JPH0132032Y2 - - Google Patents

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JPH0132032Y2
JPH0132032Y2 JP14245679U JP14245679U JPH0132032Y2 JP H0132032 Y2 JPH0132032 Y2 JP H0132032Y2 JP 14245679 U JP14245679 U JP 14245679U JP 14245679 U JP14245679 U JP 14245679U JP H0132032 Y2 JPH0132032 Y2 JP H0132032Y2
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light
elliptical
reflector
reflecting mirror
light source
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JP14245679U
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JPS5660947U (ja
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  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はスリツト露光型照明装置に係り、特に
原稿面ガラスに対して低入射角で照明を行なうの
に好適なスリツト露光型照明装置に関する。
第1図は従来の代表的な複写機の照明装置を示
すもので、楕円反射鏡2の一方の焦点位置に光源
1を配置し、この光源1からの光束を楕円反射鏡
2で反射させて楕円反射鏡2の他方の焦点に集光
させるようにしている。
しかしながらこの種の装置においては、楕円反
射鏡2のA部で反射した光束は原稿面ガラス3に
大きな入射角で入ることになる。原稿面ガラス3
に対する光束の透過率は、第2図bに示すように
第2図aに示す入射角θが60度以上になると原稿
面ガラス3で反射して急激に低下し、照明効率が
大巾に低下するという難点がある。また、第1図
に示すB部は反射光束が光源1自体によつてけら
れてその分だけ照明効率が低下する。反射鏡の頂
点付近のB部の反射光束は集光性の悪い欠点があ
る。さらに、第1図に示すCの光束は照明スリツ
ト4外を照射し、スリツト露光に有効に寄与しな
いのみならず外部に光が漏れて有害な作用を及ぼ
すおそれがある。
そこでこの対策として、第3図に示すように異
なつた形状の楕円反射鏡5,6を光源1の背面側
にそれぞれ配置し、楕円反射鏡5での反射光束に
より照明スリツト4を直接照明するとともに、入
射角の大きくなる楕円反射鏡6での反射光は平面
ミラー7を介して入射角を小さくして照明スリツ
ト4を照明する方法が提案されている。
この方法においては、高入射角光束の問題が解
消され、また光漏れも減少する効果が期待でき
る。また光源1によるけられ部も、その反射鏡形
状を光源1位置を中心とする円筒反射鏡8として
反射光束を光源1に戻すようにしている。光源1
に光束を戻す方式は、ハロゲンランプ等の輻射熱
放射の放射エネルギが光源フイラメント部に戻つ
てフイラメントを熱するため、再び放射エネルギ
に還元でき効率がよい。
しかしながらこの改良装置においては、楕円反
射鏡6での反射光束は平面ミラー7を介して照明
スリツト4を照明するようになつているため、楕
円反射鏡の焦点間距離が長くなつて集光性が低下
するとともに、平面ミラーの反射率によつて光量
が低下するという問題がある。
本考案はかかる現況に鑑み創案されたもので、
その目的とするところは、高入射角の光束をなく
して直接眼に入る光束を少なくすることができる
とともに、コンパクトな装置で光量を増大させる
ことができるスリツト露光型照明装置を提供する
にある。
そのため本考案においては、原稿面ガラスの下
方に下向きに配置される円筒反射鏡の開放縁一方
端に続いてこの円筒反射鏡の下面側に位置する楕
円反射鏡を連設し、前記円筒反射鏡の中心でかつ
前記楕円反射鏡の一次焦点位置にフイラメントタ
イプの光源を配置し、前記楕円反射鏡の二次焦点
位置を原稿面ガラスの上面近傍とし、楕円反射鏡
により反射して60゜以下の入射角のスリツト状光
束で原稿面を照射するようにしたことを特徴とす
るもので、高入射角の光束をなくして光量増大を
図るようにしたものである。
以下本考案の実施例を添付図面に基づいて説明
する。
第4図において11はハロゲンランプ等のフイ
ラメントタイプの光源であり、この光源11は原
稿面ガラス12の下方に配設されている。この光
源11と原稿面ガラス12との間には、光源11
位置に焦点を有する円筒反射鏡13がほゞ下向き
に配されているとともに、光源11の下面側に
は、光源11位置に一次焦点を有する楕円反射鏡
14が円筒反射鏡13とその突合わせ面で一体に
連結されている。
しかして、光源11からの放射光束は楕円反射
鏡14で反射してスリツト光束となり、楕円反射
鏡14の二次焦点位置である原稿面ガラス12の
上面近傍に集光して照明スリツト15を照射する
とともに、円筒反射鏡13で反射した光束は再び
光源11に戻るようになつている。この円筒反射
鏡13で反射される光束は原稿面ガラス12に対
して高入射角となる光束である。
この際、円筒反射鏡13の反射光束のうち第4
図に斜線を施した部分の光束は単に光源11に戻
るだけであるが、網目模様を施した部分の光束は
そのうちの約30%が光源11を通過する。そし
て、この通過した光束は一度光源11位置で集光
しているので、楕円反射鏡14の反射光束の増加
分となつて現われる。
なお、第4図において破線Lは、第1図および
第3図の場合と同様、レンズとスリツト巾とから
決定される結像光束及び正反射限界線であり、こ
の中に照明光学系を設置するとフレア等が生じ画
質上好ましくなく、したがつて、本実施例におい
ても図示するように照明光学系は正反射限界線L
外に設置している。
第5図は本考案の他の実施例を示すもので、第
4図に示す構成に加えて楕円反射鏡16を設置
し、円筒反射鏡13で反射した光束の一部を前記
楕円反射鏡16で反射させ、円筒反射鏡13に続
く楕円反射鏡14からの反射光束とともにスリツ
ト光束として照明スリツト15を照明するように
したものである。
このように構成すれば、光量がより増大され、
一層照明効率の向上を図ることができる。
以上説明したように本考案によれば、円筒反射
鏡を下向きに配置し、この反射鏡の開放縁一方端
に続けて楕円反射鏡を連設した構成とし、この円
筒反射鏡の中心でかつ楕円反射鏡の一次焦点位置
にフイラメントタイプの光源を配置した構成とし
ているので、原稿面ガラスに対し高入射角となる
光束は円筒反射鏡で反射され、平面反射鏡を併用
することなく高入射角の光束をなくして直接眼に
入る光を少なくすることができる。また平面反射
鏡を併用することなくすべての反射光を原稿面に
スリツト光束として照射させることができるの
で、原稿面までの光路長が短かくでき、集光性が
よくなるばかりでなく光量損失が防がれ、これと
併せて円筒反射鏡により反射された光束は光源が
フイラメントタイプであることからその反射光束
の通過が妨げられずにこれを通過し、これらの光
束のすべてが楕円反射鏡で反射されて原稿面へ向
かうので一層照明光量が増し、円筒反射鏡で反射
された光束は光源に戻されるので輻射熱放射の放
射エネルギが光源のフイラメント部に戻されてこ
れを熱し、再び放射エネルギに還元させることが
効率よくでき、照明効率を高めることができる。
さらに構成が簡単であつて小型にできるのでこれ
らにより複写機への組込みスペースをとらず、コ
ンパクトな装置で光量が大きく照明効率のよい照
明装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示す概要図、第2図aは原稿
面ガラスに対する入射角の説明図、同図bは入射
角に対する透過率の関係を示すグラフ、第3図は
改良型の従来例を示す概要図、第4図は本考案の
一実施例を示す概要図、第5図は本考案の他の実
施例を示す概要図である。 11……光源、12……原稿面ガラス、13…
…円筒反射鏡、14……楕円反射鏡、15……照
明スリツト、16……楕円反射鏡、L……正反射
限界線。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 原稿面ガラスの下方に下向きに配置される円筒
    反射鏡の開放縁一方端に続いてこの円筒反射鏡の
    下面側に位置する楕円反射鏡を連設し、前記円筒
    反射鏡の中心でかつ前記楕円反射鏡の一次焦点位
    置にフイラメントタイプの光源を配置し、前記楕
    円反射鏡の二次焦点位置を原稿面ガラスの上面近
    傍とし、楕円反射鏡により反射して60゜以下の入
    射角のスリツト状光束で原稿面を照射するように
    したことを特徴とするスリツト露光型照明装置。
JP14245679U 1979-10-15 1979-10-15 Expired JPH0132032Y2 (ja)

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JP14245679U JPH0132032Y2 (ja) 1979-10-15 1979-10-15

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JP14245679U JPH0132032Y2 (ja) 1979-10-15 1979-10-15

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JPS5660947U JPS5660947U (ja) 1981-05-23
JPH0132032Y2 true JPH0132032Y2 (ja) 1989-10-02

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JP2026003952A (ja) * 2024-06-25 2026-01-14 株式会社日立ハイテク 分光分析装置、分光分析装置の光源位置調整方法

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JPS5660947U (ja) 1981-05-23

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