JPH0132441B2 - - Google Patents
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- JPH0132441B2 JPH0132441B2 JP60165366A JP16536685A JPH0132441B2 JP H0132441 B2 JPH0132441 B2 JP H0132441B2 JP 60165366 A JP60165366 A JP 60165366A JP 16536685 A JP16536685 A JP 16536685A JP H0132441 B2 JPH0132441 B2 JP H0132441B2
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- JP
- Japan
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- diffraction grating
- light
- diffraction
- grating
- alignment
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は平行配置された２枚の回折格子を有効
利用した精度の高い位置合せ装置に関する。
利用した精度の高い位置合せ装置に関する。
近時、２枚の回折格子を用いた精度の高い位置
合せ法が、Stewart Austin、D.C.Flanders、
Henry I.Smithらによる著書 (1) “Ａ new interferometric alignment
techique”Applied Physics Letter、Vol.31
No.７（1977）P.426 (2) “Alignment of Ｘ−ray lithography
masks using ａ new interferometric
technque−Experimetal results”J.Vac.Sci.
Technol.15（３）May／June（1978）P.984 等に紹介されている。上記文献(1)に示されるもの
は、その概略を第１図に示すように、平行配置さ
れた同一格子ピツチＰを有する２枚の回折格子
１，２に、光源３より発せられた可干渉光を垂直
に照射し、前記回折格子１，２による＋ｎ次方向
および−ｎ次方向の透過回折光を受光器４，５に
てそれぞれ受光し、その受光強度を指示器６で表
示せんとするものである。この場合、回折格子
１，２間において格子ピツチのずれΔxがあると
上記回折格子１，２による各回折光の位相にずれ
が生じ、これによつて＋ｎ次方向および−ｎ次方
向の各回折光がそれぞれ干渉する。この干渉によ
る光強度の変化を検知することにより、前記２枚
の回折格子１，２間の位置合せを行うものであ
る。
合せ法が、Stewart Austin、D.C.Flanders、
Henry I.Smithらによる著書 (1) “Ａ new interferometric alignment
techique”Applied Physics Letter、Vol.31
No.７（1977）P.426 (2) “Alignment of Ｘ−ray lithography
masks using ａ new interferometric
technque−Experimetal results”J.Vac.Sci.
Technol.15（３）May／June（1978）P.984 等に紹介されている。上記文献(1)に示されるもの
は、その概略を第１図に示すように、平行配置さ
れた同一格子ピツチＰを有する２枚の回折格子
１，２に、光源３より発せられた可干渉光を垂直
に照射し、前記回折格子１，２による＋ｎ次方向
および−ｎ次方向の透過回折光を受光器４，５に
てそれぞれ受光し、その受光強度を指示器６で表
示せんとするものである。この場合、回折格子
１，２間において格子ピツチのずれΔxがあると
上記回折格子１，２による各回折光の位相にずれ
が生じ、これによつて＋ｎ次方向および−ｎ次方
向の各回折光がそれぞれ干渉する。この干渉によ
る光強度の変化を検知することにより、前記２枚
の回折格子１，２間の位置合せを行うものであ
る。
一方、文献(2)に示されるものは、第２図に概略
を示すように２枚の平行配置された回折格子１，
２による反射回折光を利用して文献(1)に示される
ものと同様に位置合せを行うものである。
を示すように２枚の平行配置された回折格子１，
２による反射回折光を利用して文献(1)に示される
ものと同様に位置合せを行うものである。
これら位置合せ法は回折格子１，２の格子ピツ
チＰと可干渉光の波長λとにより規定される極め
て高い精度の位置合せを行い得る利点を有する。
チＰと可干渉光の波長λとにより規定される極め
て高い精度の位置合せを行い得る利点を有する。
ところが、この種の従来の装置は、一般に位置
合せ毎の位置合せ結果のバラツキが大きく、精度
の高い位置合せを行なうことが難しかつた。
合せ毎の位置合せ結果のバラツキが大きく、精度
の高い位置合せを行なうことが難しかつた。
本発明は、上記事情に着目してなされたもの
で、その目的とするところは、位置合せ毎のバラ
ツキを低減して、容易に高精度の位置合せを行な
い得る位置合せ装置を提供することにある。
で、その目的とするところは、位置合せ毎のバラ
ツキを低減して、容易に高精度の位置合せを行な
い得る位置合せ装置を提供することにある。
以下、平行配置された同一格子ピツチを有する
２枚の回折格子による回折光について解析し、本
発明の実施例を図面を参照して説明する。尚、以
下の説明は反射回折光を例に行うが、透過回折光
に対しても同様である。
２枚の回折格子による回折光について解析し、本
発明の実施例を図面を参照して説明する。尚、以
下の説明は反射回折光を例に行うが、透過回折光
に対しても同様である。
第３図は２枚の回折格子１１，１２により回折
された可干渉光を示す模式図である。上記２枚の
回析格子１１，１２は同一の格子形状および同一
の格子ピツチＰを有するもので、回折格子１２
は、例えば半導体ウエハ上に、図示せぬ半導体マ
スクに設けられた基準回折格子を介して予め形成
されている。一方、回折格子１１は、上記回折格
子１２を形成した半導体マスクとは、異なる半導
体マスクに形成されている。そして、格子１１，
１２の各上表面間の距離をＤに設定して平行配置
されている。これらの回折格子１１，１２に対し
て図中上方より可干渉光、例えばレーザ光１３が
垂直に照射される。このレーザ光１３の前記回折
格子１１，１２による＋ｎ次方向および−ｎ次方
向への回折光の主たるものは各々３つある。＋ｎ
次方向を例にとると、回折格子１１により反射さ
れて回折した第１の回折光１４、回折格子１１を
透過したのち回折格子１２によつて正反射され再
び回折格子１１を透過して回折した第２の回折光
１５、そして回折格子１１を透過したのち回折格
子１２にて反射回折された第３の回折光１６であ
る。なお、実際に回折光は無数の方向に伝達する
が、ここでは説明を簡単化するために上記３つの
回折光により説明する。各回折光１４，１５，１
６の振幅をａ，ｂ，ｃで示すとき、第１の回折光
１４の複素振幅Ea+nは Ea+n＝ａ ……(1) で示される。また第２の回折光１５の複素振幅
Eb+nは、レーザ光１３の波長をλ、各回折格子
１１，１２の上表面間距離をｄ（＝Ｄ）、そして虚
数単位をｉとしたとき Eb+n＝ｂ・expi（2π2d／λ） ……(2) で示される。更に第３の回折光１６の複素振幅
Ec+nは、回折格子１１，１２の格子ピツチ長を
Ｐ、回折格子１１，１２間のずれ量をΔxとした
とき、 で示される。従つて＋ｎ次方向へ向う光は、上記
３つの回折光１５，１６，１７の合成光（干渉
光）となり、その強度I+nは λ／Ｐ０、cosλ／Ｐ１ なる近似を行うことにより次のように示される。
された可干渉光を示す模式図である。上記２枚の
回析格子１１，１２は同一の格子形状および同一
の格子ピツチＰを有するもので、回折格子１２
は、例えば半導体ウエハ上に、図示せぬ半導体マ
スクに設けられた基準回折格子を介して予め形成
されている。一方、回折格子１１は、上記回折格
子１２を形成した半導体マスクとは、異なる半導
体マスクに形成されている。そして、格子１１，
１２の各上表面間の距離をＤに設定して平行配置
されている。これらの回折格子１１，１２に対し
て図中上方より可干渉光、例えばレーザ光１３が
垂直に照射される。このレーザ光１３の前記回折
格子１１，１２による＋ｎ次方向および−ｎ次方
向への回折光の主たるものは各々３つある。＋ｎ
次方向を例にとると、回折格子１１により反射さ
れて回折した第１の回折光１４、回折格子１１を
透過したのち回折格子１２によつて正反射され再
び回折格子１１を透過して回折した第２の回折光
１５、そして回折格子１１を透過したのち回折格
子１２にて反射回折された第３の回折光１６であ
る。なお、実際に回折光は無数の方向に伝達する
が、ここでは説明を簡単化するために上記３つの
回折光により説明する。各回折光１４，１５，１
６の振幅をａ，ｂ，ｃで示すとき、第１の回折光
１４の複素振幅Ea+nは Ea+n＝ａ ……(1) で示される。また第２の回折光１５の複素振幅
Eb+nは、レーザ光１３の波長をλ、各回折格子
１１，１２の上表面間距離をｄ（＝Ｄ）、そして虚
数単位をｉとしたとき Eb+n＝ｂ・expi（2π2d／λ） ……(2) で示される。更に第３の回折光１６の複素振幅
Ec+nは、回折格子１１，１２の格子ピツチ長を
Ｐ、回折格子１１，１２間のずれ量をΔxとした
とき、 で示される。従つて＋ｎ次方向へ向う光は、上記
３つの回折光１５，１６，１７の合成光（干渉
光）となり、その強度I+nは λ／Ｐ０、cosλ／Ｐ１ なる近似を行うことにより次のように示される。
I+n＝｜Ea+n＋Eb+n＋Ec+n｜2
＝a2＋b2＋c2＋2ab cos4πd／λ
＋2ac cos（4πd／λ＋2πn・Δx／Ｐ）
＋2bc cos2πn・Δx／Ｐ ……(4)
同様にして−ｎ次方向への回折光１７，１８，１
９の各複素振幅Ea-n、Eb-n、Ec-nは Ea-n＝ａ ……(5) Eb-n＝ｂ・expi（2π2d／λ） ……(6) Ec-n＝ｃ・expi（Ｍ−Ｎ） ……(7) で示される。そしてこれら回折光１７，１８，１
９が干渉して−ｎ次方向へ向う光の強度I-nは次
のように示される。
９の各複素振幅Ea-n、Eb-n、Ec-nは Ea-n＝ａ ……(5) Eb-n＝ｂ・expi（2π2d／λ） ……(6) Ec-n＝ｃ・expi（Ｍ−Ｎ） ……(7) で示される。そしてこれら回折光１７，１８，１
９が干渉して−ｎ次方向へ向う光の強度I-nは次
のように示される。
I-n＝a2＋b2＋c2＋2ab cos4πd／λ
＋2ac cos（4πd／π−2πn・Δx／Ｐ）
＋2bc cos2πn・Δx／Ｐ ……(8)
そして、以上の各光強度I+nとI-nとの差分を求
めると、この差分I-n−I+nは I-n−I+n＝2ac｛cos（4πd／λ−2πn・Δx／Ｐ） −cos（4πd／λ＋2πn・Δx／Ｐ）｝ ＝4ac sin（2πn・Δx／Ｐ）sin（4πd／λ）……(9) となり、この差分から格子間のずれΔxを検出し
て、このΔxが０になるように格子間の相対位置
を制御するようにしている。
めると、この差分I-n−I+nは I-n−I+n＝2ac｛cos（4πd／λ−2πn・Δx／Ｐ） −cos（4πd／λ＋2πn・Δx／Ｐ）｝ ＝4ac sin（2πn・Δx／Ｐ）sin（4πd／λ）……(9) となり、この差分から格子間のずれΔxを検出し
て、このΔxが０になるように格子間の相対位置
を制御するようにしている。
ところが、本発明者が以上の原理に基づいて実
験を行ない、これにより回折格子の位置ずれに対
する受光強度の差分値の変化特性を求めてみたと
ころ、第４図に示すようになつた。同図におい
て、破線Ａは±１次回折光、実線Ｂは±３次回折
光の特性を示すもので、これらの特性から明らか
なように回折格子間の位置ずれがない場合、つま
り０のときに差分出力は確かに０になり、この点
を使用して位置合せを行なうことができる。しか
しながら、図から明らかなように上記格子間の位
置ずれが０の点よりも各格子が相互に1/2ピツチ
ずれた位置のほうがシヤープな変化特性が得られ
ることが判明した。すなわち、格子ピツチずれが
１／２のとき格子ピツチずれがゼロに比べ、極めて
シヤープになるため、出力信号のノイズがほとん
どなくなる。
験を行ない、これにより回折格子の位置ずれに対
する受光強度の差分値の変化特性を求めてみたと
ころ、第４図に示すようになつた。同図におい
て、破線Ａは±１次回折光、実線Ｂは±３次回折
光の特性を示すもので、これらの特性から明らか
なように回折格子間の位置ずれがない場合、つま
り０のときに差分出力は確かに０になり、この点
を使用して位置合せを行なうことができる。しか
しながら、図から明らかなように上記格子間の位
置ずれが０の点よりも各格子が相互に1/2ピツチ
ずれた位置のほうがシヤープな変化特性が得られ
ることが判明した。すなわち、格子ピツチずれが
１／２のとき格子ピツチずれがゼロに比べ、極めて
シヤープになるため、出力信号のノイズがほとん
どなくなる。
ところで、第４図において±１次回折光を示す
破線Ａは格子間の位置ずれが０の点よりも1/2ピ
ツチずれた位置の方がシヤープな変化特性を示す
ことが明かであるが、±３次回折光を示す実線Ｂ
は1/2ピツチずれた位置でシヤープに変化特性を
示すもののその変化が複雑である。これは実験の
際、各回折格子を半導体ウエハおよび半導体マス
クに載置して行なつており、半導体ウエハからの
回折光が弱くなつてＳ／Ｎ比を低下させたり、ま
たウエハ上に形成されたレジスト膜により±３次
回折光の光路が影響を受けるためである。
破線Ａは格子間の位置ずれが０の点よりも1/2ピ
ツチずれた位置の方がシヤープな変化特性を示す
ことが明かであるが、±３次回折光を示す実線Ｂ
は1/2ピツチずれた位置でシヤープに変化特性を
示すもののその変化が複雑である。これは実験の
際、各回折格子を半導体ウエハおよび半導体マス
クに載置して行なつており、半導体ウエハからの
回折光が弱くなつてＳ／Ｎ比を低下させたり、ま
たウエハ上に形成されたレジスト膜により±３次
回折光の光路が影響を受けるためである。
本発明はこの点に着目し、第１および第２の回
折格子を、一対の位置合せ対象物間のずれが０の
状態で格子が1/2ピツチだけずれた状態になるよ
うに上記位置合せ対象物にそれぞれ固定し、この
状態で位置ずれを検出して位置合せを行なうよう
にしたものである。
折格子を、一対の位置合せ対象物間のずれが０の
状態で格子が1/2ピツチだけずれた状態になるよ
うに上記位置合せ対象物にそれぞれ固定し、この
状態で位置ずれを検出して位置合せを行なうよう
にしたものである。
第５図は上記原理に基いて構成された本発明装
置の一実施例を示す概略図である。図において基
台２１上を移動自在に設けられた移動テーブル２
２上には、試料保持部２３を介して試料２４例え
ば半導体ウエハが載置されている。そして、この
試料２４の上面には第１の回折格子２７が設けら
れている。この第１の回折格子２７は、図示せぬ
基準試料（例えば半導体マスク）に設けられた基
準回折格子を介して形成されたもので、上記基準
回折格子の格子形状および格子ピツチは、第１の
回折格子２７と同一のものである。尚上記移動テ
ーブル２２はテーブル移動装置２５により位置制
御されて移動される。一方、試料２４の上方位置
には、支持台２９に支持された状態で基準試料
（例えば半導体マスク）が対向配置され、この基
準試料には前記回折格子２７と平行に第２の回折
格子２８が設けられている。これらの回折格子２
７，２８は前記テーブル２２の移動方向と平行に
なる如く配置されたもので、その格子には格子ピ
ツチ長Ｐが同一であるものが用いられている。ま
た、これら第１および第２の回折格子２７，２８
は、第６図に示す如く上記基準試料と試料２４と
の相対位置が一致している状態で各格子が相互に
１／２ピツチだけずれた状態になるようにそれぞれ
位置決めされている。つまり、前記図示せぬ基準
回折格子と第２の回折格子２８とは、それらが形
成されている各々の基準試料に、それらが支持台
２９に支持された状態で、ずれるように設けられ
ている。そして、これら基準回折格子並びに第１
及び第２の回折格子の透光性のスリツト部分と不
透光性の非スリツト部分の幅は、1/2ピツチつま
り両者等しい幅に設けられている。
置の一実施例を示す概略図である。図において基
台２１上を移動自在に設けられた移動テーブル２
２上には、試料保持部２３を介して試料２４例え
ば半導体ウエハが載置されている。そして、この
試料２４の上面には第１の回折格子２７が設けら
れている。この第１の回折格子２７は、図示せぬ
基準試料（例えば半導体マスク）に設けられた基
準回折格子を介して形成されたもので、上記基準
回折格子の格子形状および格子ピツチは、第１の
回折格子２７と同一のものである。尚上記移動テ
ーブル２２はテーブル移動装置２５により位置制
御されて移動される。一方、試料２４の上方位置
には、支持台２９に支持された状態で基準試料
（例えば半導体マスク）が対向配置され、この基
準試料には前記回折格子２７と平行に第２の回折
格子２８が設けられている。これらの回折格子２
７，２８は前記テーブル２２の移動方向と平行に
なる如く配置されたもので、その格子には格子ピ
ツチ長Ｐが同一であるものが用いられている。ま
た、これら第１および第２の回折格子２７，２８
は、第６図に示す如く上記基準試料と試料２４と
の相対位置が一致している状態で各格子が相互に
１／２ピツチだけずれた状態になるようにそれぞれ
位置決めされている。つまり、前記図示せぬ基準
回折格子と第２の回折格子２８とは、それらが形
成されている各々の基準試料に、それらが支持台
２９に支持された状態で、ずれるように設けられ
ている。そして、これら基準回折格子並びに第１
及び第２の回折格子の透光性のスリツト部分と不
透光性の非スリツト部分の幅は、1/2ピツチつま
り両者等しい幅に設けられている。
このように配置された回折格子２７，２８に対
して、レーザ装置３０より発せられた所定波長の
レーザ光が垂直に照射される。そして、この照射
レーザ光の光軸に対して等角度配置された光セン
サ３１，３２により、前記回折格子２７，２８に
よる＋ｎ次方向および−ｎ次方向の回折光がそれ
ぞれ受光される。これらの光センサ３１，３２に
よる受光信号は前置増幅器３３，３４を介したの
ち差分算出手段としての差動増幅３５に入力され
てその差分が演算される。そして、この差分出力
信号は指示器３９にて表示されるとともに、テー
ブル移動制御情報として前記テーブル移動装置に
帰還される。
して、レーザ装置３０より発せられた所定波長の
レーザ光が垂直に照射される。そして、この照射
レーザ光の光軸に対して等角度配置された光セン
サ３１，３２により、前記回折格子２７，２８に
よる＋ｎ次方向および−ｎ次方向の回折光がそれ
ぞれ受光される。これらの光センサ３１，３２に
よる受光信号は前置増幅器３３，３４を介したの
ち差分算出手段としての差動増幅３５に入力され
てその差分が演算される。そして、この差分出力
信号は指示器３９にて表示されるとともに、テー
ブル移動制御情報として前記テーブル移動装置に
帰還される。
このような構成の装置によれば、光センサの回
折格子２７，２８による＋ｎ次方向および−ｎ次
方向の回折光の干渉光が、前記回折格子２７，２
８のずれに相当した強度の信号として光センサ３
１，３２に受光されることは前記した通りであ
る。そして、その差分が差動増幅器３５にて求め
られる。この際、同増幅器３５の差動演算作用に
よつて光センサ３１，３２に混入した外乱光成分
が相殺され、除去される。従つて外乱光による悪
影響を除去することができる。しかるのち外乱光
等の不要成分が除去された差動増幅器３５からの
差分信号は、指示器３９に供給され、これにより
前記回折格子２７，２８間の位置関係が示され
る。また上記差分信号値に従つて前記テーブル移
動制御装置２５はテーブル２２を移動制御して、
同信号値が零になるようにテーブル２２の位置決
めを行う。このとき、先に述べた如く各回折格子
２７，２８の相対位置は基準試料に対する試料２
４のずれが０のとき格子ピツチの1/2だけずれた
状態に設定されているため、前記第４図に示した
差分信号の強度変化特性から明らかなように、試
料２４と基準試料との位置ずれが正確に０になら
ない限り差分信号値は０にならない。したがつ
て、この差分信号値が０となるように試料２４の
位置を設定すれば、極めて高精度の位置合せを行
なうことができる。
折格子２７，２８による＋ｎ次方向および−ｎ次
方向の回折光の干渉光が、前記回折格子２７，２
８のずれに相当した強度の信号として光センサ３
１，３２に受光されることは前記した通りであ
る。そして、その差分が差動増幅器３５にて求め
られる。この際、同増幅器３５の差動演算作用に
よつて光センサ３１，３２に混入した外乱光成分
が相殺され、除去される。従つて外乱光による悪
影響を除去することができる。しかるのち外乱光
等の不要成分が除去された差動増幅器３５からの
差分信号は、指示器３９に供給され、これにより
前記回折格子２７，２８間の位置関係が示され
る。また上記差分信号値に従つて前記テーブル移
動制御装置２５はテーブル２２を移動制御して、
同信号値が零になるようにテーブル２２の位置決
めを行う。このとき、先に述べた如く各回折格子
２７，２８の相対位置は基準試料に対する試料２
４のずれが０のとき格子ピツチの1/2だけずれた
状態に設定されているため、前記第４図に示した
差分信号の強度変化特性から明らかなように、試
料２４と基準試料との位置ずれが正確に０になら
ない限り差分信号値は０にならない。したがつ
て、この差分信号値が０となるように試料２４の
位置を設定すれば、極めて高精度の位置合せを行
なうことができる。
かくして本装置によれば、外乱光の影響を受け
ることなく、しかも格子ピツチが1/2ずれたとき
に現れるシヤープな差分信号の変化特性を使用す
ることにより、簡単に極めて高精度の位置合せを
行なうことができる。
ることなく、しかも格子ピツチが1/2ずれたとき
に現れるシヤープな差分信号の変化特性を使用す
ることにより、簡単に極めて高精度の位置合せを
行なうことができる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、上記実施例においては、第１及
び第２の回折格子２７，２８のスリツト部分と非
スリツト部分との幅は、すべて等しく1/2格子ピ
ツチ幅となるように設けている。さらに、上記実
施例では±ｎ次回折光を用いて位置合わせを行な
う場合について示したが、±３次回折光を使用し
て行なつてもよく、またこれらを併用して例えば
±１次回折光にて粗調整を行ない、しかるのち±
３次回折光にて微調整を行なうようにしてもよ
い。このようにすれば、比較的短時間でより高精
度の調整を行なうことができる。その他、可干渉
光の種類や差分信号の信号処理方法、各回折格子
の設置手段等についても、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々変形して実施できる。
はない。例えば、上記実施例においては、第１及
び第２の回折格子２７，２８のスリツト部分と非
スリツト部分との幅は、すべて等しく1/2格子ピ
ツチ幅となるように設けている。さらに、上記実
施例では±ｎ次回折光を用いて位置合わせを行な
う場合について示したが、±３次回折光を使用し
て行なつてもよく、またこれらを併用して例えば
±１次回折光にて粗調整を行ない、しかるのち±
３次回折光にて微調整を行なうようにしてもよ
い。このようにすれば、比較的短時間でより高精
度の調整を行なうことができる。その他、可干渉
光の種類や差分信号の信号処理方法、各回折格子
の設置手段等についても、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々変形して実施できる。
以上詳述したように本発明によれば、基準試料
（例えば半導体マスク）に設けられた基準回折格
子により形成された第１の回折格子および他の基
準試料（例えば半導体マスク）に設けられた第２
の回折格子を、一対の位置合せ対象物間の位置ず
れが０の状態で格子ピツチが相互に1/2だけずれ
るように上記位置合せ対象物にそれぞれ設け、こ
の状態で上記各回折格子による±ｎ次方向の各回
折光の干渉強度の差分を求めて位置合せを行なう
ようにしたことによつて、位置合せ毎のバラツキ
が少なく常に高精度の位置合せを行ない得る位置
合せ装置を提供することができる。
（例えば半導体マスク）に設けられた基準回折格
子により形成された第１の回折格子および他の基
準試料（例えば半導体マスク）に設けられた第２
の回折格子を、一対の位置合せ対象物間の位置ず
れが０の状態で格子ピツチが相互に1/2だけずれ
るように上記位置合せ対象物にそれぞれ設け、こ
の状態で上記各回折格子による±ｎ次方向の各回
折光の干渉強度の差分を求めて位置合せを行なう
ようにしたことによつて、位置合せ毎のバラツキ
が少なく常に高精度の位置合せを行ない得る位置
合せ装置を提供することができる。
第１図および第２図はそれぞれ従来の位置合せ
原理を説明するための模式図、第３図は本発明の
位置合せ原理を説明するために模式図、第４図は
回折格子のずれに対する検出強度の差分信号の変
化特性を示す図、第５図は本発明の一実施例にお
ける位置合せ装置の概略構成図、第６図は同装置
の要部構成図である。 １１，１２……回折格子、１３……レーザ光
（可干渉光）、１４，１５，１６……回折光（＋ｎ
次方向）、１７，１８，１９……回折光（−ｎ次
方向）、２２……移動テーブル、２３……試料保
持部、２７，２８……回折格子、３０……レーザ
装置、３１，３２……光センサ、３５……差動増
幅器、３９……指示器。
原理を説明するための模式図、第３図は本発明の
位置合せ原理を説明するために模式図、第４図は
回折格子のずれに対する検出強度の差分信号の変
化特性を示す図、第５図は本発明の一実施例にお
ける位置合せ装置の概略構成図、第６図は同装置
の要部構成図である。 １１，１２……回折格子、１３……レーザ光
（可干渉光）、１４，１５，１６……回折光（＋ｎ
次方向）、１７，１８，１９……回折光（−ｎ次
方向）、２２……移動テーブル、２３……試料保
持部、２７，２８……回折格子、３０……レーザ
装置、３１，３２……光センサ、３５……差動増
幅器、３９……指示器。
Claims (1)
- １ 第１の位置合せ基準手段に設けられた基準回
折格子を介して形成された第１の回折格子を有す
る位置合せ対象物を上記第１の回折格子の格子ピ
ツチ方向に微動自在に保持する保持手段と、上記
第１の回折格子と同一ピツチの第２の回折格子を
有しこの第２の回折格子が上記第１の回折格子に
平行に対向し且つ格子ピツチがほぼ1/2ずれた位
置に固定された第２の位置合せ基準手段と、上記
第２の回折格子を介して上記第１の回折格子に可
干渉光を垂直に照射する光源と、上記第１及び第
２の回折格子による＋ｎ次方向の干渉光を受光す
る第１の光電変換手段と、上記第１及び第２の回
折格子による−ｎ次方向の干渉光を受光する第２
の光電変換手段と、上記第１及び第２の光電変換
手段から出力された光強度信号に基づいて上記＋
ｎ次及び−ｎ次方向の干渉光強度の差分を求める
差分算出手段と、この差分算出手段から出力され
た差分信号に基づいて上記第１及び第２の回折格
子が互いに格子1/2ピツチずれた位置に上記位置
合せ対象物を位置合せする制御信号を上記保持手
段に印加する制御手段とを具備することを特徴と
する位置合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16536685A JPS61116605A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16536685A JPS61116605A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 位置合せ装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1008079A Division JPS55101804A (en) | 1979-01-31 | 1979-01-31 | Positioning apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61116605A JPS61116605A (ja) | 1986-06-04 |
| JPH0132441B2 true JPH0132441B2 (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=15811001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16536685A Granted JPS61116605A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61116605A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2577124Y2 (ja) * | 1994-08-29 | 1998-07-23 | エヌティエヌ株式会社 | スライド装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332759A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Precision coordinate position detection and position control unit by composite diffration grating method |
-
1985
- 1985-07-26 JP JP16536685A patent/JPS61116605A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61116605A (ja) | 1986-06-04 |
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