JPH0134938B2 - - Google Patents
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- JPH0134938B2 JPH0134938B2 JP59237669A JP23766984A JPH0134938B2 JP H0134938 B2 JPH0134938 B2 JP H0134938B2 JP 59237669 A JP59237669 A JP 59237669A JP 23766984 A JP23766984 A JP 23766984A JP H0134938 B2 JPH0134938 B2 JP H0134938B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cladding
- gas
- core material
- core
- tube
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/15—Nonoxygen containing chalogenides
- Y10S65/16—Optical filament or fiber treatment with fluorine or incorporating fluorine in final product
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/90—Drying, dehydration, minimizing oh groups
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は低損失な光フアイバ用母材の製造方法
に関する。
に関する。
（従来の技術）
光フアイバ用母材の製造方法において、クラツ
ド材となる管の中にクラツド材よりも高屈折率な
コア用ガラスロツドを挿入し、加熱し、中実化し
て光フアイバ用母材を製造するロツドインチユー
ブ法は代表的な製造方法として知られている。
ド材となる管の中にクラツド材よりも高屈折率な
コア用ガラスロツドを挿入し、加熱し、中実化し
て光フアイバ用母材を製造するロツドインチユー
ブ法は代表的な製造方法として知られている。
しかし、この方法はコア材とクラツド材の界面
に欠陥（気泡、不純物等）が残り易く、光フアイ
バとした時に、光損失が大きく現れるという欠点
があつた。これを解決する方法として、特公昭59
−6261、特公昭58−52935各号公報において、コ
ア材とクラツド材との溶着・中実化前に、管とロ
ツドとの間隙に気相処理剤を流し、コア材が変形
しない温度500〜1600℃の範囲にて加熱前処理す
る方法が提案されている。
に欠陥（気泡、不純物等）が残り易く、光フアイ
バとした時に、光損失が大きく現れるという欠点
があつた。これを解決する方法として、特公昭59
−6261、特公昭58−52935各号公報において、コ
ア材とクラツド材との溶着・中実化前に、管とロ
ツドとの間隙に気相処理剤を流し、コア材が変形
しない温度500〜1600℃の範囲にて加熱前処理す
る方法が提案されている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら上記各公報記載の方法により、光
の波長1μｍ以上の領域で使用される長波長用シ
ングルモードフアイバを作製したところ、OH基
の含有量が大きく、1.2μｍ以上の長波長帯では
1dB／Km以下の低損失な値は到底得られない、と
いう結果が得られた。
の波長1μｍ以上の領域で使用される長波長用シ
ングルモードフアイバを作製したところ、OH基
の含有量が大きく、1.2μｍ以上の長波長帯では
1dB／Km以下の低損失な値は到底得られない、と
いう結果が得られた。
本発明者らが、上記各公報に記載される従来の
プロセスを詳細に検討、研究したところ、OH基
の汚染源は、コア用ロツド表面とクラツド材の内
部表面に化学的吸着している水分、および加熱中
実時のコア材とクラツド材の間隙の雰囲気中に含
まれる水分であつて、これら水分が取り込まれ、
光フアイバのコアとクラツド境界近傍にOH基を
形成し、それが拡散することが判明した。
プロセスを詳細に検討、研究したところ、OH基
の汚染源は、コア用ロツド表面とクラツド材の内
部表面に化学的吸着している水分、および加熱中
実時のコア材とクラツド材の間隙の雰囲気中に含
まれる水分であつて、これら水分が取り込まれ、
光フアイバのコアとクラツド境界近傍にOH基を
形成し、それが拡散することが判明した。
本発明の目的は、上述した従来法の欠点を除去
し、長波長帯において低損失な光フアイバを得る
改良されたロツドインチユーブ法による光フアイ
バ用母材の製造方法を提供することである。
し、長波長帯において低損失な光フアイバを得る
改良されたロツドインチユーブ法による光フアイ
バ用母材の製造方法を提供することである。
（問題点を解決するための手段）
すなわち本発明は、ガラスロツドをコア材と
し、該コア材より低屈折率を有するクラツド材の
中に上記コア材を挿入して加熱することにより、
上記コア材と上記クラツド材との間隙を中実化し
て光フアイバ用母材を製造する方法において、ク
ラツド材にコア材を挿入した状態で、該クラツド
材と該コア材の間〓に少なくとも１種以上のハロ
ゲンガスを含むガスを流しつつ、該クラツド材と
該コア材の一方の端部を融着密閉するとともに、
これとは反対側の端に接続されたガス供給配管に
分岐して接続するバルブから該クラツド管内に流
していたガスの圧力を適宜抜くことにより、該コ
ア材と該クラツド材の間〓を少なくとも１種以上
のハロゲンガスを含有する雰囲気で、しかも該ク
ラツド材内の圧力を温度1900℃以下で該コア材と
該クラツド材の融着が起こらない圧力に調整し、
この状態で温度1900℃以上に加熱して中実化する
ことを特徴とする光フアイバ用母材の製造方法で
ある。
し、該コア材より低屈折率を有するクラツド材の
中に上記コア材を挿入して加熱することにより、
上記コア材と上記クラツド材との間隙を中実化し
て光フアイバ用母材を製造する方法において、ク
ラツド材にコア材を挿入した状態で、該クラツド
材と該コア材の間〓に少なくとも１種以上のハロ
ゲンガスを含むガスを流しつつ、該クラツド材と
該コア材の一方の端部を融着密閉するとともに、
これとは反対側の端に接続されたガス供給配管に
分岐して接続するバルブから該クラツド管内に流
していたガスの圧力を適宜抜くことにより、該コ
ア材と該クラツド材の間〓を少なくとも１種以上
のハロゲンガスを含有する雰囲気で、しかも該ク
ラツド材内の圧力を温度1900℃以下で該コア材と
該クラツド材の融着が起こらない圧力に調整し、
この状態で温度1900℃以上に加熱して中実化する
ことを特徴とする光フアイバ用母材の製造方法で
ある。
本発明の方法においては、1900℃以上の高温ハ
ロゲンガス雰囲気中にて加熱されるため、従来法
では不可欠であつた弗酸等を用いる超音波洗浄等
のような特殊な前処理は要せず、したがつて製造
プロセスは簡略化され、再現性良く低損失な光フ
アイバが得られるのみならず、製造コストが低減
できる利点をも有している。
ロゲンガス雰囲気中にて加熱されるため、従来法
では不可欠であつた弗酸等を用いる超音波洗浄等
のような特殊な前処理は要せず、したがつて製造
プロセスは簡略化され、再現性良く低損失な光フ
アイバが得られるのみならず、製造コストが低減
できる利点をも有している。
本発明方法に用いられるハロゲンガスとして
は、例えばフツ素系ガスSF6、CCl2F2、CF4、
SiF4、NF3、F2等あるいは塩素系ガスCl2、
SOCl2等が挙げられる。
は、例えばフツ素系ガスSF6、CCl2F2、CF4、
SiF4、NF3、F2等あるいは塩素系ガスCl2、
SOCl2等が挙げられる。
以下に本発明の方法を具体的に説明する。
第１図ａおよびｂは本発明の１実施態様を説明
する図であつて、図中１１はガラス旋盤、１２は
クラツド用管、１３はコア材、１４は支持材、１
５はガス導入ライン、１６は回転コネクター、１
７はバルブ、１８は加熱源、１９は廃ガス処理装
置をあらわす。
する図であつて、図中１１はガラス旋盤、１２は
クラツド用管、１３はコア材、１４は支持材、１
５はガス導入ライン、１６は回転コネクター、１
７はバルブ、１８は加熱源、１９は廃ガス処理装
置をあらわす。
まず、クラツド用管１２の管内壁表面を平滑に
し、該表面に付着している不純物を除去するため
に、クラツド用管１２内にフツ素系ガス例えば
SF6、CCl2F2、CF4、SiF4、NF3、F2等を含有す
るガスライン１５より導入し、加熱することによ
り、管の内表面をエツチングする。
し、該表面に付着している不純物を除去するため
に、クラツド用管１２内にフツ素系ガス例えば
SF6、CCl2F2、CF4、SiF4、NF3、F2等を含有す
るガスライン１５より導入し、加熱することによ
り、管の内表面をエツチングする。
この時にフツ素系ガスとしてBF3、PF3を用い
ることは、ガラス表面にB2O3、P2O5として取り
込まれ、長波長帯での吸収損失要因となるため、
望ましくない。
ることは、ガラス表面にB2O3、P2O5として取り
込まれ、長波長帯での吸収損失要因となるため、
望ましくない。
さらにフツ素系ガスにCl2、SOCl2等の塩素系
ガスを含有せしめておけば、ガス中に含まれる水
分が、HClに変換され、ガラス内に取り込まれ難
くなる。
ガスを含有せしめておけば、ガス中に含まれる水
分が、HClに変換され、ガラス内に取り込まれ難
くなる。
次にクラツド用管１２内のガスを塩素系ガス例
えばCl2、SOCl2等に切換え、クラツド用管１２
内部にコア用ガラスロツド（コア材）１３を挿入
する。この時の塩素系ガス濃度は本発明者らの実
験結果からは、３％以上、特に好ましくは10％以
上とすることが有効であつた。またヘリウムガス
を塩素系ガスと混合すると、管内に挿入されたコ
ア材１３の表面温度が上がりやすく、また、中実
化時に気泡の残留が少なく有効であつた。
えばCl2、SOCl2等に切換え、クラツド用管１２
内部にコア用ガラスロツド（コア材）１３を挿入
する。この時の塩素系ガス濃度は本発明者らの実
験結果からは、３％以上、特に好ましくは10％以
上とすることが有効であつた。またヘリウムガス
を塩素系ガスと混合すると、管内に挿入されたコ
ア材１３の表面温度が上がりやすく、また、中実
化時に気泡の残留が少なく有効であつた。
塩素系ガスをクラツド用管１２とコア材１３の
間隙に流した状態で、管の一方の端を第１図ｂに
示す如く、管を回転させながら加熱源１８にて加
熱し融着する。この時にバルブ１７を融着寸前に
開状態とし、クラツド用管１２内の圧力が上昇し
ないようにする。
間隙に流した状態で、管の一方の端を第１図ｂに
示す如く、管を回転させながら加熱源１８にて加
熱し融着する。この時にバルブ１７を融着寸前に
開状態とし、クラツド用管１２内の圧力が上昇し
ないようにする。
このようにクラツド用管１２とコア材１３の間
隙に塩素系ガスを充填した状態で、回転する管１
２に沿つて加熱源１８を移動させることにより、
上記間隙を中実化してゆく。
隙に塩素系ガスを充填した状態で、回転する管１
２に沿つて加熱源１８を移動させることにより、
上記間隙を中実化してゆく。
この時、ロツド表面の汚れ、ロツド挿入時に発
生する管内壁上の接触きずおよびロツド表面に化
学吸着されている水分を塩素系ガスにより除去す
るために、加熱温度を1900℃以上にすることが必
要である。
生する管内壁上の接触きずおよびロツド表面に化
学吸着されている水分を塩素系ガスにより除去す
るために、加熱温度を1900℃以上にすることが必
要である。
中実化時・廃ガス処理装置１９によつて減圧
し、管１３内の圧力を減圧することも可能である
が、減圧する際に、加熱温度が1900℃以下で中実
化しないような圧力範囲に設定することが必要で
ある。
し、管１３内の圧力を減圧することも可能である
が、減圧する際に、加熱温度が1900℃以下で中実
化しないような圧力範囲に設定することが必要で
ある。
さらに中実化時の塩素系ガス雰囲気に、フツ素
系ガス例えばSF6、CCl2F2、CF4、SiF4、NF3、
F2等を添加しておいてもよい。このフツ素系ガ
スの添加により、フツ素による表面エツチが生
じ、コア材表面の異物、不純物、接触きず等の除
去効果を得られる。もし1900℃以下の低温にてフ
ツ素系ガスを含む雰囲気にて加熱するならば、コ
ア母材１３の表面荒れ（すりガラス状）が生じ、
散乱損失の要因となる。
系ガス例えばSF6、CCl2F2、CF4、SiF4、NF3、
F2等を添加しておいてもよい。このフツ素系ガ
スの添加により、フツ素による表面エツチが生
じ、コア材表面の異物、不純物、接触きず等の除
去効果を得られる。もし1900℃以下の低温にてフ
ツ素系ガスを含む雰囲気にて加熱するならば、コ
ア母材１３の表面荒れ（すりガラス状）が生じ、
散乱損失の要因となる。
以上により、コア用ロツドとクラツド用管とを
中実化して得られたプリフオームは、そのままで
光フアイバ用母材として線引炉に送られてよい
が、場合によれば、クラツド／コア径比の調整の
ために、さらに石英管あるいは、ドープされた石
英管にてジヤケツトされた後、線引炉に送られ、
光フアイバとされる。なお以上の説明ではフツ素
系ガスによるエツチング後塩素系ガスを用いる場
合について行つたが、塩素ガスのみ、塩素ガスと
他のハロゲンガス例えばフツ素系ガス等を組合せ
たもの、或は他のハロゲンガス例えばフツ素系ガ
ス等のみで行つても、効果が得られる。要する
に、少なくとも１種以上のハロゲンガスを含む高
温で温度1900℃以上に加熱し中実化すればよい。
中実化して得られたプリフオームは、そのままで
光フアイバ用母材として線引炉に送られてよい
が、場合によれば、クラツド／コア径比の調整の
ために、さらに石英管あるいは、ドープされた石
英管にてジヤケツトされた後、線引炉に送られ、
光フアイバとされる。なお以上の説明ではフツ素
系ガスによるエツチング後塩素系ガスを用いる場
合について行つたが、塩素ガスのみ、塩素ガスと
他のハロゲンガス例えばフツ素系ガス等を組合せ
たもの、或は他のハロゲンガス例えばフツ素系ガ
ス等のみで行つても、効果が得られる。要する
に、少なくとも１種以上のハロゲンガスを含む高
温で温度1900℃以上に加熱し中実化すればよい。
（実施例）
実施例 １
外径26mmφ、長さ1000mmの市販石英管に、内付
CVD法により、SiO2−P2O5−Ｆ系ガラスを105
回堆積させた。堆積したガラス膜の屈折率は、石
英ガラスのそれより△-＝0.31％低かつた。
CVD法により、SiO2−P2O5−Ｆ系ガラスを105
回堆積させた。堆積したガラス膜の屈折率は、石
英ガラスのそれより△-＝0.31％低かつた。
次に該石英管に、SF6140c.c.／分、O260c.c.／分
を流しながら、50mm／分の移動速度にて移動する
酸水素バーナにて、1970℃（石英管表面をバイロ
スコープで測定）に１回加熱し、次に石英管に導
入するガスを、SOCl256c.c.／分、O2500c.c.／分に
切換えた後、外径1.4mmφの純石英ガラスロツド
を挿入した。この純石英ガラスロツドは、気相軸
付法により作製されたもので、プラズマ炎にて延
伸された後、大気中に保管され、特別な化学洗浄
は何ら施されないまま、上記石英管内に挿入され
た。
を流しながら、50mm／分の移動速度にて移動する
酸水素バーナにて、1970℃（石英管表面をバイロ
スコープで測定）に１回加熱し、次に石英管に導
入するガスを、SOCl256c.c.／分、O2500c.c.／分に
切換えた後、外径1.4mmφの純石英ガラスロツド
を挿入した。この純石英ガラスロツドは、気相軸
付法により作製されたもので、プラズマ炎にて延
伸された後、大気中に保管され、特別な化学洗浄
は何ら施されないまま、上記石英管内に挿入され
た。
石英管の一方の端を酸水素バーナで密着封止
し、ロツドと管の間隙を、SOCl2とO2からなる雰
囲気にて充填した後、酸水素バーナで2050℃に加
熱し、10mm／分の移動速度で中実化した。
し、ロツドと管の間隙を、SOCl2とO2からなる雰
囲気にて充填した後、酸水素バーナで2050℃に加
熱し、10mm／分の移動速度で中実化した。
得られたプリフオームを線引きし、伝送損失を
評価したところ、波長1.3μｍにおいて、0.46dB／
Kmの低損失な値が得られた。
評価したところ、波長1.3μｍにおいて、0.46dB／
Kmの低損失な値が得られた。
比較のために、上記と同様の作製方法におい
て、中実化時のコアとクラツド材の間隙の雰囲気
をN2ガスで行つたところ、OH基の吸収損失は、
波長1.24μｍにおいて3.5dB／Kmと大きく、また伝
送損失は波長1.3μｍにおいて、1.7dB／Kmと高い
ものであつた。
て、中実化時のコアとクラツド材の間隙の雰囲気
をN2ガスで行つたところ、OH基の吸収損失は、
波長1.24μｍにおいて3.5dB／Kmと大きく、また伝
送損失は波長1.3μｍにおいて、1.7dB／Kmと高い
ものであつた。
実施例 ２
火炎加水分解法により作製した、フツ素添加さ
れた無水石英管（外径20mmφ、長さ300mm、△-＝
0.32％）に、SF6180c.c.／分、O2ガス600c.c.／分を
流し、50mm／分の移動速度にて移動する酸水素バ
ーナで温度1930℃に３回加熱した後、管内に導入
するガをCl2ガス600c.c.／分、SF6120c.c.／分、
He500c.c.／分、O2100c.c.／分に切換えた。この管
に外径2.3mmφの純石英ガラスロツドを挿入した。
れた無水石英管（外径20mmφ、長さ300mm、△-＝
0.32％）に、SF6180c.c.／分、O2ガス600c.c.／分を
流し、50mm／分の移動速度にて移動する酸水素バ
ーナで温度1930℃に３回加熱した後、管内に導入
するガをCl2ガス600c.c.／分、SF6120c.c.／分、
He500c.c.／分、O2100c.c.／分に切換えた。この管
に外径2.3mmφの純石英ガラスロツドを挿入した。
上記ロツドは実施例１と同様の方法で作製され
たもので、実施例１と同様に特別な化学洗浄等の
前処理は行われなかつた。石英管の一方の端を酸
水素バーナで溶着して封じた後、実施例１と同様
のガス条件にて、８mm／分の移動速度で移動する
酸水素バーナにて温度2120℃に加熱し中実化し
た。
たもので、実施例１と同様に特別な化学洗浄等の
前処理は行われなかつた。石英管の一方の端を酸
水素バーナで溶着して封じた後、実施例１と同様
のガス条件にて、８mm／分の移動速度で移動する
酸水素バーナにて温度2120℃に加熱し中実化し
た。
作製されたプリフオームは、さらに外径25mmφ
の、フツ素添加され、屈折率は前段階（出発時）
に用いた管とほゞ同じ△-＝0.31％の石英管にて
ジヤケツトされ、コア／クラツド径比が８／125
になるよう調整後、線引きしフアイバ化された。
の、フツ素添加され、屈折率は前段階（出発時）
に用いた管とほゞ同じ△-＝0.31％の石英管にて
ジヤケツトされ、コア／クラツド径比が８／125
になるよう調整後、線引きしフアイバ化された。
得られたフアイバの伝送損失は波長1.3μｍにお
いて0.43dB／Kmという低損失な値が得られた。
いて0.43dB／Kmという低損失な値が得られた。
比較のために、中実化時のコアとクラツドの間
隙をO2ガス雰囲気とした以外は実施例２と同様
の条件で作製したプリフオームより得られた光フ
アイバは、OH基の吸収損失が波長1.24μｍにおい
て8dB／Kmと大きく、波長1.3μｍにおける伝送損
失は3.7dB／Kmと実施例２に比べ非常に大きかつ
た。
隙をO2ガス雰囲気とした以外は実施例２と同様
の条件で作製したプリフオームより得られた光フ
アイバは、OH基の吸収損失が波長1.24μｍにおい
て8dB／Kmと大きく、波長1.3μｍにおける伝送損
失は3.7dB／Kmと実施例２に比べ非常に大きかつ
た。
（発明の効果）
以上の説明および実施例の結果から明らかなよ
うに、本発明の方法は、低損失な長波長帯用シン
グルモードフアイバを、ロツドインチユーブ法に
おいても製造可能とするに加え、製造コストも低
減できる産業上有利な方法である。
うに、本発明の方法は、低損失な長波長帯用シン
グルモードフアイバを、ロツドインチユーブ法に
おいても製造可能とするに加え、製造コストも低
減できる産業上有利な方法である。
第１図ａおよびｂは、本発明の実施態様を概略
説明する図である。
説明する図である。
Claims (1)
- １ ガラスロツドをコア材とし、該コア材より低
屈折率を有するクラツド材の中に上記コア材を挿
入して加熱することにより、上記コア材と上記ク
ラツド材との間〓を中実化して光フアイバ用母材
を製造する方法において、クラツド材にコア材を
挿入した状態で、該クラツド材と該コア材の間〓
に少なくとも１種以上のハロゲンガスを含むガス
を流しつつ、該クラツド材と該コア材の一方の端
部を融着密閉するとともに、これとは反対側の端
に接続されたガス供給配管に分岐して接続するバ
ルブから該クラツド管内に流していたガスの圧力
を適宜抜くことにより、該コア材と該クラツド材
の間〓を少なくとも１種以上のハロゲンガスを含
有する雰囲気で、しかも該クラツド材内の圧力を
温度1900℃以下で該コア材と該クラツド材の融着
が起こらない圧力に調整し、この状態で温度1900
℃以上に加熱して中実化することを特徴とする光
フアイバ用母材の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59237669A JPS61117126A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| US06/794,847 US4668263A (en) | 1984-11-13 | 1985-11-04 | Method for producing glass preform for optical fiber |
| AU49433/85A AU578983B2 (en) | 1984-11-13 | 1985-11-07 | Method for producing glass preform for optical fiber |
| CA000495004A CA1272604A (en) | 1984-11-13 | 1985-11-12 | Method for producing glass preform for optical fiber |
| DE8585114363T DE3584073D1 (de) | 1984-11-13 | 1985-11-12 | Verfahren zur herstellung von glasvorformen fuer optische fasern. |
| EP85114363A EP0182250B1 (en) | 1984-11-13 | 1985-11-12 | Method for producing glass preform for optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59237669A JPS61117126A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61117126A JPS61117126A (ja) | 1986-06-04 |
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