JPH0143397B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0143397B2
JPH0143397B2 JP57119801A JP11980182A JPH0143397B2 JP H0143397 B2 JPH0143397 B2 JP H0143397B2 JP 57119801 A JP57119801 A JP 57119801A JP 11980182 A JP11980182 A JP 11980182A JP H0143397 B2 JPH0143397 B2 JP H0143397B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
differential transistor
transistors
voltage
write
constant current
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57119801A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5911592A (ja
Inventor
Kenzo Matsumura
Yukio Kato
Masanori Odaka
Haruyuki Ikeo
Hideo Miwa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Microcomputer System Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Microcomputer System Ltd
Priority to JP57119801A priority Critical patent/JPS5911592A/ja
Publication of JPS5911592A publication Critical patent/JPS5911592A/ja
Publication of JPH0143397B2 publication Critical patent/JPH0143397B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、バイポーラ型トランジスタで構成
されたスタテイツク型RAM(ランダム・アクセ
ス・メモリ)に関する。
この発明に先立つて、3値電圧によるバイポー
ラ型RAMの書込/読出方式が提案されている。
この3値方式では、選択されたメモリセルのハ
イレベルVCH、ロウレベルVCLの記憶情報に対し
て、両者の中間電圧に設定された読出動作のため
の基準電位Vrefcと、書込動作のための上記ハイ
レベルVCHより高い電圧に設定された高レベル書
込電圧VWH及び上記ロウレベルVCLより低い電圧
に設定された低レベル書込電圧VWLとの3値電圧
が書込回路によつて形成されるものである。
このような3値書込回路として、第1図に示す
ような回路が、この発明に先立つて考えられてい
る。
この回路では、共通エミツタに定電源I0がそれ
ぞれ設けられた2組の差動トランジスタQ1,Q2
及びQ3,Q4と、そのコレクタに設けられた抵抗
回路R1ないしR3とで3値電圧に形成し、エミツ
タフオロワ回路を通して、出力電圧V1,V2を得
るものである。
書込時には、基準電圧VBBに対して、一方の入
力信号DIN(又はIN)が書込データに従つてハイ
レベルとされるので、上記電圧VWH,VWLは、次
式(1)、(2)によつて求められる。
VWH=−2R1I0―VBE …(1) VWL=−2(R1+R2)I0―VBE …(2) また、読出時には、基準電圧VBBに対して、双
方の入力信号DININともロウレベルにされるの
で、上記電圧Vrefcは、次式(3)によつて求められ
る。
Vrefc=−(2R1+R2)I0―VBE …(3) したがつて、第2図に実線によつて示すように
上記電圧Vrefcに対して、上記電圧VWL,VWLが上
下対称となつている。
ここで、メモリセルへの高速書込みを実現する
ために、同図点線で示すように、低レベル書込電
圧VWLを大きくするために、抵抗R2,R3の抵抗
値を大きくし、抵抗R1の抵抗値を小さくすると、
高レベル書込電圧VWHも大きくなつてしまう。
上記高レベル書込電圧VWHが高くなると、出力
トランジスタQ8,Q9のベース電圧を上昇させて、
これらのトランジスタQ8,Q9及び、そのエミツ
タがデータ線D(又は)に結合され、上記出力
電圧V1(V2)を受けるメモリセル読出/書込トラ
ンジスタ(図示せず)を飽和させるため、メモリ
セルへのアクセスタイムの高速化を逆に遅くして
しまう。
すなわち、書込から読出状態に移行するとき、
上記電圧VWHの立ち下りが大幅に遅れてしまうか
らである。
この発明の目的は、高速動作化を図つたバイポ
ーラ型RAMを提供することにある。
この発明の他の目的は、以下の説明及び図面か
ら明らかになるであろう。
以下、この発明を実施例とともに詳細に説明す
る。
第3図には、この発明の一実施例の回路図が示
されている。同図のRAMは、公知の半導体製造
方法によつて1つの半導体基板上において形成さ
れている。端子XA0ないしXAk,YA0ないし
YAl,DOUT,DIN,,及び−VEE,GNDは、
その外部端子とされる。
メモリセルは、その1つが具体的回路として示
されているように、特に制限されないが、そのベ
ース、コレクタ間が互に交差結線されたnpn駆動
トランジスタQ12,Q13と、そのコレクタにそれ
ぞれ設けられたpnp負荷トランジスタQ14,Q15
で構成されたフリツプフロツプが用いられる。上
記駆動トランジスタQ12,Q13は、特に制限され
ないが、マルチエミツタ構造とされ、一方のエミ
ツタが共通化されて保持電流Ioを形成する定電流
源(図示せず)に接続されている。上記トランジ
スタQ12,Q13の他方のエミツタは、それぞれ一
対のデータ(又はデイジツトと呼ばれる)線D0
D0に接続されている。
なお、上記トランジスタQ12,Q13は、ベース
及びコレクタが共通化された2つのトランジスタ
によりそれぞれ構成するものとしてもよい。
また、負荷トランジスタQ14,Q15は、抵抗と
クランプダイオードに置き換えるものとしてもよ
い。
上記負荷トランジスタQ14,Q15の共通化され
たエミツタは、ワード線W0に接続されている。
上記代表として示されているメモリセルを中心
として、横の行には、2l個の同様なメモリセルが
上記ワード線W0を共通として構成されている。
また、縦の列には、2k個の同様なメモリセル
が、データ線D00を共通として構成されてい
る。このような列、行に、2l+k個のメモリセルが
マトリツクス状に配置され、メモリアレイM―
ARYが構成される。
代表として示された上記ワード線W0,W2k
Xアドレスデコード信号X0,X2kを受けるワード
線駆動トランジスタQ16,Q17により、その選
択/非選択が行なわれる。これらのXアドレスデ
コード信号X0〜X2kは、Xアドレスデコーダによ
つて形成される。
図示しない適当な回路装置から供給されるアド
レス信号は、アドレス入力端子XA0ないしXAk
を介してアドレスバツフアXB0ないしXBkに入力
されらる。アドレスバツフアXB0ないしXBkは、
入力アドレス信号に応じた相補アドレス信号を形
成して上記Xアドレスデコーダに伝えるので、こ
こで1つのワード線選択信号が形成される。
代表として示された一対のデータ線D00
カラムスイツチとしてのトランジスタQ18,Q20
を介して、他のデータ線に対しても共通に設けら
れた定電流源IRに接続される。これらのトランジ
スタQ18,Q20のベースには、Yデコーダで形成
されたYデコード信号Y0が印加されている。
図示しない適当な回路装置から供給されるアド
レス信号は、アドレス入力端子YA0ないしYAl
介してアドレスバツフアYB0ないしYBlに入力さ
れる。上記アドレスバツフアYB0ないしYBlは、
入力アドレス信号に応じた相補アドレス信号を形
成して上記Yアドレスデコーダに伝えるので、こ
こで一対のワード線選択信号か形成される。
この実施例では、特に制限されないが、非選択
時のデータ線に所定のバイアス電圧を与えるため
に、次の回路が設けられている。
コレクタが接地されたトランジスタQ21のベー
ス・コレクタ間には、直列形態とされたダイオー
ドD4と抵抗が設けられる。そして、直列ダイオ
ードと抵抗は、上記カラムスイツチトランジスタ
と同様なトランジスタQ19を介して上記同様な定
電流源IRに接続されている。また、上記トランジ
スタQ21のエミツタは、それぞれ一対のデータ線
D00に接続されている。このため、トランジ
スタQ21は、マルチエミツタ構造又はベース及び
コレクタが共通化された2つのトランジスタで構
成されている。
また、上記一対のデータ線D00には、微小
定電流源が設けられている。すなわち、定電圧
VBを受けるトランジスタQ22,Q23とそのエミツ
タ抵抗とにより、常時微小定電流の吸い込みを行
なつているので、非選択時のデータ線電位は、約
ダイオードD4の順方向電圧VFとトランジスタQ21
のベース、エミツタ電圧VBEとを加えた電圧でバ
イアスされる。
メモリセルへの書込/読出のために、上記一対
のデータ線D00には、そのエミツタが結合さ
れた書込/読出しトランジスタQ10,Q11が設け
られている。これらのトランジスタQ10,Q11
コレクタ出力信号はセンスアンプSAの入力に伝
えられる。
特に制限されないが、このセンスアンプSAは
次の各回路素子により構成されている。
定電流源を直列形態とされた抵抗R6で形成さ
れた定電圧を受けるトランジスタQ24,Q25のエ
ミツタに、上記トランジスタQ10,Q11のコレク
タが接続される。これらのトランジスタQ24
Q25のエミツタには、それぞれ定電流源が設けら
れ、そのコレクタにはそれぞれ抵抗R4,R5が設
けられている。そして、上記トランジスタQ24
Q25のコレクタ出力は、トランジスタQ26,Q27
と、そのエミツタに設けられたレベルシフトダイ
オードD1,D2及び定電流源とで構成されたエミ
ツタフオロワ回路に伝えられる。上記ダイオード
D1,D2を通した出力信号は、ECL回路で構成さ
れたデータ出力バツフアDOBに伝えられる。
また、上記トランジスタQ10,Q11のベースに
は、書込回路WAの出力電圧V1,V2が印加され
る。
上記書込回路WAは、同図に示すように次の各
回路素子によつて構成されている。
この実施例の書込回路は、特に制限されない
が、3組の差動トランジスタ回路によつて、3値
電圧が形成される。差動トランジスタQ1,Q2
びQ3,Q4の共通エミツタには、定電流源I0がそ
れぞれ設けられている。トランジスタQ1,Q3
びQ2,Q4のコレクタは、それぞれ共通化されて
いる。また、差動トランジスタQ5ないしQ7の共
通エミツタには、定電流源I0′が設けられている。
そして、上記トランジスタQ5,Q6のコレクタは、
上記トランジスタQ1,Q3及びQ2,Q4のコレクタ
ともそれぞれ共通化され、トランジスタQ7のコ
レクタは接地されている。
抵抗R1は、その一端が接地され、他端に抵抗
R2,R3の一端が共通に接続されている。これら
の抵抗R2,R3の他端は、上記3組の差動トラン
ジスタの共通化されているコレクタにそれぞれ接
続されている。これらの抵抗R2,R3の抵抗値は
等しく設定されている。
上記トランジスタQ2,Q3及びQ7のベースには、
基準電圧VBBが印加される。また、トランジスタ
Q1,Q6及びQ4,Q5のベースにはデータ入力バツ
フアDIBからの信号DININが印加される。上記
データ入力バツフアDIBは、外部端子DINからの
書込データと、制御回路CONTからの書込制御
信号′を受けて、例えば、第4図に示すよう
に、書込時に一方の信号DIN(又はIN)を上記基
準電圧VBBよりハイレベルにする。また、読出時
には、両信号DININとも基準電圧VBBよりロ
ウレベルにされる。
上記差動回路のコレクタ出力は、トランジスタ
Q8,Q9と定電流源とで構成されたエミツタフオ
ロワ回路を介して、上記トランジスタQ10,Q11
のベースに伝えられる。
この実施例回路の書込回路WAでは、読出時に
おいて、新たに設けられた差動回路(Q5ないし
Q7)は、トランジスタQ7がオンするので定電流
I0′がこのトランジスタQ7に流れる。したがつて
読出し用の基準電圧Vrefcは、前記式(3)の通りに、
Vrefc=−(2R1+R2)I0―VBEとなる。
また、書込時には、基準電圧VBBに対して、一
方の入力信号DIN(又はIN)が書込データに従つ
てハイレベルとされるので、トランジスタQ5(又
はQ6)がオンして、定電流I0′を上記抵抗回路に
流すので、その書込電圧VWH,VWLは、次式(4)、
(5)によつて求められる。
例えば、DINがハイレベルならば、トランジス
タQ1,Q3及びQ6がオンするので、 VWH=−(2I0+I0′)R1―I0′R3―VBE …(4) VWL=−(2I0+I0′)R1―2I0R2―VBE …(5) のように求められる。
この実施例回路では、前記第1図の回路に比べ
て、上記定電流I0′を新たに加えたことによる抵
抗R1,R3の電圧降下分だけ、電圧VWHは、低く
抑えられ、上記抵抗R1の電圧降下分だけ電圧VWL
は低く(大きく)なるので、第4図に示すような
電圧Vrefcに対して非対称となる。
したがつて、上記低レベル書込電圧VWLにより
上記トランジスタQ10,Q11を強力にオフさせて
メモリセルへの高速書込が実現できる。一方、高
レベル書込電圧VWHは、必要最小に抑えられるの
で、トランジスタQ8,Q9及びQ10,Q11を飽和さ
せることがないから、書込後の読出し動作へ切り
換えが速くできる。これらにより、メモリアクセ
スの高速化を図ることができる。
上記書込回路WAにおいて、トランジスタQ5
Q6のコレクタを相互において逆に接続すれば、
上記書込電圧VWH,VWLは、次式(6)、(7)のように
設定することができる。
VWH=−(2I0+I0′)R1―VRE …(6) VWL=−(R1+R2)・(2I0+I0′)―VBE…(7) 上記いずれかの定電流I0′の加算方式を選ぶか
は、抵抗R1ないしR3の抵抗値、定電流値I0
I0′によつて、自由に決定できるものである。
第5A図には、上記書込回路WAの他の一実施
例が示されている。
この実施例では、差動トランジスタQ30ないし
Q32と、差動トランジスタQ33,Q34との組合せ
で、3値電圧が形成される。すなわち、第5B図
のように各電圧VR,,DININが設定されて
いるので、読出し時にはトランジスタQ30とQ33
がオンするので、電圧Vrefcは、−R1I0―R2I0/2
に設定される。一方、書込時には、トランジスタ
Q34がオンして、Q30,Q33がオフし、書込データ
に従つてトランジスタQ31又はQ32がオンするの
で、電圧VWH=−R1I0に設定され、電圧VWL=−
(R1+R2)I0に設定される。
そして、前記同様に差動トランジスタQ5′ない
しQ7′により、書込時に選択的に定電流I0′が抵抗
回路に流れるので、その出力電圧V1,V2を前記
同様に読出し基準電圧Vrefcに対して非対称な電
圧を得ることができる。
このように、この発明の書込回路は読出し基準
電圧Vrefcに対して対称な3値電圧を形成する回
路に、上記選択的に定電流を加算する方式のもの
であれば、何んであつてもよい。
この発明は、3値電圧により書込/読出しを行
なうバイポーラ型RAMに広く適用することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明に先立つて考えられている
書込回路の一例を示す回路図、第2図は、その動
作波形図、第3図は、この発明の一実施例を示す
バイポーラ型RAMの回路図、第4図は、その動
作を説明するための動作波形図、第5A図は、こ
の発明の他の一実施例を示す書込回路の回路図、
第5B図は、その入力タイミング図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一端に基準電位が与えられる第1抵抗と、上
    記第1抵抗の他端と第1出力点との間に設けられ
    た第2抵抗と、上記第1抵抗の上記他端と第2出
    力点との間に設けられた第3抵抗と、上記第1、
    第2出力点に結合された電流切換手段とを備え、
    上記電流切換手段は、読み出し動作において上記
    第1、第2出力点の電位を上記第1ないし第3抵
    抗の電圧降下によつて決まる基準電位にせしめる
    ように上記第1、第2出力点にそれぞれ第1電流
    を与え、書き込み動作時に上記第1、第2出力点
    の一方を書き込みデータに対応したロウレベルに
    せしめかつ他方をハイレベルにせしめるように上
    記第1、第2出力点の一方に上記第1電流よりも
    大きいレベルの第2電流を与えるようにされてな
    ることを特徴とするバイポーラ型RAM。 2 上記電流切換手段は、読み出し動作時にその
    一方がオンとされ書き込み動作時に相補入力信号
    の一方によつて差動動作される第1差動トランジ
    スタ対と、上記第1差動トランジスタ対の共通エ
    ミツタに結合された定電流源と、読み出し動作時
    にその一方がオンとされ書き込み動作時に上記相
    補入力信号の他方によつて差動動作される第2差
    動トランジスタ対と、上記第2差動トランジスタ
    対の共通エミツタに結合された定電流源と、読み
    出し動作時に両方ともオフとされ書き込み動作時
    に相補入力信号によつて差動動作される第3差動
    トランジスタ対と、上記第3差動トランジスタ対
    の共通エミツタに結合された定電流源とを備えて
    なり、上記第1、第2差動トランジスタ対によつ
    て上記第1電流を決定するようになし、かつ上記
    第2電流を決定するように成してなることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のバイポーラ型
    RAM。
JP57119801A 1982-07-12 1982-07-12 バイポ−ラ型ram Granted JPS5911592A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57119801A JPS5911592A (ja) 1982-07-12 1982-07-12 バイポ−ラ型ram

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57119801A JPS5911592A (ja) 1982-07-12 1982-07-12 バイポ−ラ型ram

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5911592A JPS5911592A (ja) 1984-01-21
JPH0143397B2 true JPH0143397B2 (ja) 1989-09-20

Family

ID=14770556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57119801A Granted JPS5911592A (ja) 1982-07-12 1982-07-12 バイポ−ラ型ram

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5911592A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2595876B2 (ja) * 1993-09-08 1997-04-02 日本電気株式会社 半導体記憶回路

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5911592A (ja) 1984-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6329359B2 (ja)
US4322820A (en) Semiconductor integrated circuit device
US5289409A (en) Bipolar transistor memory cell and method
KR930008575B1 (ko) 저소비 전력 구성의 반도체 집적회로 장치
US4460984A (en) Memory array with switchable upper and lower word lines
JPH0345478B2 (ja)
JPS6331879B2 (ja)
US3510849A (en) Memory devices of the semiconductor type having high-speed readout means
US4298961A (en) Bipolar memory circuit
JPH08221990A (ja) 半導体記憶装置
KR100227300B1 (ko) 반도체 기억 장치
JPH0143397B2 (ja)
US4398268A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2548737B2 (ja) ドライバ回路
US5373474A (en) Semiconductor integrated circuit device with power consumption reducing arrangement
JPS59229784A (ja) バイポ−ラ型ram
US3562721A (en) Solid state switching and memory apparatus
JPS6330719B2 (ja)
JPS59188960A (ja) バイポ−ラ型ram
JPS59229785A (ja) バイポ−ラ型ram
JPS60211687A (ja) バイポ−ラ型ram
JPS5974664A (ja) バイポ−ラ型ram
JPH0247037B2 (ja)
JPS59229783A (ja) バイポ−ラ型ram
JPS5984395A (ja) バイポ−ラ型ram