JPH0142748B2 - - Google Patents
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- JPH0142748B2 JPH0142748B2 JP55096519A JP9651980A JPH0142748B2 JP H0142748 B2 JPH0142748 B2 JP H0142748B2 JP 55096519 A JP55096519 A JP 55096519A JP 9651980 A JP9651980 A JP 9651980A JP H0142748 B2 JPH0142748 B2 JP H0142748B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00596—Mirrors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子線(以下、単にEBと言う)硬
化材料と鏡面を有する材料を組合せることによ
り、高性能の鏡面を成形させる方法に関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of forming a high-performance mirror surface by combining an electron beam (hereinafter simply referred to as EB) hardening material and a material having a mirror surface.
鏡面は、高級意匠品に広く求められる意匠であ
り、建材用途では、高級化粧板(メラミン化粧
板、ダツプ化粧板等)の表面、包材用途、商業印
刷用途では界面の超ハイグロス製品に求められて
いる。現在の鏡面化方法としては、カレンダー
ロールプレス、鏡面板でのプレス、フイルム
貼り、鏡面材料とのウエツトラミネーシヨンが
あるが、各々に問題がある。カレンダーロールプ
レスは、鏡面を有するロールを用いて、高圧でプ
レスすることにより鏡面化する方法であるが、不
充分な鏡面意匠しか得られない。鏡面板によるプ
レスは、熱硬化性樹脂化粧板の製造工程に於いて
樹脂含浸紙を鏡面板を用いて高温高圧でプレスす
ることにより熱硬化し鏡面化する方法であり、良
好な鏡面が得られるものの、枚葉でのプレスとな
るため生産性に劣る。フイルム貼りは現在広く行
なわれている方法で、印刷物に薄い透明フイルム
(ポリプロピレンなど)をラミネートすることに
より鏡面を得る方法であるが、不充分な鏡面意匠
しか得られない。鏡面材料とのウエツトラミネー
シヨンでは、表面光沢性のよいフイルムと樹脂コ
ートした紙とをウエツトラミネートすることによ
り、紙の表面コート樹脂を鏡面化する方法であ
り、良好な鏡面意匠を得られるものの、ウエツト
ラミネーシヨンであるため樹脂の乾燥硬化が遅
く、基材として紙などの通気性材料に限定され
る。 A mirror surface is a design that is widely required for high-end products, and is required for ultra-high-gloss products on the surfaces of high-grade decorative laminates (melamine decorative laminates, daptop decorative laminates, etc.) for building materials, packaging materials, and interfaces for commercial printing applications. ing. Current mirror finishing methods include calendar roll pressing, pressing with a mirror plate, film adhesion, and wet lamination with a mirror material, but each has its own problems. Calendar roll press is a method of creating a mirror surface by pressing under high pressure using a roll having a mirror surface, but only an insufficient mirror surface design can be obtained. Pressing with a mirror plate is a method used in the manufacturing process of thermosetting resin decorative boards to thermoset and create a mirror surface by pressing resin-impregnated paper with a mirror plate at high temperature and pressure, resulting in a good mirror surface. However, productivity is poor because it requires single-wafer pressing. Film lamination is a method widely used at present, in which a mirror surface is obtained by laminating a thin transparent film (such as polypropylene) onto a printed matter, but only an insufficient mirror surface design can be obtained. Wet lamination with mirror material is a method of making the paper's surface coated resin mirror-like by wet-laminating a film with good surface gloss and resin-coated paper, resulting in a good mirror-like design. However, since it is wet lamination, the drying and curing of the resin is slow, and the base material is limited to breathable materials such as paper.
本発明者らは、上記の欠点に鑑み、鋭意検討し
た結果、EB硬化性樹脂を用いて、鏡面材料と基
材とをウエツトラミネーシヨンすることにより、
上記欠点の解決が為されることを見出し本発明を
完成させた。 In view of the above-mentioned drawbacks, the inventors of the present invention have made extensive studies and found that by wet laminating a mirror material and a base material using an EB curable resin,
The inventors have found that the above drawbacks can be solved and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、基材(または鏡面材料)
にEB硬化性液状物を塗布し、その後該液状物を
加熱し、更に鏡面材料(または基材)とラミネー
トした後、EBで液状物を硬化させ、最後に硬化
物を鏡面材料より剥離することにより、硬化物表
面を鏡面とするものである。 That is, the present invention provides a base material (or mirror material)
Applying an EB curable liquid material to the surface, then heating the liquid material, laminating it with a mirror material (or base material), curing the liquid material with EB, and finally peeling off the cured material from the mirror material. This makes the surface of the cured product mirror-like.
本発明によれば、基材と鏡面材料をウエツトラ
ミネーシヨンするために、高度な鏡面を得られる
うえEBで硬化させるため、乾燥工程は不要とな
り、基材にあらゆる材料が適用可能である。従つ
て、意匠性・作業性の著しい改良が達成され、製
品の適用範囲も拡大できる。 According to the present invention, since the base material and the mirror material are wet laminated, a high mirror surface can be obtained, and since the material is cured by EB, a drying process is not necessary, and any material can be used as the base material. Therefore, significant improvements in design and workability are achieved, and the range of application of the product can be expanded.
以下、図面を用いて上記本発明を詳細に説明す
る。第1図は本発明の方法に用いる装置の一例を
概略的に示すものであつて、第1図では基材1の
上に塗布装置2を用いてEB硬化性を有する液状
物3を塗布した後、EB照射前にヒーター6によ
りプレヒートし、その後鏡面材料4を鏡面状態の
表面を基材1に向けてラミネートし、EB照射機
5で液状物を硬化させ最後に鏡面材料4を剥離す
る。さらに必要な場合には、ヒーター7によりプ
レヒート或いは、EB照射後にヒーター8により
ポストヒートを行なつてもよい。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings. FIG. 1 schematically shows an example of an apparatus used in the method of the present invention. In FIG. 1, a liquid substance 3 having EB curability is applied onto a substrate 1 using a coating apparatus 2. After that, the mirror material 4 is preheated by a heater 6 before EB irradiation, and then the mirror material 4 is laminated with the mirror surface facing the base material 1, the liquid material is hardened by the EB irradiation machine 5, and finally the mirror material 4 is peeled off. Furthermore, if necessary, preheating may be performed using the heater 7 or postheating may be performed using the heater 8 after EB irradiation.
第2図では、鏡面材料4のうえに塗布装置2を
用いてEB硬化性を有する液状物3を塗布した後
ヒーター6によりプレヒートし、その後基材1を
ラミネートし、EB照射機5で液状物を硬化させ、
最後に鏡面材料から硬化物を剥離する。この場合
も必要ならばヒーター7,8によるプレヒート又
はポストヒートを行なつてもよい。上記において
鏡面材料4は巻取り状にして供給、回収を行なう
ことができる他、無端ベルト状にして連続的に使
用することもできる。また、第1図及び第2図の
様に連続製造ラインでなく各工程別のオフライン
で枚葉で製造しても問題ない。さらに、必要なら
ば最後に硬化物を基材から剥離してもよい。上記
工程でプレヒートを行なうことにより、EB硬化
性液状物の流動性が良くなり、また該液状物の
EBによる硬化反応性を上げることができる。更
に、該液状物の膜厚を制御することも可能であ
る。更に、該液状物にわずかの低沸点希釈溶剤を
添加して該液状物のコーテイング適性を向上させ
るためには、EB照射前にプレヒートして希釈溶
剤を揮発させることが望ましい。特に、該液状物
をラミネートするのでラミネート前にエアーの混
入を抑えることができる。即ち、EB照射時にラ
ミネートと該液状物の間に空気中の酸素による硬
化の抑制を受ける。しかしながら、プレヒートに
より該液状物の流動性が良いから該液状物とラミ
ネート物とが密着するので上記のような空気中の
酸素の混入を避けることができる。 In FIG. 2, a liquid substance 3 having EB curability is applied onto a mirror material 4 using a coating device 2, and then preheated by a heater 6. After that, a base material 1 is laminated, and a liquid substance 3 is applied by an EB irradiation machine 5. harden,
Finally, the cured product is peeled off from the mirror material. In this case as well, if necessary, preheating or postheating may be performed using the heaters 7 and 8. In the above, the mirror material 4 can be supplied and collected in a rolled form, and can also be used continuously in the form of an endless belt. Further, there is no problem in producing the film in single wafers, not in a continuous production line as shown in FIGS. 1 and 2, but in each process off-line. Furthermore, if necessary, the cured product may be peeled off from the base material at the end. By performing preheating in the above step, the fluidity of the EB curable liquid improves, and the
Can increase curing reactivity by EB. Furthermore, it is also possible to control the film thickness of the liquid material. Further, in order to improve the coating suitability of the liquid by adding a small amount of a low-boiling diluent to the liquid, it is desirable to preheat the liquid before EB irradiation to volatilize the diluent. In particular, since the liquid material is laminated, it is possible to prevent air from entering before lamination. That is, during EB irradiation, curing is inhibited by oxygen in the air between the laminate and the liquid material. However, since the fluidity of the liquid material is good due to preheating, the liquid material and the laminate come into close contact with each other, so that the above-mentioned mixing of oxygen in the air can be avoided.
ここで、EB硬化性液状物を基材と鏡面材料の
どちらに塗布するか或いは、EBをどちら側から
照射するかは基材及び鏡面材料の性状(厚み、巻
取り適性、基材への樹脂浸み込み等)により選択
できる。例えば、基材が厚く、EBの透過が不充
分の場合には、鏡面材料を上からラミネートし、
その上からEBを照射するべきであり、また、鏡
面材料が金属板のような硬いものの場合や基材が
紙のような樹脂浸み込みの甚しいものの場合に
は、基材を上からラミネートしその上からEBを
照射すべきである。 Here, whether to apply the EB curable liquid to the base material or the mirror material, or which side to irradiate EB from, depends on the properties of the base material and the mirror material (thickness, suitability for winding, resin applied to the base material). (seepage, etc.) can be selected. For example, if the base material is thick and EB transmission is insufficient, a mirror material can be laminated on top.
EB should be irradiated from above, and if the mirror material is hard like a metal plate or the base material is heavily soaked with resin like paper, the base material should be laminated from above. EB should be irradiated from above.
さて、ここで基材としては金属板、金属シー
ト、木質ボード、プラスチツクフイルム、紙、無
機ボード等のあらゆる材料が可能であり、表面に
印刷を施した化粧フイルム、化粧ボードでもよい
が、特にEBの低温キユアの特徴を利用するもの
として、200℃以下の軟化点を有するプラスチツ
クフイルムを用いることができる。 Now, here, the base material can be any material such as metal plate, metal sheet, wooden board, plastic film, paper, inorganic board, etc., and decorative film or decorative board with printing on the surface may also be used, but especially EB A plastic film having a softening point of 200° C. or less can be used to take advantage of the low-temperature cure characteristics.
鏡面材料としては金属板、金属シート、プラス
チツクフイルム、樹脂コート紙、金属蒸着フイル
ム、金属蒸着紙、ガラス等の材料が用いられる
が、特に、EBの低温キユアの特徴を利用するも
のとして、200℃以下の軟化点を有するプラスチ
ツクフイルムを用いることができる。 Materials used as mirror materials include metal plates, metal sheets, plastic films, resin coated paper, metallized films, metallized paper, and glass. Plastic films having softening points below can be used.
EB照射により硬化可能なEB硬化材料は、分子
中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマー
もしくはオリゴマー例えば不飽和ポリエステル
類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、ポリオールアクリレート、メラミン
アクリレートなどの各種アクリレート類、ポリエ
ステルメタクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ウレタンメタクリレート、ポリエーテルメタ
クリレート、ポリオールメタクリレート、メラミ
ンメタクリレートなどの各種メタクリレート類な
どの一種または二種以上と、分子中にエチレン性
不飽和結合を有するモノマー、例えば、スチレ
ン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー
類;アクリル酸メチル、アクリル酸2−エチルヘ
キシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸
ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
メトキシブチル、アクリル酸フエニル等のアクリ
ル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル
酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシチチ
ル、メタクリル酸フエニル、メタクリル酸ラウリ
ル等のメタクリル酸エステル類;アクリルアミ
ド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド;アクリル酸2−(N、N−ジメチルアミノ)
エチル、メタクリル酸2−(N、N−ジメチルア
ミノ)エチル、アクリル酸2−(N、N−ジベン
ジルアミノ)エチル、メタクリル酸(N、N−ジ
メチルアミノ)メチル、アクリル酸2−(N、N
−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和酸の置換
アミノアルコールエステル類;エチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、ジプロピレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート、プロピレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個
以上のチオール基を有するポリチオール化合物例
えばトリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピオネ
ート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレ
ートなどを混合して作ることができる。 EB curable materials that can be cured by EB irradiation include prepolymers or oligomers having ethylenically unsaturated bonds in their molecules, such as unsaturated polyesters, polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, melamine acrylates, etc. acrylates, polyester methacrylate, epoxy methacrylate, urethane methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate, melamine methacrylate, etc., and a monomer having an ethylenically unsaturated bond in the molecule, e.g. Styrenic monomers such as , styrene, and α-methylstyrene; acrylic acids such as methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, and phenyl acrylate. Esters; Methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxytityl methacrylate, phenyl methacrylate, and lauryl methacrylate; Unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide; Acrylic acid 2-(N,N-dimethylamino)
Ethyl, 2-(N,N-dimethylamino)ethyl methacrylate, 2-(N,N-dibenzylamino)ethyl acrylate, (N,N-dimethylamino)methyl methacrylate, 2-(N, N
Substituted amino alcohol esters of unsaturated acids such as -diethylamino)propyl; ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate,
Polyfunctional compounds such as diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, and/or having two or more thiol groups in the molecule It can be prepared by mixing polythiol compounds such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropionate, and pentaerythritol tetrathioglycolate.
上記EB硬化材料を作るときの制限は特になく
任意に混合して用いることができるが、通常のコ
ーテイング適性を付与するためには上記プレポリ
マーもしくはオリゴマーを5重量%以上、上記モ
ノマー及び/又は上記ポリチオールを95重量%以
下とすることが好ましい。 There are no particular restrictions when making the above EB curing material, and it can be mixed as desired, but in order to provide normal coating suitability, the above prepolymer or oligomer should be added in an amount of 5% by weight or more, the above monomer and/or the above It is preferable that the polythiol content be 95% by weight or less.
EB硬化材料へは、EB照射以前に硬化すること
を防止するためにハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、ベンゾキノンなどの重合
禁止剤を安定剤として添加することもできる。 A polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, or benzoquinone can also be added to the EB-curable material as a stabilizer to prevent it from curing before EB irradiation.
前述の如くして得られたEB硬化材料の塗布方
法としては、ロールコーター、カーテンフローコ
ーター、ミヤバーコーター、グラビアロールコー
ター、エアーナイフコーター等の公知のコーテイ
ング法を用いることができるが、基材或いは鏡面
材料の柱状により選択しなければならない。ま
た、塗布量は塗布方法及び電子線照射機により異
なるが1〜100μが望ましい。 As a method for applying the EB cured material obtained as described above, known coating methods such as a roll coater, curtain flow coater, Miyabar coater, gravure roll coater, and air knife coater can be used. Alternatively, it must be selected depending on the columnar shape of the mirror material. The coating amount varies depending on the coating method and electron beam irradiation machine, but is preferably 1 to 100 μm.
基材と鏡面材料との間に介在させたEB硬化材
料は窒素雰囲気中で低エネルギー電子加速度たと
えばエネルギーサイエンスインダストリー社製エ
レクトロカーテンCB20d50/30あるいはオツトー
デユール社製NP−ESH150などを用いて連続的
に巻取りながら硬化させることができる。この時
のEB照射量はEB硬化材料が硬化するだけの吸収
線量で良く、通常0.5〜30Mradである。 The EB hardening material interposed between the base material and the mirror material is continuously wound in a nitrogen atmosphere using a low-energy electron acceleration, such as an electrocurtain CB20d50/30 manufactured by Energy Science Industry Co., Ltd. or NP-ESH150 manufactured by Otsuto Duel Co., Ltd. It can be cured while being removed. The EB irradiation dose at this time may be an absorbed dose sufficient to harden the EB curing material, and is usually 0.5 to 30 Mrad.
液状物の種類や塗布厚、またEB照射方法によ
つては、EB照射の前2回、更に後にプレヒート
やポストヒートを行なう場合がある。例えば、ラ
ミネート工程後、EB照射前に加熱工程を行えば、
更に該液状物を平滑にする結果がある。また、
EB照射による硬化が不充分の場合にはEB照射後
にポストヒートして、さらに架橋を進めることが
できる。 Depending on the type of liquid material, coating thickness, and EB irradiation method, preheating or postheating may be performed twice before EB irradiation, and then again after EB irradiation. For example, if a heating process is performed after the lamination process and before EB irradiation,
Furthermore, it has the effect of smoothing out the liquid. Also,
If curing by EB irradiation is insufficient, post-heating can be performed after EB irradiation to further promote crosslinking.
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に
説明する。尚、以下の文中「部」は「重量部」を
示す。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Note that "parts" in the following text indicate "parts by weight."
実施例 1
ポリエステルフイルム12μに下記の組成物をグ
ラビアロールコーダーで5μ厚に塗布した。Example 1 The following composition was coated on a 12μ polyester film to a thickness of 5μ using a gravure roll coater.
ウレタンアクリレート(日本合成社製
XP7000B) 30部
オリゴエステルアクリレート(東亜合成社製
アロニツクスM7300) 70部
この塗布物をウエツト状態のまま、3×6尺サ
イズの木目印刷紙貼り合板の印刷紙面上にラミネ
ートし、スキヤンニング方式の電子線照射機で
5Mradの線量をポリエステルフイルムの上から
照射した。塗布物の硬化後、ポリエステルフイル
ムを剥離したところ、鏡面を有する木目プリント
合板が得られた。Urethane acrylate (manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.)
XP7000B) 30 parts oligoester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Aronix M7300) 70 copies This coated material was laminated in a wet state onto the printed paper surface of a 3 x 6 size wood grain printed paper laminated board, and then exposed using a scanning electron beam irradiation machine.
A dose of 5 Mrad was applied over the polyester film. After the coating material had hardened, the polyester film was peeled off, and a wood grain printed plywood with a mirror surface was obtained.
実施例 2
Al蒸着紙20μに下記組成物をリバースロールコ
ーダーで40μ厚に塗布した。Example 2 The following composition was coated to a thickness of 40 μm on 20 μm Al-deposited paper using a reverse roll coder.
ポリエステルアクリレート(三井東圧社製オレ
スターXRA1234) 70部
1.6−ヘキサンジオールジアクリレート 30部
この塗布物をウエツト状態のまま、セロフアン
フイルム12μとラミネートし、窒素雰囲気中で、
150Kev、5mAのカーテン状電子線により
2Mradの線量を照射した。その後、セロフアン
フイルムを剥離したところ超ハイグロスのAl蒸
着紙が得られた。ただし、製造は全てインライン
で、30m/minのスピードで行なつた。Polyester acrylate (Mitsui Toatsu Orestar
By 150Kev, 5mA curtain electron beam
A dose of 2 Mrad was irradiated. Thereafter, when the cellophane film was peeled off, ultra-high gloss Al-deposited paper was obtained. However, all manufacturing was done in-line at a speed of 30 m/min.
実施例 3
100μのステンレスシートに下記組成物をカー
テンフローコーターで40μ厚に塗布した。Example 3 The following composition was coated to a thickness of 40μ on a 100μ stainless steel sheet using a curtain flow coater.
エポキシアクリレート(昭和高分子社製リポキ
シVR90) 60部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(日本化薬社製DPHA) 40部
メチルエチルケトン(MEK) 15部
これをプレヒータでMEKを揮発させた後、液
体洗剤容器内ラベルを印刷した紙を印刷面を介し
てラミネートした。そのまま、スキヤニング方式
の電子線照射機で5Mradの線量を印刷紙の上か
ら照射した。硬化後、ステンレスシートから硬化
物を剥離したところ超ハイグロスのラベルが得ら
れた。Epoxy acrylate (Lipoxy VR90 manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) 60 parts Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 40 parts Methyl ethyl ketone (MEK) 15 parts After volatilizing MEK with a preheater, label inside the liquid detergent container. The printed paper was laminated with the printed side in between. The printed paper was then irradiated with a dose of 5 Mrad using a scanning electron beam irradiation machine. After curing, when the cured product was peeled off from the stainless steel sheet, an ultra-high gloss label was obtained.
第1図及び第2図は、それぞれ本発明の方法に
用いる装置の概略を例示する模式図である。
1……基材、2……塗布装置、3……EB硬化
性液状物、4……鏡面材料、5……EB照射機、
6……ヒータ、7……ヒータ、8……ヒータ。
FIG. 1 and FIG. 2 are schematic diagrams each illustrating the outline of an apparatus used in the method of the present invention. 1... Base material, 2... Coating device, 3... EB curable liquid, 4... Mirror material, 5... EB irradiation machine,
6... Heater, 7... Heater, 8... Heater.
Claims (1)
による鏡面成形法。 (a) 連続シート状の基材と鏡面状態の表面を有す
る連続シート状の鏡面材料とを該鏡面状態の表
面を基材側にして予め加熱した電子線硬化性を
有する液状物を介してラミネートする工程、 (b) 上記ラミネート物に電子線を照射し、液状物
を硬化する工程、及び (c) 硬化物を連続シート状の鏡面材料より連続的
に剥離する工程。 2 前記液状物は加熱に先立ち予め基材の一方の
面に塗布されている特許請求の範囲第1項記載の
鏡面成形法。 3 前記液状物は加熱に先立ち予め鏡面材料の鏡
面状態の表面に塗布されている特許請求の範囲第
1項記載の鏡面成形法。 4 前記工程(c)の後に、硬化物を基材から剥離す
る工程を含む特許請求の範囲第1項、第2項又は
第3項記載の鏡面成形法。 5 前記鏡面材料または基材が200℃以下の軟化
点を有する特許請求の範囲第1項、第2項、第3
項または第4項記載の鏡面成形法。 6 前記工程(a)の後、または工程(b)の後ろの少な
くとも一に加熱工程を含む特許請求の範囲第1
項、第2項、第3項、第4項または第5項記載の
鏡面形成法。[Scope of Claims] 1. A method for mirror-finishing by electron beam irradiation, characterized by including the following steps. (a) A continuous sheet-like base material and a continuous sheet-like mirror material having a mirror-like surface are laminated with the mirror-like surface facing the base material through a preheated liquid substance having electron beam curability. (b) a step of curing the liquid material by irradiating the laminate with an electron beam; and (c) a step of continuously peeling off the cured material from the continuous sheet-like mirror material. 2. The mirror surface molding method according to claim 1, wherein the liquid material is applied to one surface of the base material in advance before heating. 3. The mirror surface forming method according to claim 1, wherein the liquid substance is applied in advance to the mirror-like surface of the mirror material before heating. 4. The mirror surface molding method according to claim 1, 2, or 3, which includes a step of peeling the cured product from the base material after the step (c). 5 Claims 1, 2, and 3 in which the mirror material or base material has a softening point of 200°C or less
The mirror surface forming method according to item 1 or 4. 6. Claim 1, which includes a heating step at least once after the step (a) or after the step (b).
The method for forming a mirror surface according to item 2, item 3, item 4, or item 5.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9651980A JPS5722204A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | Formation of mirror surface by electron beam irradiation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9651980A JPS5722204A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | Formation of mirror surface by electron beam irradiation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5722204A JPS5722204A (en) | 1982-02-05 |
| JPH0142748B2 true JPH0142748B2 (en) | 1989-09-14 |
Family
ID=14167381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9651980A Granted JPS5722204A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | Formation of mirror surface by electron beam irradiation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5722204A (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5759667A (en) * | 1980-09-29 | 1982-04-10 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Curing method using electron beam radiation |
| JP2797281B2 (en) * | 1989-06-16 | 1998-09-17 | 大日本印刷株式会社 | Soft coat film |
| JP2010188301A (en) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | C I Kasei Co Ltd | Method of manufacturing decorative sheet |
| JP2012225957A (en) * | 2011-04-14 | 2012-11-15 | Toagosei Co Ltd | Electron beam curable composition for formation of light diffusion film or sheet, and light diffusion film or sheet |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3713080A (en) * | 1971-09-20 | 1973-01-23 | Ford Motor Co | Electrical terminal |
| JPS4840043A (en) * | 1971-09-25 | 1973-06-12 | ||
| JPS4934750A (en) * | 1972-07-31 | 1974-03-30 | ||
| JPS5720862A (en) * | 1980-07-11 | 1982-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | Signal process arithmetic processor |
-
1980
- 1980-07-15 JP JP9651980A patent/JPS5722204A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5722204A (en) | 1982-02-05 |
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