JPH0142748B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子線（以下、単にEBと言う）硬
化材料と鏡面を有する材料を組合せることによ
り、高性能の鏡面を成形させる方法に関するもの
である。

鏡面は、高級意匠品に広く求められる意匠であ
り、建材用途では、高級化粧板（メラミン化粧
板、ダツプ化粧板等）の表面、包材用途、商業印
刷用途では界面の超ハイグロス製品に求められて
いる。現在の鏡面化方法としては、カレンダー
ロールプレス、鏡面板でのプレス、フイルム
貼り、鏡面材料とのウエツトラミネーシヨンが
あるが、各々に問題がある。カレンダーロールプ
レスは、鏡面を有するロールを用いて、高圧でプ
レスすることにより鏡面化する方法であるが、不
充分な鏡面意匠しか得られない。鏡面板によるプ
レスは、熱硬化性樹脂化粧板の製造工程に於いて
樹脂含浸紙を鏡面板を用いて高温高圧でプレスす
ることにより熱硬化し鏡面化する方法であり、良
好な鏡面が得られるものの、枚葉でのプレスとな
るため生産性に劣る。フイルム貼りは現在広く行
なわれている方法で、印刷物に薄い透明フイルム
（ポリプロピレンなど）をラミネートすることに
より鏡面を得る方法であるが、不充分な鏡面意匠
しか得られない。鏡面材料とのウエツトラミネー
シヨンでは、表面光沢性のよいフイルムと樹脂コ
ートした紙とをウエツトラミネートすることによ
り、紙の表面コート樹脂を鏡面化する方法であ
り、良好な鏡面意匠を得られるものの、ウエツト
ラミネーシヨンであるため樹脂の乾燥硬化が遅
く、基材として紙などの通気性材料に限定され
る。

本発明者らは、上記の欠点に鑑み、鋭意検討し
た結果、EB硬化性樹脂を用いて、鏡面材料と基
材とをウエツトラミネーシヨンすることにより、
上記欠点の解決が為されることを見出し本発明を
完成させた。

すなわち、本発明は、基材（または鏡面材料）
にEB硬化性液状物を塗布し、その後該液状物を
加熱し、更に鏡面材料（または基材）とラミネー
トした後、EBで液状物を硬化させ、最後に硬化
物を鏡面材料より剥離することにより、硬化物表
面を鏡面とするものである。

本発明によれば、基材と鏡面材料をウエツトラ
ミネーシヨンするために、高度な鏡面を得られる
うえEBで硬化させるため、乾燥工程は不要とな
り、基材にあらゆる材料が適用可能である。従つ
て、意匠性・作業性の著しい改良が達成され、製
品の適用範囲も拡大できる。

以下、図面を用いて上記本発明を詳細に説明す
る。第１図は本発明の方法に用いる装置の一例を
概略的に示すものであつて、第１図では基材１の
上に塗布装置２を用いてEB硬化性を有する液状
物３を塗布した後、EB照射前にヒーター６によ
りプレヒートし、その後鏡面材料４を鏡面状態の
表面を基材１に向けてラミネートし、EB照射機
５で液状物を硬化させ最後に鏡面材料４を剥離す
る。さらに必要な場合には、ヒーター７によりプ
レヒート或いは、EB照射後にヒーター８により
ポストヒートを行なつてもよい。

第２図では、鏡面材料４のうえに塗布装置２を
用いてEB硬化性を有する液状物３を塗布した後
ヒーター６によりプレヒートし、その後基材１を
ラミネートし、EB照射機５で液状物を硬化させ、
最後に鏡面材料から硬化物を剥離する。この場合
も必要ならばヒーター７，８によるプレヒート又
はポストヒートを行なつてもよい。上記において
鏡面材料４は巻取り状にして供給、回収を行なう
ことができる他、無端ベルト状にして連続的に使
用することもできる。また、第１図及び第２図の
様に連続製造ラインでなく各工程別のオフライン
で枚葉で製造しても問題ない。さらに、必要なら
ば最後に硬化物を基材から剥離してもよい。上記
工程でプレヒートを行なうことにより、EB硬化
性液状物の流動性が良くなり、また該液状物の
EBによる硬化反応性を上げることができる。更
に、該液状物の膜厚を制御することも可能であ
る。更に、該液状物にわずかの低沸点希釈溶剤を
添加して該液状物のコーテイング適性を向上させ
るためには、EB照射前にプレヒートして希釈溶
剤を揮発させることが望ましい。特に、該液状物
をラミネートするのでラミネート前にエアーの混
入を抑えることができる。即ち、EB照射時にラ
ミネートと該液状物の間に空気中の酸素による硬
化の抑制を受ける。しかしながら、プレヒートに
より該液状物の流動性が良いから該液状物とラミ
ネート物とが密着するので上記のような空気中の
酸素の混入を避けることができる。

ここで、EB硬化性液状物を基材と鏡面材料の
どちらに塗布するか或いは、EBをどちら側から
照射するかは基材及び鏡面材料の性状（厚み、巻
取り適性、基材への樹脂浸み込み等）により選択
できる。例えば、基材が厚く、EBの透過が不充
分の場合には、鏡面材料を上からラミネートし、
その上からEBを照射するべきであり、また、鏡
面材料が金属板のような硬いものの場合や基材が
紙のような樹脂浸み込みの甚しいものの場合に
は、基材を上からラミネートしその上からEBを
照射すべきである。

さて、ここで基材としては金属板、金属シー
ト、木質ボード、プラスチツクフイルム、紙、無
機ボード等のあらゆる材料が可能であり、表面に
印刷を施した化粧フイルム、化粧ボードでもよい
が、特にEBの低温キユアの特徴を利用するもの
として、200℃以下の軟化点を有するプラスチツ
クフイルムを用いることができる。

鏡面材料としては金属板、金属シート、プラス
チツクフイルム、樹脂コート紙、金属蒸着フイル
ム、金属蒸着紙、ガラス等の材料が用いられる
が、特に、EBの低温キユアの特徴を利用するも
のとして、200℃以下の軟化点を有するプラスチ
ツクフイルムを用いることができる。

EB照射により硬化可能なEB硬化材料は、分子
中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマー
もしくはオリゴマー例えば不飽和ポリエステル
類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、ポリオールアクリレート、メラミン
アクリレートなどの各種アクリレート類、ポリエ
ステルメタクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ウレタンメタクリレート、ポリエーテルメタ
クリレート、ポリオールメタクリレート、メラミ
ンメタクリレートなどの各種メタクリレート類な
どの一種または二種以上と、分子中にエチレン性
不飽和結合を有するモノマー、例えば、スチレ
ン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー
類；アクリル酸メチル、アクリル酸２−エチルヘ
キシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸
ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
メトキシブチル、アクリル酸フエニル等のアクリ
ル酸エステル類；メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル
酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシチチ
ル、メタクリル酸フエニル、メタクリル酸ラウリ
ル等のメタクリル酸エステル類；アクリルアミ
ド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド；アクリル酸２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）
エチル、メタクリル酸２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノ）エチル、アクリル酸２−（Ｎ、Ｎ−ジベン
ジルアミノ）エチル、メタクリル酸（Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアミノ）メチル、アクリル酸２−（Ｎ、Ｎ
−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和酸の置換
アミノアルコールエステル類；エチレングリコー
ルジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、ジプロピレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート、プロピレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレー
ト等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個
以上のチオール基を有するポリチオール化合物例
えばトリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピオネ
ート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレ
ートなどを混合して作ることができる。

上記EB硬化材料を作るときの制限は特になく
任意に混合して用いることができるが、通常のコ
ーテイング適性を付与するためには上記プレポリ
マーもしくはオリゴマーを５重量％以上、上記モ
ノマー及び／又は上記ポリチオールを95重量％以
下とすることが好ましい。

EB硬化材料へは、EB照射以前に硬化すること
を防止するためにハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、ベンゾキノンなどの重合
禁止剤を安定剤として添加することもできる。

前述の如くして得られたEB硬化材料の塗布方
法としては、ロールコーター、カーテンフローコ
ーター、ミヤバーコーター、グラビアロールコー
ター、エアーナイフコーター等の公知のコーテイ
ング法を用いることができるが、基材或いは鏡面
材料の柱状により選択しなければならない。ま
た、塗布量は塗布方法及び電子線照射機により異
なるが１〜100μが望ましい。

基材と鏡面材料との間に介在させたEB硬化材
料は窒素雰囲気中で低エネルギー電子加速度たと
えばエネルギーサイエンスインダストリー社製エ
レクトロカーテンCB20d50／30あるいはオツトー
デユール社製NP−ESH150などを用いて連続的
に巻取りながら硬化させることができる。この時
のEB照射量はEB硬化材料が硬化するだけの吸収
線量で良く、通常0.5〜30Mradである。

液状物の種類や塗布厚、またEB照射方法によ
つては、EB照射の前２回、更に後にプレヒート
やポストヒートを行なう場合がある。例えば、ラ
ミネート工程後、EB照射前に加熱工程を行えば、
更に該液状物を平滑にする結果がある。また、
EB照射による硬化が不充分の場合にはEB照射後
にポストヒートして、さらに架橋を進めることが
できる。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に
説明する。尚、以下の文中「部」は「重量部」を
示す。

実施例 １ ポリエステルフイルム12μに下記の組成物をグ
ラビアロールコーダーで5μ厚に塗布した。

ウレタンアクリレート（日本合成社製
XP7000B） 30部 オリゴエステルアクリレート（東亜合成社製
アロニツクスM7300） 70部 この塗布物をウエツト状態のまま、３×６尺サ
イズの木目印刷紙貼り合板の印刷紙面上にラミネ
ートし、スキヤンニング方式の電子線照射機で
5Mradの線量をポリエステルフイルムの上から
照射した。塗布物の硬化後、ポリエステルフイル
ムを剥離したところ、鏡面を有する木目プリント
合板が得られた。

実施例 ２ Al蒸着紙20μに下記組成物をリバースロールコ
ーダーで40μ厚に塗布した。

ポリエステルアクリレート（三井東圧社製オレ
スターXRA1234） 70部 1.6−ヘキサンジオールジアクリレート 30部 この塗布物をウエツト状態のまま、セロフアン
フイルム12μとラミネートし、窒素雰囲気中で、
150Kev、５ｍＡのカーテン状電子線により
2Mradの線量を照射した。その後、セロフアン
フイルムを剥離したところ超ハイグロスのAl蒸
着紙が得られた。ただし、製造は全てインライン
で、30ｍ／minのスピードで行なつた。

実施例 ３ 100μのステンレスシートに下記組成物をカー
テンフローコーターで40μ厚に塗布した。

エポキシアクリレート（昭和高分子社製リポキ
シVR90） 60部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製DPHA） 40部 メチルエチルケトン（MEK） 15部 これをプレヒータでMEKを揮発させた後、液
体洗剤容器内ラベルを印刷した紙を印刷面を介し
てラミネートした。そのまま、スキヤニング方式
の電子線照射機で5Mradの線量を印刷紙の上か
ら照射した。硬化後、ステンレスシートから硬化
物を剥離したところ超ハイグロスのラベルが得ら
れた。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、それぞれ本発明の方法に
用いる装置の概略を例示する模式図である。 １……基材、２……塗布装置、３……EB硬化
性液状物、４……鏡面材料、５……EB照射機、
６……ヒータ、７……ヒータ、８……ヒータ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記工程を含むことを特徴とする電子線照射
   による鏡面成形法。 (a) 連続シート状の基材と鏡面状態の表面を有す
   る連続シート状の鏡面材料とを該鏡面状態の表
   面を基材側にして予め加熱した電子線硬化性を
   有する液状物を介してラミネートする工程、 (b) 上記ラミネート物に電子線を照射し、液状物
   を硬化する工程、及び (c) 硬化物を連続シート状の鏡面材料より連続的
   に剥離する工程。 ２ 前記液状物は加熱に先立ち予め基材の一方の
   面に塗布されている特許請求の範囲第１項記載の
   鏡面成形法。 ３ 前記液状物は加熱に先立ち予め鏡面材料の鏡
   面状態の表面に塗布されている特許請求の範囲第
   １項記載の鏡面成形法。 ４ 前記工程(c)の後に、硬化物を基材から剥離す
   る工程を含む特許請求の範囲第１項、第２項又は
   第３項記載の鏡面成形法。 ５ 前記鏡面材料または基材が200℃以下の軟化
   点を有する特許請求の範囲第１項、第２項、第３
   項または第４項記載の鏡面成形法。 ６ 前記工程(a)の後、または工程(b)の後ろの少な
   くとも一に加熱工程を含む特許請求の範囲第１
   項、第２項、第３項、第４項または第５項記載の
   鏡面形成法。