JPH0685267B2 - フレキシブル磁気デイスク - Google Patents
フレキシブル磁気デイスクInfo
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- JPH0685267B2 JPH0685267B2 JP8932384A JP8932384A JPH0685267B2 JP H0685267 B2 JPH0685267 B2 JP H0685267B2 JP 8932384 A JP8932384 A JP 8932384A JP 8932384 A JP8932384 A JP 8932384A JP H0685267 B2 JPH0685267 B2 JP H0685267B2
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- flexible magnetic
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- magnetic disk
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
- G11B5/825—Disk carriers flexible discs
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0014—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form
- G11B23/0021—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form discs
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- G11B23/0035—Details means incorporated in the disc, e.g. hub, to enable its guiding, loading or driving
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- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はフレキシブル磁気デイスクの改良に関し、さら
に詳しくは書込みおよび読取り用装置に偏心することな
く装填されるフレキシブル磁気デイスクに関する。
に詳しくは書込みおよび読取り用装置に偏心することな
く装填されるフレキシブル磁気デイスクに関する。
（従来技術） 従来フレキシブルな磁気デイスクシートをジヤケツトに
収納し、ジヤケツトとシートの両方に設けた中央円孔に
書込みおよび読取り用装置のシート位置決め部材を係合
せしめ、これを回転させてシート上に磁気記録をし、あ
るいはシートから磁気再生するものが知られている。こ
の種の磁気デイスクはシートがジヤケツトに多少余裕を
もつて収納されているため、保管時、取扱時あるいは携
帯時に中のシートがジヤケツト内で片寄つた位置にず
れ、装置にデイスクを装填したとき、シート中央の円孔
が装置の位置決め部材（コレツト）の位置に対して偏心
し、位置決め時にシートが偏心した位置に保持されてし
まうことがある。
収納し、ジヤケツトとシートの両方に設けた中央円孔に
書込みおよび読取り用装置のシート位置決め部材を係合
せしめ、これを回転させてシート上に磁気記録をし、あ
るいはシートから磁気再生するものが知られている。こ
の種の磁気デイスクはシートがジヤケツトに多少余裕を
もつて収納されているため、保管時、取扱時あるいは携
帯時に中のシートがジヤケツト内で片寄つた位置にず
れ、装置にデイスクを装填したとき、シート中央の円孔
が装置の位置決め部材（コレツト）の位置に対して偏心
し、位置決め時にシートが偏心した位置に保持されてし
まうことがある。
第1Aおよび1B図はこの種のフレキシブル磁気シートを示
すもので、中央に円形開口1aを有する矩形のジヤケツト
１の中に、前記中央円形開口1aの中に中央円孔2aの周縁
を露出した円形のフレキシブル磁気シート２が回転自在
に収納されている。
すもので、中央に円形開口1aを有する矩形のジヤケツト
１の中に、前記中央円形開口1aの中に中央円孔2aの周縁
を露出した円形のフレキシブル磁気シート２が回転自在
に収納されている。
このフレキシブル磁気デイスクを書込みおよび読取り装
置に装填するとき、第２図に示すように位置決め部材の
回転部３をシート２の下から当て、この上からコレツト
４を下げて、回転部３の円形凹部3aの中に圧入する。こ
のとき、シート２の中央円孔2aの周縁は回転部３の円形
凹部3aの位置に必ずしも一致しているわけではなく、ず
れていることが多いから、このままコレツト４を下げる
と第３図のようにシート２の円孔2aの周縁の一部がコレ
ツト４と回転部３の凹部3aの間に挾持され、偏心した状
態で回転することになる。磁気デイスクシート２は常に
中心が正しく回転中心軸に一致して回転されなければ書
込み、読取りが正しく行なわれないから、このような位
置に保持されることは防止されねばならない。また、こ
のような状態で保持され、回転されると、シート２の平
面性が損なわれ、回転時にがたつくという問題もある。
コレツト４を下げてシート１を挾持するとき、シート１
が第３図のごとくではなく、第４図のごとく正しく装填
されるためには、シートの中央円孔周縁が適当な硬度を
有し、かつシート１とコレツト４および回転部３との摩
擦係数（μ）の小さいことが必要となる。
置に装填するとき、第２図に示すように位置決め部材の
回転部３をシート２の下から当て、この上からコレツト
４を下げて、回転部３の円形凹部3aの中に圧入する。こ
のとき、シート２の中央円孔2aの周縁は回転部３の円形
凹部3aの位置に必ずしも一致しているわけではなく、ず
れていることが多いから、このままコレツト４を下げる
と第３図のようにシート２の円孔2aの周縁の一部がコレ
ツト４と回転部３の凹部3aの間に挾持され、偏心した状
態で回転することになる。磁気デイスクシート２は常に
中心が正しく回転中心軸に一致して回転されなければ書
込み、読取りが正しく行なわれないから、このような位
置に保持されることは防止されねばならない。また、こ
のような状態で保持され、回転されると、シート２の平
面性が損なわれ、回転時にがたつくという問題もある。
コレツト４を下げてシート１を挾持するとき、シート１
が第３図のごとくではなく、第４図のごとく正しく装填
されるためには、シートの中央円孔周縁が適当な硬度を
有し、かつシート１とコレツト４および回転部３との摩
擦係数（μ）の小さいことが必要となる。
この目的のための一つの対策として、特開昭57-113422
には、フレキシブル磁気デイスクの中央円孔周縁のシー
ト位置決め部材と接触する部分に、紫外線により重合可
能なポリオレフイン材と脂肪酸エステルとを含有する保
護層を設けて摩擦係数を減少させる方法が開示されてい
る。
には、フレキシブル磁気デイスクの中央円孔周縁のシー
ト位置決め部材と接触する部分に、紫外線により重合可
能なポリオレフイン材と脂肪酸エステルとを含有する保
護層を設けて摩擦係数を減少させる方法が開示されてい
る。
しかしながら、単に紫外線硬化樹脂よりなる保護層を設
けただけでは、その平滑な面状、あるいは樹脂のやわら
かさなどの原因により、製造工程においてフレキシブル
磁気デイスクを保護層が接触する状態で積み重ねた場
合、たがいの保護層間で接着し、ブロツキングを起こす
ことがある。
けただけでは、その平滑な面状、あるいは樹脂のやわら
かさなどの原因により、製造工程においてフレキシブル
磁気デイスクを保護層が接触する状態で積み重ねた場
合、たがいの保護層間で接着し、ブロツキングを起こす
ことがある。
また、高温多湿下、フロツピーデイスクドライブ装置中
で長時間クランプ状態においた場合、上記保護層が回転
部やコレツトに接着することがある。
で長時間クランプ状態においた場合、上記保護層が回転
部やコレツトに接着することがある。
本発明者らは、上記問題点に関し鋭意検討した結果、放
射線硬化型化合物とマツト剤とを含有する保護層、また
は放射線硬化型化合物を含有する保護層上へのマツト剤
散布により顕著な改良効果が得られることを見出し、本
発明にいたつた。
射線硬化型化合物とマツト剤とを含有する保護層、また
は放射線硬化型化合物を含有する保護層上へのマツト剤
散布により顕著な改良効果が得られることを見出し、本
発明にいたつた。
（発明の目的） 本発明の第一の目的は、フレキシブル磁気デイスクシー
トと位置決め部材との間の摩擦係数を小さく保ち、装置
に偏心することなく装填されるフレキシブル磁気デイス
クを提供することにある。
トと位置決め部材との間の摩擦係数を小さく保ち、装置
に偏心することなく装填されるフレキシブル磁気デイス
クを提供することにある。
本発明の第２の目的は、フレキシブル磁気デイスクの製
造工程において、デイスクの積み重ねによる中央円孔周
縁の保護層どうしの接着を防止することにある。
造工程において、デイスクの積み重ねによる中央円孔周
縁の保護層どうしの接着を防止することにある。
本発明の第３の目的は多様な温湿度条件においてフロツ
ピーデイスクドライブ中で長くクランプ状態を継続した
とき生じやすい回転部、およびコレツトとの接着を防止
することにある。
ピーデイスクドライブ中で長くクランプ状態を継続した
とき生じやすい回転部、およびコレツトとの接着を防止
することにある。
（発明の構成） 本発明は、フレキシブル磁気ディスクシートの中央孔周
縁に、放射線により重合効果可能な化合物と、粒子径２
〜８μｍのマット剤と潤滑剤とを含む保護層を設け、該
層が放射線照射されていることを特徴とするフレキシブ
ル磁気ディスク、及びフレキシブル磁気ディスクシート
の中央孔周縁に、放射線により重合硬化可能な化合物と
潤滑剤を含む保護層を設け、該層上に粒子状のマット剤
を散布し、さらに該層が放射線照射されていることを特
徴とするフレキシブル磁気ディスクに関する。
縁に、放射線により重合効果可能な化合物と、粒子径２
〜８μｍのマット剤と潤滑剤とを含む保護層を設け、該
層が放射線照射されていることを特徴とするフレキシブ
ル磁気ディスク、及びフレキシブル磁気ディスクシート
の中央孔周縁に、放射線により重合硬化可能な化合物と
潤滑剤を含む保護層を設け、該層上に粒子状のマット剤
を散布し、さらに該層が放射線照射されていることを特
徴とするフレキシブル磁気ディスクに関する。
放射線による重合が可能な不飽和結合を有する化合物と
しては、炭素−炭素不飽和結合を１個以上有する化合物
であり、アクリロイル基、アクリルアミド基、アリル基
などを含み、またさらにビニル化合物、チオビニル化合
物などとのエーテル結合を含む化合物、および不飽和ポ
リエステルであり、具体的には、アクリル酸メチル及び
その同族体であるアクリル酸アルキルエステル、スチレ
ン及びその同族体であα−メチルスチレン、β−クロル
スチレンなど、アクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニルなどが挙げられる。分子内に不飽和結合が
２個以上あつてもよい。この化合物の例としては「感光
性樹脂データー累」（株）綜合化学研究所昭和43年12月
刊行235〜236頁に掲載されている化合物が挙げられる。
特に、ポリオールの不飽和エステル類、例えばエチレン
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、エチレンジアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートな
ど、及びエポキシ環を有するグリンジルアクリレートな
どが好ましい。分子内に不飽和結合が１個の化合物と２
個以上の化合物を混合して用いてもよい。
しては、炭素−炭素不飽和結合を１個以上有する化合物
であり、アクリロイル基、アクリルアミド基、アリル基
などを含み、またさらにビニル化合物、チオビニル化合
物などとのエーテル結合を含む化合物、および不飽和ポ
リエステルであり、具体的には、アクリル酸メチル及び
その同族体であるアクリル酸アルキルエステル、スチレ
ン及びその同族体であα−メチルスチレン、β−クロル
スチレンなど、アクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニルなどが挙げられる。分子内に不飽和結合が
２個以上あつてもよい。この化合物の例としては「感光
性樹脂データー累」（株）綜合化学研究所昭和43年12月
刊行235〜236頁に掲載されている化合物が挙げられる。
特に、ポリオールの不飽和エステル類、例えばエチレン
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、エチレンジアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートな
ど、及びエポキシ環を有するグリンジルアクリレートな
どが好ましい。分子内に不飽和結合が１個の化合物と２
個以上の化合物を混合して用いてもよい。
また、これらの化合物は高分子量体のものであつてもよ
い。特に好ましくは高分子鎖の主鎖の末端あるいは側鎖
にアクリル酸とのエステル結合を有する化合物であり、
これらはA.Vrancken “Fatipec Congress"11 19（197
2）に引用されている。例えば以下に示す化合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカーボネート骨格であつてもあるいはこれらの混合さ
れた骨格でもよい。また二種以上の分子を混合して使用
してもよい。分子量としては1000〜20000が好ましい
が、特に限定されるものではない。また電子線による重
合が可能な化合物として上記のモノマーとポリマーを混
合して用いてもよい。
い。特に好ましくは高分子鎖の主鎖の末端あるいは側鎖
にアクリル酸とのエステル結合を有する化合物であり、
これらはA.Vrancken “Fatipec Congress"11 19（197
2）に引用されている。例えば以下に示す化合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカーボネート骨格であつてもあるいはこれらの混合さ
れた骨格でもよい。また二種以上の分子を混合して使用
してもよい。分子量としては1000〜20000が好ましい
が、特に限定されるものではない。また電子線による重
合が可能な化合物として上記のモノマーとポリマーを混
合して用いてもよい。
本発明において放射線とは、低エネルギー放射線である
紫外線、高エネルギー放射線であるα線、Ｘ線、電子線
などをいう。このうち特に紫外線が発生装置も簡便で好
ましい。
紫外線、高エネルギー放射線であるα線、Ｘ線、電子線
などをいう。このうち特に紫外線が発生装置も簡便で好
ましい。
紫外線を放射線として用いる時、光重合開始剤である芳
香族ケトンを含有させると好ましい。芳香族ケトンは、
特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用さ
れる水銀灯の輝線スペクトルを生ずる254、313、365nm
の波長において吸光係数の比較的大なるものが好まし
い。その代表例としては、アセトフエノン、ベンゾフエ
ノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタ
ール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチル
ケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、1-ヒドロ
キシシクロヘキシルフエニルケトン、2-2ジエトキシア
セトフエノン、Michlers ケトンなどがあり、種々の芳
香族ケトンが使用できる。
香族ケトンを含有させると好ましい。芳香族ケトンは、
特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用さ
れる水銀灯の輝線スペクトルを生ずる254、313、365nm
の波長において吸光係数の比較的大なるものが好まし
い。その代表例としては、アセトフエノン、ベンゾフエ
ノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタ
ール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチル
ケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、1-ヒドロ
キシシクロヘキシルフエニルケトン、2-2ジエトキシア
セトフエノン、Michlers ケトンなどがあり、種々の芳
香族ケトンが使用できる。
芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）100重量部に
対し0.5〜20重量部、好ましくは２〜15重量部、さらに
好ましくは３〜10重量部である。
対し0.5〜20重量部、好ましくは２〜15重量部、さらに
好ましくは３〜10重量部である。
本発明においてマツト剤は、保護層表面を粗面化するた
めに加えられる、無機あるいは有機微粒子である。無機
微粒子としては、酸化亜鉛、酸化ニツケル、酸化チタ
ン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、タルク、カオリン、酸
化クロム、硫化カドミウム、ゲーサイト、アルミナ、炭
酸カルシウム等である。これらのうち、酸化ケイ素およ
びアルミナがとくに好ましい。これら無機微粒子の表面
を有機物で表面処理することにより摩擦係数を下げるこ
ともできる。有機微粒子としては、熱可塑性高分子粉
体、たとえば、アセチルセルロース、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、熱可塑型ポリエステル、
ポリアミド、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール樹
脂粉末等であり、また熱硬化性高分子粉体、たとえばフ
エノール樹脂、尿素樹脂、トリアジン系樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、フラン樹脂、アクロレイン系樹脂
等である。これらは、ともに使用される放射線硬化型化
合物や有機溶剤に不溶なものが望ましい。これらのう
ち、尿素樹脂およびフラン樹脂がとくに好ましい。これ
ら微粒子の粒子径は、樹脂中に分散させて塗設する場
合、保護層の厚さによつて最適値が異なるが、たとえば
５μｍの保護層の場合、平均粒径が0.1〜10μｍであ
り、好ましくは１〜10μｍ、さらに好ましくは２〜８μ
ｍである。保護層厚が大となるにしたがい粒径の下限お
よび上限も大となる。保護層厚は硬化后、１〜30μｍで
ある。
めに加えられる、無機あるいは有機微粒子である。無機
微粒子としては、酸化亜鉛、酸化ニツケル、酸化チタ
ン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、タルク、カオリン、酸
化クロム、硫化カドミウム、ゲーサイト、アルミナ、炭
酸カルシウム等である。これらのうち、酸化ケイ素およ
びアルミナがとくに好ましい。これら無機微粒子の表面
を有機物で表面処理することにより摩擦係数を下げるこ
ともできる。有機微粒子としては、熱可塑性高分子粉
体、たとえば、アセチルセルロース、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、熱可塑型ポリエステル、
ポリアミド、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール樹
脂粉末等であり、また熱硬化性高分子粉体、たとえばフ
エノール樹脂、尿素樹脂、トリアジン系樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、フラン樹脂、アクロレイン系樹脂
等である。これらは、ともに使用される放射線硬化型化
合物や有機溶剤に不溶なものが望ましい。これらのう
ち、尿素樹脂およびフラン樹脂がとくに好ましい。これ
ら微粒子の粒子径は、樹脂中に分散させて塗設する場
合、保護層の厚さによつて最適値が異なるが、たとえば
５μｍの保護層の場合、平均粒径が0.1〜10μｍであ
り、好ましくは１〜10μｍ、さらに好ましくは２〜８μ
ｍである。保護層厚が大となるにしたがい粒径の下限お
よび上限も大となる。保護層厚は硬化后、１〜30μｍで
ある。
本発明における保護層は潤滑剤を含有している。潤滑剤
としては炭素数６〜22個の飽和および不飽和の一塩基性
脂肪酸、炭素数６〜22個の飽和および不飽和の一塩基性
脂肪酸と炭素数３〜12個の１価のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、またそのアルコキシ化合物（−OCnH2
ｎ＋1,n＝１〜６）、炭素数５〜25の脂肪酸アミド、高
級アルコール、さらにシリコーン油、鉱油、食物油、フ
ツ素系化合物などであり、通常磁気記録媒体の調製に用
いられる潤滑剤が使用できる。
としては炭素数６〜22個の飽和および不飽和の一塩基性
脂肪酸、炭素数６〜22個の飽和および不飽和の一塩基性
脂肪酸と炭素数３〜12個の１価のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、またそのアルコキシ化合物（−OCnH2
ｎ＋1,n＝１〜６）、炭素数５〜25の脂肪酸アミド、高
級アルコール、さらにシリコーン油、鉱油、食物油、フ
ツ素系化合物などであり、通常磁気記録媒体の調製に用
いられる潤滑剤が使用できる。
潤滑剤の添加量は、前記電子線により重合可能な化合物
100重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは１〜15重
量部、さらに好ましくは３〜10重量部である。
100重量部に対して0.1〜20重量部、好ましくは１〜15重
量部、さらに好ましくは３〜10重量部である。
前記化合物および粒子を混合して保護層塗液を調製する
場合、種々の有機溶媒を必要に応じて使用できるが、化
合物（ａ）が常温で液体である場合、無溶媒でもよい。
場合、種々の有機溶媒を必要に応じて使用できるが、化
合物（ａ）が常温で液体である場合、無溶媒でもよい。
使用できる有機溶媒としてはアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン系、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等のアルコール系、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
テール等のエステル系、エーテル、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
等のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等のタール系（芳香族炭化水素）、メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、さら
に含フツ素溶媒等が使用できる。
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン系、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等のアルコール系、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
テール等のエステル系、エーテル、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
等のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等のタール系（芳香族炭化水素）、メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、さら
に含フツ素溶媒等が使用できる。
前記マツト剤の添加量は、放射線硬化型化合物100重量
部に対し１〜50重量部であり、好ましくは５〜30重量
部、さらに好ましくは10〜30重量部である。
部に対し１〜50重量部であり、好ましくは５〜30重量
部、さらに好ましくは10〜30重量部である。
放射線により重合硬化可能な化合物を含む保護層上にマ
ツト剤を散布する方法としては種々の方法が考えられ
る。好ましいのはスプレーを使用して噴霧する方法であ
る。この場合、無機あるいは有機微粒子を前記溶媒中に
分散させ、保護層塗設領域以外を遮蔽した状態で噴霧す
る。噴霧位置を適当に調節することにより、微粒子を均
一に散布することができる。微粒子の散布量は１〜200m
g/m2であり、好ましくは２〜100mg/m2、さらに好ましく
は５〜50mg/m2である。
ツト剤を散布する方法としては種々の方法が考えられ
る。好ましいのはスプレーを使用して噴霧する方法であ
る。この場合、無機あるいは有機微粒子を前記溶媒中に
分散させ、保護層塗設領域以外を遮蔽した状態で噴霧す
る。噴霧位置を適当に調節することにより、微粒子を均
一に散布することができる。微粒子の散布量は１〜200m
g/m2であり、好ましくは２〜100mg/m2、さらに好ましく
は５〜50mg/m2である。
以下に本発明を実施例により説明する。
第５図は本発明の実施例を示すものであり、フレキシブ
ル磁気デイスクシート10の中央円孔10aの周縁に表裏両
面に本発明の保護層11が塗布される。保護層の巾は3mm
とした。
ル磁気デイスクシート10の中央円孔10aの周縁に表裏両
面に本発明の保護層11が塗布される。保護層の巾は3mm
とした。
下記に実施例および比較例のそれぞれの組成を示す。
比較例３ 保護層なし 上記組成による塗液を調製した。フレキシブル磁気デイ
スクシートの中央円孔周縁に塗設量が10g/m2、したがつ
て塗厚が５μｍとなるよう塗設後、80W/cmの高圧水銀灯
により紫外線照射し重合、硬化させた。
スクシートの中央円孔周縁に塗設量が10g/m2、したがつ
て塗厚が５μｍとなるよう塗設後、80W/cmの高圧水銀灯
により紫外線照射し重合、硬化させた。
前記実施例および比較例における上部位置決め部材との
摩擦係数測定と、デイスクドライブへの装填テストを25
℃80％RHの条件下で行なつた結果を表に示す。
摩擦係数測定と、デイスクドライブへの装填テストを25
℃80％RHの条件下で行なつた結果を表に示す。
摩擦係数の測定は、位置決め部材（コレツト）を磁気シ
ート上で送り速度0.8mm/sec.で摩擦し、その際の付加荷
重を70g重として行なつた。位置決め部材（回転部）と
の間の摩擦係数に関しても同様に測定を行なつた。
ート上で送り速度0.8mm/sec.で摩擦し、その際の付加荷
重を70g重として行なつた。位置決め部材（回転部）と
の間の摩擦係数に関しても同様に測定を行なつた。
デイスクドライブへの装填テストに使用したドライブ
は、Y-Eデータ社製YD-280および380、松下通工社製JA75
1および561、三菱電機社製M-2894および4853である。
は、Y-Eデータ社製YD-280および380、松下通工社製JA75
1および561、三菱電機社製M-2894および4853である。
結果は、くり返し10回の装填を行ない全ドライブについ
て不良の生じなかつたものに○、１ケ以上のドライブで
不良の生じたものには×を表示した。
て不良の生じなかつたものに○、１ケ以上のドライブで
不良の生じたものには×を表示した。
また、40℃80％RHの条件下でデイスクドライブの回転部
への接着率（％）を表に示す。ドライブはY-Eデータ社
製YD-480を用い、連続した12hクランプ後の回転部との
接着を観察した。結果を表に示す。
への接着率（％）を表に示す。ドライブはY-Eデータ社
製YD-480を用い、連続した12hクランプ後の回転部との
接着を観察した。結果を表に示す。
比較例１および２は本発明実施例とほぼ同レベルの摩擦
係数を示しデイスクドライブへの装填テストも良好だが
デイスクドライブの回転部への接着が生じている。また
40℃80％RH中におけるフレキシブル磁気デイスクシート
の積み重ねテストを実施したところ、比較例１および２
に接着発生が認められた。
係数を示しデイスクドライブへの装填テストも良好だが
デイスクドライブの回転部への接着が生じている。また
40℃80％RH中におけるフレキシブル磁気デイスクシート
の積み重ねテストを実施したところ、比較例１および２
に接着発生が認められた。
上記の結果からも明かなように、本発明による保護層
が、デイスクドライブへの装填時、およびデイスクドラ
イブの回転部に対する接着防止と保護層どうしの接着防
止の双方について顕著な改良効果を示すことがわかる。
が、デイスクドライブへの装填時、およびデイスクドラ
イブの回転部に対する接着防止と保護層どうしの接着防
止の双方について顕著な改良効果を示すことがわかる。
なお、フレキシブルデイスクの生産工程においては、上
記保護層を形成後クツキーを積み重ねる事が可となり、
自由な工程の組合わせが可能となる。ユーザーサイドに
おいては、高温多湿下でのワードプロセツサーやパソコ
ン作業で、フロツピーデイスクの中央円孔の痛みを気に
することなく、更に長時間のクランプによる保護層と回
転部やコレツトとの接着を気にせず、安心して使用が可
能となる。
記保護層を形成後クツキーを積み重ねる事が可となり、
自由な工程の組合わせが可能となる。ユーザーサイドに
おいては、高温多湿下でのワードプロセツサーやパソコ
ン作業で、フロツピーデイスクの中央円孔の痛みを気に
することなく、更に長時間のクランプによる保護層と回
転部やコレツトとの接着を気にせず、安心して使用が可
能となる。
実用面で述べると、高温度、高湿度下の工場で使用され
る数値制御装置やコンピユーターの端末装置において、
従来の粘着式ハブリングでは糊のしみだしやリングずれ
の心配があつたが、本発明による方法では全く不安がな
い。
る数値制御装置やコンピユーターの端末装置において、
従来の粘着式ハブリングでは糊のしみだしやリングずれ
の心配があつたが、本発明による方法では全く不安がな
い。
又、使用環境の比較的悪い場所に設置されるタイムカー
ドなどにおいて、数日、ないし数週間クランプされたま
ま使用されるデイスク装置や、企業秘密の関係でデイス
クを取りだせないよう鍵を掛けた装置などにおいて、従
来の保護層は接着により取りだし時に変形を起こす不安
があつたが、本発明によりこれらの問題を解決すること
ができた。
ドなどにおいて、数日、ないし数週間クランプされたま
ま使用されるデイスク装置や、企業秘密の関係でデイス
クを取りだせないよう鍵を掛けた装置などにおいて、従
来の保護層は接着により取りだし時に変形を起こす不安
があつたが、本発明によりこれらの問題を解決すること
ができた。
第1A図はフレキシブル磁気デイスクの例を示す平面図、 第1B図はその断面図、 第２図はフレキシブル磁気デイスクを装置の位置決め部
材に装填する状態を示す一部断面図、 第３図は同じくそのシートが偏心したまま保持される状
態を示す一部断面図、 第４図は同じくそのシートが正しく位置決めされた状態
を示す一部断面図、 第５図は本発明の一実施例のシート部を示す平面図、 １…ジヤケツト、1a…ジヤケツト開口 ２…磁気シート、2a…中央円孔 ３…位置決め部材（回転部） 3a…円形凹部、４…位置決め部材（コレツト） 10…磁気シート,10a…中央円孔 11…保護層
材に装填する状態を示す一部断面図、 第３図は同じくそのシートが偏心したまま保持される状
態を示す一部断面図、 第４図は同じくそのシートが正しく位置決めされた状態
を示す一部断面図、 第５図は本発明の一実施例のシート部を示す平面図、 １…ジヤケツト、1a…ジヤケツト開口 ２…磁気シート、2a…中央円孔 ３…位置決め部材（回転部） 3a…円形凹部、４…位置決め部材（コレツト） 10…磁気シート,10a…中央円孔 11…保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小峯 茂雄 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 小代田 克己 東京都調布市柴崎１−67―１ 富士マグネ デイスク株式会社内 (72)発明者 中田 孝治 東京都調布市柴崎１−67―１ 富士マグネ デイスク株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−113422（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−101650（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−35971（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−146029（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】フレキシブル磁気ディスクシートの中央孔
周縁に、放射線により重合効果可能な化合物と、粒子径
２〜８μｍのマット剤と潤滑剤とを含む保護層を設け、
該層が放射線照射されていることを特徴とするフレキシ
ブル磁気ディスク。 - 【請求項２】フレキシブル磁気ディスクシートの中央孔
周縁に、放射線により重合硬化可能な化合物と潤滑剤を
含む保護層を設け、該層上に粒子状のマット剤を散布
し、さらに該層が放射線照射されていることを特徴とす
るフレキシブル磁気ディスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8932384A JPH0685267B2 (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | フレキシブル磁気デイスク |
| US06/731,417 US4671978A (en) | 1984-05-07 | 1985-05-07 | Flexible magnetic disc sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8932384A JPH0685267B2 (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | フレキシブル磁気デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234273A JPS60234273A (ja) | 1985-11-20 |
| JPH0685267B2 true JPH0685267B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=13967458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8932384A Expired - Lifetime JPH0685267B2 (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | フレキシブル磁気デイスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4671978A (ja) |
| JP (1) | JPH0685267B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4952435A (en) * | 1985-10-03 | 1990-08-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Adhesive for a base-mounted flexible magnetic disc |
| US5085911A (en) * | 1989-06-13 | 1992-02-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flexible magnetic disc with a two layer protective coating which top layer is a ultra violet radiation cured compound with specified elasticity modulus |
| US5736020A (en) * | 1995-04-24 | 1998-04-07 | Hmt Technology Corporation | Target assembly for use in forming an overcoat in a magnetic recording medium |
| US5520981A (en) * | 1995-04-24 | 1996-05-28 | Hmt Technology Corporation | Magnetic recording disk with overcoat thickness gradient between a data zone and a landing zone |
| KR100813953B1 (ko) * | 2002-04-22 | 2008-03-14 | 삼성전자주식회사 | 대전방지성을 갖는 광경화성 수지 조성물 |
| JP2004310851A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Canon Inc | 磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び情報処理装置 |
| WO2010068859A2 (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-17 | Gibby Media Group | Sticker media disk |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3466156A (en) * | 1966-12-01 | 1969-09-09 | Ncr Co | Magnetic record members |
| JPS4815009B1 (ja) * | 1969-11-26 | 1973-05-11 | ||
| US4239828A (en) * | 1976-03-29 | 1980-12-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Self-lubricating magnetic recording diskette |
| JPS5625232A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-11 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS56101650A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS56159838A (en) * | 1980-05-12 | 1981-12-09 | Tokyo Jiki Insatsu Kk | Magnetic recording medium |
| JPS5715231A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-26 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5916833B2 (ja) * | 1980-08-09 | 1984-04-18 | 松下電器産業株式会社 | 滑性薄膜の形成方法 |
| US4387114A (en) * | 1980-11-20 | 1983-06-07 | Verbatim Corporation | Spindle aperture reinforcement for a floppy disk |
| JPS57150136A (en) * | 1981-03-09 | 1982-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS58146029A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-31 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| US4404247A (en) * | 1982-07-02 | 1983-09-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective covering for magnetic recording medium |
| JPS59178659A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| JPS6022785A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| JPS6025074A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| US4539220A (en) * | 1983-09-23 | 1985-09-03 | Verbatim Corporation | Method of manufacturing reinforced flexible disks |
-
1984
- 1984-05-07 JP JP8932384A patent/JPH0685267B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-05-07 US US06/731,417 patent/US4671978A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4671978A (en) | 1987-06-09 |
| JPS60234273A (ja) | 1985-11-20 |
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