JPH01321611A - 導体パターンの立体露光形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は柱体の表面にコイル状の導体パターンを形成す
る導体パターンの立体露光形成方法に関するものである
。

〔従来の技術〕

プリント基板の導体パターンの形成方法として次の２つ
のタイプの露光方式が広く採用されている。まず、第１
のタイプは、第９図に示すように、ガラス、エポキシ樹
脂、祇エポキシ、紙ベーク等の材料からなる平坦な基Ｆ
ｉｌ上にほぼ３５μの厚みを有する銅箔２を接着し、さ
らに、この銅箔２の表面に感光剤３を一様に塗布して積
層体を形成し、この感光剤３の表面側に回路パターンが
現像されているホトマスク４を密着して重ね、その上側
から一様な輝度の光を一定時間照射し、ホトマスク４を
透過する光によって感光剤を感光させるものである。

この感光処理後、感光剤を現像処理し、さらに、その後
、積層体をエツチング液に入れて感光されていない部分
の銅箔を溶解し、さらに感光部分に残っているホトレジ
ストを除去することにより、第１Ｏ図に示すように、基
板ｌ上にホトマスクのパターンと同一の導体パターン５
が形成されるのである。

また、露光方式の第２のタイプは、第１１図に示すよう
に、レーザ発振器６から発射した光をミラー７、ビーム
エクスパンダ８、回転多面ｍ　９　、レンズ１０等から
なる光学系を介して、基板１上に小さいビームスポット
の態様で照射するとともに、ライトガイド１１から出力
されるビーム位置の検出情報に基づいてテーブル１２の
Ｘ、Ｙ方向の移動を制御し、基板１上にビームによるパ
ターンを作画するものである。この基板１には前記第１
のタイプの場合と同様に、銅箔と感光剤の層が積層され
ており、したがって、基板ｌをビームで作画の後、現像
とエツチング処理を行うことによって、第１０図に示す
ような導体パターンが基板１上に形成されるのである。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、前記第１のタイプは静止状態に置かれた
平板状の基板ｌにマスク４と同一のパターンを露光によ
って形成する方式のものであるため、プリント基板のパ
ターン形成には適するが、立体形状をしている柱体の表
面にコイル状の導体パターンを露光形成することは不可
能である。

また、前記第２のタイプの露光方式はビームエクスパン
ダ８、回転多面鏡９、ライトガイド１１等の大がかりな
光学系部品を組み合わせて装置が構成されているため、
装置が複雑となり、装置価格が高価になるという問題が
ある。また、この第２のタイプは小さい１個のビームス
ポットで露光パターン（導体パターン）を全域に亘って
作画（走査）するものであるため、露光パターンを作画
完了するまでに時間がかかりすぎ、量産には適さないと
いう問題がある。

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたもの
であり、その目的は立体形状をした柱体の表面に露光パ
ターン（導体パターン）を簡易な装置で迅速に作画する
ことができる導体パターンの立体露光形成方法を提供す
ることにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するため、次のように構成され
ている。すなわち、本発明の立体露光形成方法は第１に
、表面に無電解メッキ用の感光層が形成されている断面
形状が一様な柱体の表面側に、透光部が等間隔ピッチで
直線状に整列形成されているマスクを、前記透光部列の
中心線を柱体の軸線を通る平面上にほぼ一致させて近接
または密着配置し、この近接または密着配置状態を保ち
ながらマスクの透光部列に一様な輝度の光を照射し、こ
の光の照射状態で柱体を徐々に１回転しながらマスクを
透光部列の中心線方向に該透光部列の１ピッチ分だけ徐
々に移動し、各透光部を通る光によって柱体表面の感光
層を螺線状に露光し、この露光完了後に現像と無電解メ
ッキを行って柱体表面にコイル状の導体パターンを形成
することを特徴とする。また、本発明の立体露光形成方
法は第２に、表面に金属層が形成され、さらに、その金
属層の表面に金属エツチングレジストとなる感光性レジ
スト層が形成されている断面形状が一様な柱体の表面側
に、透光部が等間隔ピッチで直線状に整列形成されてい
るマスクを、前記透光部列の中心線を柱体の軸線を通る
平面上にほぼ一致させて近接または密着配置し、この近
接または密着配置状態を保ちながらマスクの透光部列に
一様な輝度の光を照射し、この光の照射状態で柱体を徐
々に１回転しながらマスクを透光部列の中心線方向に該
透光部列の１ピッチ分だけ徐々に移動し、各透光部を通
る光によって感光性レジスト層を螺線状に露光し、この
露光完了後現像処理し、その後にエツチング処理して露
光されていない部分の金属層を除去し、柱体表面にコイ
ル状の導体パターンを形成することを特徴とする。

〔作用〕

上記のように構成されている本発明において、マスクに
第１番目から第ｎ番目までの透光部が整列状態で形成さ
れている場合、柱体を１回転したときにマスクが透光部
列の１ピッチ分だけ透光部列の中心線方向に移動するか
ら、マスクの第１番目の透光部を透過する光によって柱
体表面上に１ピッチ分の螺締パターンが作画される。同
様に、第２番目から第ｎ番目の透光部を透過する光によ
ってそれぞれ１ピッチ分の螺締パターンが作画される。

したがって、柱体が１回転したときに第１番目の透光部
によって作画された螺締パターンの終端が第２番目の透
光部によって作画された螺締パターンの始端に繋がる。

同様に第２番目から第ｎ番目の透光部によって描かれた
それぞれの螺締パターンが順々に繋がる結果、柱体の表
面にコイル状の露光パターンが作画されることになる。

そして、柱体表面に無電解メッキ用の感光層が形成され
ているときは露光パターンの作画後に現像、無電解メッ
キ等の処理が行われ、また、柱体表面に感光性レジスト
層が形成されているときはエツチング処理が行われ、い
ずれの場合も柱体表面に所要のコイル状の導体パターン
が形成されるのである。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図および第２図には本発明に係る立体露光形成方法
の第１の実施例が示されている。同図において、柱体と
してのボビン１３は断面形状が一様な（本明細書で、断
面形状が一様とは、各軸長位置で断面形状が等しい場合
の他に、例えば三角柱の如く、断面形状が各軸長位置で
相似形になる場合も含む概念で使用している）円筒状を
しており、このボビン１３の表面には無電解メッキ用の
感光層１４が形成されている。この感光層１４の形成は
ボビン１３０表面に感光剤を塗布するか、あるいはボビ
ン１３の少くとも表面部分を感光剤を含む合成樹脂によ
って一体成形するか（もちろんポビン１３全体を感光剤
を含む合成樹脂によって一体形成してもよい）、あるい
はボビン１３の表面に感光剤を埋設するか、等の適宜の
手段によって達成されるものであり、このようにして形
成された感光層１４は感光後視像処理を行うことによっ
て無電解メッキ核が析出する。

このボビン１３の表面側にはマスク１５と遮蔽板１６が
近接配置される。前記マスク１５は第３図、第４図に示
すように、透明なガラス又は樹脂等からなる平板状の透
明基材１７の表面に不透明基材１８を積層して両基材１
７．１８を一体化したものであり、この不透明基材１８
にはＸ方向に沿って複数の透光部２０ａ、２０ｂ、・・
・、２０ｎが等間隔に、かつ、直線状に整列配置されて
いる。また、不透明基材１８には一対のランド透光部２
１ａ、　２１ｂが図上で左右対称の位置に形成されてい
る。このランド透光部２１ａ、２１ｂの中心線Ｃ１は透
光部列の中心線ＣＸＩと平行であり、雨中心線ＣＸＩと
Ｃ０はＹ方向に一定の距離を隔てている。そして、第１
番目の透光部２０ａの中心とランド透光部２１ａの内端
はＹ方向の直線Ｃ２Ｉ上（同一のＸ座標位置）に在り、
ランド透光部２１ｂの内端は透光部列の右端に対しＩＰ
だけ右にずれた位置、つまり、第ｎ番目の透光部２０ｎ
の中心を通るＹ方向の直線ＣｙｚよりＩＰだけ右側に離
れた線上に在る。

この種のマスク１５は次の種々の方法で形成される。

まず、第１の方法は、不透明基材１８を写真感光フィル
ムによって構成し、このフィルム上に透光部２０ａ、　
２０ｂ、　・＝　、　２０ｎと、ランド透光部２１ａ、
２１ｂの像を写して現像、定着処理を行い、フィルム面
の全不透明領域中に透明な透光部２０ａ、・・・、２０
ｎとランド透光部２１ａ、２１ｂのパターンを形成し、
このパターンが形成されたフィルムを透明基材１７に貼
着するものである。

第２の方法は、透明基材１７の片面に金属層を蒸着、メ
ッキ、又は貼着により設けて不透明基材１８と成し、こ
の基材１８、すなわち、金属層に前記透光部２０ａ　〜
２０ｎとランド透光部２１ａ、２１ｂのパターンをホト
ケミカルおよびエツチング処理をして、あるいはドライ
エツチング処理をして形成するものである。

第３の方法は、透明基材１７の片面に無電解メッキ用の
感光剤を塗布し、この感光剤の表面に必要パターンを露
光させ、その後無電解メッキを行って（この場合は透光
部２０ａ〜２Ｏｎとランド透光部２１ａ、２１ｂとなる
部分以外の領域がメッキされて不透明基材１８となる）
透光部２０ａ〜２０ｎとランド透光部２１ａ、２１ｂと
からなる透孔パターンを不透明基材１８に形成するもの
である。

第４の方法は、不透明基材１８として金属薄板を用い、
この金属薄板にレーザ加工により透光部２゜ａ〜２０ｎ
とランド透光部２１ａ、２１ｂを穿設によって形成し、
この透孔パターンが形成された金属薄板を透明基材１７
の片面に貼着するものである。

前記の如く、マスク１５は様々な方法により形成可能で
あり、仕様や製造設備の観点から適切な方法が任意に選
択されることになる。本実施例では透明基材１７として
石英ガラスを用い、この石英ガラスの片面に銅を約１０
μの厚さに蒸着して不透明基材１８となし、この銅の面
を選択的にエツチングし、透光部２０ａ〜２０ｎとラン
ド透光部２１ａ、２１ｂを透孔パターンによって不透明
基材１８中に形成している。

ところで、透光部のパターンを前記第１の方法、つまり
、感光フィルムの現像・定着により形成する場合は、透
光部とランド透光部は透孔態様でないから、感光フィル
ムの表面は平坦面を保っている。これに対し、透光部と
ランド透光部を前記第２〜第４の方法、つまり、エツチ
ング、無電解メッキ、穿孔等の態様で形成する場合は、
透光部２０ａ〜２０ｎ、とランド透光部２１ａ、２１ｂ
は不透明基材１８に透孔パターンの態様で形成される。

したがって、両基材１７．１８を積層してマスク１５を
形成した場合、マスク表面の透孔パターン２０ａ〜２０
ｎ、２１ａ。

２１ｂの部分が凹部となり、この凹部に塵が付着して光
の透過に悪影響をおよぼしたり、マスク１５の長期使用
により、透孔バター、ンのエッヂ部分が摩耗する等の不
都合が生じる。本実施例ではそれらの透孔部分２０ａ〜
２Ｏｎ、２１ａ、２１ｂを透明なガラスや樹脂からなる
充填材１９で埋め、マスク表面を平坦にして前記塵の付
着やエッヂ摩耗の不都合を防止している。なお、透光部
２０ａ〜２０ｎの形状は、第３図では円形状の例を示し
ているが、必ずしもこれに限定されることがなく、三角
、四角等、各種の形状を任意に選定し得るものである。

前記遮蔽板１６は金属等の不透明材料によって形成され
ており、その中央部には長四角形の光通過孔２２が形成
されている。この光通過孔２２の長さはマスク１５に形
成されているランド透光部２Ｌａ、２１ｂの外端間距離
よりも太き（なっており、また、回礼２２の幅は、当該
遮蔽板１６をマスク１５に重ねて光通過孔２２の中に透
光部２０ａ〜２０ｎとランド透光部２１ａ、２１ｂのい
ずれか一方（例えば透光部２０ａ〜２０ｎ）を囲ったと
き、他方（例えばランド透光部２１ａ、２１ｂ　）は不
透明部分によって必ず隠れるような寸法になっている。

ところで、本実施例では、図示されていないが、露光形
成装置として、ボビン１３を回転する回転機構（この回
転機構はパルスモータ等を用いて構成される）と、マス
ク１５と遮蔽板１６を一体的にＸ方向（透光部列の中心
線ＣＸｔの伸張方向）とＸ方向（マスク１５の面に直交
する方向）に移動する送り機構（この送り機構はもちろ
んマスク１５と遮蔽板１６をＸ方向に移動する機構を備
えていてもよい）と、マスク１５に対して遮蔽板１６を
相対的にＸ方向に移動する遮蔽板移動機構と、これらの
各機構の動作を制御する制御装置とを備えており、さら
に加えて、第１図に示すように、Ｘ方向に平行光線を照
射する光照射装置が備えられている。この光照射装置は
楕円ミラー２３の中心部に光源２４を配置したもので、
光源２４から発せられる光が楕円ミラー２３に反射して
平行光線となり、この平行光線がマスク１５側に向けて
照射されるようになっている。

この露光形成装置には第１図に示す如く、前記ボビン１
３がその軸線をＸ方向に向けて取り付けられ、また、マ
スク１５は、ボビン１３の軸線を通る平面２５に透光部
２０ａ〜２０ｎの中心線ＣＸＩを一致させ、かつ、透光
部２０ａ〜２０ｎの列をボビン１３の表面に接して取り
付けられるが、マスク１５とボビン１３の表面は必ずし
も接するようにしなくてもよく、両者１５．１３間に微
小間隙を介するようにしてもよい。

前記遮蔽板１６はマスク１５の上側に重ねられ、光通過
孔２２の中に該マスク１５の透光部２０ａを囲むように
位置決めした状態で換言すれば、光通過孔２２の長手方
向の中心線を透光部列の中心線ＣＸＩに一致させて取り
付けられる。このように、ボビン１３と、マスク１５と
、遮蔽板１６とが装着された状態で、ポビン表面の露光
が次のように行われる。

まず、光源２４のスイッチをオンし、楕円ミラー２３か
ら反射される輝度が一様な平行光線をマスク１５の透光
部２０ａ〜２０ｎを通してボビン表面の感光層１４に照
射する。この光の照射状態でボビン１３をゆっくり等速
度で回転し、このボビン１３の回転に同期させてマスク
１５と遮蔽板１６を一体的にＸ方向（透光部２０ａ〜２
Ｏｎの中心線ＣＸＩの伸張方向）にゆっくりと等速度で
移動する。このボビン１３の回転とマスク１５の移動の
関係は、ボビン１３が１回転したときにマスク１５は透
光部列の１ピツチＰだけ移動するようになっており、こ
のボビン１３の回転とマスク１５の移動により、透光部
２０ａ〜２０ｎはボビン１３の表面を螺線状に移動する
。したがって、この透光部２０ａ〜２０ｎを透過してボ
ビン１３の表面を照射する光もボビン１３の表面、つま
り、感光層１４の表面を螺線状に移動するから、ボビン
１３が１回転したときに各透光部２０ａ〜２０ｎを透過
する光は感光層１４の表面にそれぞれ１ピツチＰの螺締
パターンを露光作画する。そして、ボビン１３が１回転
完了したときには、透光部２０ａを通る光が描く螺締パ
ターンの終点が透光部２０ｂを通る光が描く螺締パター
ンの始点に重なり、両者の螺締パターンが繋がる。同様
に、透光部２０ｂが描くパターンは透光部２０ｃが描く
パターンに、透光部２０ｃが描くパターンは透光部２０
ｄが描くパターンにという如（、隣り合わせの透光部２
０ａ〜２０ｎが描くパターン同志が順々に繋がり、その
結果、感光ＪｉＪ１４の表面にコイル状の露光パターン
が作画されることになる。本実施例ではボビン１３が一
回転したとき（マスクが透光部列の１ピツチＰだけ移動
したとき）、遮蔽板１６をマスク１５に対し相対的にＹ
方向へ移動して透光部２０ａ〜２０ｎを遮蔽板１６の不
透明部分で遮蔽する。

次に、第５図に示すように、マスク１５をＹ方向に移動
してランド透光部２１ａ、２１ｂの中心線ＣＸ！をボビ
ン１３の軸線を通る平面２５に合わせる。この位置合わ
せによって、マスク１５のランド透光部２１ａは前記コ
イル状の露光パターンの左端側（透光部２０ａが描いた
螺締パターンの始点位置）に重なって配置され、他方の
ランド透光部２１ｂは同露光パターンの右端側（透光部
２０ｎが描いた螺締パターンの終点位置）に重なって配
置される。次に、遮蔽板１６をＹ方向に復帰移動して光
通過孔２２の中にランド透光部２１ａ、２１ｂを囲み込
めば（このとき、各透光部２０ａ〜２０ｎは遮蔽板１６
の不透明部分で遮蔽されている）、光源２４からの光は
ランド透光部２１ａ、２１ｂを通って感光層１４を照射
する（このときボビン１３は静止状態にある）。この結
果、コイル状の露光パターンの両側にランド透光部２１
ａ、２１ｂと同一形状の露光パターンが作画される。

このようにして露光パターンの作画が完了した後、°光
源２４がオフされ露光形成装置からボビン１３が取り外
される。そして、前記各露光パターンの導体形成処理が
プリント回路の製造技術として知られているホトアディ
ティブ（Ｐｈｏｔｏ−Ａｄｄｉｔｉｖｅ）法によって行
われる。すなわち、まず、前記感光層１４の表面に作画
された各露光パターンの現像処理が行われ、当該各露光
パターンにメッキ核が析出される。次に、無電解メッキ
処理を行うことにより、露光パターン面に導体全屈、本
実施例では銅が析出成長され、ボビン１３の表面に露光
パターンと同一の導体パターンが形成される。すなわち
、第６図に示すように、ボビン１３の表面にコイル状の
コイル導体パターン２６とランド透光部２１ａ、　２１
ｂと同一のランド導体パターン２７とが形成され、コイ
ル２８が形成されるのである。

この場合、メッキ厚（導体パターン２６．２７の厚さ）
を厚くするときには、無電解メッキの途中で通常の電解
メッキに切り換えれば（すなわち、セミアデイティブ法
により）、より短時間で所望厚の導体パターン２６．２
７を形成することができる。

上述した如く、木筆１の実施例によれば、ボビンを１回
転するだけの極めて短い時間でコイル状の露光パターン
をポビン表面に作画できるものであるから、露光の作業
時間が非常に短くでき、コイル２８を量産する上で非常
に有利な製造方法となる。

次に、本発明の第２の実施例について説明する。

この第２の実施例は第７図に示すように、柱体としての
ボビン１３の表面に金ＪｉＮ２９が形成され、さらに、
その金属ＦＪ２９の表面に金属エツチングレジストとな
る感光性レジストＪＷ３０が形成されている点が前記第
１の実施例のボビン１３と大きく異なる。

前記金属層２９はボビン１３の表面に無電解メッキによ
って金属（本実施例では銅）を析出成長させて形成する
か、あるいは金属箔（本実施例では銅箔）をボビン１３
の表面に接着することによって形成される。また、感光
性レジストＮ３０は前記金属層２９の表面に金属エツチ
ングレジストとなる感光性レジスト剤を塗布することに
よって形成される。

そして、この金属層２９と感光性レジスト層３０が形成
されたボビン１３は前記第１の実施例の場合と同様な方
法によってレジスト層３０の表面に透光部２０ａ〜２Ｏ
ｎを通る光によって描かれるコイル状の露光パターンと
ランド透光部２１ａ、２１ｂと同一形状の露光パターン
が作画される。

次に、この露光パターンが作画されたボビン１３のエツ
チング処理が通常のプリント基板のエツチング処理と同
様な手法で行われ、露光パターン以外の部分の金属層２
９が溶解除去される。次に、露光パターン部分の感光性
レジスト層３０の除去を行うことにより露光パターンと
同一のパターン、すなわち、第６図に示すように、コイ
ル導体パターン２６とランド導体パターン２７とがボビ
ン１３の表面に形成され、コイル２８が形成されるので
ある。

なお、この第２の実施例において、金属層２９を無電解
メッキによって形成する場合、その金属層２９の厚みを
厚くしたい場合には、無電解メッキの途中で電解メッキ
に切り換えるか、あるいは導体パターン２６．２７を形
成した後に該導体パターン２６．２７をさらに電解メッ
キすることにより、より短時間で導体パターン２６．２
７のメッキ厚（金属層の厚み）を厚くすることができる
。

本発明は上記第１および第２の各実施例に限定されるこ
とはなく、様々な実施の態様を採り得る。

例えば、上記各実施例では柱体を同一外径の円筒状のボ
ビン１３によって構成したが、これを第８図に示すよう
に角形のボビン１３によって構成してもよい。この場合
は、露光に際し、ボビン１３の回転に伴ってマスク１５
をＺ方向に移動し、マスク１５とボビン１３の位置関係
を常に一定になるように制御する必要がある。また、柱
体は必ずしも中空状でなくてもよく、また、断面形状も
全長に亘って一定でないものでもよく、例えば円錐や角
錐の如く、各軸長位置で相似形となるものでもよい。

また、上記各実施例ではボビン１３の表面に一組の導体
パターン２６．２７を形成しているが、例えばボビン１
３の長さを長くして、この長軸ボビンの表面に複数組の
導体パターン２６．２７を形成するようにしてもよい。

この場合は、長袖ポビンの軸長に合わせてマスク１５の
長さを長くし、このマスク１５に透光部２０ａ〜２０ｎ
とランド透光部２１ａ、２１ｂとからなる透光パターン
を長手方向の各区分位置に複数形成するか、あるいは当
Ｍ１＆ｕの透光パターンが形成されているマスク１５を
複数長さ方向に連結する等して長形マスクを形成し、長
袖ボビンの１回転につき長形マスクを透光部列の１ピツ
チＰだけ移動し、長軸ポビンの表面に複数の透光パター
ンを露光作画することになる。そして、この露光後、前
記各実施例の方法で無電解メッキ、あるいはエツチング
等の処理を行えば、長軸ポビンの表面に複数組の導体パ
ターンが形成されることとなり、この長軸ボビンを各導
体パターンごとに切断すれば、１回の露光・導体形成処
理で複数のコイルが製造できることになり、コイル量産
の作業性はさらに改善され、製品コストもより低減する
ことが可能になる。

さらに、上記各実施例では、１枚のマスク１５に透光部
２０ａ〜２０ｎとランド透孔部２１ａ、２１ｂを形成し
ているが、例えば、マスク１５を２枚用意し、１枚目の
マスクには透孔部２０ａ〜２０ｎを形成し、２枚目のマ
スクにはランド透孔部２１ａ、２１ｂを形成するように
してもよい。

さらに、上記各実施例では、マスク１５に形成される透
光部２０ａ〜２０ｎとランド透光部２１ａ、　２１ｂと
の透孔部に透明なガラスや樹脂の充填材１９を充填して
いるが必ずしもこの充填材工９の充填は行わなくてもよ
い。

さらに、本実施例では、角形ボビンの如く、全周に亘っ
て半径が一様でないボビンの露光に備え、マスク１５と
遮蔽板１６をＺ方向に移動できるようにしているが、円
筒ボビンの如くボビン１３の半径が全周に亘って一様の
ボビンしか露光しない場合は、ボビン１３の回転に伴っ
てマスク１５と遮蔽板１６をＺ方向に移動する機構は省
略できる。

さらに、上記各実施例では露光に際し、遮蔽板１６をマ
スク１５の上側にしているが、必ずしもこれに限られる
ことはなく、遮蔽板１６をマスク１５の下側にして露光
処理を行ってもよい。

さらにまた、本実施例ではコイル状パターンの露光処理
は、ボビン１３が１回転したときに終了しているが、必
要に応じこの露光処理をくり返し行うことも可能である
。この場合はボビン１３が１回転完了したときに遮蔽板
１６によって光を遮断するとともにマスク１５を１ピツ
チ復帰させて元の位置に戻し、この状態で、遮蔽板１６
の遮蔽を解除して光を再度照射し、ボビン１回転の等速
回転移動とマスクの１ピッチ等速移動を同様に行えばよ
い。

さらに、上記各実施例ではボビン１の表面に１層のコイ
ル導体パターン２６を形成しているが、ボビン１の表面
に複数のコイル導体パターン２６を積層形成することも
可能である。この場合はＨＥＪ目のコイル導体パターン
２６の表面に絶縁層を形成し、二の絶縁層の表面に無電
解メッキ用の感光Ｎ（第２の実施例の場合は金属層と感
光性レジスト層）を形成し、前記各実施例の所要の処理
を行い、絶縁層の表面に第２層目のコイル導体パターン
２６を形成する如く、これら、絶縁層の形成と、恣光層
（第２の実施例の場合は金属層と感光性レジスト層）の
形成と、露光および無電解メッキ（エツチング）処理と
を繰り返すことで積層コイルの形成が可能となる。

〔発明の効果〕

本発明は以上説明したように、柱体を１回転するだけの
時間で当該柱体の表面にコイル状のパターンを露光作画
できるから、露光処理時間の大幅な短縮が図れ、これに
伴い、柱体表面へのコイル状導体パターンの形成作業、
取り分けその導体パターンを備えたコイルの製造作業の
作業性および量産性を飛躍的に改善することができ、併
せて当該製品の低コスト化を可能にする。

また、本発明の露光方式でコイルを製造した場合、コイ
ルの導体パターンは正確に１ピッチ間隔で形成されるか
ら、コイル導体の寸法精度を大幅に高めることができる
。

さらに、従来のコイルはボビンに巻線を巻回して構成さ
れるが、かかる巻線コイルはいわゆるアッセンブリ工程
で巻線がずれたり、崩れる等して巻線（導体部）が移動
し、これが断線やアーク放電等のコイル不良事故を引き
起こす発生源となっていたが、本発明のコイルによれば
、導体部がバター°ン化されて形成されるものであるか
ら、コイルを傾けたりしても導体部が移動することは全
くなく、前記従来のコイルの欠点は効果的に解消される
ことになる。

さらに、柱体表面に形成される導体部は絶縁物で覆われ
ていないので、リードのボンディングが容易であり、ま
た、このリードのボンディング後に絶縁処理を行う場合
にも、コイル表面を塗布やデイツプ処理により一括して
絶縁することができ、その絶縁処理もやり易い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る導体パターンの立体露光形成方法
の第１の実施例を示す露光部分の構成図、第２図は第１
図のＡ−Ａ断面図、第３図は同実施例で使用されるマス
クの平面図、第４図は第３図のＢ−Ｂ断面図、第５図は
同実施例におけるランド露光パターンの作画状態図、第
６図は導体部をコイル状の導体パターンによって形成し
た本実施例に係るコイルの斜視図、第７図は本発明方法
の第２の実施例に使用されるボビンの断面構成図、第８
図は角形ボビンの露光状態図、第９図は従来から行われ
ているプリント基板の露光状態図、第１Ｏ図はプリント
基板の導体パターンを示す説明図、第１１図はプリント
基板上に露光パターンを作画する従来の他の露光作画装
置を示す説明図である。 ｌ・・・基板、２・・・銅箔、３・・・感光剤、４・・
・ホトマスク、５・・・導体パターン、６・・・レーザ
発振器、７・・・ミラー、８・・・ビームエクスパンダ
、９・・・回転多面鏡、１０・・・レンズ、１１・・・
ライトガイド、１２・・・テーブル、１３・・・ボビン
、１４・・・感光層、１５・・・マスク、１６・・・遮
蔽板、１７・・・透明基材、１８・・・不透明基材、１
９・・・充填材、２０ａ、２０ｂ、−，２Ｏｎ−透光部
、２１ａ、２１ｂ　−ランド透光部、２２・・・光通過
孔、２３・・・楕円ミラー、２４・・・光源、２５・・
・平面、２６・・・コイル導体パターン、２７・・・ラ
ンド導体パターン、２８・・・コイル、２９・・・金属
層、３０・・・怒光性レジスト層。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面に無電解メッキ用の感光層が形成されている
   断面形状が一様な柱体の表面側に、透光部が等間隔ピッ
   チで直線状に整列形成されているマスクを、前記透光部
   列の中心線を柱体の軸線を通る平面上にほぼ一致させて
   近接または密着配置し、この近接または密着配置状態を
   保ちながらマスクの透光部列に一様な輝度の光を照射し
   、この光の照射状態で柱体を徐々に１回転しながらマス
   クを透光部列の中心線方向に該透光部列の１ピッチ分だ
   け徐々に移動し、各透光部を通る光によって柱体表面の
   感光層を螺線状に露光し、この露光完了後に現像と無電
   解メッキを行って柱体表面にコイル状の導体パターンを
   形成する導体パターンの立体露光形成方法。
2. （２）表面に金属層が形成され、さらに、その金属層の
   表面に金属エッチングレジストとなる感光性レジスト層
   が形成されている断面形状が一様な柱体の表面側に、透
   光部が等間隔ピッチで直線状に整列形成されているマス
   クを、前記透光部列の中心線を柱体の軸線を通る平面上
   にほぼ一致させて近接または密着配置し、この近接また
   は密着配置状態を保ちながらマスクの透光部列に一様な
   輝度の光を照射し、この光の照射状態で柱体を徐々に１
   回転しながらマスクを透光部列の中心線方向に該透光部
   列の１ピッチ分だけ徐々に移動し、各透光部を通る光に
   よって感光性レジスト層を螺線状に露光し、この露光完
   了後にエッチング処理して露光されていない部分の金属
   層を除去し、柱体表面にコイル状の導体パターンを形成
   する導体パターンの立体露光形成方法。