JPH0135074B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0135074B2 JPH0135074B2 JP56129984A JP12998481A JPH0135074B2 JP H0135074 B2 JPH0135074 B2 JP H0135074B2 JP 56129984 A JP56129984 A JP 56129984A JP 12998481 A JP12998481 A JP 12998481A JP H0135074 B2 JPH0135074 B2 JP H0135074B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- roll
- film
- metallized film
- metal thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子成形物基板上に金属薄膜を形成
した金属化フイルムの熱処理方法に関するもので
その目的は金属化フイルムの平坦化の熱処理を高
速化することにある。
した金属化フイルムの熱処理方法に関するもので
その目的は金属化フイルムの平坦化の熱処理を高
速化することにある。
金属化フイルムは例えばコンデンサや装飾具あ
るいは包装用に用いられているが、近年、高機能
化、高付加価値化の要求から特殊な金属薄膜を形
成したものの実用化が検討されている。例えば高
分子成形物基板上に強磁性金属の薄膜を蒸着によ
り形成した金属薄膜型磁気記録媒体は、従来から
使用されている塗布型磁気記録媒体（γ−Fe2O3
等の針状結晶を有機バインダーで基板に接着させ
たもの）に比べて記録密度が10倍以上もあると言
われて注目されている。しかし、蒸着により高分
子成形物基板上に高ヤング率で高融点の金属を厚
く形成して金属化フイルムＡを形成した場合、第
１図に示すように金属薄膜１の残留内部応力によ
り高分子成形物基板２にカールが発生し、薄膜形
成時にこれを平坦とすることは工業的に困難であ
る。平坦性の欠除した金属化フイルムＡは外観上
好ましくなく、また２次加工時や最終製品使用時
に種々のトラブルを引き起こすことになる。特
に、金属薄膜型磁気記録媒体においては、このカ
ールの発生が走行性に大きく影響し、実用化を遅
らせていた。即ち、磁気テープの走行性は磁整層
の磁気特性に匹敵する程重要な特性であり、ヘツ
ドタツチの悪化や巻き乱れ、走行変動と密接に関
係している。
るいは包装用に用いられているが、近年、高機能
化、高付加価値化の要求から特殊な金属薄膜を形
成したものの実用化が検討されている。例えば高
分子成形物基板上に強磁性金属の薄膜を蒸着によ
り形成した金属薄膜型磁気記録媒体は、従来から
使用されている塗布型磁気記録媒体（γ−Fe2O3
等の針状結晶を有機バインダーで基板に接着させ
たもの）に比べて記録密度が10倍以上もあると言
われて注目されている。しかし、蒸着により高分
子成形物基板上に高ヤング率で高融点の金属を厚
く形成して金属化フイルムＡを形成した場合、第
１図に示すように金属薄膜１の残留内部応力によ
り高分子成形物基板２にカールが発生し、薄膜形
成時にこれを平坦とすることは工業的に困難であ
る。平坦性の欠除した金属化フイルムＡは外観上
好ましくなく、また２次加工時や最終製品使用時
に種々のトラブルを引き起こすことになる。特
に、金属薄膜型磁気記録媒体においては、このカ
ールの発生が走行性に大きく影響し、実用化を遅
らせていた。即ち、磁気テープの走行性は磁整層
の磁気特性に匹敵する程重要な特性であり、ヘツ
ドタツチの悪化や巻き乱れ、走行変動と密接に関
係している。
本発明者はこのような問題を解決するために以
前に金属薄膜形成後に熱ロール上で熱処理を行な
い、平坦な金属化フイルムを得ることを提案し
た。しかし、この熱処理のために40ｍ／min以上
の高速でフイルムを走行させると、熱処理ロール
へのフイルムの密着が悪くなり、しわが発生した
り、熱処理の不均一等を引き起こすため、工業的
生産レベルでしわのない平坦な金属化フイルムを
得ることは不可能であつた。
前に金属薄膜形成後に熱ロール上で熱処理を行な
い、平坦な金属化フイルムを得ることを提案し
た。しかし、この熱処理のために40ｍ／min以上
の高速でフイルムを走行させると、熱処理ロール
へのフイルムの密着が悪くなり、しわが発生した
り、熱処理の不均一等を引き起こすため、工業的
生産レベルでしわのない平坦な金属化フイルムを
得ることは不可能であつた。
本発明者はこのような問題を解決するために鋭
意研究した結果、金属化フイルムの金属薄膜面側
を熱処理ロールの表面に接触させながら走行さ
せ、かつシリコンゴム等からなるニツプロールに
より0.1〜0.4Kg／cmの圧力でそのフイルムを熱処
理ロールに密着させながら熱処理を行ない、さら
に上記熱処理ロールの直前と直後に60℃以上で熱
処理温度未満（好ましくは熱処理温度より10℃以
上低い）の補助熱ロールを設け、この補助熱ロー
ルを金属化フイルムに接触させることにより、40
ｍ／min以上の速度で金属化フイルムを走行させ
てもしわのない平坦な金属化フイルムをより安定
して得られることを究明した。
意研究した結果、金属化フイルムの金属薄膜面側
を熱処理ロールの表面に接触させながら走行さ
せ、かつシリコンゴム等からなるニツプロールに
より0.1〜0.4Kg／cmの圧力でそのフイルムを熱処
理ロールに密着させながら熱処理を行ない、さら
に上記熱処理ロールの直前と直後に60℃以上で熱
処理温度未満（好ましくは熱処理温度より10℃以
上低い）の補助熱ロールを設け、この補助熱ロー
ルを金属化フイルムに接触させることにより、40
ｍ／min以上の速度で金属化フイルムを走行させ
てもしわのない平坦な金属化フイルムをより安定
して得られることを究明した。
以上のような究明に基づく本発明は金属化フイ
ルムの平坦化のための熱処理においてそのフイル
ムと熱処理ロールとの密着をより完全にするもの
である。そしてフイルムの金属薄膜側を熱処理ロ
ールに接触するようにしたのは高分子成形物基板
の吸湿によるフイルムとロール間の水蒸気の発生
を防止するためであり、また、高分子成形物基板
面をニツプロールで押圧するのは密着力を高める
ためである。さらに、熱処理ロール直前の補助熱
ロールは金属化フイルムを乾燥させ、また熱処理
ロール直後の補助熱ロールは熱処理したフイルム
の急冷によるしわの発生を防止するものである。
ルムの平坦化のための熱処理においてそのフイル
ムと熱処理ロールとの密着をより完全にするもの
である。そしてフイルムの金属薄膜側を熱処理ロ
ールに接触するようにしたのは高分子成形物基板
の吸湿によるフイルムとロール間の水蒸気の発生
を防止するためであり、また、高分子成形物基板
面をニツプロールで押圧するのは密着力を高める
ためである。さらに、熱処理ロール直前の補助熱
ロールは金属化フイルムを乾燥させ、また熱処理
ロール直後の補助熱ロールは熱処理したフイルム
の急冷によるしわの発生を防止するものである。
第２図に熱処理装置の概略を示す。４は金属化
フイルムＡの供給リール、５はその巻取リール、
６は熱処理ロール、７は熱処理ロール６の前方で
金属化フイルムＡに接触する補助熱ロール、８は
熱処理ロール６の後方で金属化フイルムＡに接触
する補助熱ロール、９は金属化フイルムＡの高分
子成形物基板面に接触してその金属化フイルムＡ
を熱処理ロール６に密着させるニツプロール、１
０，１１は金属化フイルムＡを補助熱ロール７，
８にそれぞれ圧接させるニツプロールである。
フイルムＡの供給リール、５はその巻取リール、
６は熱処理ロール、７は熱処理ロール６の前方で
金属化フイルムＡに接触する補助熱ロール、８は
熱処理ロール６の後方で金属化フイルムＡに接触
する補助熱ロール、９は金属化フイルムＡの高分
子成形物基板面に接触してその金属化フイルムＡ
を熱処理ロール６に密着させるニツプロール、１
０，１１は金属化フイルムＡを補助熱ロール７，
８にそれぞれ圧接させるニツプロールである。
なお、本発明の適用は真空蒸着により金属薄膜
を形成した金属化フイルムに限らず、イオンプレ
ーテイング、スパツタ、メツキ等の薄膜化技術に
より金属薄膜を形成した金属化フイルムにも適用
することができるものである。
を形成した金属化フイルムに限らず、イオンプレ
ーテイング、スパツタ、メツキ等の薄膜化技術に
より金属薄膜を形成した金属化フイルムにも適用
することができるものである。
つぎに、本発明の一例につき説明する。
厚さ6μのポリエチレンフタレートフイルムを
基板としてその表面に５×10-5torrでCo−Ni合
金を蒸着し、0.3μの金属薄膜を形成した。この試
料を熱処理温度150℃（熱処理ロール６の表面温
度）で下記の条件で熱処理したところ第３図に示
すような結果を得た。
基板としてその表面に５×10-5torrでCo−Ni合
金を蒸着し、0.3μの金属薄膜を形成した。この試
料を熱処理温度150℃（熱処理ロール６の表面温
度）で下記の条件で熱処理したところ第３図に示
すような結果を得た。
〔条件イ〕
金属化フイルムの基板側を熱処理ロールに接触
させ、補助熱ロールを常温として熱処理を行なつ
た。
させ、補助熱ロールを常温として熱処理を行なつ
た。
金属化フイルムの金属薄膜側を熱処理ロールに
接触させ、補助熱ロールを常温として熱処理を行
なつた。
接触させ、補助熱ロールを常温として熱処理を行
なつた。
金属化フイルムの金属薄膜側を熱処理ロールに
接触させ、かつ補助熱ロールを常温としてその金
属化フイルムを熱処理ロールに加圧するニツプロ
ールの加圧力を変化させて熱処理を行なつた。
接触させ、かつ補助熱ロールを常温としてその金
属化フイルムを熱処理ロールに加圧するニツプロ
ールの加圧力を変化させて熱処理を行なつた。
金属化フイルムの金属薄膜側を熱処理ロールに
接触させ、その熱処理ロールの直前と直後に設け
た補助熱ロールの温度を変化させて熱処理を行な
つた。
接触させ、その熱処理ロールの直前と直後に設け
た補助熱ロールの温度を変化させて熱処理を行な
つた。
なお、第３図の密着状態の欄は熱処理ロールへ
の金属化フイルムの密着具合を示したものであ
り、図中の◎は最良、〇は良、△は可、×は不可
を表わしている。
の金属化フイルムの密着具合を示したものであ
り、図中の◎は最良、〇は良、△は可、×は不可
を表わしている。
以上の実験例より明らかなように、少なくとも
金属化フイルムの金属薄膜側を熱処理ロールに接
触させ、かつニツプロールにてその金属化フイル
ムを熱処理ロールに押圧しながら走行させ、かつ
熱処理ロールの直前、直後に補助熱ロールを設け
ることにより、より平坦化が可能となり、フイル
ムのしわが改善されて平坦で良好な製品が得られ
るものである。
金属化フイルムの金属薄膜側を熱処理ロールに接
触させ、かつニツプロールにてその金属化フイル
ムを熱処理ロールに押圧しながら走行させ、かつ
熱処理ロールの直前、直後に補助熱ロールを設け
ることにより、より平坦化が可能となり、フイル
ムのしわが改善されて平坦で良好な製品が得られ
るものである。
本発明は以上の実施例より明らかなように、金
属化フイルムをしわなく、平坦にする熱処理を高
速で行なうことができるものであり、効率的に良
好な製品が得られるもので、その効果は大であ
る。
属化フイルムをしわなく、平坦にする熱処理を高
速で行なうことができるものであり、効率的に良
好な製品が得られるもので、その効果は大であ
る。
第１図は熱処理前の金属化フイルムを示す断面
図、第２図は本発明方法に用いられる装置の一実
施例を示す概略図、第３図は実験例の結果を示す
図である。 Ａ……金属化フイルム、１……金属薄膜、２…
…高分子成形物基板、６……熱処理ロール、７，
８……補助熱ロール、９……ニツプロール。
図、第２図は本発明方法に用いられる装置の一実
施例を示す概略図、第３図は実験例の結果を示す
図である。 Ａ……金属化フイルム、１……金属薄膜、２…
…高分子成形物基板、６……熱処理ロール、７，
８……補助熱ロール、９……ニツプロール。
Claims (1)
- １ 高分子成形物よりなる基板上に金属薄膜を形
成した金属化フイルムを、その金属薄膜側を加熱
された熱処理ロールに接触させ、かつ基板側から
ニツプロールにより加圧しながら走行させると共
に、上記熱処理ロールの直前と直後に設けた補助
熱ロールにて金属化フイルムを熱処理ロールによ
り加熱される温度よりも低い温度で加熱すること
を特徴とする金属化フイルムの熱処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56129984A JPS5832636A (ja) | 1981-08-19 | 1981-08-19 | 金属化フイルムの熱処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56129984A JPS5832636A (ja) | 1981-08-19 | 1981-08-19 | 金属化フイルムの熱処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5832636A JPS5832636A (ja) | 1983-02-25 |
| JPH0135074B2 true JPH0135074B2 (ja) | 1989-07-24 |
Family
ID=15023276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56129984A Granted JPS5832636A (ja) | 1981-08-19 | 1981-08-19 | 金属化フイルムの熱処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5832636A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006190702A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-07-20 | Ulvac Japan Ltd | フレキシブルプリント基材の製造装置及び製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423506A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording media |
| JPS5638812A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of corrosion resistive magnetic thin film |
-
1981
- 1981-08-19 JP JP56129984A patent/JPS5832636A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5832636A (ja) | 1983-02-25 |
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