JPH0132577B2 - - Google Patents
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- JPH0132577B2 JPH0132577B2 JP55002768A JP276880A JPH0132577B2 JP H0132577 B2 JPH0132577 B2 JP H0132577B2 JP 55002768 A JP55002768 A JP 55002768A JP 276880 A JP276880 A JP 276880A JP H0132577 B2 JPH0132577 B2 JP H0132577B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、滑性、耐摩耗性が良好で、かつ走行
時に嗚きを生じない薄膜型の磁気記録媒体に関す
る。
時に嗚きを生じない薄膜型の磁気記録媒体に関す
る。
真空蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリ
ング、メツキ等の方法で強磁性体薄膜をフイルム
支持体上に形成させて得られる磁気記録媒体は、
従来の塗布型のものに比べて磁性層の厚みを約１
桁小さくすることが可能で、通常、その厚そとし
て0.1〜0.3μ程度が採用されている。このような
厚さの磁性膜を二軸延伸ポリエステルフイルム、
ポリイミドフイルム等の支持体上に形成させた場
合、その表面の形状は、支持体表面の形状とほぼ
同じとなる。高密度記録の目的に対しては、磁性
層表面は平滑であることが望ましいが、磁気ヘツ
ドとの摩擦を考慮すると、磁性層表面に凹凸のあ
ることが必要となる。また、支持体フイルム自
身、その製造工程、磁性層形成工程等において適
度の表面性が必要である。これらを考慮して、実
際には、適度の表面あらさを有する支持体が使用
される。他方、強磁性体薄膜は磁気ヘツドを摩耗
させやすく、また自身も摩耗しやすいために、通
常この表面に耐摩耗性に優れた樹脂薄膜の保護層
を樹脂溶液を塗布することにより形成させる。こ
の塗布における一般的傾向として塗膜の厚さが磁
性層表面の突出部では薄くなり、窪みの部分では
厚くなる。すなわち保護層表面は磁性層表面より
凹凸の緩和された面となる。磁気ヘツドと接触す
るのは上記突出部であり、その部分の保護層が薄
いことは寿命的に問題である。また突出部が摩耗
するに連れて表面が平坦になり、磁気ヘツドとの
接触面積が増大し摩擦が増す結果、嗚きを生じや
すくなる。前述の保護膜形成による表面の平坦化
がこの嗚きを助長する傾向にある。これら寿命と
嗚きの問題を解決しようとするのが本発明であ
る。
ング、メツキ等の方法で強磁性体薄膜をフイルム
支持体上に形成させて得られる磁気記録媒体は、
従来の塗布型のものに比べて磁性層の厚みを約１
桁小さくすることが可能で、通常、その厚そとし
て0.1〜0.3μ程度が採用されている。このような
厚さの磁性膜を二軸延伸ポリエステルフイルム、
ポリイミドフイルム等の支持体上に形成させた場
合、その表面の形状は、支持体表面の形状とほぼ
同じとなる。高密度記録の目的に対しては、磁性
層表面は平滑であることが望ましいが、磁気ヘツ
ドとの摩擦を考慮すると、磁性層表面に凹凸のあ
ることが必要となる。また、支持体フイルム自
身、その製造工程、磁性層形成工程等において適
度の表面性が必要である。これらを考慮して、実
際には、適度の表面あらさを有する支持体が使用
される。他方、強磁性体薄膜は磁気ヘツドを摩耗
させやすく、また自身も摩耗しやすいために、通
常この表面に耐摩耗性に優れた樹脂薄膜の保護層
を樹脂溶液を塗布することにより形成させる。こ
の塗布における一般的傾向として塗膜の厚さが磁
性層表面の突出部では薄くなり、窪みの部分では
厚くなる。すなわち保護層表面は磁性層表面より
凹凸の緩和された面となる。磁気ヘツドと接触す
るのは上記突出部であり、その部分の保護層が薄
いことは寿命的に問題である。また突出部が摩耗
するに連れて表面が平坦になり、磁気ヘツドとの
接触面積が増大し摩擦が増す結果、嗚きを生じや
すくなる。前述の保護膜形成による表面の平坦化
がこの嗚きを助長する傾向にある。これら寿命と
嗚きの問題を解決しようとするのが本発明であ
る。
本発明は、支持体上に形成した強磁性体薄膜の
表面に樹脂薄膜を形成した磁気記録媒体におい
て、前記樹脂薄膜の中にこの樹脂より硬度の大な
る固体微粒子を核とする微小突起が多数存在する
ことを特徴とする磁気記録媒体に関するものであ
り、以下、これを図に従つて詳細に説明する。
表面に樹脂薄膜を形成した磁気記録媒体におい
て、前記樹脂薄膜の中にこの樹脂より硬度の大な
る固体微粒子を核とする微小突起が多数存在する
ことを特徴とする磁気記録媒体に関するものであ
り、以下、これを図に従つて詳細に説明する。
第１図、第２図は磁気記録媒体の断面の一部を
示すもので、第１図は従来品、第２図は本発明品
である。図において、１は樹脂フイルム等の支持
体、２はその支持体１の表面に形成された強磁性
体薄膜、３，３′はその強磁性体薄膜２の表面に
形成された樹脂薄膜、４は樹脂薄膜３′における
樹脂部分、５は樹脂薄膜３′における固体微粒子
の部分を示す。これらの図に示したように、樹脂
薄膜３′中に固体微粒子５を存在させてその部分
の全樹脂膜厚を増加させ、微小な突起を形成させ
ると、磁気ヘツドと直接摩擦するのはこの突起部
分となるため、摩耗抵抗が減少し、テープ嗚きを
防止することができる。
示すもので、第１図は従来品、第２図は本発明品
である。図において、１は樹脂フイルム等の支持
体、２はその支持体１の表面に形成された強磁性
体薄膜、３，３′はその強磁性体薄膜２の表面に
形成された樹脂薄膜、４は樹脂薄膜３′における
樹脂部分、５は樹脂薄膜３′における固体微粒子
の部分を示す。これらの図に示したように、樹脂
薄膜３′中に固体微粒子５を存在させてその部分
の全樹脂膜厚を増加させ、微小な突起を形成させ
ると、磁気ヘツドと直接摩擦するのはこの突起部
分となるため、摩耗抵抗が減少し、テープ嗚きを
防止することができる。
樹脂薄膜材料としては、通常の熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が使用でき、
これらの樹脂液中に、得られる樹脂膜厚と同程度
あるいはそれ以上の直径を有する固体微粒子を分
散させたものが使用できる。樹脂薄膜は、ポリエ
ステルフイルム、ポリイミドフイルム等の支持体
上に常法で形成されたCo系、Co−Ｐ系、Co−Fe
系、Co−Ni系、Fe−Ni系等の強磁性体薄膜上に
直接、あるいはAl、Cr等の防蝕膜を介して形成
され、その厚さは磁気ヘツドとのスペーシングロ
スを考慮して通常0.5μ以下、好ましくは0.01〜
0.1μが適当である。
熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が使用でき、
これらの樹脂液中に、得られる樹脂膜厚と同程度
あるいはそれ以上の直径を有する固体微粒子を分
散させたものが使用できる。樹脂薄膜は、ポリエ
ステルフイルム、ポリイミドフイルム等の支持体
上に常法で形成されたCo系、Co−Ｐ系、Co−Fe
系、Co−Ni系、Fe−Ni系等の強磁性体薄膜上に
直接、あるいはAl、Cr等の防蝕膜を介して形成
され、その厚さは磁気ヘツドとのスペーシングロ
スを考慮して通常0.5μ以下、好ましくは0.01〜
0.1μが適当である。
したがつて固体微粒子としては、その径が0.5μ
以下、好ましくは0.02〜0.1μであることが必要
で、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カー
ボン、有機顔料等の前記樹脂より硬度の大なる微
粉末が使用できる。これらの固体微粒子を樹脂
100部に対して体積比で0.2〜20部混入し薄膜状に
塗布すれば第２図に示したような形状の膜が得ら
れる。この際、塗布液に、各種添加剤、たとえば
滑剤、分散剤、帯電防止剤、レベリング剤、防錆
剤等を必要に応じて添加し、所望の表面特性を得
るようにする。微小突起の表面における密度とし
ては、100μ平方当り100〜10000が適当である。
以下、好ましくは0.02〜0.1μであることが必要
で、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カー
ボン、有機顔料等の前記樹脂より硬度の大なる微
粉末が使用できる。これらの固体微粒子を樹脂
100部に対して体積比で0.2〜20部混入し薄膜状に
塗布すれば第２図に示したような形状の膜が得ら
れる。この際、塗布液に、各種添加剤、たとえば
滑剤、分散剤、帯電防止剤、レベリング剤、防錆
剤等を必要に応じて添加し、所望の表面特性を得
るようにする。微小突起の表面における密度とし
ては、100μ平方当り100〜10000が適当である。
以下本発明の実施例について述べる。
実施例 １
厚さ6μ、表面あらさ最大値Rmax＝0.2μのポリ
エステルフイルム上に真空蒸着により厚さ0.3μの
Co強磁性体薄膜を形成させたものの上に下記組
成の塗布液を塗布乾燥することにより平均膜厚
0.05μ（塗布量から換算した厚さ）の薄膜を形成さ
せたのち所定幅に切断し磁気テープとした。
エステルフイルム上に真空蒸着により厚さ0.3μの
Co強磁性体薄膜を形成させたものの上に下記組
成の塗布液を塗布乾燥することにより平均膜厚
0.05μ（塗布量から換算した厚さ）の薄膜を形成さ
せたのち所定幅に切断し磁気テープとした。
ポリアミド樹脂（富士化成工業(株)殿のトーマイド
＃395） ……100重量部 セシルアルコール（試薬） ……10重量部 極微細炭酸カルシウム（白石工業(株)殿のもの、平
均径0.05μ） ……５重量部 キシレン（試薬） ……5000重量部 イソプロピルアルコール（試薬）……5000重量部 この磁気テープを用いて市販のマイクロカセツ
トレコーダーで録音再生の繰り返しテストを行つ
た。その結果、繰り返し回数200回において何ら
異常がみられなかつた。
＃395） ……100重量部 セシルアルコール（試薬） ……10重量部 極微細炭酸カルシウム（白石工業(株)殿のもの、平
均径0.05μ） ……５重量部 キシレン（試薬） ……5000重量部 イソプロピルアルコール（試薬）……5000重量部 この磁気テープを用いて市販のマイクロカセツ
トレコーダーで録音再生の繰り返しテストを行つ
た。その結果、繰り返し回数200回において何ら
異常がみられなかつた。
比較例 １
実施例１において液組成として炭酸カルシウム
のみを除外したものを用いて同様のテストを行つ
た結果、録音再生繰り返し回数40回でテープ嗚き
が発生した。
のみを除外したものを用いて同様のテストを行つ
た結果、録音再生繰り返し回数40回でテープ嗚き
が発生した。
実施例 ２
実施例１と同じ強磁性体薄膜上に下記組成の液
を塗布し、乾燥により溶剤を除去したのち紫外線
照射により樹脂を硬化させた。磁性層平均膜厚は
0.05μで顕微鏡観察により固体微粒子を核とする
微小突起が表面100μ平方当り約500個存在してい
ることがわかつた。
を塗布し、乾燥により溶剤を除去したのち紫外線
照射により樹脂を硬化させた。磁性層平均膜厚は
0.05μで顕微鏡観察により固体微粒子を核とする
微小突起が表面100μ平方当り約500個存在してい
ることがわかつた。
エポキシ樹脂（旭電化工業(株)殿のB6136J）
……100重量部 シリコーン系滑剤（ダウケミカル社のペインタツ
ドＭ） ……10重量部 エポキシ樹脂硬化触媒（旭電化工業(株)殿のPP−
33） ……３重量部 有機顔料（BASF社のPaliotol Yellow1820L）
……１重量部 これから得られた磁気テープを実施例１と同様
繰り返し走行テストを行つた結果、200回で何ら
異常がみられなかつた。
……100重量部 シリコーン系滑剤（ダウケミカル社のペインタツ
ドＭ） ……10重量部 エポキシ樹脂硬化触媒（旭電化工業(株)殿のPP−
33） ……３重量部 有機顔料（BASF社のPaliotol Yellow1820L）
……１重量部 これから得られた磁気テープを実施例１と同様
繰り返し走行テストを行つた結果、200回で何ら
異常がみられなかつた。
比較例 ２
実施例２において有機顔料の添加を行わなかつ
た場合、繰り返し走行テスト200回でテープ嗚き
が発生し、150回でテープ摩耗によるヘツド汚れ
を生じた。
た場合、繰り返し走行テスト200回でテープ嗚き
が発生し、150回でテープ摩耗によるヘツド汚れ
を生じた。
以上の実施例、比較例より明らかなように、本
発明の磁気記録媒体は、耐摩耗性良好で、かつ走
行時に嗚きを生じない安定した走行性を有するも
のである。
発明の磁気記録媒体は、耐摩耗性良好で、かつ走
行時に嗚きを生じない安定した走行性を有するも
のである。
第１図は従来の磁気記録媒体の断面図、第２図
は本発明の磁気記録媒体の一実施例の断面図であ
る。 １……支持体、２……強磁性体薄膜、３′……
樹脂薄膜、４……樹脂部分、５……固体微粒子。
は本発明の磁気記録媒体の一実施例の断面図であ
る。 １……支持体、２……強磁性体薄膜、３′……
樹脂薄膜、４……樹脂部分、５……固体微粒子。
Claims (1)
- １ 支持体上に形成した強磁性体薄膜の表面に樹
脂薄膜を形成した磁気記録媒体において、前記樹
脂薄膜の中に直径0.02μｍ〜0.1μｍの固体微粒子
を核とする微小突起が多数存在することを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP276880A JPS56101650A (en) | 1980-01-14 | 1980-01-14 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP276880A JPS56101650A (en) | 1980-01-14 | 1980-01-14 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56101650A JPS56101650A (en) | 1981-08-14 |
| JPH0132577B2 true JPH0132577B2 (ja) | 1989-07-06 |
Family
ID=11538509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP276880A Granted JPS56101650A (en) | 1980-01-14 | 1980-01-14 | Magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56101650A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE77549T1 (de) * | 1981-10-15 | 1984-01-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Magnetisches aufzeichnungsmedium. |
| JPH0685267B2 (ja) * | 1984-05-07 | 1994-10-26 | 富士写真フイルム株式会社 | フレキシブル磁気デイスク |
| JPH0650564B2 (ja) * | 1984-06-06 | 1994-06-29 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH0827932B2 (ja) * | 1987-02-05 | 1996-03-21 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1980
- 1980-01-14 JP JP276880A patent/JPS56101650A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56101650A (en) | 1981-08-14 |
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