JPH0136255B2 - - Google Patents
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- JPH0136255B2 JPH0136255B2 JP56193491A JP19349181A JPH0136255B2 JP H0136255 B2 JPH0136255 B2 JP H0136255B2 JP 56193491 A JP56193491 A JP 56193491A JP 19349181 A JP19349181 A JP 19349181A JP H0136255 B2 JPH0136255 B2 JP H0136255B2
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/19—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers
- H10P72/1902—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers specially adapted for a single substrate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/19—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers
- H10P72/1906—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10P72/19—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers
- H10P72/1911—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers characterised by materials, roughness, coatings or the like
- H10P72/1912—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers characterised by materials, roughness, coatings or the like characterised by shock absorbing elements, e.g. retainers or cushions
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、IC、LSI、VLSI等の半導体装置を
製造するためのレテイクルやマスクあるいはウエ
ハ(以下「レテイクル等」)の如き基板を収納す
る容器容器及び容器の装着装置に関する。
製造するためのレテイクルやマスクあるいはウエ
ハ(以下「レテイクル等」)の如き基板を収納す
る容器容器及び容器の装着装置に関する。
従来、この種の容器としては、レテイクル等を
一枚毎に収納して、必要なときにこれらを取り出
すものが考えられている。このような容器は、防
塵のために略密閉状態でレテイクル等を収納する
と共に、必要なときには速やかに取り出せるよう
になつていなければならない。このため従来の容
器では、レテイクル等を単に収納するのみであ
り、容器の運搬等の際に容器内でレテイクル等が
摺動してこれらが思わぬ損傷(例えばガラス粉の
付着等)をこうむることがあつた。
一枚毎に収納して、必要なときにこれらを取り出
すものが考えられている。このような容器は、防
塵のために略密閉状態でレテイクル等を収納する
と共に、必要なときには速やかに取り出せるよう
になつていなければならない。このため従来の容
器では、レテイクル等を単に収納するのみであ
り、容器の運搬等の際に容器内でレテイクル等が
摺動してこれらが思わぬ損傷(例えばガラス粉の
付着等)をこうむることがあつた。
また、このような容器は所定の保持装置に装着
されて自動搬送に供されるが、容器を保持装置に
装着したり脱着したりする際、容器に不要な振動
を与えると、その内部のレテイクル等が振動した
りして、上述したのと同様の損傷を蒙ることがあ
つた。
されて自動搬送に供されるが、容器を保持装置に
装着したり脱着したりする際、容器に不要な振動
を与えると、その内部のレテイクル等が振動した
りして、上述したのと同様の損傷を蒙ることがあ
つた。
そこで本発明は、レテイクル等の基板を略密閉
状態で収納しているときはその基板が摺動しない
ように押圧し、その基板を出し入れするときはそ
の押圧を解除するようにした収納容器を得ること
を目的とする。
状態で収納しているときはその基板が摺動しない
ように押圧し、その基板を出し入れするときはそ
の押圧を解除するようにした収納容器を得ること
を目的とする。
さらに本発明は、収容されている基板に不要な
振動を与えることなく、極めてスムーズに容器の
着脱ができる容器の装着装置を得ることを目的と
する。
振動を与えることなく、極めてスムーズに容器の
着脱ができる容器の装着装置を得ることを目的と
する。
次に本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。第1図は、レテイクル等の基板を収納する容
器いわゆるカセツトの斜視図である。
る。第1図は、レテイクル等の基板を収納する容
器いわゆるカセツトの斜視図である。
チリトリ状の底蓋1には、基板の周辺を支持す
るような段部1aと、これよりも収納する基板の
厚み分以上高い段部1bとが設けられている。さ
らに、基板を水平方向に出し入れするための開口
部を形成するための開口端面1cの反対側には、
上蓋3がヒンジ2により同図中矢印Aの如く回転
自在に軸支されている。
るような段部1aと、これよりも収納する基板の
厚み分以上高い段部1bとが設けられている。さ
らに、基板を水平方向に出し入れするための開口
部を形成するための開口端面1cの反対側には、
上蓋3がヒンジ2により同図中矢印Aの如く回転
自在に軸支されている。
この上蓋3は、底蓋1の上面を密閉するように
段部1bに載置可能である。また、上蓋3の先端
面にはヒンジ4により同図中矢印Bの如く回転自
在に軸支された扉5が設けられる。この扉5は、
底蓋1の開口端面1cと共同して開口部を閉成又
は、開放するためのものである。扉5は、上蓋3
を段部1bに載置した状態で収納された基板を出
し入れするために開閉される。尚、扉5の側端面
には、開閉のとき作用する溝5aが設けられる。
段部1bに載置可能である。また、上蓋3の先端
面にはヒンジ4により同図中矢印Bの如く回転自
在に軸支された扉5が設けられる。この扉5は、
底蓋1の開口端面1cと共同して開口部を閉成又
は、開放するためのものである。扉5は、上蓋3
を段部1bに載置した状態で収納された基板を出
し入れするために開閉される。尚、扉5の側端面
には、開閉のとき作用する溝5aが設けられる。
また、底蓋1の両側面には、上蓋3を閉成状態
に固定するためのL字形のロツク部材6が同図中
矢印Cの如く回動自在に設けられている。
に固定するためのL字形のロツク部材6が同図中
矢印Cの如く回動自在に設けられている。
尚、ロツク部材6が上蓋3を係止するときに底
蓋1の側面から突出しないように、その側面には
ロツク部材6がはまり込む凹部1dが形成されて
いる。そして、ロツク部材6は上蓋3を固定する
ような方向に常に付勢されている。
蓋1の側面から突出しないように、その側面には
ロツク部材6がはまり込む凹部1dが形成されて
いる。そして、ロツク部材6は上蓋3を固定する
ような方向に常に付勢されている。
一方、上蓋3の裏面、すなわち基板と対向する
面側には、ピアノ線の如き針金を屈曲させて形成
された押え部材7を同図中矢印Dの如く回転自在
に軸支する一対の軸受8が固着されている。この
押え部材7には、収納した基板の表面と当接する
部分に、合成樹脂を被覆した凸部7a,7b(本
願発明の当接部を構成する)と、この押え部材7
に回転力を作用させるたの凸部7c,7dとが設
けられている。この凸部7a,7bと凸部7c,
7dとは、互いに略直角方向に形成されている。
面側には、ピアノ線の如き針金を屈曲させて形成
された押え部材7を同図中矢印Dの如く回転自在
に軸支する一対の軸受8が固着されている。この
押え部材7には、収納した基板の表面と当接する
部分に、合成樹脂を被覆した凸部7a,7b(本
願発明の当接部を構成する)と、この押え部材7
に回転力を作用させるたの凸部7c,7dとが設
けられている。この凸部7a,7bと凸部7c,
7dとは、互いに略直角方向に形成されている。
また、上蓋3には突出ピン9a,9bが固着さ
れており、この突出ピン9a,9bと押え部材7
の凸部7c,7dとの間には各々バネ10,11
が本願第1発明の第1付勢部材として接続されて
いる。このバネ10,11は付勢力としての引張
力を発生する。さらに、前記扉5の内側、すなわ
ち底蓋1の開口端面1cと密接する面側に突出ピ
ン12a,12bが設けられている。この突出ピ
ン12a,12bと押え部材7の凸部7c,7d
との間には、付勢力としての引張力を発生するバ
ネ13,14のそれぞれが本願第1発明の第2付
勢部材として連結されている。それらのバネ10
と11の形状及び発生する付勢力は共に等しく、
バネ13と14も共に等しいものとする。なお、
第1図に示すように扉5が上蓋3とほぼ一直線に
なつた状態では、バネ13又は14のの付勢力の
方がバネ10又は11の付勢力よりも大きくな
り、一方扉5が上蓋3とほぼ直角になつた状態で
は、その力関係が逆転するように、バネ10又は
11と13又は14のバネ定数、掛け方等が定め
られている。
れており、この突出ピン9a,9bと押え部材7
の凸部7c,7dとの間には各々バネ10,11
が本願第1発明の第1付勢部材として接続されて
いる。このバネ10,11は付勢力としての引張
力を発生する。さらに、前記扉5の内側、すなわ
ち底蓋1の開口端面1cと密接する面側に突出ピ
ン12a,12bが設けられている。この突出ピ
ン12a,12bと押え部材7の凸部7c,7d
との間には、付勢力としての引張力を発生するバ
ネ13,14のそれぞれが本願第1発明の第2付
勢部材として連結されている。それらのバネ10
と11の形状及び発生する付勢力は共に等しく、
バネ13と14も共に等しいものとする。なお、
第1図に示すように扉5が上蓋3とほぼ一直線に
なつた状態では、バネ13又は14のの付勢力の
方がバネ10又は11の付勢力よりも大きくな
り、一方扉5が上蓋3とほぼ直角になつた状態で
は、その力関係が逆転するように、バネ10又は
11と13又は14のバネ定数、掛け方等が定め
られている。
このように、上蓋3には押え部材7、軸受8、
バネ10〜14等が設けられているので、底蓋1
の段部1bには溝1e,1fが形成されるととも
に、その段部1bの一部を切り欠いて切欠部1
g,1hが形成されている。すなわち、上蓋3を
閉じて扉5を開口端面1cに密接した状態では、
凸部7c、軸受8、突出ピン9a,12a及びバ
ネ10,13が溝1eの内部に入り込み、また凸
部7d、軸受8、突出ピン9b,12b及びバネ
11,14が溝1fの内部に入り込む。そして、
押え部材7の回転軸となる部分8が切欠部1g,
1hを通る。
バネ10〜14等が設けられているので、底蓋1
の段部1bには溝1e,1fが形成されるととも
に、その段部1bの一部を切り欠いて切欠部1
g,1hが形成されている。すなわち、上蓋3を
閉じて扉5を開口端面1cに密接した状態では、
凸部7c、軸受8、突出ピン9a,12a及びバ
ネ10,13が溝1eの内部に入り込み、また凸
部7d、軸受8、突出ピン9b,12b及びバネ
11,14が溝1fの内部に入り込む。そして、
押え部材7の回転軸となる部分8が切欠部1g,
1hを通る。
また、このカセツトは、例えば複数固のカセツ
トを積み重ねるように保持可能なカートリツジに
装着される。そのため、底蓋1の両側面には、ガ
イド部材15が固定されている。このガイド部材
15は、カートリツジに装着しやすいように、開
口端面1c側の一部はテーパ部15aにし、ヒン
ジ2側には突起部15bが形成されている。この
ガイド部材15の働きについては、後で詳しく説
明する。また、基板をこのカセツト内に収納した
とき、基板が段部1a上を摺動するのを防止する
ために、底蓋1の左右の段部1aには基板の大き
さに合わせてわずかな突出部1jが2個ずつ設け
られている。尚、押え部材7の凸部7a,7b
は、レテイクル等のパターン描画領域周辺の余白
部と当接するように定められている。また、ここ
では、バネ10と13との組、及びバネ11と1
4との組の2組を用いているが、押え部材7に剛
性の高い材質を用いた場合には、いずれか1組で
よい。
トを積み重ねるように保持可能なカートリツジに
装着される。そのため、底蓋1の両側面には、ガ
イド部材15が固定されている。このガイド部材
15は、カートリツジに装着しやすいように、開
口端面1c側の一部はテーパ部15aにし、ヒン
ジ2側には突起部15bが形成されている。この
ガイド部材15の働きについては、後で詳しく説
明する。また、基板をこのカセツト内に収納した
とき、基板が段部1a上を摺動するのを防止する
ために、底蓋1の左右の段部1aには基板の大き
さに合わせてわずかな突出部1jが2個ずつ設け
られている。尚、押え部材7の凸部7a,7b
は、レテイクル等のパターン描画領域周辺の余白
部と当接するように定められている。また、ここ
では、バネ10と13との組、及びバネ11と1
4との組の2組を用いているが、押え部材7に剛
性の高い材質を用いた場合には、いずれか1組で
よい。
レテイクルやマスク等の基板をこのカセツト内
に収納するには、第1図のように上蓋3を開いた
状態で、突出部1jにより基板の端面が規制され
るように、段部1a上に載置する。そして、上蓋
3を閉じて、ロツク部材6により、上蓋3と底蓋
1とを固定する。このように、上蓋3を開閉可能
とすることによつて、カセツト内へ基板を入れる
作業及び取り出す作業が手により容易に行なうこ
とができる。尚、上述の底蓋1と上蓋3とにより
本発明のケースを構成し、押え部材7、バネ10
〜14により基板押え手段を構成する。
に収納するには、第1図のように上蓋3を開いた
状態で、突出部1jにより基板の端面が規制され
るように、段部1a上に載置する。そして、上蓋
3を閉じて、ロツク部材6により、上蓋3と底蓋
1とを固定する。このように、上蓋3を開閉可能
とすることによつて、カセツト内へ基板を入れる
作業及び取り出す作業が手により容易に行なうこ
とができる。尚、上述の底蓋1と上蓋3とにより
本発明のケースを構成し、押え部材7、バネ10
〜14により基板押え手段を構成する。
次に、本発明の実施例によるカセツトの動作に
ついて、さらに第2図を用いて説明する。第2図
aはカセツトの扉5が閉じている状態を、第2図
bは扉5が開いた状態をそれぞれ示す。尚、前述
のように、バネ10と11の作用及びバネ13と
14の作用は互いに同一なので、第2図ではバネ
11とバネ14及び押え部材7の関係についての
み示してある。
ついて、さらに第2図を用いて説明する。第2図
aはカセツトの扉5が閉じている状態を、第2図
bは扉5が開いた状態をそれぞれ示す。尚、前述
のように、バネ10と11の作用及びバネ13と
14の作用は互いに同一なので、第2図ではバネ
11とバネ14及び押え部材7の関係についての
み示してある。
第2図aにおいて、扉5が上蓋3とほぼ直角に
なつた閉成状態では、バネ11の引張力の方がバ
ネ14の引張力よりも大きくなり、押え部材7が
回転されてその凸部7dは突出ピン9bの方へ付
勢される。このため、凸部7bは同図中の矢印F
1方向に基板100の表面を押圧する。従つて、
基板100は底蓋1の段部1aに押圧される。な
お、この状態でも、バネ14の付勢力は作用して
おり、突出ピン12bと共に、扉5は底蓋1の開
口端部1cに押圧される。
なつた閉成状態では、バネ11の引張力の方がバ
ネ14の引張力よりも大きくなり、押え部材7が
回転されてその凸部7dは突出ピン9bの方へ付
勢される。このため、凸部7bは同図中の矢印F
1方向に基板100の表面を押圧する。従つて、
基板100は底蓋1の段部1aに押圧される。な
お、この状態でも、バネ14の付勢力は作用して
おり、突出ピン12bと共に、扉5は底蓋1の開
口端部1cに押圧される。
次に第2図aの状態から第2図bの状態まで扉
5を開いていくと、突出ピン12bとバネ14と
の接続点が両図に示すように長さl分だけ移動す
る。このため、バネ14の一端が突出ピン12b
によつて引つ張られ、その付勢力が増大する。そ
して、扉5が第2図bの位置まで開く前に、バネ
14とバネ11の付勢力の大きさが逆転する。こ
のとき、押え部材7が回転してその凸部7bは、
基板100の表面から離れる。さらに扉5が上蓋
3とほぼ平行になるまで開くと、バネ14の付勢
力の方がバネ11の付勢力よりも大きくなつて、
凸部7bは、図中の矢印F2方向に、上蓋3の裏
面を押圧する。
5を開いていくと、突出ピン12bとバネ14と
の接続点が両図に示すように長さl分だけ移動す
る。このため、バネ14の一端が突出ピン12b
によつて引つ張られ、その付勢力が増大する。そ
して、扉5が第2図bの位置まで開く前に、バネ
14とバネ11の付勢力の大きさが逆転する。こ
のとき、押え部材7が回転してその凸部7bは、
基板100の表面から離れる。さらに扉5が上蓋
3とほぼ平行になるまで開くと、バネ14の付勢
力の方がバネ11の付勢力よりも大きくなつて、
凸部7bは、図中の矢印F2方向に、上蓋3の裏
面を押圧する。
尚、以上説明したバネ10,11,13,14
は金属性のコイルバネでもよいが、扉5の開閉に
よつて金属同志の結合部分から切り粉が発生する
ことがある。そこで、バネとして、合成樹脂、例
えばデルリン等を付勢力が発生するような形状に
加工して用いれば、たとえ切り粉が出たとして
も、金属の切り粉のように基板表面に傷をつける
ことは激減される。
は金属性のコイルバネでもよいが、扉5の開閉に
よつて金属同志の結合部分から切り粉が発生する
ことがある。そこで、バネとして、合成樹脂、例
えばデルリン等を付勢力が発生するような形状に
加工して用いれば、たとえ切り粉が出たとして
も、金属の切り粉のように基板表面に傷をつける
ことは激減される。
以上のように、本発明の実施例によるカセツト
では、バネ11又は10とバネ14又は13とを
設け、扉5の閉成状態と開放状態とに従つてそれ
ぞれ押え部材7の凸部7a,7bに基板100を
押圧する力を発生させている。このため、基板1
00を収納してカセツトを搬送する際、基板10
0がカセツト内で摺動したり、ガタついたりする
ことが防止される。また扉5を開放して、基板1
00をカセツトの開口部から水平に取り出すとき
は、押え部材7が基板100から離れるので、凸
部7a,7bによつて基板100に傷を付けるこ
とがない。
では、バネ11又は10とバネ14又は13とを
設け、扉5の閉成状態と開放状態とに従つてそれ
ぞれ押え部材7の凸部7a,7bに基板100を
押圧する力を発生させている。このため、基板1
00を収納してカセツトを搬送する際、基板10
0がカセツト内で摺動したり、ガタついたりする
ことが防止される。また扉5を開放して、基板1
00をカセツトの開口部から水平に取り出すとき
は、押え部材7が基板100から離れるので、凸
部7a,7bによつて基板100に傷を付けるこ
とがない。
次に、上述のカセツトを装着して、基板の出し
入れを行なう装置について、第3図により簡単に
説明する。カセツトは本発明の保持装置に相当す
るカートリツジ200に扉5が揃うように積み重
ねられて、複数個が装着される。このとき、各カ
セツトのガイド部材15がカートリツジ200の
支柱部200aで上下方向には移動不能に保持さ
れる。しかし着脱のため横方向には可能である。
そして、カセツト内の基板を載置するためのフオ
ーク形状の載置板201と、カセツトの扉5を開
閉するための開閉部材202とを一体に有する上
下動装置203が設けられる。上下動装置203
は、同図中矢印Yの如く、支柱200aに沿つて
上下に移動する。一方、載置板201は上下動装
置203内に設けられた不図示の水平移動機構に
よつて同図中矢印Xの如く移動可能とされてい
る。また、開閉部材202は通常は図示の如く、
屈曲した先端部202aが下方に位置するように
決められており、上下動装置203が上下動する
と、先端部202aは各カセツトの扉5の溝5a
と係合しつつ上下方向に移動する。そして、扉5
を開放するときは不図示の駆動源の作用で開閉部
材202が溝5aに係合して約90゜回転する。
入れを行なう装置について、第3図により簡単に
説明する。カセツトは本発明の保持装置に相当す
るカートリツジ200に扉5が揃うように積み重
ねられて、複数個が装着される。このとき、各カ
セツトのガイド部材15がカートリツジ200の
支柱部200aで上下方向には移動不能に保持さ
れる。しかし着脱のため横方向には可能である。
そして、カセツト内の基板を載置するためのフオ
ーク形状の載置板201と、カセツトの扉5を開
閉するための開閉部材202とを一体に有する上
下動装置203が設けられる。上下動装置203
は、同図中矢印Yの如く、支柱200aに沿つて
上下に移動する。一方、載置板201は上下動装
置203内に設けられた不図示の水平移動機構に
よつて同図中矢印Xの如く移動可能とされてい
る。また、開閉部材202は通常は図示の如く、
屈曲した先端部202aが下方に位置するように
決められており、上下動装置203が上下動する
と、先端部202aは各カセツトの扉5の溝5a
と係合しつつ上下方向に移動する。そして、扉5
を開放するときは不図示の駆動源の作用で開閉部
材202が溝5aに係合して約90゜回転する。
このような装置において、まず上下動装置20
3は載置板201が所望とするカセツトの扉5と
対向するように横方向に移動する。そして、その
状態で開閉部材202回転して扉5を第2図bの
ように開放する。扉5が開くと、載置板201が
カセツト内に進入する。このとき載置板201
は、第1図及び第2図において、基板100と底
蓋1との間隙に挿入される。載置板201が基板
100の下方に位置すると、上下動装置203が
わずかに上方へ移動する。これにより、基板10
0は底蓋1の段部1aから載置板201へ載せ替
えられると共に、基板100の裏面は段部1aの
突出部1jよりもわずかに高くなる。そして、載
置板201をカセツト内から水平に引き出せば、
基板はカセツト外に取り出せる。
3は載置板201が所望とするカセツトの扉5と
対向するように横方向に移動する。そして、その
状態で開閉部材202回転して扉5を第2図bの
ように開放する。扉5が開くと、載置板201が
カセツト内に進入する。このとき載置板201
は、第1図及び第2図において、基板100と底
蓋1との間隙に挿入される。載置板201が基板
100の下方に位置すると、上下動装置203が
わずかに上方へ移動する。これにより、基板10
0は底蓋1の段部1aから載置板201へ載せ替
えられると共に、基板100の裏面は段部1aの
突出部1jよりもわずかに高くなる。そして、載
置板201をカセツト内から水平に引き出せば、
基板はカセツト外に取り出せる。
このようにして、カセツトから取り出された基
板は、IC製造用の露光装置や、ゴミの付着や傷
を検査する装置等へ搬送するためのローダ装置に
受け渡される。一方、ゴミの付着が確認された基
板は、ただちに洗浄工程へまわすか、予備の同一
の基板と取り替える必要がある。それには、基板
を前述とは逆にカセツト内に戻した後その基板を
収納したカセツトのみを、カートリツジ200か
らぬき出せばよい。そこで、第4図の如く支柱部
200aの内壁側に複数のローラ300〜304
を設けて、このローラでカセツトのガイド部材1
5を支持すれば、カセツトはきわめてスムーズに
水平方向に着脱できる。
板は、IC製造用の露光装置や、ゴミの付着や傷
を検査する装置等へ搬送するためのローダ装置に
受け渡される。一方、ゴミの付着が確認された基
板は、ただちに洗浄工程へまわすか、予備の同一
の基板と取り替える必要がある。それには、基板
を前述とは逆にカセツト内に戻した後その基板を
収納したカセツトのみを、カートリツジ200か
らぬき出せばよい。そこで、第4図の如く支柱部
200aの内壁側に複数のローラ300〜304
を設けて、このローラでカセツトのガイド部材1
5を支持すれば、カセツトはきわめてスムーズに
水平方向に着脱できる。
すなわち第4図において、本願第2発明の固定
取付部を構成するローラ300,301,302
はガイド部材15の下面を支持する。ローラ30
3はガイド部材15の側面を転動すると共に、突
起部15bと当接して、カセツトの装着時の位置
決めを行なう。上記ローラ300〜303は、支
柱部200aに回転自在に設けられている。一
方、ガイド部材15の上面を転動するローラ30
4は、弾性部材305を介して支柱部200aに
取付けられている。この弾性部材305はローラ
304が常にガイド部材15を押圧するような付
勢力を発生する。
取付部を構成するローラ300,301,302
はガイド部材15の下面を支持する。ローラ30
3はガイド部材15の側面を転動すると共に、突
起部15bと当接して、カセツトの装着時の位置
決めを行なう。上記ローラ300〜303は、支
柱部200aに回転自在に設けられている。一
方、ガイド部材15の上面を転動するローラ30
4は、弾性部材305を介して支柱部200aに
取付けられている。この弾性部材305はローラ
304が常にガイド部材15を押圧するような付
勢力を発生する。
カセツトをカートリツジからぬき取るには、ガ
イド部材15が第4図中右方へ移動するように、
第3図に示したカセツトを単に後方へ引き出せば
よい。このように、ローラ304は常にガイド部
材15の上面を下方に押圧しているので、カセツ
トの着脱時において、その内部に収納されている
基板に不要な振動を与えることが低減される。
イド部材15が第4図中右方へ移動するように、
第3図に示したカセツトを単に後方へ引き出せば
よい。このように、ローラ304は常にガイド部
材15の上面を下方に押圧しているので、カセツ
トの着脱時において、その内部に収納されている
基板に不要な振動を与えることが低減される。
以上、カセツト内の基板100を出し入れする
装置について説明したが、他の実施例として載置
板201を確実に基板100と底蓋1との間隙に
挿入するために、第5図に示すようにガイド部材
15のテーパ部15a側の端面に収納した基板の
位置、例えば段部1aの高さに合わせて溝15c
を水平に設けておく。そして、前述の上下動装置
203には、このガイド部材15の溝15cに対
向するような光電検出器を一体に設けておく。こ
の光電検出器は光を発生して、物体からの反射光
を光電検出するいわゆる反射型のフオトカプラで
ある。
装置について説明したが、他の実施例として載置
板201を確実に基板100と底蓋1との間隙に
挿入するために、第5図に示すようにガイド部材
15のテーパ部15a側の端面に収納した基板の
位置、例えば段部1aの高さに合わせて溝15c
を水平に設けておく。そして、前述の上下動装置
203には、このガイド部材15の溝15cに対
向するような光電検出器を一体に設けておく。こ
の光電検出器は光を発生して、物体からの反射光
を光電検出するいわゆる反射型のフオトカプラで
ある。
このフオトカプラは、なるべく焦点深度の浅い
ものを使い、載置板201が基板100と底蓋1
との間隙に入いる位置になつたとき、溝15cを
検出するように位置決めする。そして、載置板2
01をカセツト内に挿入する前に、上下動装置2
03をわずかに上下動する。フオトカプラの光が
溝15cを照射して反射光が得られないときには
上下動装置203を停止すれば、載置板201は
正確に基板100の下方に摺動することなく挿入
できる。
ものを使い、載置板201が基板100と底蓋1
との間隙に入いる位置になつたとき、溝15cを
検出するように位置決めする。そして、載置板2
01をカセツト内に挿入する前に、上下動装置2
03をわずかに上下動する。フオトカプラの光が
溝15cを照射して反射光が得られないときには
上下動装置203を停止すれば、載置板201は
正確に基板100の下方に摺動することなく挿入
できる。
また、第6図のように、カセツトの開口端面1
cに反射率の高い反射部材400を設け、載置板
201の先端部には、反射型のフオトカプラ40
1を設けるようにしても、載置板201の挿入位
置を正確に検知することができる。
cに反射率の高い反射部材400を設け、載置板
201の先端部には、反射型のフオトカプラ40
1を設けるようにしても、載置板201の挿入位
置を正確に検知することができる。
以上説明したように、本発明によれば、レテイ
クル等の基板は、カセツトの扉を閉じた状態では
常にカセツト内に押圧されるから、カセツトをカ
ートリツジに着脱する際等振動によつて基板がカ
セツト内を摺動することが防止され、基板のエツ
ヂとカセツトの内壁とが当接して微小なガラス粉
や、その他のゴミを発生することがないという効
果が得られる。
クル等の基板は、カセツトの扉を閉じた状態では
常にカセツト内に押圧されるから、カセツトをカ
ートリツジに着脱する際等振動によつて基板がカ
セツト内を摺動することが防止され、基板のエツ
ヂとカセツトの内壁とが当接して微小なガラス粉
や、その他のゴミを発生することがないという効
果が得られる。
また、扉を開いた状態では、基板をカセツト内
に押圧する押え部材7が基板から離れるので、基
板を開口部から出し入れする際に、押え部材によ
つて傷付けることも防ぐことができる。
に押圧する押え部材7が基板から離れるので、基
板を開口部から出し入れする際に、押え部材によ
つて傷付けることも防ぐことができる。
さらに、本発明の装着装置によれば、基板を収
納した容器を保持装置に対してほぼ水平方向に装
着する際、保持装置の付勢部材(ローラ304、
弾性部材305)により上下方向が安定に規制さ
れる。そのため、内部の基板に不要な振動を与え
ることがなく、ガラス粉、その他のゴミの発生が
抑えらる効果が得られる。
納した容器を保持装置に対してほぼ水平方向に装
着する際、保持装置の付勢部材(ローラ304、
弾性部材305)により上下方向が安定に規制さ
れる。そのため、内部の基板に不要な振動を与え
ることがなく、ガラス粉、その他のゴミの発生が
抑えらる効果が得られる。
第1図は本発明の一実施例(収納容器)を示す
斜視図、第2図a及びbはその作動を示す部分断
面図、第3図は収納容器と組み合わせて使用され
るカートリツジの斜視図、第4図及び第5図はそ
れぞれガイド部材15の変形例を示す正面図及び
側面図、第6図は基板の挿入状態を検知する装置
の斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1……底板、ケー
ス、3……上蓋、ケース、収納容器、5……扉部
材、収納容器、7……作動部材、基板押え手段、
10,11,13,14……付勢部材、基板押え
手段。
斜視図、第2図a及びbはその作動を示す部分断
面図、第3図は収納容器と組み合わせて使用され
るカートリツジの斜視図、第4図及び第5図はそ
れぞれガイド部材15の変形例を示す正面図及び
側面図、第6図は基板の挿入状態を検知する装置
の斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1……底板、ケー
ス、3……上蓋、ケース、収納容器、5……扉部
材、収納容器、7……作動部材、基板押え手段、
10,11,13,14……付勢部材、基板押え
手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 レテイクル、マスク等の基板を水平に収納し
てほぼ密閉状態で収納する容器であつて、 前記基板をほぼ水平に出し入れする位置に開口
部が形成されるように、収納された基板の上面と
下面の夫々に対向した上壁部及び底壁部を備える
とともに、前記基板の上面と前記上壁部との間に
所定の空〓が形成されるように、前記基板の下面
を載置する突出部をその内部に備えたケース本体
と、 該ケース本体の開口部近傍に回動自在に設けら
れ、前記開口部を閉成状態と開放状態とに切り替
える扉部材と、 前記基板の上面と前記上壁部との間の空〓中に
配置され、前記基板の上面に当接した位置と、該
基板の上面から離れた位置との間で揺動する当接
部材と、 前記扉部材が閉成されているとき、該当接部材
を前記基板の上面に所定の付勢力で当接させて、
前記基板を前記突出部に向かつて押圧する第1付
勢部材と、 前記当接部材の揺動部と前記扉部材の一部との
間に設けられ、前記扉部材が開放されたとき、前
記第1付勢部材の付勢力に抗して、前記扉部材と
前記当接部材との間に、前記当接部材を前記基板
上面から離間させる付勢力を発生させる第2付勢
部材と、 を備えたことを特徴とする基板の収納容器。 2 前記第1及び第2の付勢部材の付勢力は、前
記扉部材5が閉じているときは、前記第1付勢部
材10,11が前記第2付勢部材13,14より
も強い付勢力を発生し、前記第2付勢部材13,
14が前記扉部材15を前記ケース本体1,3の
開口部1cへ押圧させる付勢力を発生するように
定められていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の基板の収納容器。 3 前記ケース本体は、前記開口部1cの反対側
において、前記上壁部3と底壁部1とを開閉可能
に支持するヒンジ2を備え、前記扉部材5は該上
壁部3の開口部1c側に回動自在に軸支され、前
記当接部材7,7a〜7dと前記第1付勢部材1
0,11とを前記上壁部3側に設けたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の
基板の収納容器。 4 レテイクル、マスク等の基板を水平に収納し
てほぼ密閉状態で収納する容器を水平方向に着脱
自在に保持する装着装置であつて、 前記容器の内部に設けられ、前記基板の上面側
と下面側の夫々に所定の空〓が形成されるよう
に、前記基板のパターン領域を避けた周辺部を載
置する突出部と、 前記容器の両側部に設けられ、収納された基板
の面とほぼ平行に該容器の厚さよりも小さな厚さ
で外部に突出するとともに、該容器の着脱方向に
伸びたガイド部材と、 前記容器の内部に設けられ、前記基板を前記突
出部の方へ所定の付勢力で押圧するために前記基
板の一部に当接する当接部材と、 前記容器を装着するために、前記ガイド部材の
ほぼ水平な下面部を載置する固定取付部と、 該固定取付部の上方に対向して配置され、前記
固定取付部に載置された前記ガイド部材の上面部
を下方へ押圧する押圧部材とを備え、 前記容器を着脱する際、前記ガイド部材を固定
取付部側へ所定の押圧力で付勢し続けることによ
り、前記容器に収納された基板の前記突出部上で
の振動を低減したことを特徴とする基板収納容器
の装着装置。 5 前記固定取付部は、前記ガイド部材15が水
平方向に着脱される際、該ガイド部材の下面部と
の当接によつて自在回転する複数の転動体30
0,301,302から成り、前記押圧部材は前
記ガイド部材15の上面部との当接によつて自在
回転する転動体304と、該転動体を前記固定取
付部の方へ付勢する弾性体305とを含むことを
特徴とする特許請求の範囲第4項に記載の装着装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56193491A JPS5895812A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | 基板の収納容器及び収納容器の装着装置 |
| US06/445,030 US4422547A (en) | 1981-12-01 | 1982-11-29 | Container for holding substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56193491A JPS5895812A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | 基板の収納容器及び収納容器の装着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5895812A JPS5895812A (ja) | 1983-06-07 |
| JPH0136255B2 true JPH0136255B2 (ja) | 1989-07-31 |
Family
ID=16308917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56193491A Granted JPS5895812A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | 基板の収納容器及び収納容器の装着装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4422547A (ja) |
| JP (1) | JPS5895812A (ja) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0219421Y2 (ja) * | 1984-12-30 | 1990-05-29 | ||
| JPH0620091B2 (ja) * | 1985-01-31 | 1994-03-16 | 株式会社ニコン | 基板の搬送装置 |
| JPH0237752Y2 (ja) * | 1985-05-21 | 1990-10-12 | ||
| JPS61278159A (ja) * | 1985-06-03 | 1986-12-09 | Yamaichi Electric Mfg Co Ltd | Icパツケ−ジ用キヤリア |
| US4842136A (en) * | 1987-02-13 | 1989-06-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Dust-proof container having improved construction for holding a reticle therein |
| JP3089590B2 (ja) * | 1991-07-12 | 2000-09-18 | キヤノン株式会社 | 板状物収納容器およびその蓋開口装置 |
| ATE152286T1 (de) * | 1992-08-04 | 1997-05-15 | Ibm | Tragbare abdichtbare unter druck stehende behältern zum speichern von halbleiterwafern in einer schützenden gasartigen umgebung |
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| FR2697000B1 (fr) * | 1992-10-16 | 1994-11-25 | Commissariat Energie Atomique | Boîte plate de confinement d'un objet plat sous atmosphère spéciale. |
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| JP2005123292A (ja) * | 2003-10-15 | 2005-05-12 | Canon Inc | 収納装置、当該収納装置を用いた露光方法 |
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| US10825714B2 (en) * | 2016-04-02 | 2020-11-03 | Intel Corporation | Stretching retention plate for electronic assemblies |
| CN108107672B (zh) * | 2016-11-25 | 2021-03-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种掩模版版盒 |
| CN206720206U (zh) * | 2017-05-11 | 2017-12-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版卡匣搬运车 |
| CN109292280B (zh) * | 2018-09-11 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 用于装载薄膜的盒和装载薄膜的方法 |
| CN113474267B (zh) * | 2019-02-22 | 2022-09-20 | 村田机械株式会社 | 盖开闭装置 |
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| JP7350907B2 (ja) * | 2022-01-24 | 2023-09-26 | 株式会社Screenホールディングス | 処理チャンバおよび基板処理装置 |
| TWI867892B (zh) * | 2023-12-12 | 2024-12-21 | 友達光電股份有限公司 | 物料容納盒及自動化補料系統 |
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| US3383507A (en) * | 1965-07-12 | 1968-05-14 | Polaroid Corp | X-ray film cassette having means for permitting slidable movement of the film withrespect ot the cassette |
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1981
- 1981-12-01 JP JP56193491A patent/JPS5895812A/ja active Granted
-
1982
- 1982-11-29 US US06/445,030 patent/US4422547A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4422547A (en) | 1983-12-27 |
| JPS5895812A (ja) | 1983-06-07 |
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