均粒径dBの比の適切なコントロ
ールにより十分使いこなせるものである。
が、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリスチレ
ン）等があるが、特に10重量％減量時温度（窒素中で熱
重量分析装置島津TG−30Mを用いて測定。昇温速度20℃
／分）が380℃以上になるまで架橋度を高くした架橋高
分子粒子の場合に走行性、出力特性がより一層良好とな
るので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起因す
る球形シリカの場合にはアルコキシド法で製造された、
ナトリウム含有量が少ない、実質的に球形のシリカの場
合に走行性、出力特性がより一層良好となるので特に望
ましい。しかしながら、その他の粒子、冷えば炭酸カル
シウム、二酸化チタン、アルミナ等他の粒子でも熱可塑
性樹脂Ｂ層の厚さtBと平均粒径dBの比の適切なコントロ
ールにより十分使いこなせるものである。
本発明を構成する基材フィルムは上記組成物からなる積
層フィルムを二軸配向せしめたフィルムであって、一軸
あるいは無配無フィルムでは走行性が不良となるので好
ましくない。この配向の程度は特に限定されないが、高
分子の分子配向の程度の目安であるヤング率が長手方
向、幅方向ともに350kg/mm2以上である場合に出力特
性、走行性がより一層良好となるのできわめて望まし
い。分子配向の程度の目安であるヤング率の上限は特に
限定されないが、通常、1500kg/mm2程度が製造上の限界
である。
層フィルムを二軸配向せしめたフィルムであって、一軸
あるいは無配無フィルムでは走行性が不良となるので好
ましくない。この配向の程度は特に限定されないが、高
分子の分子配向の程度の目安であるヤング率が長手方
向、幅方向ともに350kg/mm2以上である場合に出力特
性、走行性がより一層良好となるのできわめて望まし
い。分子配向の程度の目安であるヤング率の上限は特に
限定されないが、通常、1500kg/mm2程度が製造上の限界
である。
本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層表面の全反射ラ
マン結晶化指数は、20cm-1以下の場合に走行性、出力特
性がより一層良好となるので特に望ましい。
マン結晶化指数は、20cm-1以下の場合に走行性、出力特
性がより一層良好となるので特に望ましい。
また、本発明を構成する基材フィルムの該Ｃ層表面の全
反射ラマン結晶化指数は、20cm-1以下の場合に走行性、
出力特性がより一層良好となるので特に望ましい。
反射ラマン結晶化指数は、20cm-1以下の場合に走行性、
出力特性がより一層良好となるので特に望ましい。
本発明は上記の二軸配向フィルムの少なくとも片面にメ
タル塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体である。用
いられる磁性粉末は特に限定されないが強磁性粉末、な
かでも、Fe、Co、Fe−Co、Fe−Co−Ni、Co−Ni等の金属
または合金、これらとAl、Cr、Si等との合金等が好まし
く用いられる。
タル塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体である。用
いられる磁性粉末は特に限定されないが強磁性粉末、な
かでも、Fe、Co、Fe−Co、Fe−Co−Ni、Co−Ni等の金属
または合金、これらとAl、Cr、Si等との合金等が好まし
く用いられる。
磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料とすることが
できるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダーおよび放
射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤として
分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いてもよ
い。例えば塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシア
ネートよりなるバインダーなどを用いることができる。
できるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダーおよび放
射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤として
分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いてもよ
い。例えば塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシア
ネートよりなるバインダーなどを用いることができる。
メタル塗布型磁性層の厚さtMは特に限定されないが、磁
性層側のＢ層の厚さtB（一層）との比、tB/tMが0.002〜
10、特に0.01〜10、さらに好ましくは0.01〜５の範囲で
ある場合に出力特性、走行性がより一層良好となるので
望ましい。またtMの値としては0.5〜５μｍの範囲とし
ておくことが出力特性、走行性がより一層良好となるの
で望ましい。
性層側のＢ層の厚さtB（一層）との比、tB/tMが0.002〜
10、特に0.01〜10、さらに好ましくは0.01〜５の範囲で
ある場合に出力特性、走行性がより一層良好となるので
望ましい。またtMの値としては0.5〜５μｍの範囲とし
ておくことが出力特性、走行性がより一層良好となるの
で望ましい。
本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層の幅方向厚さ斑
は25％以下、さらに好ましくは20％以下である場合に出
力特性、走行性がより一層良好となるので特に望まし
い。
は25％以下、さらに好ましくは20％以下である場合に出
力特性、走行性がより一層良好となるので特に望まし
い。
本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層の厚さは0.01〜
２μｍ、好ましくは0.02〜１μｍの場合に走行性、出力
特性がより一層良好となるので特に望ましい。
２μｍ、好ましくは0.02〜１μｍの場合に走行性、出力
特性がより一層良好となるので特に望ましい。
本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層表面の中心線平
均粗さRaと最大高さRtの比、Rt/Raは9.0以下、特に8.5
以下の場合に出力特性、走行性がより一層良好となるの
で特に望ましい。
均粗さRaと最大高さRtの比、Rt/Raは9.0以下、特に8.5
以下の場合に出力特性、走行性がより一層良好となるの
で特に望ましい。
本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層表面の２次イオ
ンマススペクトルによって測定される表層粒子濃度比は
特に限定されないが、表層粒子濃度比が1/10以下、特に
1/50以下である場合に走行性、出力特性がより一層良好
となるので特に望ましい。
ンマススペクトルによって測定される表層粒子濃度比は
特に限定されないが、表層粒子濃度比が1/10以下、特に
1/50以下である場合に走行性、出力特性がより一層良好
となるので特に望ましい。
次に本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明す
る。
る。
まず、熱可塑性樹脂Ｂに不活性粒子を含有せしめる方法
としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラリー
とし、ベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑性樹
脂に練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の厚さ
と平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るのにき
わめて有効である。
としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラリー
とし、ベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑性樹
脂に練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の厚さ
と平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るのにき
わめて有効である。
粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃
度マスターを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を
実質的に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有
量を調節する方法が有効である。
度マスターを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を
実質的に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有
量を調節する方法が有効である。
次に、熱可塑性樹脂Ａ、不活性粒子を所定量含有する熱
可塑性樹脂Ｂのペレットを必要に応じて乾燥したのち、
公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状のダイ
からシート状に押出し、キャスティングロール上で冷却
固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、２また
は３台の押出し機、２または３層のマニホールドまたは
合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂを積層し、
口金から２または３層のシートを押し出し、キャスティ
ングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場
合、熱可塑性樹脂Ｂのポリマ流路に、スタティックミキ
サー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく、本発
明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲
の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。ま
た、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用い
るのが本発明範囲の厚さと平均粒径の関係を得るのにき
わめて有効である。また、熱可塑性樹脂Ｂ側の押し出し
機の溶融温度を、熱可塑性樹脂Ａ側より、10〜40℃高く
することが、延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒
径の関係、含有量、望ましい範囲の積層厚さ斑、表層粒
子濃度比、全反射ラマン結晶化指数のフィルムを得るの
に有効である。上記の説明は構成として、A/B、B/A/Bに
ついて述べたが、B/A/Cの構成の場合は３台の押出機を
用いて同様に、３層のマニホールドまたは合流ブロック
を用いて、熱可塑性樹脂Ｂ、Ａ、Ｃを積層し、口金から
３層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却
して未延伸フィルムを作る。
可塑性樹脂Ｂのペレットを必要に応じて乾燥したのち、
公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状のダイ
からシート状に押出し、キャスティングロール上で冷却
固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、２また
は３台の押出し機、２または３層のマニホールドまたは
合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂを積層し、
口金から２または３層のシートを押し出し、キャスティ
ングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場
合、熱可塑性樹脂Ｂのポリマ流路に、スタティックミキ
サー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく、本発
明範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲
の表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。ま
た、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用い
るのが本発明範囲の厚さと平均粒径の関係を得るのにき
わめて有効である。また、熱可塑性樹脂Ｂ側の押し出し
機の溶融温度を、熱可塑性樹脂Ａ側より、10〜40℃高く
することが、延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均粒
径の関係、含有量、望ましい範囲の積層厚さ斑、表層粒
子濃度比、全反射ラマン結晶化指数のフィルムを得るの
に有効である。上記の説明は構成として、A/B、B/A/Bに
ついて述べたが、B/A/Cの構成の場合は３台の押出機を
用いて同様に、３層のマニホールドまたは合流ブロック
を用いて、熱可塑性樹脂Ｂ、Ａ、Ｃを積層し、口金から
３層のシートを押し出し、キャスティングロールで冷却
して未延伸フィルムを作る。
次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめ
る。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸
延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率を
3.0〜6.5倍で行なう方法は、本発明範囲の厚さと平均粒
径の関係、含有量のフィルムを得るのに有効である。長
手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類によって異なり一
概には言えないが、通常、その１段目を50〜130℃と
し、２段目以降はそれより高くすることが本発明範囲の
厚さと平均粒径の関係、本発明の望ましい範囲の表層粒
子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長手方向延
伸速度は5000〜50000％／分の範囲が好適である。幅方
向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的で
ある。延伸倍率は、3.0〜5.0倍、延伸速度は、1000〜20
000％／分、温度は80〜160℃の範囲が好適である。次に
この延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度
は170〜200℃、特に170〜190℃、時間は0.5〜60秒の範
囲が好適である。
る。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸
延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率を
3.0〜6.5倍で行なう方法は、本発明範囲の厚さと平均粒
径の関係、含有量のフィルムを得るのに有効である。長
手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類によって異なり一
概には言えないが、通常、その１段目を50〜130℃と
し、２段目以降はそれより高くすることが本発明範囲の
厚さと平均粒径の関係、本発明の望ましい範囲の表層粒
子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長手方向延
伸速度は5000〜50000％／分の範囲が好適である。幅方
向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的で
ある。延伸倍率は、3.0〜5.0倍、延伸速度は、1000〜20
000％／分、温度は80〜160℃の範囲が好適である。次に
この延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度
は170〜200℃、特に170〜190℃、時間は0.5〜60秒の範
囲が好適である。
次に、このフィルムに所定の磁性層を塗布する。磁性層
を塗布する方法は公知の方法で行なうことができるが、
グラビヤロールで塗布する方法が本発明範囲の厚さと平
均粒径の関係、本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比
のフィルムを得るのに有効である。塗布後の乾燥工程
は、温度を90〜120℃とするのが好ましい。
を塗布する方法は公知の方法で行なうことができるが、
グラビヤロールで塗布する方法が本発明範囲の厚さと平
均粒径の関係、本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比
のフィルムを得るのに有効である。塗布後の乾燥工程
は、温度を90〜120℃とするのが好ましい。
また、カレンダー工程は、ポリアミドまたはポリエステ
ルを弾性ロールに用い、25〜90℃、特に40〜70℃の温度
範囲で行なうのが本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、
本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得
るのに有効である。さらに、このフィルムの磁性層をキ
ュアした後、その原反（広幅）をスリットして本発明の
メタル塗布型磁気記録媒体を得る。
ルを弾性ロールに用い、25〜90℃、特に40〜70℃の温度
範囲で行なうのが本発明範囲の厚さと平均粒径の関係、
本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィルムを得
るのに有効である。さらに、このフィルムの磁性層をキ
ュアした後、その原反（広幅）をスリットして本発明の
メタル塗布型磁気記録媒体を得る。
［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の
通りである。
通りである。
（１）粒子の平均粒径 フィルムから熱可塑性樹脂をプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件は熱可塑性樹脂は灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡（SEM）で観察し、粒子の画像
をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変えて
粒子数5,000個以上で次の数値処理を行ない、それによ
って求めた数平均系Ｄを平均粒径とする。
除去し粒子を露出させる。処理条件は熱可塑性樹脂は灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡（SEM）で観察し、粒子の画像
をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変えて
粒子数5,000個以上で次の数値処理を行ない、それによ
って求めた数平均系Ｄを平均粒径とする。
Ｄ＝ΣDi/N ここで、Diは粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。
（２）粒径比 上記（１）の測定において個々の粒子の（長径の平均
値）／（短径の平均値）の比である。すなわち、下式で
求められる。
値）／（短径の平均値）の比である。すなわち、下式で
求められる。
長径＝ΣD1i/N 短径＝ΣD2i/N Dii、D2iはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径）、短径
（最短径）、Ｎは粒子数である。
（最短径）、Ｎは粒子数である。
（３）粒径の相対標準偏差 上記（１）の方法で測定された個々の粒径Di、平均径
Ｄ、粒子数Ｎから計算される標準偏差σ（＝｛Σ（Di−
Ｄ）2/N｝1/2）を平均径Ｄで割った値（σ/D）で表わし
た。
Ｄ、粒子数Ｎから計算される標準偏差σ（＝｛Σ（Di−
Ｄ）2/N｝1/2）を平均径Ｄで割った値（σ/D）で表わし
た。
（４）単一粒子指数 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（TEM）で写真観察
し、粒子を検知する。観察倍率を10万倍程度にすれば、
それ以上分けることができない１個の粒子が観察でき
る。粒子の占める全面積をＡ、そのうち２個以上の粒子
が凝集している凝集体の占める面積をＢとした時、（Ａ
−Ｂ）/Aをもって、単一粒子指数とする。TEM条件は下
記のとおりである。１視野面積:2μm2の測定を場所を変
えて、500視野測定する。
し、粒子を検知する。観察倍率を10万倍程度にすれば、
それ以上分けることができない１個の粒子が観察でき
る。粒子の占める全面積をＡ、そのうち２個以上の粒子
が凝集している凝集体の占める面積をＢとした時、（Ａ
−Ｂ）/Aをもって、単一粒子指数とする。TEM条件は下
記のとおりである。１視野面積:2μm2の測定を場所を変
えて、500視野測定する。
・観察倍率:10万倍 ・加速電圧:100kV ・切片厚さ：約1,000Å （５）粒子の含有量 熱可塑性樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、粒子の全体重
量に対して比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
し、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、粒子の全体重
量に対して比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
（６）結晶化パラメータΔTcg、融解熱 示差走査熱量計（DSC）を用いて測定した。DSCの測定条
件は次の通りである。すなわち、試料10mgをDSC装置に
セットし、300℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素
中に急冷する。この急冷試料を10℃／分で昇温し、ガラ
ス転移点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態
からの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tcc
とした。さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求
めた。ここでTccとTgの差（Tcc−Tg）を結晶化パラメー
タΔTcgと定義する。
件は次の通りである。すなわち、試料10mgをDSC装置に
セットし、300℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素
中に急冷する。この急冷試料を10℃／分で昇温し、ガラ
ス転移点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態
からの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tcc
とした。さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求
めた。ここでTccとTgの差（Tcc−Tg）を結晶化パラメー
タΔTcgと定義する。
（７）ヤング率 JIS−Ｚ−1702に規定された方法にしたがって、インス
トロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃、65％RH
にて測定した。
トロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃、65％RH
にて測定した。
（８）全反射ラマン結晶化指数 全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の伸縮
振動である1730cm-1の半価幅をもって表面の全反射ラマ
ン結晶化指数とした。測定条件は次の通りである。但し
測定深さは、表面から500〜1000Å程度とした。
振動である1730cm-1の半価幅をもって表面の全反射ラマ
ン結晶化指数とした。測定条件は次の通りである。但し
測定深さは、表面から500〜1000Å程度とした。
光源 アルゴンイオンレーザー（5,145Å） 試料のセッティング レーザー偏光方向（Ｓ偏光）とフィルム長手方向が平行
となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着さ
せ、レーザーのプリズムへの入射角（フィルム厚さ方向
との角度は60゜とした。
となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着さ
せ、レーザーのプリズムへの入射角（フィルム厚さ方向
との角度は60゜とした。
検出器 PM:RCA31034/Photon Counting System（Hamamatsu C123
0）（supply 1,600V） 測定条件 SLIT 1,000 μｍ LASER 100 mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12 cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 （９）固有粘度［η］（単位はdl/g） オルトクロロフェノール中、25℃で測定した溶液粘度か
ら下記式で計算される値を用いる。すなわち、 ηSP/C＝［η］＋Ｋ［η］２・Ｃ ここで ηSP＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒
100mlあたりの溶解ポリマ重量（g/100ml、通常1.2）、
Ｋはハギンス定数（0.343とする）。また、溶液粘度、
溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定した。
0）（supply 1,600V） 測定条件 SLIT 1,000 μｍ LASER 100 mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12 cm-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm-1 REPEAT TIME 6 （９）固有粘度［η］（単位はdl/g） オルトクロロフェノール中、25℃で測定した溶液粘度か
ら下記式で計算される値を用いる。すなわち、 ηSP/C＝［η］＋Ｋ［η］２・Ｃ ここで ηSP＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒
100mlあたりの溶解ポリマ重量（g/100ml、通常1.2）、
Ｋはハギンス定数（0.343とする）。また、溶液粘度、
溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定した。
（10）表層粒子濃度比 ２次イオンマススペクトル（SIMS）を用いて、フィルム
中の粒子に起因する元素のうち最も高濃度の元素と熱可
塑性樹脂の炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚さ方向
の分析を行なう。SIMSによって測定される最表層粒子濃
度（深さ０の点）における粒子濃度Ａとさらに深さ方向
の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、A/Bを表層粒
子濃度比と定義した。測定装置、条件は下記のとおりで
ある。
中の粒子に起因する元素のうち最も高濃度の元素と熱可
塑性樹脂の炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚さ方向
の分析を行なう。SIMSによって測定される最表層粒子濃
度（深さ０の点）における粒子濃度Ａとさらに深さ方向
の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、A/Bを表層粒
子濃度比と定義した。測定装置、条件は下記のとおりで
ある。
１次イオン種:O2 + １次イオン加速電圧:12KV １次イオン電流:200nA ラスター領域:400μｍ□ 分析領域：ゲート30％ 測定真空度:6.0×10-9Torr Ｅ−GUN:0.5kV−3.0A （11）表面粗さパラメータRa（中心線平均粗さ）、Rt
（最大高さ） 表面粗さ計を用いて測定した。条件は下記のとおりであ
り、20回の測定の平均値をもって値とした。
（最大高さ） 表面粗さ計を用いて測定した。条件は下記のとおりであ
り、20回の測定の平均値をもって値とした。
・触針先端半径:0.5μｍ ・触針荷重:5mg ・測定長:1mm ・カットオフ値:0.08mm （12）走行性 標準条件として、20℃相対湿度60％の雰囲気下で、外径
6mmφの固定軸に1/2インチ幅のテープを角度θ＝πrad
で接触させ、3.3cm/sの速さで走行させる。入口テンシ
ョンT1を25gとした時の出口テンションT2を測定し、次
式から動摩擦係数（μＫ）を算出する。
6mmφの固定軸に1/2インチ幅のテープを角度θ＝πrad
で接触させ、3.3cm/sの速さで走行させる。入口テンシ
ョンT1を25gとした時の出口テンションT2を測定し、次
式から動摩擦係数（μＫ）を算出する。
μＫ＝（1/θ）1n（T2/T1） ＝（1/π）1n（T2/25） このμＫが0.27以下を走行性：優、0.27を超え0.30以下
を走行性：良、0.30を超えるものを走行性：不良とし
た。
を走行性：良、0.30を超えるものを走行性：不良とし
た。
（13）出力特性 テープ原反をVTRカセットに組み込みVTRテープとした。
このテープに家庭用VTRを用いてテレビ試験波形発生器
により100％クロマ信号を記録し、その再生信号からカ
ラービデオノイズ測定器でクロマS/Nを測定した。
このテープに家庭用VTRを用いてテレビ試験波形発生器
により100％クロマ信号を記録し、その再生信号からカ
ラービデオノイズ測定器でクロマS/Nを測定した。
このクロマS/Nを市販されているスタンダードビデオテ
ープと比較して同等のもの（差が＋0dB以下のもの）を
出力特性：不良、差が＋2dB以下のものを出力特性：
良、差が＋2dBを超えるものを出力特性：優とした。
ープと比較して同等のもの（差が＋0dB以下のもの）を
出力特性：不良、差が＋2dB以下のものを出力特性：
良、差が＋2dBを超えるものを出力特性：優とした。
［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例１、２、５、及び比較例２、３ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因するシリカ粒子を含有するエチレングリコー
ルスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリー
を190℃で1.5時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチル
とエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を0.5〜10
重量％含有するポリエチレンテレフタレート（以下PET
と略す）のペレットを作った。この時、重縮合時間を調
節し固有粘度を0.70とした（熱可塑性樹脂Ｂ）。また、
常法によって、固有粘度0.62のPETを製造し、熱可塑性
樹脂Ａとした。
リカに起因するシリカ粒子を含有するエチレングリコー
ルスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリー
を190℃で1.5時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチル
とエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を0.5〜10
重量％含有するポリエチレンテレフタレート（以下PET
と略す）のペレットを作った。この時、重縮合時間を調
節し固有粘度を0.70とした（熱可塑性樹脂Ｂ）。また、
常法によって、固有粘度0.62のPETを製造し、熱可塑性
樹脂Ａとした。
これらのポリマをそれぞれ180℃で６時間減圧乾燥（3To
rr）した後、熱可塑性樹脂Ｂを押出機１に供給し290℃
で溶融し、さらに、熱可塑性樹脂Ａを押出機２に供給
し、280℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロックで
合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃
のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、積層
未延伸フィルムを作った。この時、それぞれの押出機の
吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂Ｂ層の厚さを調節
した。
rr）した後、熱可塑性樹脂Ｂを押出機１に供給し290℃
で溶融し、さらに、熱可塑性樹脂Ａを押出機２に供給
し、280℃で溶融し、これらのポリマを合流ブロックで
合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃
のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、積層
未延伸フィルムを作った。この時、それぞれの押出機の
吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂Ｂ層の厚さを調節
した。
この未延伸フィルムを温度80℃にて長手方向に4.5倍延
伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差で、４段
階で行なった。この一軸延伸フィルムをステンタを用い
て延伸速度2,000％／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸
し、定長下で、190℃にて５秒間熱処理し、総厚さ15μ
ｍの二軸配向積層フィルムを得た。
伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差で、４段
階で行なった。この一軸延伸フィルムをステンタを用い
て延伸速度2,000％／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸
し、定長下で、190℃にて５秒間熱処理し、総厚さ15μ
ｍの二軸配向積層フィルムを得た。
このフィルムに磁性塗料をグラビヤロールを用いて塗布
する。磁性塗料は次のようにして調製した。
する。磁性塗料は次のようにして調製した。
Fe 100部 平均粒子サイズ長さ:0.3μｍ 針状比:10/1 抗磁力:2000Oe ・ポリウレタン樹脂 15部 ・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 ５部 ・ニトロセルロース樹脂 ５部 ・酸化アルミ粉末 ３部 （平均粒径:0.3μｍ） ・カーボンブラック １部 ・レシチン ２部 ・メチルエチルケトン 100部 ・メチルイソブチルケトン 100部 ・トルエン 100部 ・ステアリン酸 ２部 上記組成物をボールミルで48時間混合分散した後、硬化
剤６部を添加して得られた混練物をフィルターでろ過し
て磁性塗布液を準備し、上記フィルム上に塗布、磁場配
向させ、110℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー
装置（スチールロール／ナイロンロール、５段）で、温
度70℃、線圧200kg/cmでカレンダー処理した後、70℃、
48時間でキュアリングしメタル塗布型磁気記録媒体を得
た。
剤６部を添加して得られた混練物をフィルターでろ過し
て磁性塗布液を準備し、上記フィルム上に塗布、磁場配
向させ、110℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー
装置（スチールロール／ナイロンロール、５段）で、温
度70℃、線圧200kg/cmでカレンダー処理した後、70℃、
48時間でキュアリングしメタル塗布型磁気記録媒体を得
た。
実施例３、４、及び比較例１、４ 上記の実施例と同様にして、実施例３では３台の押出機
を用いて３層積層の積層未延伸フィルムを、実施例４で
はさらにＡ層両面に異なるポリマを積層した３層積層の
積層未延伸フィルムを、また比較例１は通常の単層フィ
ルムを、比較例４では３台の押出機を用いて３層積層の
積層未延伸フィルムを得た。
を用いて３層積層の積層未延伸フィルムを、実施例４で
はさらにＡ層両面に異なるポリマを積層した３層積層の
積層未延伸フィルムを、また比較例１は通常の単層フィ
ルムを、比較例４では３台の押出機を用いて３層積層の
積層未延伸フィルムを得た。
これらの未延伸フィルムを温度80℃にて長手方向に4.2
倍延伸した。この一軸延伸フィルムをステンタを用いて
延伸速度2,000％／分で105℃で幅方向に4.5倍延伸し、
定長下で、190℃にて５秒間熱処理し、二軸配向フィル
ムを得た。
倍延伸した。この一軸延伸フィルムをステンタを用いて
延伸速度2,000％／分で105℃で幅方向に4.5倍延伸し、
定長下で、190℃にて５秒間熱処理し、二軸配向フィル
ムを得た。
このフィルムに磁性塗料をグラビヤロールを用いて塗布
する。磁性塗料は上記実施例と同様のものを用意した。
その磁性塗料をボールミルで48時間混合分散した後、硬
化剤６部を添加して得られた混練物をフィルターでろ過
して磁性塗布液を準備し、塗布、磁場配向させ、100℃
で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置（スチール
ロール／ナイロンロール、５段）で、温度70℃、線圧20
0kg/cmでカレンダー処理した後、70℃、48時間でキュア
リングしメタル塗布型磁気記録媒体を得た。
する。磁性塗料は上記実施例と同様のものを用意した。
その磁性塗料をボールミルで48時間混合分散した後、硬
化剤６部を添加して得られた混練物をフィルターでろ過
して磁性塗布液を準備し、塗布、磁場配向させ、100℃
で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置（スチール
ロール／ナイロンロール、５段）で、温度70℃、線圧20
0kg/cmでカレンダー処理した後、70℃、48時間でキュア
リングしメタル塗布型磁気記録媒体を得た。
比較例５ 比較例１で用いた単膜フィルムの片面に、ポリウレタン
樹脂系バインダーに球状シリカ（0.3μｍ）を５重量％
含有した塗液を公知の方法で塗布、乾燥させ、コーティ
ング厚さ１μｍのフィルムを得た。
樹脂系バインダーに球状シリカ（0.3μｍ）を５重量％
含有した塗液を公知の方法で塗布、乾燥させ、コーティ
ング厚さ１μｍのフィルムを得た。
これらの特性は第１表に示したとおりであり、本発明の
メタル塗布型磁気記録媒体は走行性、出力特性は優また
は良であったが、そうでない場合は走行性、出力特性を
満足するメタル塗布型磁気記録媒体は得られなかった。
メタル塗布型磁気記録媒体は走行性、出力特性は優また
は良であったが、そうでない場合は走行性、出力特性を
満足するメタル塗布型磁気記録媒体は得られなかった。
［発明の効果］ 本発明は、製法の工夫により、不活性粒子を含有する熱
可塑性樹脂を用いて、粒子の大きさとフィルム厚さの関
係、含有量を特定範囲としたので、走行性、出力特性に
優れた磁気記録媒体が得られたものであり、各用途での
フィルム加工速度の増大に対応できるものである。
可塑性樹脂を用いて、粒子の大きさとフィルム厚さの関
係、含有量を特定範囲としたので、走行性、出力特性に
優れた磁気記録媒体が得られたものであり、各用途での
フィルム加工速度の増大に対応できるものである。
Claims (7)
- 【請求項１】基材フィルムの少なくとも片面にメタル塗
布型磁性層を設けてなるメタル塗布型磁気記録媒体であ
って、該基材フィルムが熱可塑性樹脂Ａよりなる層（Ａ
層）の少なくとも片面に不活性粒子を含有する熱可塑性
樹脂Ｂよりなる層（Ｂ層）を積層してなる二軸配向フィ
ルムであり、Ｂ層に含有される不活性粒子の平均粒径dB
が10〜600nm、該粒子のＢ層における含有量が1.5〜40重
量％、Ｂ層の厚さtBと平均粒径dBの比tB/dBが0.1〜３の
範囲であることを特徴とするメタル塗布型磁気記録媒
体。 - 【請求項２】基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に
メタル塗布型磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ
層に含有される不活性粒子の平均粒径dBが10〜450nmで
あることを特徴とする請求項（１）記載のメタル塗布型
磁気記録媒体。 - 【請求項３】基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ層を積
層してなる二軸配向フィルムであり、Ａ層側にのみメタ
ル塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有される
不活性粒子の平均粒径dBが50〜600nmであることを特徴
とする請求項（１）記載のメタル塗布型磁気記録媒体。 - 【請求項４】基材フィルムが、熱可塑性樹脂Ａよりなる
層（Ａ層）の一方の面に不活性粒子を含有する熱可塑性
樹脂Ｂよりなる層（Ｂ層）を、他面に不活性粒子を含有
する熱可塑性樹脂Ｃよりなる層（Ｃ層）を積層してなる
二軸配向フィルムであって、該基材フィルムのＢ層側に
のみメタル塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含
有される不活性粒子の平均粒径dBが10〜450nm、該粒子
のＢ層における含有量1.5〜40重量％、Ｂ層の厚さtBと
平均粒径dBの比tB/dBが0.1〜３、該Ｃ層に含有される不
活性粒子の平均粒径dCが50〜600nm、該粒子のＣ層にお
ける含有量が1.5〜40重量％、Ｃ層の厚さtCと平均粒径d
Cの比tC/dCが0.1〜３であることを特徴とするメタル塗
布型磁気記録媒体。 - 【請求項５】熱可塑性樹脂Ｃが結晶性ポリエステルであ
り、かつ、Ｃ層表面の全反射ラマン結晶化指数が20cm-1
以下であることを特徴とする請求項（４）に記載のメタ
ル塗布型磁気記録媒体。 - 【請求項６】熱可塑性樹脂Ｂが結晶性ポリエステルであ
り、かつ、Ｂ層表面の全反射ラマン結晶化指数が20c-1
以下であることを特徴とする請求項（１）〜（５）のい
ずれかに記載のメタル塗布型磁気記録媒体。 - 【請求項７】磁性層側のＢ層の厚さtBと該磁性層の厚さ
tMの比、tB/tMが0.002〜10の範囲であることを特徴とす
る請求項（１）〜（６）のいずれかに記載のメタル塗布
型磁気記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14386389 | 1989-06-06 | ||
| JP1-143863 | 1989-06-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0386916A JPH0386916A (ja) | 1991-04-11 |
| JPH07111777B2 true JPH07111777B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=15348735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002084A Expired - Lifetime JPH07111777B2 (ja) | 1989-06-06 | 1990-01-08 | メタル塗布型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07111777B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2729189B2 (ja) * | 1991-09-03 | 1998-03-18 | ダイアホイルヘキスト株式会社 | 磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム |
| JP2826235B2 (ja) * | 1992-08-18 | 1998-11-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63224020A (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-19 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1990
- 1990-01-08 JP JP2002084A patent/JPH07111777B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0386916A (ja) | 1991-04-11 |
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