JPH0134371B2 - - Google Patents
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- JPH0134371B2 JPH0134371B2 JP57125206A JP12520682A JPH0134371B2 JP H0134371 B2 JPH0134371 B2 JP H0134371B2 JP 57125206 A JP57125206 A JP 57125206A JP 12520682 A JP12520682 A JP 12520682A JP H0134371 B2 JPH0134371 B2 JP H0134371B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
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- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/733—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はホログラムを作成するのに有用な記録
媒体に関する。特に、本発明はスペクトルの赤外
領域の記録光を用いた場合に有用な記録媒体に関
する。
媒体に関する。特に、本発明はスペクトルの赤外
領域の記録光を用いた場合に有用な記録媒体に関
する。
背景技術
750nｍ以上の波長に応答するホログラフイ材
料は少しの型しか存在しない。しかもこれまでに
知られている材料の多くは空間的分解能が低い。
従つてGaAlAsレーザ（800〜850nｍ）、Nd：
YAGレーザ又はNb：ガラスレーザ（1.06μｍ）
又はGaInAsPレーザ（1.2〜1.6μｍ）等の重要な
長波長レーザと共に、高品質のホログラフイ光学
素子を用いる事はできなかつた。750nｍよりも
短い波長における１光子ホログラフイのための従
来技術の有機ホログラフイ記録材料の使用は、
A.A.Friesen外、Appl. Opt.16、427、（1977）及
びA.Bloom外、Appl.Phys.Lett.24、612（1974）
の刊行物に示されている。また通常のハロゲン化
銀フイルムを用いた、748nｍの波長における１
光子ホログラフイはK.Tatsuno外、Appl.Opt.19、
2096（1980）に示されている。
料は少しの型しか存在しない。しかもこれまでに
知られている材料の多くは空間的分解能が低い。
従つてGaAlAsレーザ（800〜850nｍ）、Nd：
YAGレーザ又はNb：ガラスレーザ（1.06μｍ）
又はGaInAsPレーザ（1.2〜1.6μｍ）等の重要な
長波長レーザと共に、高品質のホログラフイ光学
素子を用いる事はできなかつた。750nｍよりも
短い波長における１光子ホログラフイのための従
来技術の有機ホログラフイ記録材料の使用は、
A.A.Friesen外、Appl. Opt.16、427、（1977）及
びA.Bloom外、Appl.Phys.Lett.24、612（1974）
の刊行物に示されている。また通常のハロゲン化
銀フイルムを用いた、748nｍの波長における１
光子ホログラフイはK.Tatsuno外、Appl.Opt.19、
2096（1980）に示されている。
また４準位２光子ホログラフイが、特願昭56−
156314号に説明されている。しかしながら、上記
特許出願も、他の従来技術も、本発明のα−ジケ
トン材料については全く言及していない。
156314号に説明されている。しかしながら、上記
特許出願も、他の従来技術も、本発明のα−ジケ
トン材料については全く言及していない。
発明の開示
本発明によれば、600〜1100nｍの波長の光と
共に使用される、自己現像性（ここで、自己現像
性とは、ホログラムを現像するための光照射後の
特別の後工程例えば溶媒に浸す工程等が不要であ
り、光照射だけでホログラムが形成される性質を
いう。）の漂白不可能（ここで、漂白不可能とは、
ホログラムが一旦形成された後には、後に光照射
されても、ホログラムは破壊されずに残ることを
いう。）なホログラフイ媒体が得られる。この媒
体は上記波長の範囲内において透明なポリマーの
母材及び上記母材内に一様に分散した、母材とは
非反応性のα−ジケトンを用いる。
共に使用される、自己現像性（ここで、自己現像
性とは、ホログラムを現像するための光照射後の
特別の後工程例えば溶媒に浸す工程等が不要であ
り、光照射だけでホログラムが形成される性質を
いう。）の漂白不可能（ここで、漂白不可能とは、
ホログラムが一旦形成された後には、後に光照射
されても、ホログラムは破壊されずに残ることを
いう。）なホログラフイ媒体が得られる。この媒
体は上記波長の範囲内において透明なポリマーの
母材及び上記母材内に一様に分散した、母材とは
非反応性のα−ジケトンを用いる。
本発明に従つて記録媒体を作れば、赤外領域の
光を用いてホログラムを得ることが可能である。
さらに、これらのホログラムは自己現像性であり
且つ漂白不可能である。記録過程は、書込レーザ
の波長からかなりずれたスペクトル領域の放射を
発生する補助ランプ又は補助レーザを用いて、ゲ
ート・オフ及びゲート・オンできる。本発明に従
つて作成されたホログラムは752nｍにおいて10
％以上の効率を有する。
光を用いてホログラムを得ることが可能である。
さらに、これらのホログラムは自己現像性であり
且つ漂白不可能である。記録過程は、書込レーザ
の波長からかなりずれたスペクトル領域の放射を
発生する補助ランプ又は補助レーザを用いて、ゲ
ート・オフ及びゲート・オンできる。本発明に従
つて作成されたホログラムは752nｍにおいて10
％以上の効率を有する。
本発明で用いるために、ポリマー材料は600〜
1100nｍの範囲内の光に対して透明である事が必
要である。多くのそのようなポリマー材料が知ら
れている。特に有用なものは、ポリメタクリル酸
メチルであり、最も好ましい材料はα−メチル・
シアノアクリレート、α−エチル・シアノアクリ
レート又はα−イソブチル・シアノアクリレート
等のポリシアノアクリレートである。
1100nｍの範囲内の光に対して透明である事が必
要である。多くのそのようなポリマー材料が知ら
れている。特に有用なものは、ポリメタクリル酸
メチルであり、最も好ましい材料はα−メチル・
シアノアクリレート、α−エチル・シアノアクリ
レート又はα−イソブチル・シアノアクリレート
等のポリシアノアクリレートである。
本発明によれば、ホスト・ポリマー内に一様に
α−ジケトンが分散している。（α−ジケトンと
いう表現は普通の意味で用いられており、単結合
によつて接続された２個の炭素原子の各々にケト
ン基を有する化合物を意味する。）有用なα−ジ
ケトンとしてはカンフアーキノン、ベンジルなど
があり、最も好ましい物質はビアセチルである。
α−ジケトンは母材と化学的に反応すべきでない
が、母材中に一様に分散される事が可能でなけれ
ばならない。
α−ジケトンが分散している。（α−ジケトンと
いう表現は普通の意味で用いられており、単結合
によつて接続された２個の炭素原子の各々にケト
ン基を有する化合物を意味する。）有用なα−ジ
ケトンとしてはカンフアーキノン、ベンジルなど
があり、最も好ましい物質はビアセチルである。
α−ジケトンは母材と化学的に反応すべきでない
が、母材中に一様に分散される事が可能でなけれ
ばならない。
ホログラフイ記録過程は、450nｍよりも短か
い波長範囲のランプ又はレーザからの光によつて
ゲート・オン又はオフされる。この光は最低の１
重項状態を励起する。実際の記録は、３重項−３
重項吸収及び最終的に非可逆的な光化学反応を起
こす２つの干渉ビームによつて行なわれる。これ
らの干渉ビームは600〜1100nｍの波長範囲にあ
る。
い波長範囲のランプ又はレーザからの光によつて
ゲート・オン又はオフされる。この光は最低の１
重項状態を励起する。実際の記録は、３重項−３
重項吸収及び最終的に非可逆的な光化学反応を起
こす２つの干渉ビームによつて行なわれる。これ
らの干渉ビームは600〜1100nｍの波長範囲にあ
る。
ポリマー母材中のα−ジケトンの初期の濃度は
約0.5乃至約30重量％の濃度範囲内にあるべきで
ある。一般に、この濃度は10〜20重量％の範囲内
にある事が最も好ましい。正確な最適の濃度は、
ホログラフイ材料の厚さ及びホログラムの作成に
用いる波長に依存する。
約0.5乃至約30重量％の濃度範囲内にあるべきで
ある。一般に、この濃度は10〜20重量％の範囲内
にある事が最も好ましい。正確な最適の濃度は、
ホログラフイ材料の厚さ及びホログラムの作成に
用いる波長に依存する。
752nｍのレーザ放射を用いたホログラフイ記
録が、シアノアクリレート母材中に含まれるカン
フアーキノン、ベンジル及びビアセチルを用いて
実施された。また752nｍのレーザ光を用いたホ
ログラフイ記録が、シアノアクリレート、メチ
ル・シアノアクリレート、エチル・シアノアクリ
レート、イソブチル・シアノアクリレート及びポ
リメタクリル酸メチル母材中に含まれるビアセチ
ルを用いて実施された。さらに1064nｍのレーザ
放射を用いたホログラフイ記録がシアノアクリレ
ート母材中に含まれたビアセチルを用いて実施さ
れた。752nｍのレーザ放射及び800μｍの厚さの
シアノアクリレート中の20重量％のビアセチルか
ら成る試料を用いた時、20％のホログラム回折効
率が得られた。
録が、シアノアクリレート母材中に含まれるカン
フアーキノン、ベンジル及びビアセチルを用いて
実施された。また752nｍのレーザ光を用いたホ
ログラフイ記録が、シアノアクリレート、メチ
ル・シアノアクリレート、エチル・シアノアクリ
レート、イソブチル・シアノアクリレート及びポ
リメタクリル酸メチル母材中に含まれるビアセチ
ルを用いて実施された。さらに1064nｍのレーザ
放射を用いたホログラフイ記録がシアノアクリレ
ート母材中に含まれたビアセチルを用いて実施さ
れた。752nｍのレーザ放射及び800μｍの厚さの
シアノアクリレート中の20重量％のビアセチルか
ら成る試料を用いた時、20％のホログラム回折効
率が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 600〜1100nｍの波長領域の光を用いた場合
に有用な、自己現像性の漂白不可能なホログラフ
イのための記録媒体であつて、上記波長領域で透
明なポリマー母材と、上記ポリマー母材中に一様
に分散した、上記母材とは反応しないα−ジケト
ンとを含む記録媒体。 ２ 上記α−ジケトンがビアセチルである特許請
求の範囲第１項記載の記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/316,156 US4431259A (en) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | Holographic recording media for infrared light |
| US316156 | 1994-09-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5880635A JPS5880635A (ja) | 1983-05-14 |
| JPH0134371B2 true JPH0134371B2 (ja) | 1989-07-19 |
Family
ID=23227742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57125206A Granted JPS5880635A (ja) | 1981-10-28 | 1982-07-20 | ホログラフイ用記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4431259A (ja) |
| EP (1) | EP0077905B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5880635A (ja) |
| DE (1) | DE3268139D1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59205942A (ja) * | 1983-05-09 | 1984-11-21 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | コ−ヒ−の保存方法 |
| JPS59205944A (ja) * | 1983-05-09 | 1984-11-21 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | コ−ヒ−の保存方法 |
| GB8608279D0 (en) * | 1986-04-04 | 1986-05-08 | Ciba Geigy Ag | Holographic assembly |
| US6624915B1 (en) * | 2000-03-16 | 2003-09-23 | Science Applications International Corporation | Holographic recording and micro/nanofabrication via ultrafast holographic two-photon induced photopolymerization (H-TPIP) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3951663A (en) * | 1973-10-04 | 1976-04-20 | Rca Corporation | Organic volume phase holographic recording media comprising an α di-ketone |
| US3926637A (en) * | 1973-10-04 | 1975-12-16 | Rca Corp | Permanent organic volume phase holographic recording medium |
| US4069049A (en) * | 1974-12-02 | 1978-01-17 | Yeda Research & Development Co., Ltd. | Process for recording holographic information |
| US4022618A (en) * | 1975-04-10 | 1977-05-10 | Rca Corporation | Method for desensitizing recorded organic volume phase holographic recording media |
| DE2542680C3 (de) * | 1975-09-25 | 1981-04-09 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zum Aufzeichnen von Informationen |
| US4049459A (en) * | 1976-02-26 | 1977-09-20 | Rca Corporation | Organic volume phase holographic recording medium |
-
1981
- 1981-10-28 US US06/316,156 patent/US4431259A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-07-20 JP JP57125206A patent/JPS5880635A/ja active Granted
- 1982-09-08 DE DE8282108254T patent/DE3268139D1/de not_active Expired
- 1982-09-08 EP EP82108254A patent/EP0077905B1/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4431259A (en) | 1984-02-14 |
| EP0077905A1 (en) | 1983-05-04 |
| EP0077905B1 (en) | 1985-12-27 |
| JPS5880635A (ja) | 1983-05-14 |
| DE3268139D1 (en) | 1986-02-06 |
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