JPH0133773B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0133773B2 JPH0133773B2 JP55086718A JP8671880A JPH0133773B2 JP H0133773 B2 JPH0133773 B2 JP H0133773B2 JP 55086718 A JP55086718 A JP 55086718A JP 8671880 A JP8671880 A JP 8671880A JP H0133773 B2 JPH0133773 B2 JP H0133773B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- output
- voltage
- capacitor
- counter
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16N—LUBRICATING
- F16N29/00—Special means in lubricating arrangements or systems providing for the indication or detection of undesired conditions; Use of devices responsive to conditions in lubricating arrangements or systems
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/14—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
- G01B7/144—Measuring play on bearings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M13/00—Testing of machine parts
- G01M13/04—Bearings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C19/00—Bearings with rolling contact, for exclusively rotary movement
- F16C19/52—Bearings with rolling contact, for exclusively rotary movement with devices affected by abnormal or undesired conditions
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C2210/00—Fluids
- F16C2210/02—Fluids defined by their properties
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C2233/00—Monitoring condition, e.g. temperature, load, vibration
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
- F16C33/30—Parts of ball or roller bearings
- F16C33/66—Special parts or details in view of lubrication
- F16C33/6637—Special parts or details in view of lubrication with liquid lubricant
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Testing Of Devices, Machine Parts, Or Other Structures Thereof (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、潤滑剤で潤滑されながら相互に転動
または摺動する。少なくとも向かい合つた一対の
表面間の潤滑性を測定する装置に関し、特に、そ
れら一対の表面を、当該一対の表面と上記潤滑剤
の膜により構成されるキヤパシタの各電極とみな
し、このキヤパシタのキヤパシタンスに対応した
信号を測定することにより、潤滑膜厚や接触時間
率(後に定義)等、潤滑性に関与するパラメータ
を測定する装置に関する。
または摺動する。少なくとも向かい合つた一対の
表面間の潤滑性を測定する装置に関し、特に、そ
れら一対の表面を、当該一対の表面と上記潤滑剤
の膜により構成されるキヤパシタの各電極とみな
し、このキヤパシタのキヤパシタンスに対応した
信号を測定することにより、潤滑膜厚や接触時間
率(後に定義)等、潤滑性に関与するパラメータ
を測定する装置に関する。
[従来の技術]
この種の技術に関する公知測定装置としては、
1965年3月30日発行の米国特許第3176286号公報
に開示のものがある。
1965年3月30日発行の米国特許第3176286号公報
に開示のものがある。
この従来装置では、潤滑測定対象となる表面間
のキヤパシタンスは、発振器からのAC電圧信号
が印加された容量性ブリツジを介して取出され
る。換言すれば、この従来法は、キヤパシタンス
の検出方法として最も基本的な容量性ブリツジを
用いているのであつて、当該容量性ブリツジから
の電圧信号として、測定対象のキヤパシタンスが
測定されるようになつている。
のキヤパシタンスは、発振器からのAC電圧信号
が印加された容量性ブリツジを介して取出され
る。換言すれば、この従来法は、キヤパシタンス
の検出方法として最も基本的な容量性ブリツジを
用いているのであつて、当該容量性ブリツジから
の電圧信号として、測定対象のキヤパシタンスが
測定されるようになつている。
[発明が解決しようとする課題]
上記のように、単に容量性のブリツジを用いる
に過ぎない従来法では、実際上、満足な結果の得
られないことが多かつた。
に過ぎない従来法では、実際上、満足な結果の得
られないことが多かつた。
その原因の一つは、単にキヤパシタンスをのみ
測定しているに過ぎず、例えば当該キヤパシタの
各電極とみなせる表面間相互が、互いに直接に接
触した場合、それがどの位の時間、接触し続けた
か等の測定をなしていなかつたことにある。
測定しているに過ぎず、例えば当該キヤパシタの
各電極とみなせる表面間相互が、互いに直接に接
触した場合、それがどの位の時間、接触し続けた
か等の測定をなしていなかつたことにある。
すなわち、測定対象となるキヤパシタを構成し
ている一対の表面には、それがどんなに良く研磨
されていても、実際には微少な凹凸(おうとつ)
があり、これを断面的に見ると、あたかもそれら
の表面に“しわ”が寄つているように見える。そ
して、微視的にはそのように凸凹(でこぼこ)し
ている表面の凸部の頂部から見た凹部の谷底まで
の深さ(これを本書では、簡単のため、以降、
“しわ”の“深さ”と呼ぶ)が、当該表面間に形
成されるべき潤滑膜の厚さよりも深いような場
合、当該一対の表面間がその一部において直接に
接触し合うことも良くある。
ている一対の表面には、それがどんなに良く研磨
されていても、実際には微少な凹凸(おうとつ)
があり、これを断面的に見ると、あたかもそれら
の表面に“しわ”が寄つているように見える。そ
して、微視的にはそのように凸凹(でこぼこ)し
ている表面の凸部の頂部から見た凹部の谷底まで
の深さ(これを本書では、簡単のため、以降、
“しわ”の“深さ”と呼ぶ)が、当該表面間に形
成されるべき潤滑膜の厚さよりも深いような場
合、当該一対の表面間がその一部において直接に
接触し合うことも良くある。
しかるに、このように、一対の表面間が直接に
接触すると、理論的に予測されるキヤパシタンス
より遥かに大きなキヤパシタンスが誤測定され、
これは結局、潤滑膜厚零ないしそれに近い値を示
す信号を生ずる。
接触すると、理論的に予測されるキヤパシタンス
より遥かに大きなキヤパシタンスが誤測定され、
これは結局、潤滑膜厚零ないしそれに近い値を示
す信号を生ずる。
この信号が誤信号であることは明らかである。
換言すれば、実際には油膜は平均的にみれば一対
の表面間において必ずある程度以上の膜厚を持つ
ているはずなのに、ごく一部においても直接にそ
れらの一対の表面間が接触する部分があると、膜
厚がそのときにはあたかも零であるかのような信
号が出力される。
換言すれば、実際には油膜は平均的にみれば一対
の表面間において必ずある程度以上の膜厚を持つ
ているはずなのに、ごく一部においても直接にそ
れらの一対の表面間が接触する部分があると、膜
厚がそのときにはあたかも零であるかのような信
号が出力される。
したがつて、ある一定の測定時間というものを
考え、その一定測定時間内に得られた信号に基づ
き、例えば平均値を得る等、膜厚の解析をなす際
に、当該一定測定時間内に一対の表面が接触する
機会が多く、その全接触時間の総計が長くなる
と、確かに、一対の表面間が直接に接触する機会
が増えているのであるから、膜厚は確実に薄くな
つているとは言え、実際の薄さよりもさらにずつ
と薄い膜厚が誤測定されることがある。
考え、その一定測定時間内に得られた信号に基づ
き、例えば平均値を得る等、膜厚の解析をなす際
に、当該一定測定時間内に一対の表面が接触する
機会が多く、その全接触時間の総計が長くなる
と、確かに、一対の表面間が直接に接触する機会
が増えているのであるから、膜厚は確実に薄くな
つているとは言え、実際の薄さよりもさらにずつ
と薄い膜厚が誤測定されることがある。
にもかかわらず、そのような一部における直接
接触という現象が生ずることや、その時間長に鑑
みて何等の対策も施していない従来例では、こう
した一対の表面間の一部の直接接触に基づくキヤ
パシタンスひいては膜厚の誤測定を補償する手段
がそもそもなかつたのである。
接触という現象が生ずることや、その時間長に鑑
みて何等の対策も施していない従来例では、こう
した一対の表面間の一部の直接接触に基づくキヤ
パシタンスひいては膜厚の誤測定を補償する手段
がそもそもなかつたのである。
[課題を解決するための手段]
本発明においては、上記課題を解決するため、
潤滑剤により潤滑される一対の表面をキヤパシタ
の両電極として捕え、これら両電極間に形成され
る被測定キヤパシタに対し、直列にもう一つの既
知の値のコンデンサを接続し、これら直列回路
(容量分圧器)の一端を発振器出力に、他端を接
地した上で、当該発振器出力電圧と被測定キヤパ
シタの両端電圧を検出し、これらの検出値に基づ
き、当該被測定キヤパシタンスないしは潤滑膜厚
を測定するという手続きに加え、上記潤滑剤によ
り潤滑される一対の表面間が、特定の単位測定時
間中にどの位、直接に接触したかという比、すな
わち接触時間率をも求め、これにより、上記のよ
うにして測定されるキヤパシタンスないしは潤滑
膜厚を修正可能とする。
潤滑剤により潤滑される一対の表面をキヤパシタ
の両電極として捕え、これら両電極間に形成され
る被測定キヤパシタに対し、直列にもう一つの既
知の値のコンデンサを接続し、これら直列回路
(容量分圧器)の一端を発振器出力に、他端を接
地した上で、当該発振器出力電圧と被測定キヤパ
シタの両端電圧を検出し、これらの検出値に基づ
き、当該被測定キヤパシタンスないしは潤滑膜厚
を測定するという手続きに加え、上記潤滑剤によ
り潤滑される一対の表面間が、特定の単位測定時
間中にどの位、直接に接触したかという比、すな
わち接触時間率をも求め、これにより、上記のよ
うにして測定されるキヤパシタンスないしは潤滑
膜厚を修正可能とする。
そして、実際上、こうしたキヤパシタンスない
し潤滑膜厚と接触時間率の測定は、本願特許請求
の範囲に記載された各要素の組合せ構成をして満
足することができ、ここで改めて、最も基本的な
本発明の態様を記せば次のようになる。
し潤滑膜厚と接触時間率の測定は、本願特許請求
の範囲に記載された各要素の組合せ構成をして満
足することができ、ここで改めて、最も基本的な
本発明の態様を記せば次のようになる。
『相互に転動または摺動し、潤滑剤で潤滑される
少なくとも一対の表面間の潤滑性を測定するた
め、間に上記潤滑剤を挟んだ該一対の表面の各々
をキヤパシタの各電極として、該キヤパシタに直
列に既知の値Cvのコンデンサを接続して容量分
圧器7を構成し、該容量分圧器7の両端に発振器
6からの所定周波数のAC電圧Vpscを印加するこ
とにより、上記キヤパシタの両端電圧Vbと上記
発振器出力電圧Vpscとから、そのときどきの上記
キヤパシタのキヤパシタンスCbを測定する装置
であつて; 一方の入力には上記発振器6の出力電圧Vpscを
受け、他方の入力には上記測定対象キヤパシタ
Cbの両端電圧Vbを受けると共に、出力はロ−・
パス・フイルタ10に接続したマルチ・ブライヤ
9と; 上記ロ−・パス・フイルタ10の出力を受け、
この出力電圧VLPの逆数Vpを形成する逆数回路1
2と; 該逆数回路12の出力電圧Vpから、第一の所
定の電圧値V1を減算する減算回路13と; 該減算回路13の出力電圧に基づき、既知の式
から上記潤滑剤膜厚hに対応する電圧信号Vhを
生成する演算回路15,16と; 上記ロ−・パス・フイルタ10の出力電圧VLP
を第二の所定電圧値Vrefと比較するコンパレータ
17と; 一入力には該コンパレータ17の出力を受け、
他入力にはパルス発振器19からのクロツク・パ
ルスを受けるアンド・ゲート18と; 該アンド・ゲート18の出力に接続したカウン
タ21と; 該カウンタ21に接続したデジタル表示器22
と; 所定の単位測定時間Tを経過するごとに上記カ
ウンタ21をリセツトするタイミング回路23
と; を有し、上記第二の所定電圧値Vref、上記単位
測定時間T、及び上記クロツク・パルスの周波数
は、該単位測定時間T内にあつて上記少なくとも
一対の表面間が直接に接触していた時間の割り合
いに比例した数のパルスが上記カウンタ21内に
て計数されるように設定されていること; を特徴とする、相互に転動または摺動し潤滑剤
で潤滑される表面間の潤滑性測定装置。』 ただし、上記において用いた符号は、第1〜3
図に即して後に述べる実施例に関し、各構要素に
付した符号に相当する。
少なくとも一対の表面間の潤滑性を測定するた
め、間に上記潤滑剤を挟んだ該一対の表面の各々
をキヤパシタの各電極として、該キヤパシタに直
列に既知の値Cvのコンデンサを接続して容量分
圧器7を構成し、該容量分圧器7の両端に発振器
6からの所定周波数のAC電圧Vpscを印加するこ
とにより、上記キヤパシタの両端電圧Vbと上記
発振器出力電圧Vpscとから、そのときどきの上記
キヤパシタのキヤパシタンスCbを測定する装置
であつて; 一方の入力には上記発振器6の出力電圧Vpscを
受け、他方の入力には上記測定対象キヤパシタ
Cbの両端電圧Vbを受けると共に、出力はロ−・
パス・フイルタ10に接続したマルチ・ブライヤ
9と; 上記ロ−・パス・フイルタ10の出力を受け、
この出力電圧VLPの逆数Vpを形成する逆数回路1
2と; 該逆数回路12の出力電圧Vpから、第一の所
定の電圧値V1を減算する減算回路13と; 該減算回路13の出力電圧に基づき、既知の式
から上記潤滑剤膜厚hに対応する電圧信号Vhを
生成する演算回路15,16と; 上記ロ−・パス・フイルタ10の出力電圧VLP
を第二の所定電圧値Vrefと比較するコンパレータ
17と; 一入力には該コンパレータ17の出力を受け、
他入力にはパルス発振器19からのクロツク・パ
ルスを受けるアンド・ゲート18と; 該アンド・ゲート18の出力に接続したカウン
タ21と; 該カウンタ21に接続したデジタル表示器22
と; 所定の単位測定時間Tを経過するごとに上記カ
ウンタ21をリセツトするタイミング回路23
と; を有し、上記第二の所定電圧値Vref、上記単位
測定時間T、及び上記クロツク・パルスの周波数
は、該単位測定時間T内にあつて上記少なくとも
一対の表面間が直接に接触していた時間の割り合
いに比例した数のパルスが上記カウンタ21内に
て計数されるように設定されていること; を特徴とする、相互に転動または摺動し潤滑剤
で潤滑される表面間の潤滑性測定装置。』 ただし、上記において用いた符号は、第1〜3
図に即して後に述べる実施例に関し、各構要素に
付した符号に相当する。
[作用]
本発明によると、潤滑剤により潤滑され、相互
に転動または摺動する少なくとも一対の表面間の
キヤパシタンスを測定する装置において、上記要
旨構成に従つて構成されたマルチ・プライヤ9、
逆数回路12、減算回路13を経た後、演算回路
15,16の出力に得られる信号は、潤滑性に関
与する基本的なパラメータの一つとして、一応、
潤滑剤の膜厚hの情報を有している。その理由
は、数字的な関係〜式により、後述の実施例
中にも詳記されている通りである。
に転動または摺動する少なくとも一対の表面間の
キヤパシタンスを測定する装置において、上記要
旨構成に従つて構成されたマルチ・プライヤ9、
逆数回路12、減算回路13を経た後、演算回路
15,16の出力に得られる信号は、潤滑性に関
与する基本的なパラメータの一つとして、一応、
潤滑剤の膜厚hの情報を有している。その理由
は、数字的な関係〜式により、後述の実施例
中にも詳記されている通りである。
しかし、この潤滑剤の膜厚hの情報だけでは、
例えば、計測対象の一対の表面間に静的な状態で
存在する平均的な膜厚を測定することは必ずしも
できない。
例えば、計測対象の一対の表面間に静的な状態で
存在する平均的な膜厚を測定することは必ずしも
できない。
つまり、計測すべき一対の表面に凹凸があつ
て、その結果、既述したように、一対の表面間に
直接に接触する部分があると、実際には平均的に
必ずある厚さ以上の膜厚の潤滑油が存在するはず
なのに、一部における表面間の接触のため、膜厚
hがその部分の存在のため、全体として零ないし
これに近い値として検出されることがある。これ
は明らかに誤りである。
て、その結果、既述したように、一対の表面間に
直接に接触する部分があると、実際には平均的に
必ずある厚さ以上の膜厚の潤滑油が存在するはず
なのに、一部における表面間の接触のため、膜厚
hがその部分の存在のため、全体として零ないし
これに近い値として検出されることがある。これ
は明らかに誤りである。
しかし、本発明によると、上記要旨構成におけ
るようにその各々の構成が特定されるコンパレー
タ17、アンド・ゲート18、カウンタ21、タ
イミング回路23があり、これによつてカウンタ
21の出力には、単位測定時間T中において一対
の表面間が直接に接触していた時間、ないし当該
接触時間の単位測定時間Tに対する割り合いであ
る接触時間率を得ることができるので、例え上記
の演算回路16の出力に単位測定時間中、過渡的
には膜厚零の信号が得られたにしても、その頻度
ないし全接触時間または接触時間率から、これに
基づいて適当な補償をなすことができ、たつた一
部分の直接接触のために全膜厚を零と検出するこ
ともなく、できるだけ正確に、実際に存在し得る
潤滑油の膜厚を求めることができる。
るようにその各々の構成が特定されるコンパレー
タ17、アンド・ゲート18、カウンタ21、タ
イミング回路23があり、これによつてカウンタ
21の出力には、単位測定時間T中において一対
の表面間が直接に接触していた時間、ないし当該
接触時間の単位測定時間Tに対する割り合いであ
る接触時間率を得ることができるので、例え上記
の演算回路16の出力に単位測定時間中、過渡的
には膜厚零の信号が得られたにしても、その頻度
ないし全接触時間または接触時間率から、これに
基づいて適当な補償をなすことができ、たつた一
部分の直接接触のために全膜厚を零と検出するこ
ともなく、できるだけ正確に、実際に存在し得る
潤滑油の膜厚を求めることができる。
[実施例]
本発明の実施例として、限定的ではないが、油
で潤滑される玉軸受の潤滑状態の測定例を挙げ、
説明する。
で潤滑される玉軸受の潤滑状態の測定例を挙げ、
説明する。
潤滑される玉軸受の油膜の厚さは、種々の要
素、特に回転速度と荷重に依存することは公知で
ある。そしてまた、この油膜の厚さhは、玉軸受
のキヤパシタンスCbを測定することで知ること
ができる。それは、当該Cbが次式で与えられる
からである。
素、特に回転速度と荷重に依存することは公知で
ある。そしてまた、この油膜の厚さhは、玉軸受
のキヤパシタンスCbを測定することで知ること
ができる。それは、当該Cbが次式で与えられる
からである。
Cb=εp・εr・A/h ………
ここで、εpは真空の誘電率、εrは使用される油
の相対誘電率であつて、Aはその下に油が存在す
ると認められる面積である。したがつてまた、こ
の面積Aは、“接触面積”と呼ぶことができる。
の相対誘電率であつて、Aはその下に油が存在す
ると認められる面積である。したがつてまた、こ
の面積Aは、“接触面積”と呼ぶことができる。
第1図は玉軸受を示し、玉2と内輪3、外輪4
の間に生ずるキヤパシタCi,Cpも示している。な
お、これらの符号“Ci,Cpは、対応する物として
のキヤパシタを指すこともあり、当該各キヤパシ
タの容量値、すなわちキヤパシタンスを指すこと
もある。
の間に生ずるキヤパシタCi,Cpも示している。な
お、これらの符号“Ci,Cpは、対応する物として
のキヤパシタを指すこともあり、当該各キヤパシ
タの容量値、すなわちキヤパシタンスを指すこと
もある。
第1図中のキヤパシタンスCi,Cpは、あいまつ
て軸受全体としてのキヤパシタンスCbを形成す
るが、図示の場合は八ヶ所にこれらキヤパシタン
スCi,Cpが示されているので、軸受としてのキヤ
パシタンスCbは次式となる。
て軸受全体としてのキヤパシタンスCbを形成す
るが、図示の場合は八ヶ所にこれらキヤパシタン
スCi,Cpが示されているので、軸受としてのキヤ
パシタンスCbは次式となる。
Cb=
〓n-8
Cio・Cpo/Cio+Cpo ………
第2図は、本発明に従つて構成され、こうした
キヤパシタンスCbを測定可能な装置5の比較的
前段の部分を示している。
キヤパシタンスCbを測定可能な装置5の比較的
前段の部分を示している。
本装置5は、例えば0.9MHZの正弦波AC電圧
を測定対象のキヤパシタCbと意図的にこれに直
列に接続されたコンデンサCvとから成る容量分
圧器7に送る発振器6を備えている。
を測定対象のキヤパシタCbと意図的にこれに直
列に接続されたコンデンサCvとから成る容量分
圧器7に送る発振器6を備えている。
ここで約束事として、測定対象に関するCbは
上記のようにキヤパシタと呼び、この測定のため
に本実施例で意図的に付加されている容量Cvと
か、測定対象のキヤパシタCbに並列に入ると予
想される寄生容量ないし浮遊容量Cp等は、あえ
てこれらをコンデンサと呼んで区別する。
上記のようにキヤパシタと呼び、この測定のため
に本実施例で意図的に付加されている容量Cvと
か、測定対象のキヤパシタCbに並列に入ると予
想される寄生容量ないし浮遊容量Cp等は、あえ
てこれらをコンデンサと呼んで区別する。
しかるに、測定対象のキヤパシタCbの両端電
圧Vbは、当該キヤパシタCbの値の変動により変
調される。この変調信号は、二入力マルチ・プラ
イヤ9とロ−・パス・フイルタ10を有する復調
器8に与えられており、特に、二入力マルチ・プ
ライヤの一入力には発振器6の出力電圧が、他入
力にはキヤパシタCbの両端電圧が与えられてい
る。
圧Vbは、当該キヤパシタCbの値の変動により変
調される。この変調信号は、二入力マルチ・プラ
イヤ9とロ−・パス・フイルタ10を有する復調
器8に与えられており、特に、二入力マルチ・プ
ライヤの一入力には発振器6の出力電圧が、他入
力にはキヤパシタCbの両端電圧が与えられてい
る。
この復調器8ないしその中のロ−・パス・フイ
ルタ10の出力電圧VLPは、測定時間tと油膜の
厚さhの関数、 VLP=f(t,h) ……… となる。そして、測定中、潤滑される表面間が直
接に接触するときがあると(つまり油膜厚h=0
となると)、その接触している時間の間、電圧信
号VLPはほぼ零になる。本発明装置によれば、以
下述べるように、これに鑑み、定められた測定時
間中、どの位、表面間が直接に接触していた時間
があつたかも知ることができるが、こうした比は
“接触時間率”と呼ぶことができる。
ルタ10の出力電圧VLPは、測定時間tと油膜の
厚さhの関数、 VLP=f(t,h) ……… となる。そして、測定中、潤滑される表面間が直
接に接触するときがあると(つまり油膜厚h=0
となると)、その接触している時間の間、電圧信
号VLPはほぼ零になる。本発明装置によれば、以
下述べるように、これに鑑み、定められた測定時
間中、どの位、表面間が直接に接触していた時間
があつたかも知ることができるが、こうした比は
“接触時間率”と呼ぶことができる。
一方ではもちろん、上記の電圧信号VLPを後述
のようにさらに好適に処理することにより、油膜
の厚さhないしキヤパシタンスCbの値に線形に
依存する信号を得ることもできる。
のようにさらに好適に処理することにより、油膜
の厚さhないしキヤパシタンスCbの値に線形に
依存する信号を得ることもできる。
第3図は測定装置5を本発明に即してより具体
的に展開した実施例として、上記のように油膜厚
hとキヤパシタンスCbに線形に対応する信号Vh,
Vcbを出力する装置の一例を示している。
的に展開した実施例として、上記のように油膜厚
hとキヤパシタンスCbに線形に対応する信号Vh,
Vcbを出力する装置の一例を示している。
発振器6が出力電圧Vpsc・sinωtを発すると、
キヤパシタンスCbの両端電圧Vbは、 Vb=Vpsc・CV/CV+Cp+Cb ……… となり、したがつてマルチ・プライヤ9にて演算
され、ロ−・パス・フイルタ10を介した後の出
力電圧VLPは、 VLP=(Vpsc)2/2・CV/CV+Cp+Cb……… となる。
キヤパシタンスCbの両端電圧Vbは、 Vb=Vpsc・CV/CV+Cp+Cb ……… となり、したがつてマルチ・プライヤ9にて演算
され、ロ−・パス・フイルタ10を介した後の出
力電圧VLPは、 VLP=(Vpsc)2/2・CV/CV+Cp+Cb……… となる。
データ処理回路11は、こうした電圧信号VLP
から、上記のような所望する電圧信号Vh,Vcbを
得るために用いられる。
から、上記のような所望する電圧信号Vh,Vcbを
得るために用いられる。
まず、この回路11は逆数回路12を有し、当
該逆数回路12の出力にはロ−・パス・フイルタ
10の出力電圧VLPの逆数Vpが得られる。したが
つてこの電圧信号Vpは次式で表し得る。
該逆数回路12の出力にはロ−・パス・フイルタ
10の出力電圧VLPの逆数Vpが得られる。したが
つてこの電圧信号Vpは次式で表し得る。
Vp=K1+K2・Cb ………
ただし、K1,K2はそれぞれ、
K1=2/(Vpsc)2(1+Cp/CV);
K2=2/(Vpsc)2(1/CV)………
である。
発振器6の出力電圧Vpscと、既知のコンデンサ
値CV、浮遊容量Cpは一定とみなせるので、上記
の係数K1,K2の値は、それぞれ、ある一定の電
圧値V1,V2に置き換えることができる。
値CV、浮遊容量Cpは一定とみなせるので、上記
の係数K1,K2の値は、それぞれ、ある一定の電
圧値V1,V2に置き換えることができる。
そこで、逆数回路12の出力する電圧信号Vp
は、そこから一定電圧V1を減ずる減算回路13
に与えられ、この減算回路13の出力はさらに、
除数V2が与えられている割算回路ないしデバイ
ダ14に与えられる。
は、そこから一定電圧V1を減ずる減算回路13
に与えられ、この減算回路13の出力はさらに、
除数V2が与えられている割算回路ないしデバイ
ダ14に与えられる。
こうしたことからまず、被測定対象キヤパシタ
ンスCbに直接に対応する所望の電圧Vcbが当接デ
バイダ14の出力に得られる。
ンスCbに直接に対応する所望の電圧Vcbが当接デ
バイダ14の出力に得られる。
一方では、減算回路13の出力はさらにその逆
数を出力する逆数回路15に与えられ、この逆数
はマルチ・ブライヤ16の一入力に与えられる。
数を出力する逆数回路15に与えられ、この逆数
はマルチ・ブライヤ16の一入力に与えられる。
当該マルチ・ブライヤ16の他入力には、
V3=εp・εr・A・K2 ………
なる電圧値V3が与えられており、したがつてこ
のマルチ・ブライヤ16の出力には、油膜の厚さ
hに対応するもう一つの望ましい電圧信号Vhが
得られる。
のマルチ・ブライヤ16の出力には、油膜の厚さ
hに対応するもう一つの望ましい電圧信号Vhが
得られる。
このようにして得られた電圧信号Vh,Vcbは、
例えばオシロ・スコープ上に観察しても良く、そ
うした場合、結局は油膜の厚さhとキヤパシタン
スCbの挙動を時間の関数として観察することが
できる。
例えばオシロ・スコープ上に観察しても良く、そ
うした場合、結局は油膜の厚さhとキヤパシタン
スCbの挙動を時間の関数として観察することが
できる。
また、これらの信号Vh,Vcbの変動に関する低
周波成分のみを観察することも可能であり、これ
は周知のように、ロ−・パス・フイルタを通した
波形等で見ることができるが、そのようにする
と、測定結果としては見易い形にすることができ
る。すなわち、高調波成分である細かな変動分が
除かれ、油膜の厚さhとキヤパシタンスCbの変
動に関し、ゆつくりした変動分のみを観察するこ
とができる。
周波成分のみを観察することも可能であり、これ
は周知のように、ロ−・パス・フイルタを通した
波形等で見ることができるが、そのようにする
と、測定結果としては見易い形にすることができ
る。すなわち、高調波成分である細かな変動分が
除かれ、油膜の厚さhとキヤパシタンスCbの変
動に関し、ゆつくりした変動分のみを観察するこ
とができる。
同様に、ある単位の測定時間中にあつて、一対
の表面間が直接に接触した時間に対応する接触時
間率は、ロ−・パス・フイルタ10の出力に基づ
き、下記の手続きで得ることができる。
の表面間が直接に接触した時間に対応する接触時
間率は、ロ−・パス・フイルタ10の出力に基づ
き、下記の手続きで得ることができる。
まず、ロ−・パス・フイルタ10の出力VLPは
コンパレータ17の一入力に与えられ、他入力に
は調整可能な基準電圧Vrefが与えられている。
コンパレータ17の一入力に与えられ、他入力に
は調整可能な基準電圧Vrefが与えられている。
第4図aは、ロ−・パス・フイルタ10からの
出力電圧信号VLPの時間的な変動の一例と共に、
基準電圧Vrefも示しているが、本図に模式的に示
されているように、当該基準電圧Vrefは比較的、
小さな値に設定される。
出力電圧信号VLPの時間的な変動の一例と共に、
基準電圧Vrefも示しているが、本図に模式的に示
されているように、当該基準電圧Vrefは比較的、
小さな値に設定される。
コンパレータ17の出力電圧Vcは、電圧信号
VLPが基準電圧Vref以下に低下すると、低レベル
から高レベルに反転する。したがつて、第4図a
の場合におけるコンパレータ17の出力信号Vc
は、単位の測定時間T中にあつて第4図bに示さ
れるようになる。
VLPが基準電圧Vref以下に低下すると、低レベル
から高レベルに反転する。したがつて、第4図a
の場合におけるコンパレータ17の出力信号Vc
は、単位の測定時間T中にあつて第4図bに示さ
れるようになる。
こうしたことから理解されるように、この信号
Vcが高レベルになつている時間の総和を演算し、
単位の測定時間Tとの比を求めれば、接触時間率
を得ることができる。第3図はそのための回路例
も示している。
Vcが高レベルになつている時間の総和を演算し、
単位の測定時間Tとの比を求めれば、接触時間率
を得ることができる。第3図はそのための回路例
も示している。
コンパレータ17の出力はVcはアンド・ゲー
ト18の一入力に与えられ、他入力にはパルス発
振器19からの例えば1MHZの発振パルス列が与
えられる。
ト18の一入力に与えられ、他入力にはパルス発
振器19からの例えば1MHZの発振パルス列が与
えられる。
アンド・ゲート18の出力は分周比調整可能な
分周器20に印加され、その出力はさらに、デジ
タル表示器22を制御するカウンタ21に与えら
れる。したがつてこのカウンタ21は、コンパレ
ータ17の出力信号Vcが高レベルにあるときに
アンド・ゲート18を通過するパルスの数を計数
する。
分周器20に印加され、その出力はさらに、デジ
タル表示器22を制御するカウンタ21に与えら
れる。したがつてこのカウンタ21は、コンパレ
ータ17の出力信号Vcが高レベルにあるときに
アンド・ゲート18を通過するパルスの数を計数
する。
第3図示の回路は、全体として、単位の測定時
間Tを定めるタイミング回路23で制御され、上
記のカウンタ21はこのタイミング回路23によ
り、当該単位の測定時間Tを経過するたびに零に
リセツトされる。したがつて明らかなように、デ
ジタル表示器22には単位の測定時間T中の接触
時間の比、すなわち接触時間率を例えばパーセン
ト表示で得ることができる。もちろん、こうした
場合には、当該測定時間Tや発振器9の発振周波
数は、仮に当該測定時間Tの間ずつと、信号VLP
が基準電圧Vref以下であつた場合、当該デジタル
表示器の読みが最大読み、例えば99.999(%)に
到達するように設定する。 単位の測定時間Tは
分周器20の分周比をスイツチS1の切換えによ
つて変更することで調整することもでき、各設定
した測定時間Tに関し、上記のように最大読みを
設定すべく、発振器19の発振周波数を調整する
こともできる。分周比可変調整による場合、単位
測定時間Tを長目に設定するときは分周比も大き
くする。
間Tを定めるタイミング回路23で制御され、上
記のカウンタ21はこのタイミング回路23によ
り、当該単位の測定時間Tを経過するたびに零に
リセツトされる。したがつて明らかなように、デ
ジタル表示器22には単位の測定時間T中の接触
時間の比、すなわち接触時間率を例えばパーセン
ト表示で得ることができる。もちろん、こうした
場合には、当該測定時間Tや発振器9の発振周波
数は、仮に当該測定時間Tの間ずつと、信号VLP
が基準電圧Vref以下であつた場合、当該デジタル
表示器の読みが最大読み、例えば99.999(%)に
到達するように設定する。 単位の測定時間Tは
分周器20の分周比をスイツチS1の切換えによ
つて変更することで調整することもでき、各設定
した測定時間Tに関し、上記のように最大読みを
設定すべく、発振器19の発振周波数を調整する
こともできる。分周比可変調整による場合、単位
測定時間Tを長目に設定するときは分周比も大き
くする。
また、先に述べたように、各単位の測定時間T
の経過後、カウンタないしタイマ21はタイミン
グ回路23により零に戻され、次の新たなる測定
時間Tにおける測定に備えられるが、表示器22
はもちろん、その表示が連続的に維持されるよう
にするのが望ましい。なお、ここでの説明のよう
に、玉軸受の潤滑に関して測定をなす場合には、
上記単位の測定時間Tは、当該玉軸受の一回転に
要する時間に一致させるべく図るのが一般的であ
る。
の経過後、カウンタないしタイマ21はタイミン
グ回路23により零に戻され、次の新たなる測定
時間Tにおける測定に備えられるが、表示器22
はもちろん、その表示が連続的に維持されるよう
にするのが望ましい。なお、ここでの説明のよう
に、玉軸受の潤滑に関して測定をなす場合には、
上記単位の測定時間Tは、当該玉軸受の一回転に
要する時間に一致させるべく図るのが一般的であ
る。
しかるに、油膜厚hとキヤパシタンスCbの電
極面を形成している表面の“しわ”の深さとの比
λが小さいとき、当該油膜の厚さhを測定する
と、理論的に予想される値よりも著しく薄い厚さ
が記録され得ることは既述した。
極面を形成している表面の“しわ”の深さとの比
λが小さいとき、当該油膜の厚さhを測定する
と、理論的に予想される値よりも著しく薄い厚さ
が記録され得ることは既述した。
従来の装置の場合、このような誤測定は修正の
術がないが、本発明においては、上記のように接
触時間率をも計測しているので、測定された油膜
厚hないしキヤパシタンスCbの値は、同時に別
途に測定されたこの接触時間率に鑑み、修正する
ことができる。どの位の接触時間率ならどの位、
油膜厚hを割り増しすれば良いか等の対応関係を
採ることができるのである。
術がないが、本発明においては、上記のように接
触時間率をも計測しているので、測定された油膜
厚hないしキヤパシタンスCbの値は、同時に別
途に測定されたこの接触時間率に鑑み、修正する
ことができる。どの位の接触時間率ならどの位、
油膜厚hを割り増しすれば良いか等の対応関係を
採ることができるのである。
第3図にはこうした修正に関し、自動化を図る
ための補償回路例も併せて示されている。
ための補償回路例も併せて示されている。
カウンタ21の出力に接触時間を得ることがで
きることは既述したが、この出力はさらに、補数
形成回路24にも与えられており、またこの補数
形成回路24の出力はデジタル−アナログ変換器
25でアナログ電圧に変換されている。
きることは既述したが、この出力はさらに、補数
形成回路24にも与えられており、またこの補数
形成回路24の出力はデジタル−アナログ変換器
25でアナログ電圧に変換されている。
そして、変換されたアナログ電圧信号は、適当
なる増幅器26により係数Aで増幅された後、当
該増幅器26の出力として逆数回路12を制御す
る。
なる増幅器26により係数Aで増幅された後、当
該増幅器26の出力として逆数回路12を制御す
る。
先に述べたように、この逆数回路12はロ−・
パス・フイルタ10の出力電圧VLPの逆数Vpを形
成するものであつたが、このようにすると当該逆
数Vp(=1/VLP)を修正し、したがつて出力信
号Vh,Vcbをも修正することができる。
パス・フイルタ10の出力電圧VLPの逆数Vpを形
成するものであつたが、このようにすると当該逆
数Vp(=1/VLP)を修正し、したがつて出力信
号Vh,Vcbをも修正することができる。
すなわち、接触時間率が大きくなる程(カウン
タ21の出力数値が大きくなる程)、逆数回路1
2の出力電圧Vpを、あらかじめ実験的に知つて
置いた所定量だけ低下させ、逆に接触時間率が短
くなる程、逆数回路12の出力電圧Vpを補正量
を少なくする方向とする。
タ21の出力数値が大きくなる程)、逆数回路1
2の出力電圧Vpを、あらかじめ実験的に知つて
置いた所定量だけ低下させ、逆に接触時間率が短
くなる程、逆数回路12の出力電圧Vpを補正量
を少なくする方向とする。
つまりこれは、逆数回路12の出力電圧Vpの
方から見ればその逆数(1/Vp)にあたる第4
図a図示のロ−・パス・フイルタの出力電圧VLP
で考えると、逆に接触時間率が大きくなる程、当
該アナログ電圧VLPに適当量の補正電圧値を加え
て行くことに等価となる。接触時間率が長くなる
程、例えば第4図aに示される電圧信号VLPの単
位時間中の平均電圧は低まるので、当該接触によ
る低下分を、そうした接触がない場合の値に近く
なるよう、全体的に補つてやるのである。上記の
補数形成回路24は、このように、逆数回路12
の出力電圧Vpに対し、接触時間率の長さの変化
とは逆方向に補正値の大小を変更する働きをして
おり、その上で、一対の金属表面が互いに直接に
接触したとき(ないし基準電位Vrefをロ−・パ
ス・フイルタの出力電圧VLPが下回るとき)に相
当する最大キヤパシタンス値Cbの値等にも応じ、
増幅器26に見込む増幅率Aの値や、当該基準電
圧Vrefの値はそれぞれ適当なるように設定され
る。
方から見ればその逆数(1/Vp)にあたる第4
図a図示のロ−・パス・フイルタの出力電圧VLP
で考えると、逆に接触時間率が大きくなる程、当
該アナログ電圧VLPに適当量の補正電圧値を加え
て行くことに等価となる。接触時間率が長くなる
程、例えば第4図aに示される電圧信号VLPの単
位時間中の平均電圧は低まるので、当該接触によ
る低下分を、そうした接触がない場合の値に近く
なるよう、全体的に補つてやるのである。上記の
補数形成回路24は、このように、逆数回路12
の出力電圧Vpに対し、接触時間率の長さの変化
とは逆方向に補正値の大小を変更する働きをして
おり、その上で、一対の金属表面が互いに直接に
接触したとき(ないし基準電位Vrefをロ−・パ
ス・フイルタの出力電圧VLPが下回るとき)に相
当する最大キヤパシタンス値Cbの値等にも応じ、
増幅器26に見込む増幅率Aの値や、当該基準電
圧Vrefの値はそれぞれ適当なるように設定され
る。
このような場合、逆数回路12は、次のような
出力電圧Vpを出力する三入力X、Y、Z間の演
算回路に置き換えても良い。
出力電圧Vpを出力する三入力X、Y、Z間の演
算回路に置き換えても良い。
Vp=10Y/9(Z/Y)m ………
ただし、この場合には増幅器26の出力は上記
のY入力に、またロ−・パス・フイルタ10の出
力は上記のX入力に接続し、Z入力には適当な基
準電圧を与え、またmも適当な値に設定する。
のY入力に、またロ−・パス・フイルタ10の出
力は上記のX入力に接続し、Z入力には適当な基
準電圧を与え、またmも適当な値に設定する。
なお、キヤパシタンスCbの両端電圧Vbには、
本装置の適正な作用を阻害する回路網周波数成分
が含まれることがある。これを除去するには、第
3図に示されているように、発振周波数に同調し
た帯域通過フイルタ27を用い、これを介した
後、復調器8に電圧Vbを供給するべく図れば良
く、またこうした場合には、発振器6の出力信号
に関しても、復調器8の入力信号との間に正しい
位相開係を保つように、同様の帯域通過フイルタ
28を設ければ良い。その他、本発明の要旨構成
に即する限り、種々の改変が可能である。
本装置の適正な作用を阻害する回路網周波数成分
が含まれることがある。これを除去するには、第
3図に示されているように、発振周波数に同調し
た帯域通過フイルタ27を用い、これを介した
後、復調器8に電圧Vbを供給するべく図れば良
く、またこうした場合には、発振器6の出力信号
に関しても、復調器8の入力信号との間に正しい
位相開係を保つように、同様の帯域通過フイルタ
28を設ければ良い。その他、本発明の要旨構成
に即する限り、種々の改変が可能である。
[効果]
以上詳記のように、本発明によると、一対の表
面の各々に形成され得る凹凸(“しわ”)の深さに
対し、それらの間の潤滑剤の膜厚の比λが小さく
(換言すれば“しわ”の方が深目であつて)、それ
ら両表面間が直接に接触する機会が多いがため
に、それら一対の表面間の一部の接触により、全
体としての潤滑膜厚の持つキヤパシタンスが理論
的に予想される値よりも大きな値のキヤパシタン
スとして誤測定されるような状況下、つまりは実
際に存在する潤滑膜厚に関し理論的に予期される
より薄い値の潤滑膜厚が測定されてしまいがちな
状況下においても、当該接触時間率をも測定して
いるので、十分に合理的な修正が可能であり、よ
り現実に即した膜厚測定が可能となる。
面の各々に形成され得る凹凸(“しわ”)の深さに
対し、それらの間の潤滑剤の膜厚の比λが小さく
(換言すれば“しわ”の方が深目であつて)、それ
ら両表面間が直接に接触する機会が多いがため
に、それら一対の表面間の一部の接触により、全
体としての潤滑膜厚の持つキヤパシタンスが理論
的に予想される値よりも大きな値のキヤパシタン
スとして誤測定されるような状況下、つまりは実
際に存在する潤滑膜厚に関し理論的に予期される
より薄い値の潤滑膜厚が測定されてしまいがちな
状況下においても、当該接触時間率をも測定して
いるので、十分に合理的な修正が可能であり、よ
り現実に即した膜厚測定が可能となる。
第1図は、玉軸受中に本発明によつて測定可能
となる測定対象のキヤパシタンスが存在すること
を示す説明図、第2図は本発明の一実施例の要部
概略構成図、第3図は同様に少し詳しく示した本
発明の実施例の概略構成図、第4図a,bは第3
図示装置中に接触時間に関して生じ得る信号波形
の説明図、である。 図中、1は玉軸受、2は玉、3は内輪、4は外
輪、5は全体としての本発明測定装置、8は潤滑
膜厚の変動によるキヤパシタンス変調成分を電圧
信号として表す復調器、9,16はマルチ・プラ
イヤ、10はロ−・パス・フイルタ、11は処理
回路、12,15は逆数回路、13は減算回路、
14は割算回路ないしデバイダ、17はコンパレ
ータ、18はアンド・ゲート、20は分周器、2
1はカウンタ、22は表示器、23はタイミング
回路、24は補数形成回路、25はデジタル−ア
ナログ変換器、26は増幅器、Cbは測定対象の
キヤパシタ、CVは当該キヤパシタCbに直列なコ
ンデンサ、Cpは浮遊容量、である。
となる測定対象のキヤパシタンスが存在すること
を示す説明図、第2図は本発明の一実施例の要部
概略構成図、第3図は同様に少し詳しく示した本
発明の実施例の概略構成図、第4図a,bは第3
図示装置中に接触時間に関して生じ得る信号波形
の説明図、である。 図中、1は玉軸受、2は玉、3は内輪、4は外
輪、5は全体としての本発明測定装置、8は潤滑
膜厚の変動によるキヤパシタンス変調成分を電圧
信号として表す復調器、9,16はマルチ・プラ
イヤ、10はロ−・パス・フイルタ、11は処理
回路、12,15は逆数回路、13は減算回路、
14は割算回路ないしデバイダ、17はコンパレ
ータ、18はアンド・ゲート、20は分周器、2
1はカウンタ、22は表示器、23はタイミング
回路、24は補数形成回路、25はデジタル−ア
ナログ変換器、26は増幅器、Cbは測定対象の
キヤパシタ、CVは当該キヤパシタCbに直列なコ
ンデンサ、Cpは浮遊容量、である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 相互に転動または摺動し、潤滑剤で潤滑され
る少なくとも一対の表面間の潤滑性を測定するた
め、間に上記潤滑剤を挟んだ該一対の表面の各々
をキヤパシタの各電極として、該キヤパシタに直
列に既知の値Cvのコンデンサを接続して容量分
圧器7を構成し、該容量分圧器7の両端に発振器
6からの所定周波数のAC電圧Vpscを印加するこ
とにより、上記キヤパシタの両端電圧Vbと上記
発振器出力電圧Vpscとから、そのときどきの上記
キヤパシタのキヤパシタンスCbを測定する装置
であつて; 一方の入力には上記発振器6の出力電圧Vpscを
受け、他方の入力には上記測定対象キヤパシタ
Cbの両端電圧Vbを受けると共に、出力はロ−・
パス・フイルタ10に接続したマルチ・プライヤ
9と; 上記ロ−・パス・フイルタ10の圧力を受け、
この出力電圧VLPの逆数Vpを形成する逆数回路1
2と; 該逆数回路12の出力電圧Vpから、第一の所
定の電圧値V1を減算する減算回路13と; 該減算回路13の出力電圧に基づき、既知の式
から上記潤滑剤膜厚hに対応する電圧信号Vhを
生成する演算回路15,16と; 上記ロ−・パス・フイルタ10の出力電圧VLP
を第二の所定電圧値Vrefと比較するコンパレータ
17と; 一入力には該コンパレータ17の出力を受け、
他入力にはパルス発振器19からのクロツク・パ
ルスを受けるアンド・ゲート18と; 該アンド・ゲート18の出力に接続したカウン
タ21と; 該カウンタ21に接続したデジタル表示器22
と; 所定の単位測定時間Tを経過するごとに上記カ
ウンタ21をリセツトするタイミング回路23
と; を有し、上記第二の所定電圧値Vref、上記単位
測定時間T、及び上記クロツク・パルスの周波数
は、該単位測定時間T内にあつて上記少なくとも
一対の表面間が直接に接触していた時間の割り合
いに比例した数のパルスが上記カウンタ21内に
て計数されるように設定されていること; を特徴とする、相互に転動または摺動し潤滑剤
で潤滑される表面間の潤滑性測定装置。 2 特許請求の範囲1に記載の装置であつて; カウンタ21の出力は補償回路24,25,2
6に接続され、該補償回路24,25,26は、
該カウンタ21の出力に数値として得られ、上記
少なくとも一対の表面間が上記単位測定時間T内
において上記直接に接触していた時間が長くなる
程、逆数回路12の出力を減少させることを特徴
とする装置。 3 特許請求の範囲2に記載の装置であつて; 減算回路13の出力を一入力に受け、他入力に
は第三のDC所定電圧値V2を受けて、該第三の
所定電圧値V2で該減算回路13の出力電圧を除
することにより、出力に上記少なくとも一対の表
面間に得られるキヤパシタンスCbに対応した電
圧値Vcbを得るデバイダ14をさらに有すること
を特徴とする装置。。 4 特許請求の範囲1から3までのいずれか一つ
に記載の装置であつて; アンド・ゲート18の出力は分周器20を介し
てカウンタ21に与えられ、上記単位測定時間T
を長く調整した場合には該分周器20の分周比を
大きくすることを特徴とする装置。 5 特許請求の範囲1から4までのいずれか一つ
に記載の装置であつて; 上記少なくとも一対の表面を各電極として構成
されるキヤパシタの両端電圧Vbは、発振器6の
発振周波数に同調した帯域通過フイルタ27を介
してマルチ・プライヤ9に与えられることを特徴
とする装置。 6 特許請求の範囲5に記載の装置であつて; 発振器6の出力も、該発振器6の発振周波数に
同調した第二の帯域通過フイルタ28を介してマ
ルチ・プライヤ9に与えられることを特徴とする
装置。 7 特許請求の範囲2に記載の装置であつて; 補償回路24,25,26は、 上記少なくとも一対の表面間が上記単位測定時
間T内において上記直接に接触していた時間を表
すカウンタ21の出力数値に対し、その補数を出
力する補数形成回路24と、 該補数をデジタル−アナログ変換する変換器2
5と、 該変換アナログ電圧を増幅して上記逆数回路1
2への補償信号とする増幅器26と、から成つて
いることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7905026A NL7905026A (nl) | 1979-06-28 | 1979-06-28 | Inrichting voor het meten van de smering van door een smeermiddel gesmeerde, ten opzichte van elkaar rollende of glijdende oppervlakken. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5631632A JPS5631632A (en) | 1981-03-31 |
| JPH0133773B2 true JPH0133773B2 (ja) | 1989-07-14 |
Family
ID=19833439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8671880A Granted JPS5631632A (en) | 1979-06-28 | 1980-06-27 | Device for measuring lubrication between relatively rotating or sliding lubricated surfaces |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0021524B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5631632A (ja) |
| DE (1) | DE3070699D1 (ja) |
| ES (1) | ES492857A0 (ja) |
| NL (1) | NL7905026A (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8101310A (nl) * | 1981-03-18 | 1982-10-18 | Skf Ind Trading & Dev | Inrichting voor het meten van de variatie van een capacitieve impedantie, waarvan het dielektricum wordt gevormd door een smeermiddel. |
| JPS57186841U (ja) * | 1981-05-22 | 1982-11-27 | ||
| NL8103161A (nl) * | 1981-06-30 | 1983-01-17 | Skf Ind Trading & Dev | Meetsysteem voor het meten van de variatie van de capacitieve impedantie van een in een huis gemonteerd lager . |
| US4528852A (en) * | 1982-10-21 | 1985-07-16 | Spm Instruments U.S. Inc. | Method and instrument for determining the condition of an operating bearing |
| NL8204995A (nl) * | 1982-12-27 | 1984-07-16 | Skf Ind Trading & Dev | Inrichting voor het detecteren van een fouttoestand bij ten opzichte van elkaar rollende of glijdende, door een smeermiddel gesmeerde oppervlakken. |
| DE3338420C2 (de) * | 1983-10-22 | 1985-11-07 | Schaller-Automation Industrielle Automationstechnik KG, 6653 Blieskastel | Verfahren zur Überwachung von Schmierstellen |
| NL8401112A (nl) * | 1984-04-06 | 1985-11-01 | Skf Ind Trading & Dev | Inrichting voor het bepalen van de smeringstoestand bij ten opzichte van elkaar rollende of glijdende, door een smeermiddel gesmeerde oppervlakken. |
| AT391014B (de) * | 1985-09-09 | 1990-08-10 | Voest Alpine Ag | Verfahren zur ueberwachung eines ein stroemendes medium enthaltenden systems, beispielsweise eines schmierungssystems und schaltungsanordnung zur druchfuehrung des verfahrens |
| NL8502876A (nl) * | 1985-10-22 | 1987-05-18 | Skf Ind Trading & Dev | Inrichting voor het meten van de effectieve viscositeit van een smeermiddel. |
| AT398844B (de) * | 1988-04-18 | 1995-02-27 | Franek Friedrich Dipl Ing Dr | Einrichtung zur messung eines abstandes zwischen relativ zueinander bewegten elementen |
| DE50000760C5 (de) * | 1999-04-22 | 2011-04-14 | Schaller-Automation Industrielle Automationstechnik Kg | Verfahren und einrichtung zur überwachung von gleitlagern einer hubkolben-maschine, insbesondere eines verbrennungsmotors |
| GB2357556B (en) | 1999-12-24 | 2002-11-06 | Univ Central Lancashire | Lubrication control system |
| NL1024450C2 (nl) * | 2003-10-03 | 2005-04-05 | Skf Ab | Werkwijze en inrichting voor het meten van de dikte van een smeerlaag tussen oppervlakken. |
| JP5338147B2 (ja) * | 2008-06-10 | 2013-11-13 | 株式会社Ihi | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
| DE102009036228B4 (de) * | 2009-08-05 | 2011-06-30 | Mehnert, Jens, Dr., 08468 | Verfahren und Vorrichtung zur belastungsorientierten Schmierung von tribologischen Systemen |
| DE102016102931B4 (de) | 2016-02-19 | 2018-09-20 | Dieffenbacher GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung und/oder Regelung eines Schmierzustandes in einer kontinuierlich arbeitenden Presse |
| DE202016100878U1 (de) | 2016-02-19 | 2017-04-21 | Dieffenbacher GmbH Maschinen- und Anlagenbau | Vorrichtung zur Überwachung und/oder Regelung eines Schmierzustandes in einer kontinuierlich arbeitenden Presse |
| US10429373B2 (en) * | 2017-01-06 | 2019-10-01 | Nsk Ltd. | Method for diagnosing rolling device |
| JP6729633B2 (ja) * | 2018-06-04 | 2020-07-22 | 日本精工株式会社 | 転動装置の診断方法 |
| DE102019107137B3 (de) * | 2019-03-20 | 2020-05-20 | Siempelkamp Maschinen- Und Anlagenbau Gmbh | Vorrichtung zur Überwachung des Schmierzustandes eines mit einem Schmiermittel beaufschlagten umlaufenden Bandes |
| DE102024108031B3 (de) * | 2024-03-20 | 2025-07-10 | Flucon Fluid Control Gmbh | Verfahren zur Ermittlung der Schmierfilmdicke zwischen zwei sich gegeneinander bewegenden Lagerpartnern sowie Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3000101A (en) * | 1956-04-30 | 1961-09-19 | Giardino Loris | Electromechanical measuring apparatus |
| CH399963A (de) * | 1962-05-22 | 1965-09-30 | Bbc Brown Boveri & Cie | Vorrichtung zum Überwachen von Lagern |
-
1979
- 1979-06-28 NL NL7905026A patent/NL7905026A/nl not_active Application Discontinuation
-
1980
- 1980-06-17 EP EP80200568A patent/EP0021524B1/en not_active Expired
- 1980-06-17 DE DE8080200568T patent/DE3070699D1/de not_active Expired
- 1980-06-27 ES ES492857A patent/ES492857A0/es active Granted
- 1980-06-27 JP JP8671880A patent/JPS5631632A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES8103838A1 (es) | 1981-03-16 |
| JPS5631632A (en) | 1981-03-31 |
| NL7905026A (nl) | 1980-12-30 |
| EP0021524B1 (en) | 1985-05-29 |
| DE3070699D1 (en) | 1985-07-04 |
| ES492857A0 (es) | 1981-03-16 |
| EP0021524A1 (en) | 1981-01-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0133773B2 (ja) | ||
| JPS6253762B2 (ja) | ||
| JPS6226688B2 (ja) | ||
| JP3233791B2 (ja) | 差動容量反転積分器及びこれを用いた静電容量変化量検出装置 | |
| JP2717011B2 (ja) | 容量性圧力センサと差圧センサの温度補償用回路装置 | |
| US4345203A (en) | Device for measuring the lubrication of surfaces rolling or sliding relative to each other and lubricated with a lubricant | |
| Sequeira et al. | Fuel level detector | |
| RU2314544C1 (ru) | Измеритель параметров диссипативных cg-двухполюсников | |
| JPS6182103A (ja) | 帰還増幅型静電容量計 | |
| SU1767451A1 (ru) | Измерительный преобразователь с емкостным датчиком | |
| SU1647272A1 (ru) | Емкостный компенсационный уровнемер | |
| SU966488A1 (ru) | Измеритель толщины полимерных пленок | |
| SU1124178A1 (ru) | Измеритель толщины полимерных пленок | |
| JPH04104013A (ja) | 電磁流量計 | |
| SU1041967A1 (ru) | Устройство дл регистрации параметров МДП-структур | |
| SU373657A1 (ru) | Измерительная схема для дифференциальных преобразователей | |
| JP3708788B2 (ja) | 流体量検知装置及びインク量検知装置 | |
| JPH01285867A (ja) | 電圧測定回路 | |
| KR20000000362A (ko) | 미세 거리/위치 측정용 정전 용량형 센서 콘트롤러의비선형성 보정장치 | |
| JP2991798B2 (ja) | 静電容量型測長器 | |
| JPS5846686B2 (ja) | 変位計 | |
| SU842395A1 (ru) | Устройство дл бесконтактного контро-л диАМЕТРА пРОВОдА | |
| JPH0464001A (ja) | 静電容量型測長器 | |
| JP2729322B2 (ja) | 静電容量型測長器 | |
| JPS6237725A (ja) | 座標検出装置 |