JPH0139098B2 - - Google Patents
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- JPH0139098B2 JPH0139098B2 JP55177312A JP17731280A JPH0139098B2 JP H0139098 B2 JPH0139098 B2 JP H0139098B2 JP 55177312 A JP55177312 A JP 55177312A JP 17731280 A JP17731280 A JP 17731280A JP H0139098 B2 JPH0139098 B2 JP H0139098B2
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- ohm
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0646—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system
- G03G5/0651—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system containing four relevant rings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/615—Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene
- H10K85/621—Aromatic anhydride or imide compounds, e.g. perylene tetra-carboxylic dianhydride or perylene tetracarboxylic di-imide
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明の目的は、電気半導体又は光伝導体とし
ての、一般式() 〔式中、Rは電子給体基を含有していなければ
ならない、好適には炭素数が12までの、特に8ま
での、飽和もしくはオレフイン系不飽和の脂肪族
又は脂環式基であり、そして基R1は独立して水
素、C1〜C4―アルキル基、ハロゲン原子、NO2,
SO3H,CN,COOR2もしくはNR2(ここでR2は
水素又はC1〜C4アルキル基である)、ヒドロキシ
ル又はC1〜C4アルコキシ基を表わす〕 のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド類の使用
である。 基R中の電子給体基は、ヘテロ原子、例えば―
O―,―S―又はNR3―(ここでR3は水素、C1
〜C6アルキル基又はCR5Oであり、ここでR5は水
素又はC1〜C12アルキルもしくはC1〜C12アルキレ
ン基である)、であることができる。無機もしく
は有機酸との又はアルキル化剤との反応後に、基
―NR3―(ここでR3は水素又はC1〜C6アルキル
基である)はアンモニウムイオン―N+R3R4―
(ここでR4は水素又はC1〜C4アルキル基である)
及びテトラシアノキノジメタン(TCNQ)のア
ニオン基を包含する無機もしくは有機アニオンと
しても存在でき、このさいTCNQの場合には当
量の中性TCNQがアニオン基の他に存在するこ
ともできる。 下記のものが半導体又は光伝導体としての使用
は特に適している: R=−(CH2)x−N(CH3)2(ここでx=2−
12)、
ての、一般式() 〔式中、Rは電子給体基を含有していなければ
ならない、好適には炭素数が12までの、特に8ま
での、飽和もしくはオレフイン系不飽和の脂肪族
又は脂環式基であり、そして基R1は独立して水
素、C1〜C4―アルキル基、ハロゲン原子、NO2,
SO3H,CN,COOR2もしくはNR2(ここでR2は
水素又はC1〜C4アルキル基である)、ヒドロキシ
ル又はC1〜C4アルコキシ基を表わす〕 のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド類の使用
である。 基R中の電子給体基は、ヘテロ原子、例えば―
O―,―S―又はNR3―(ここでR3は水素、C1
〜C6アルキル基又はCR5Oであり、ここでR5は水
素又はC1〜C12アルキルもしくはC1〜C12アルキレ
ン基である)、であることができる。無機もしく
は有機酸との又はアルキル化剤との反応後に、基
―NR3―(ここでR3は水素又はC1〜C6アルキル
基である)はアンモニウムイオン―N+R3R4―
(ここでR4は水素又はC1〜C4アルキル基である)
及びテトラシアノキノジメタン(TCNQ)のア
ニオン基を包含する無機もしくは有機アニオンと
しても存在でき、このさいTCNQの場合には当
量の中性TCNQがアニオン基の他に存在するこ
ともできる。 下記のものが半導体又は光伝導体としての使用
は特に適している: R=−(CH2)x−N(CH3)2(ここでx=2−
12)、
【式】(ここでx=2,3,4及び
6)、
−CH2−CH2−OH,−CH2−CH2−OCH3又は
−CH2−CH2−S−CH3
であるナフタレン―1,4,5,8―テトラカル
ボン酸ジイミド。 代表的な有機化合物の比伝導率は10-12オーム
-1cm-1より小さく、その結果それらは電気絶縁体
である。それとは対照的に、本発明に従い使用さ
れる物質は>10-12オーム-1cm-1の比伝導率を有
しており、それは露光時には2〜100倍に増大す
る。従つて、これらの物質は例えば光複写の如き
複写法用に、及び例えば特に光電池及び光バリア
の如き光エレクトロニクス構成部品用に特に適し
ている。 本発明に従つて使用される物質は、例えばドイ
ツ公告明細書1230031及び1195762並びにドイツ公
開明細書1445768及び1455769から知られている。 実施例 1 710重量部のナフタレン―1,4,5,8―テ
トラカルボン酸及び830重量部のN―ヘキシルア
ミノ―ピロリドンを1900容量部のジメチルホルム
アミド中で還流下で2時間沸点に加熱した。冷却
後に、混合物を濾過し、残渣をジメチルホルムア
ミドで洗浄し、次にエーテルで洗浄すると、1270
重量部のジイミドが得られた。 粉末状でマイクロウエーブ伝導率を測定する
と、〜0.3×10-3オーム-1cm-1の暗伝導率が得られ
た。キセノン高圧ランプに20分間露光後に、伝導
率は0.55×10-3オーム-1cm-1に増加した(測定周
波数9GHz)。 実施例 2 実施例1と同様にして製造されたジイミド
は、〜0.3×10-3オーム-1cm-1の暗伝導率を示して
おり、それは20分の露光後に5.5×10-3オーム-1
cm-1に増大した(マイクロウエーブ伝導率測定)。 実施例 3 実施例1と同様にしてナフタレン―1,4,
5,8―テトラカルボン酸二無水物から製造され
たジイミドは1.9×10-3オーム-1cm-1の暗伝導率
(微結晶性試料、マイクロウエーブ伝導率測定、
測定周波数9GHz)を示し、それはキセノン高圧
ランプに20分間露光した後に、67×10-3オーム-1
cm-1に増加した。 本発明に従うジイミド類は、電子連結部品中の
光エレクトロニクス構造単位として又は再生装置
中での光伝導体として使用できる。
ボン酸ジイミド。 代表的な有機化合物の比伝導率は10-12オーム
-1cm-1より小さく、その結果それらは電気絶縁体
である。それとは対照的に、本発明に従い使用さ
れる物質は>10-12オーム-1cm-1の比伝導率を有
しており、それは露光時には2〜100倍に増大す
る。従つて、これらの物質は例えば光複写の如き
複写法用に、及び例えば特に光電池及び光バリア
の如き光エレクトロニクス構成部品用に特に適し
ている。 本発明に従つて使用される物質は、例えばドイ
ツ公告明細書1230031及び1195762並びにドイツ公
開明細書1445768及び1455769から知られている。 実施例 1 710重量部のナフタレン―1,4,5,8―テ
トラカルボン酸及び830重量部のN―ヘキシルア
ミノ―ピロリドンを1900容量部のジメチルホルム
アミド中で還流下で2時間沸点に加熱した。冷却
後に、混合物を濾過し、残渣をジメチルホルムア
ミドで洗浄し、次にエーテルで洗浄すると、1270
重量部のジイミドが得られた。 粉末状でマイクロウエーブ伝導率を測定する
と、〜0.3×10-3オーム-1cm-1の暗伝導率が得られ
た。キセノン高圧ランプに20分間露光後に、伝導
率は0.55×10-3オーム-1cm-1に増加した(測定周
波数9GHz)。 実施例 2 実施例1と同様にして製造されたジイミド
は、〜0.3×10-3オーム-1cm-1の暗伝導率を示して
おり、それは20分の露光後に5.5×10-3オーム-1
cm-1に増大した(マイクロウエーブ伝導率測定)。 実施例 3 実施例1と同様にしてナフタレン―1,4,
5,8―テトラカルボン酸二無水物から製造され
たジイミドは1.9×10-3オーム-1cm-1の暗伝導率
(微結晶性試料、マイクロウエーブ伝導率測定、
測定周波数9GHz)を示し、それはキセノン高圧
ランプに20分間露光した後に、67×10-3オーム-1
cm-1に増加した。 本発明に従うジイミド類は、電子連結部品中の
光エレクトロニクス構造単位として又は再生装置
中での光伝導体として使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、Rは電子給体基を含有している飽和も
しくはオレフイン系不飽和の脂肪族又は脂環式基
であり、そして R1は独立して、水素、C1―C4のアルキル基、
ハロゲン、NO2,SO3H,CN又は基COOR2もし
くはNR2(ここでR2は水素又はC1〜C4アルキル基
である)、ヒドロキシル基又はC1〜C4アルコキシ
基を表わす〕 のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド類よりな
る電気半導体又は光伝導体。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19792951349 DE2951349A1 (de) | 1979-12-20 | 1979-12-20 | Naphthalintetracarbonsaeurediimide als elektrische halbleiter und photoleiter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5695241A JPS5695241A (en) | 1981-08-01 |
| JPH0139098B2 true JPH0139098B2 (ja) | 1989-08-18 |
Family
ID=6089043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17731280A Granted JPS5695241A (en) | 1979-12-20 | 1980-12-17 | Naphthalene tetracarbonic acid diimide as semicondctor and photoconductor |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0031065B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5695241A (ja) |
| DE (2) | DE2951349A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0380887A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-05 | Akira Ishikawa | 敷ぶとんの製造方法 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4841073A (en) * | 1985-11-30 | 1989-06-20 | Bayer Aktiengesellschaft | Radical anion salts of derivatives of 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid and their use |
| JPH02244058A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-09-28 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
| JPH02305886A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-19 | Nec Corp | 有機薄膜el素子 |
| US5468583A (en) * | 1994-12-28 | 1995-11-21 | Eastman Kodak Company | Cyclic bis-dicarboximide electron transport compounds for electrophotography |
| JPWO2002040479A1 (ja) * | 2000-11-14 | 2004-03-25 | 塩野義製薬株式会社 | 抗ヘリコバクター剤 |
| WO2003095453A1 (en) * | 2002-05-13 | 2003-11-20 | Shionogi & Co., Ltd. | Compounds against helicobacter activity |
| WO2005076815A2 (en) | 2004-01-26 | 2005-08-25 | Northwestern University | PERYLENE n-TYPE SEMICONDUCTORS AND RELATED DEVICES |
| US7579619B2 (en) | 2005-04-20 | 2009-08-25 | Eastman Kodak Company | N,N′-di(arylalkyl)-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as n-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US7629605B2 (en) * | 2005-10-31 | 2009-12-08 | Eastman Kodak Company | N-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US7422777B2 (en) | 2005-11-22 | 2008-09-09 | Eastman Kodak Company | N,N′-dicycloalkyl-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as n-type semiconductor materials for thin film transistors |
| DE102005061997A1 (de) * | 2005-12-23 | 2007-07-05 | Basf Ag | Naphthalintetracarbonsäurederivate und deren Verwendung |
| WO2007146250A2 (en) * | 2006-06-12 | 2007-12-21 | Northwestern University | Naphthalene-based semiconductor materials and methods of preparing and use thereof |
| EP2089398A2 (en) | 2006-10-25 | 2009-08-19 | Polyera Corporation | Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof |
| WO2008063609A2 (en) | 2006-11-17 | 2008-05-29 | Polyera Corporation | Diimide-based semiconductor materials and methods of preparing and using the same |
| US7804087B2 (en) * | 2006-12-07 | 2010-09-28 | Eastman Kodak Company | Configurationally controlled N,N'-Dicycloalkyl-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as N-type semiconductor materials for thin film transistors |
| KR20090117730A (ko) | 2007-01-08 | 2009-11-12 | 폴리에라 코퍼레이션 | 아렌-비스(디카르복스이미드)-기재 반도체 물질, 및 이를 제조하기 위한 관련된 중간체의 제조 방법 |
| WO2008091670A2 (en) | 2007-01-24 | 2008-07-31 | Polyera Corporation | Organic semiconductor materials and precursors thereof |
| US7858970B2 (en) | 2007-06-29 | 2010-12-28 | Eastman Kodak Company | Heterocycloalkyl-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as N-type semiconductor materials for thin film transistors |
| JP5392461B2 (ja) * | 2008-01-17 | 2014-01-22 | 株式会社リコー | 電子写真装置 |
| US8380109B2 (en) * | 2008-01-11 | 2013-02-19 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus and process cartridge |
| JP5733612B2 (ja) * | 2011-03-08 | 2015-06-10 | 国立大学法人信州大学 | 有機半導体薄膜用材料、該材料を用いた有機半導体薄膜の形成方法および有機薄膜トランジスタ |
| KR102282494B1 (ko) | 2014-08-28 | 2021-07-26 | 삼성전자주식회사 | 유기 광전 소자 및 이미지 센서 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1230031B (de) * | 1964-06-05 | 1966-12-08 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Derivaten des Naphthalin-1, 4, 5, 8-tetracarbonsaeurediimids |
| DE2059540C3 (de) * | 1970-12-03 | 1985-05-15 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer photoleitfähigen Schicht |
| DE2636421A1 (de) * | 1976-08-13 | 1978-02-16 | Basf Ag | Elektrisch leitfaehige perylenderivate |
-
1979
- 1979-12-20 DE DE19792951349 patent/DE2951349A1/de not_active Withdrawn
-
1980
- 1980-12-08 EP EP80107719A patent/EP0031065B1/de not_active Expired
- 1980-12-08 DE DE8080107719T patent/DE3065326D1/de not_active Expired
- 1980-12-17 JP JP17731280A patent/JPS5695241A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0380887A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-05 | Akira Ishikawa | 敷ぶとんの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0031065A2 (de) | 1981-07-01 |
| JPS5695241A (en) | 1981-08-01 |
| DE2951349A1 (de) | 1981-07-02 |
| EP0031065A3 (en) | 1982-01-20 |
| DE3065326D1 (en) | 1983-11-17 |
| EP0031065B1 (de) | 1983-10-12 |
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