JPH0143799B2 - - Google Patents

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JPH0143799B2
JPH0143799B2 JP55142833A JP14283380A JPH0143799B2 JP H0143799 B2 JPH0143799 B2 JP H0143799B2 JP 55142833 A JP55142833 A JP 55142833A JP 14283380 A JP14283380 A JP 14283380A JP H0143799 B2 JPH0143799 B2 JP H0143799B2
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oxygen
conduit
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gas
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Jii Pateru Jitendora
Ei Sandosutoroomu Uiriamu
Bii Taaman Hooru
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INSUCHI OBU GASU TEKUNOROJII
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、石炭のごとき固体の炭化水素物質を
一層有用な気体生成物に変換させる方法及び装置
に係り、特に、流動層で石炭を気体化反応に曝し
て、石炭を気体にするとともに副生成物である灰
分を有効に除去する方法及び装置に関する。 天然ガス及び原油の供給が不安定になるにつれ
て、代替エネルギー源を捜す必要性が生じてき
た。アメリカ合衆国においては石炭は入手し易い
ということから、石炭は天然ガス及び原油の代替
エネルギー源として次第に注目を浴びてきてい
る。しかしながら、アメリカ合衆国で産出する石
炭の多くは硫黄含有量が多く、従つて、直接燃焼
させると、大気汚染を引き起すとともに、酸性雨
を降らせる原因となる。一例を示すと、石炭の燃
焼生成物は、アメリカ合衆国で放出される全大気
汚染物質の8分の1を占め、特に、硫黄酸化物は
2分の1、窒素酸化物及び粒状物質はいずれも4
分の1をそれぞれ占めている。 石炭の燃焼によつて放出される硫黄の量を低減
する方法として幾つかのものがある。即ち、これ
らの方法には、硫黄含有量の低い石炭を使用する
方法、硫黄含有量の高い石炭を物理的方法により
清浄にして硫黄を石炭から除去する方法、石炭の
燃焼中に硫黄を石炭から除去する方法、石炭を溶
媒処理して脱灰した低硫黄含有量の固体燃料にす
る方法、及び、石炭をガス化し、得られたガスか
ら硫黄を除去した後ガス化石炭生成物を燃焼させ
る方法がある。 上記した硫黄低減方法のうち、石炭をガス化し
得られたガスを清浄にしてから燃焼させるという
最後の方法は、ガス化した石炭に存在する硫黄の
殆んどが硫化水素になるので、硫黄の放出が最も
低減し得るものと考えられる。かかる硫化水素を
ガス化した石炭から除去する場合には、大きな問
題は存在しない。これは、現在では、石炭のガス
化反応において生ずるようなガス流の硫化水素含
有量を10ppm未満に低下させることができる幾つ
かの異なつた商業規模のガス清浄処理を利用する
ことができるからである。実際に、硫化水素含有
量が1ppm以下のガス流を得ることができる方法
が幾つか知られている。 石炭をガス化するための好ましい方法として、
アメリカ合衆国、イリノイ州、シカゴにあるイン
スチチユート・オブ・ガス・テクノロジー
(Institute of Gas Technology)が開発したユ
ー・ガス・プロセス法(U−GAS Process)が
あるが、これは、1977年8月1日発行のオイル・
アンド・ガス・ジヤーナル(Oil and Gas
Journal)第51頁等に記載されている。ユー・ガ
ス・プロセス法によれば、石炭から清浄な、環境
的に許容し得る低熱量(約38乃至76kcal/SCF
(約150乃至300BTU/SCF))の燃料ガスを得る
ことができる。このガスは工業上及び商業上の利
用者が直接使用することができ、また、天然ガス
あるいは燃料油の代替物として使用することがで
きる。ユー・ガス・プロセス法によつて得られる
合成ガスの形態をなす生成物は、化学供給原料と
して使用することができ、また鉄鉱石のごとき金
属鉱石を卑金属に還元するための高温還元ガス源
として使用することもできる。還元ガス源として
使用する場合には一酸化炭素と水素は還元能力が
高いので、高温生成ガス中における一酸化ガスと
水素の蒸気及び水に対する比率を高くすることが
望ましい。 ユー・ガス・プロセス法においては、一酸化炭
素及び水素の生成は高温において最大となるから
ガス化反応は高温で行われる。ユー・ガス・プロ
セス法の好ましいガス化温度は約816乃至1093℃
(1500乃至2000〓)の範囲であり、より好ましく
は、約871乃至1038℃(1600乃至1900〓)である。
温度がかかる範囲よりも低いと、多量の二酸化炭
素と水が生ずるので、望ましくない。しかしなが
ら、ユー・ガス・プロセス法をはじめとするガス
化方法において石炭を高温ガス化する場合の重要
な問題点の一つとして、ガス化反応が行なわれる
高温においては、灰分粒子が溶融する問題があ
る。このような高温にすると、灰分粒子が反応領
域において粘着性を帯びて凝集を起すようにな
る。従つて、石炭をガス化させる温度としては約
927℃(1700〓)以上の温度が望ましいが、温度
が約1093℃(2000〓)を越えると粘着性のある灰
分粒子が生成し、凝集して流動層から除去するこ
とが困難な大きな灰分粒子となるので、温度を実
質上約1066℃(1950〓)以上にすることが困難で
ある。 基本原理がユー・ガス・プロセス法にも採用さ
れているが、凝集した灰分粒子を流動層から除去
する方法の一つがジエクワイアー(Jequier)等
の米国特許第2906608号明細書に記載されている
が、これについて多少触れておく。この米国特許
に開示の装置においては、倒立円錐形の取出し部
が流動層反応器の底部に配置されていて、狭搾中
央部を有するベンチユリ型のノズルを提供してい
る。流速の大きい空気−蒸気流がこの倒立円錐形
部を介して上方へ導かれ、倒立円錐形部にある石
炭と反応して反応器の底部に配置された円錐領域
内の温度を局部的に高めるようになつている。こ
の倒立円錐形領域内では、灰粒子は粘着性を有す
るのに充分な温度まで加熱され、徐々に凝集して
質量及び寸法が大きくなる。灰粒子の寸法と重量
の一方又は双方が所定の値に達すると、円錐形領
域を介して上昇するガス流の速度が凝集した灰粒
子を流動層に保持するには不充分となり、粒子は
倒立円錐形領域の狭搾底部を介して下降し、流動
層の反応領域から比較的効率良く取り出される。
円錐形領域を介して上昇するガス流の速度は流動
層にある微粉砕石炭粒子の沈降速度よりも常に大
きいから、石炭粒子を流動層から排除することな
く、凝集した灰粒子だけを選択的に除去すること
ができる。 上記した米国特許に記載されているようなベン
チユリ型の装置に関して生ずる問題点は、円錐形
取出し領域に著しい高温部が存在することにあ
る。例えば、円錐形取出し領域内の温度は、流動
層自体の温度よりも少なくとも約38℃(100〓)
高く、約93℃(200〓)も高いこともある。磨耗
性のある凝集した灰粒子が円錐形領域の壁と常に
物理的に接触しており、かつ、円錐形領域は高温
となつているので、長期間に亘つて耐久性のある
円錐形の取出し部をつくるには高価な特殊合金が
必要となる。更に重要なことは、灰粒子の凝集体
を形成するガス流は流動層からこの凝集体を分
離、即ち、分別するガス流と同じであるので、ガ
ス流の速度と組成を著しく制限する必要があると
いうことである。更に、ベンチユリ部で燃結が起
るので、生成ガスから回収された微細な石炭粒子
がベンチユリのノズルを介して流動層へ再循環さ
れて戻される場合に特に、ノズルが閉塞するとい
う問題がある。ノズルの閉塞は高温領域で起るの
で、溶融した粘着性のある塊が出来て、反応器の
作動を早々に停止しなければならないという望ま
しくない状態を引き起すことになる。 チエン(Chen)等に付与された米国特許第
3981690号明細書には、石炭のガス化処理におい
て上記した米国特許第2906608号明細書に記載さ
れているようなベンチユリ・ノズルを利用した技
術が記載されているが、これは上記したような問
題を生ずるので望ましくない。また、この米国特
許の明細書には、細い注ぎ口を有する流動層にお
いて石炭をガス化する方法が記載されており、こ
の方法では、中心管を流れる空気が直径の比較的
小さい反応器の底部の円形領域で供給された石炭
と接触するようになつている。灰分は反応器の底
部で生成し、円形領域から下方へ取出される。こ
の方法は石炭の添加と灰分の除去を同時に行なう
ので、新しい石炭供給部とは別導入部を設けるこ
とは必要でなく、また、中心管を流動層及び灰分
取出し円形部に対して配置することは重要でな
く、しかも、中心管付近の酸素濃度を高くするこ
とをはじめとして流動層底部の酸素濃度を調節し
て灰分の凝集及び取出しを有効に行なわせる必要
がない。 本発明の目的は、酸素を含むガス、特に、酸素
含有量の高いガスを流動層の反応領域に導入して
石炭のごとき炭化水素物質をガス状生成物に変換
するとともに、石炭中の灰分を有効に凝集させる
という効果的な方法及び装置を提供することにあ
る。 本発明の別の目的は、石炭をガス状物質に変換
させる流動層での反応後に回収される石炭微細物
を、更にガス化するため再循環させて流動層に戻
す方法及び装置を提供することにある。 本発明の更に別の目的は、石炭のガス化反応に
おいて生成した高温のガス状反応生成物中の一酸
化炭素及び水素の存在量を最大にする方法と装置
を提供することにある。 石炭のごとき塊状炭化水素固形物中の灰分は、
ユー・ガス・プロセス法のような、炭化水素固形
物を一層有用なガス状物質に変換する処理におい
て、 (i) 蒸気と混合した酸素含有ガスを流動層の反応
領域において高温で炭化水素固形物と接触さ
せ、 (ii) 灰分を反応領域の底部に凝集させるととも
に、凝集した灰分を狭搾した中央開口部を有す
る取出しノズルを介して反応領域から取出す ことにより、有効に除去できることがわかつた。 本発明によれば、この処理におけるノズル及び
中央開口での灰分の焼結及び閉塞は、これを防止
することができない場合には、酸素を含有するガ
スをノズルに、ノズル内に同心的に配置された別
の導管(分離導管)を介して導入することにより
制御することができる。しかしながら、導管の出
口端部は狭搾した中央開口部の上方に位置決めし
なければならず、また、導管の出口端部は入口を
越えてノズルまで達しないようにするのが好まし
い。 分離導管を介して流れるガスの酸素濃度は高い
のが好ましく、例えば、純酸素を20容量%以上含
むのが好ましい。特に好ましいのは、酸素濃度が
約30乃至75%で、残りが不活性ガス、二酸化炭素
及び蒸気からなる場合である。 本発明の特に好ましい実施例においては、別の
ガスがノズルを介して上昇して反応器に送られ
る。ノズルを介して流れるこのガスは、中央に配
設された導管を流れるガスよりも酸素含有量が低
い。ノズルを介して上昇するガスは酸素濃度が約
15容量%以下で、残りが蒸気、二酸化炭素あるい
は不活性ガスであることが好ましい。 酸素の導入と灰分の取出しを行なうこの方法に
よれば、ガス状反応生成物と混合して流動層から
排出される石炭微細物は再循環されて回収された
後に、取出しノズル内に同心的に配置された導管
から酸素を放出するのと実質上同時に、回収した
石炭微細物を酸素含有ガスの中に射出することに
より、流動層の反応領域に有効に戻される。この
石炭微細物を再循環する方法によれば、石炭微細
物がノズル内で過度に燃焼したり、あるいは、堆
積することなく、石炭微細物をガス化させること
ができる。 本発明の別の利点は、高温のガス生成物中の一
酸化炭素と水素の存在量を最適にすることができ
るという点にある。流動層の反応領域で起る主な
ガス化反応は次の通りである。 (1) C+H2O→CO+H2 (2) CO+H2O→CO2+H2 (3) C+1/2O2→CO (4) C+CO2→2CO 反応式(2)の反応は気相で行われ、約982乃至
1093℃(1800乃至2000〓)の反応温度では急速に
平衡に達する。しかし、その他の反応は、速度が
緩慢である。 反応流動層に導入されるガスは、先づ、石炭の
粒子を流動化させ、次に、この粒子と反応を起す
という2つの作用を行なう。蒸気は、通常は、流
動化ガスであると同時に反応ガスでもある。しか
しながら、反応式(1)の反応は吸熱反応である。こ
の反応を起させるのに必要な熱は、純粋な酸素も
しくは空気として、あるいはこれらの混合物とし
て、充分な量の酸素を加えて、流動層の炭素と反
応させて発熱させることにより得られる。蒸気が
唯一の反応ガスではない。反応式(4)に示すように
二酸化炭素も反応ガスとして使用することができ
る。 流動層の温度を制御するとともに、化学反応の
速度を大きくするために、通常は、過剰の蒸気と
二酸化炭素がガス化装置に加えられる。未反応の
蒸気とCO2は生成ガスに混在してガス化装置から
出るが、通常は、容易に生成ガスから除去されて
再循環される。しかしながら、高温の還元ガスを
必要とする場合には、エネルギーを無駄にしない
ように、生成物を冷却して蒸気とCO2を除去する
ことができない。従つて、高温の生成ガス中の
CO+H2のCO2+H2Oに対する割合が重要となつ
てくる。高温の生成ガス中の蒸気と二酸化炭素の
量が減ると、CO+H2の比率が増える。CO+H2
の比率は、過剰の蒸気と二酸化炭素の一部を、一
酸化炭素と水素を含む再循環生成ガスで置換する
と増加させることができる。これにより、不活性
成分を導入する必要性もなくなる。生成ガスの一
部を再循環させるというこの処置は、従来技術で
は有効に利用することができなかつたが、これ
は、従来技術の方法では、酸素は、ガス化反応器
の中央導入部分のほかに、反応器の底部にある多
数の部分から、中央導入部分の周囲に配置された
グリツド状分配器を介してガス化反応器の反応領
域に送られるからである。グリツドを介して導入
された酸素は、再循環生成ガスの一酸化炭素と水
素がグリツドを介して導入されている場合には、
これらのガスを燃焼させることになる。酸素を中
央導入部分、即ち、ベンチユリ・ノズルの中心に
配置した分離導管だけから流動層に導入し、周囲
のグリツドからは蒸気だけを導入するという方法
によればガス化装置の生成ガスの一部を蒸気とと
もにグリツドを介して戻すことができるのであ
る。この生成ガス再循環処理は、ガス化装置でで
きた生成ガスの一部を水冷し、必要であれば蒸気
と二酸化炭素を除去し、ガスをわずかに圧縮した
後、ガスを反応流動層と接触させるためにグリツ
ド状分配器に戻すことにより行なうことができ
る。これにより、蒸気の必要性が少なくなり、し
かも高温の生成ガスが著しく還元性を呈するとと
もにCO+H2のCO2+H2Oに対する比率を所望の
レベルに調節することができるように、ガス化装
置で生成したガスの組成を変えることができる。
かかる処理は高温の生成ガスを使用して鉄鉱石を
還元する場合に特に利用することができ、鉄鉱石
の還元に使用された反応ガスは再循環させてガス
化反応装置に戻すことができるのである。 以下、本発明を添付図面に基づいて詳細に説明
する。 第1図において、ガス化反応器2は流動層ガス
化反応器で、これは、塊状固形の炭化水素物質粒
子、好ましくは焼結した瀝青炭を、流動反応層4
において低熱量の燃焼ガスのごとき一層有用なガ
ス生成物に変換させるための通常の温度及び圧力
条件で操作される。操作温度は約982乃至1093℃
(約1800乃至2000〓)で、操作圧力は約3.5乃至14
Kg/cm2(約50乃至200psig)であるのが好ましい。
図示の装置においては、供給原料である粉砕した
石炭は、供給管路6を介してロツク・ホツパ
(lock・hopper)8に導入され、石炭はここで一
時的に貯蔵されてから管路10を介して運ばれ
る。供給原料の石炭は、次に、管路12に導入さ
れるガス状の担持媒体(好ましくは、蒸気)と混
合され、管路14を介してガス化反応器2に約
6.1乃至15m/秒(約20乃至50フイート/秒)の
速度で送られる。この新しい石炭供給原料は、ガ
ス化反応器2の底部にある流動層の中へわずかな
距離(約2.5乃至15cm(約1乃至6インチ))だけ
伸びている導管18を介して反応器2に導入され
る。円錐台形の耐火性ライニング16が導管18
を包囲していて、反応器の壁を下降する動きの遅
い固形物を偏向させるようになつている。石炭を
直接流動層4に導入するこの方法は、石炭の前処
理、即ち、脱揮発処理を必要としない。 流動層4は、反応条件下で炭素酸化物、蒸気、
水素、炭化水素及び共留(entrained)石炭微細
物からなる反応流出物5を生成する(詳細に後述
するようにして流動層底部に導入される)蒸気と
酸素、新しい供給原料である石炭及び木炭の混合
物からなる。流出物5は出口20から取出され
て、第1のサイクロン22に導かれる。サイクロ
ン22において、粗粒の微細物(直径が約20乃至
250ミクロンの微細物)は生成物である流出物か
ら分離され、管路24を介して流動層4に直接戻
される。 サイクロン22の頂部にある物質、即ち、ガス
状流出物はサイクロン22の頂部から管路26を
介して取出されて第2のサイクロン28に導かれ
ここで、別の微細物(直径が約5乃至100ミクロ
ンの微細物)が回収され、詳細に後述するように
して、管路32を介して流動層4の底部に設けら
れた所定の装置に送られる。生成ガス流30はサ
イクロン28の頂部から取出されて、更に処理さ
れ、一部は再循環され、あるいは使用に供され
る。 本発明によれば、流動層4におけるガス化反応
を維持するのに必要な酸素の実質上全てと蒸気は
ベンチユリ・ノズル40とベンチユリ・ノズル4
0の内部に同心的に配置された導管50を介し
て、ガス化反応器2の底部に導入される。そし
て、管路54を介してベンチユリ・ノズル40に
入る蒸気と酸素の混合物及び管路52を介して同
心的に配置された導管50に入る蒸気と酸素の混
合物の共働作用により、選択的に灰分を凝集して
流動層4の底部から除去する。 ベンチユリ・ノズル40は、上方に伸びる倒立
円錐台形部46、狭搾した中央部44及び下方に
伸びる円錐台形部48からなる。本発明によれば
ベンチユリ・ノズルの中央に配置された導管50
は第3図に点線45で示す部分よりも上方にある
倒立円錐台形部46内に配置しなければならず、
そして、点線47で示す部分まで伸びる倒立円錐
台形部46内で終端するのが好ましい。上記した
ように、ベンチユリ・ノズル40の内部に同心を
なして配置された導管50から上方へ放出される
ガスの酸素濃度、即ち、蒸気に対する酸素の比率
は、ベンチユリ・ノズル40を介して上方へ導か
れる蒸気と酸素の混合物の酸素濃度よりも実質上
大きい。ベンチユリ・ノズル40を流れるガス流
54の酸素濃度は約20%程度にすることができる
が、好ましい酸素濃度は15%以下である。また、
ベンチユリ・ノズル40の内部に同心的に配置さ
れた導管を介して放出されるガス流52の酸素濃
度は100%にすることもできるが、好ましい酸素
濃度は約30乃至75%である。酸素濃度の範囲及び
相対的比率をこのようにすると、流体分配グリツ
ド、即ち、流体分配面42に灰分を燃焼させるこ
となく、流動層4の灰分濃度を高く保持し得るこ
とがわかつた。特に、安定状態で操作する場合、
流動層4の灰分濃度を80乃至85%にしても、流動
層で灰分で燃焼したり、あるいは、固まるような
ことはない。 ガス化又は流動化媒体である別の蒸気を管路3
6及び送り管路38を介してガス化容器2に導入
することにより、流動層4の滞留時間分布とフロ
ーパターンを適正に維持するのが好ましい。この
蒸気は、送り管38を介してベンチユリ・ノズル
40を同心的に包囲する支持グリツド42の下か
ら流動層4に導入するのが好ましい。支持グリツ
ドの下方に供給された蒸気はグリツド42の開口
43を介して上方へ導かれ、流動層と接触する。
グリツド42を介して流動層4へ向けて上方に流
れるこの蒸気は、酸素を実質上含まないのが好ま
しい。蒸気の酸素濃度は送り管38を流れるガス
流の5%よりも小さいのが好ましい。特に好まし
いのは蒸気流が酸素を実質上含まない場合であ
る。中央に1本配置されたベンチユリ・ノズル内
の酸素濃度を低くするとともに、ベンチユリ・ノ
ズルの内部中央に配置した導管内の酸素濃度を高
くして、ガス化反応を維持するのに必要な酸素の
実質上全てをベンチユリ・ノズルを介して導入す
ることにより、酸素をベンチユリ・ノズルを包囲
するグリツド42を介して反応器2に導入する必
要性を実質上なくし得ることがわかつた。その結
果、灰分の焼結は起らず、かつ、灰分の凝集と、
ベンチユリ・ノズル40及び中央に配置された管
50の共働作用による灰分の除去とを効果的に行
なうことができる。 更に、送り管路38を介して反応器2に送られ
る蒸気には酸素が含まれていないので、一酸化炭
素と水素を含む生成ガスの一部を流動層4の下部
に再循環させて、還元特性が大きくかつ一酸化炭
素と水素の含有量の高い高温の最終生成ガスをつ
くることができる。本発明によれば、サイクロン
28から管路30を介して送られる生成ガスの一
部は管路34を介して取出され、冷却されて蒸気
及び所望の場合には二酸化炭素が除去され、圧縮
された後、管路36を介して導入される蒸気と混
合されて、送り管路38を介して流動層4の下部
に送られる。 送り管路38並びに導管52及び54を介して
導入されるガス媒体は、流動層4での表面速度が
約61乃至183cm/秒(約2乃至6フイート/秒)
となるように制御される。ガス流の表面速度が約
61cm/秒(約2フイート/秒)を越えると、傾斜
しているグリツド42の部分にある反応器の壁に
灰分が堆積するのを防止する点で特に有利である
ことがわかつた。 中央の導管50を介して流れるガスの流速は、
通常、約15乃至305m/秒(50乃至1000フイー
ト/秒)に保持される。このガスの特に好ましい
流速は、約304乃至183m/秒(100乃至600フイー
ト/秒)である。流速をかかる範囲に設定する
と、導管50の噴出端部にすぐ隣接したより高温
の領域で灰分粒子を充分に凝集させることができ
るとともに、流動層4の安定性及び滞留時間分
布、並びに、ベンチユリ・ノズル40の作用を乱
すことがないので高温領域で生成した灰分凝集物
を取出すことができる。流動層4の安定性を確保
するためには、導管50の直径とガス化反応器2
の直径の比は少なくとも1対10であるのが好まし
く、より好ましい直径比は約1:20以上である。
狭搾部44と導管50の直径比は臨界的ではな
く、高温領域51で生成した灰分の凝集物が下降
して下部導管56に入ることができるように定め
られる。 中央に配置された導管50を包囲するベンチユ
リ・ノズル40に供給されるガスの流速は約3乃
至61m/秒(約10乃至200フイート/秒)である。
好ましい流速は約12乃至46m/秒(約40乃至15フ
イート/秒)である。中央に配置された導管50
とベンチユリ・ノズル40を流れるガス流の流速
をそれぞれ上記した範囲内で設定すると、未変換
の石炭及び木炭粒子が除去されたりあるいは、流
動層内で凝離又は分別されることなく、灰分凝集
物を狭搾部44を介して導管56内に落下させる
ことができる。灰分の凝集速度と灰分の取出し速
度は、ベンチユリ・ノズル40及び中央に配置さ
れた導管50から上方へ放出されるガスの酸素濃
度及び流速の一方又は双方を適正に制御すること
により、それぞれ別々に制御することができる。 灰分凝集物は、ガス化反応器の底部に設けられ
給水管路62から水が供給される水浴60の中に
導管56を介して落下するようになつている。水
浴60は、灰分凝集物がガス化反応器の底部から
管路64を介してスラリとして取出されるように
灰分凝集物を冷却する。 上記したように、本発明の特徴の一つは、石炭
微細物を再循環して流動層4に戻すことができる
点にある。即ち、第2のサイクロ28から回収さ
れた微細物は管路32を介して高温領域51に空
均圧によつて噴出され、導管50から酸素を含む
ガスが放出されると、この放出と実質上同時にこ
のガスと反応する。流動層4に微細物を再循環さ
せるというこの構成により、石炭微細物に含まれ
る炭素と水素を有用なガス生成物に転換すること
ができるとともに、ベンチユリ・ノズル40内で
の微細な石炭粒子の焼結及び凝集を防ぐことがで
きるのである。 以下、本発明を実施例に基づいて更に説明する
が、これらの実施例は本発明を説明するためのも
のであつて、本発明の範囲を制限するものではな
い。 実施例 1 流動層4の底部、特に、中央に配置された導管
50の出口付近とベンチユリ管40の出口付近の
グリツド42に沿つた種々の個所における酸素濃
度の影響を見るため、種々の条件下で操作を行な
つたが、その結果を第表に示す。
【表】
【表】 第表に示す結果から、ベンチユリ・ノズル取
出し管内に、導管50のような中央に配置された
導管があると、ベンチユリ管内で灰分の凝集や焼
結という望ましくない現象が起らないことがわか
る。 実施例 2 グリツドの2個所を通して酸素を直接導入して
操作した場合と、ベンチユリ・ノズル40内の中
央に配置した導管から酸素噴出流1本を通して操
作した場合の結果を第表に示す。
【表】 第表に示す結果から、酸素濃度の高いガスを
ベンチユリ・ノズルの中央部に導入して、流動層
4とグリツド42の灰分の焼結及び偏つた凝集を
防止する必要のあることがわかる。 実施例 3 石炭微細物を第2のサイクロン28から流動層
4へ再循環させることによる有益な効果をみるた
め、一連の操作を行なつたが、その結果を第表
に示す。
【表】
【表】 上記操作中は、焼結及び望ましくない石炭の凝
集は起らず、また、第表に示すように、流動床
4から取出された石炭微細物の水嵌速度は実質上
減少した。
【図面の簡単な説明】
第1図は、流動層ガス化反応器系の概略図で、
本発明の原理を示す。第2図は、第1図の2−2
線断面図である。第3図は、第1図に示すガス化
反応器の底部の拡大概略図で、特に、酸素噴出導
管とベンチユリ取出しノズルとの関係を示す。 2……ガス化反応器、4……流動床、5……反
応流出物、6……原料供給管路、8……ロツク・
ホツパ、10,12,14……導管、16……耐
火物ライニング、18……導管、20……出口、
22……第1のサイクロン、24,26……管
路、28……第2のサイクロン、30……生成ガ
ス流又は管路、34,36……管路、38……送
り管路、40……ベンチユリ・ノズル、42……
グリツド、43……開口、44……狭搾中央部、
46……倒立円錐台形部、48……円錐台形部、
50……中央配置の導管、51……高温領域、5
2,54……管路又は導管、56……導管、60
……水浴、62……給水管路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 蒸気と混合した酸素含有ガスを固体塊状の炭
    化水素固形物とガス化反応領域の流動層において
    高温で接触させて炭化水素固形物をガス化すると
    ともに副生した灰分を前記反応領域の底部で凝集
    させ、反応領域の底部から漏斗状に搾まつた中心
    部に開口を有する灰分取出しノズルを介して凝集
    した灰分を取出すことにより灰分を流動層から選
    択的に除去する固形塊状の炭化水素固形物をガス
    生成物に変換する方法において、前記ノズル内に
    導管を同心的に配置するとともに導管の先端部を
    ノズルの中心部開口の上方に位置させ、該導管を
    介して前記酸素含有ガスをノズル内に導入するこ
    とを特徴とする炭化水素固形物をガス生成物に変
    換する方法。 2 ノズルが上下方向に対向して設けられる倒立
    円錐台形部と円錐台形部との間に狭搾部を有する
    ベンチユリ型ノズルより成る特許請求の範囲第1
    項記載の方法。 3 酸素含有ガスをベンチユリ型ノズルの狭搾部
    の上方でかつ倒立円錐台形部の端部下方よりノズ
    ル内に導入する特許請求の範囲第2項記載の方
    法。 4 別のガス液体をノズルを通りノズル内に配置
    した導管の周囲より流動層へ向けて流入させる特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 5 ノズルより流入させる別のガス流体の酸素濃
    度が、ノズル内に同心的に配置された導管を介し
    て流入させる酸素含有ガスの酸素濃度より実質的
    に小さい特許請求の範囲第4項記載の方法。 6 別のガス流体の酸素濃度が約15容量%以下で
    あり、同心的に配置された導管を介して流入させ
    る酸素含有ガスの酸素濃度が約30乃至75容量%で
    ある特許請求の範囲第5項記載の方法。 7 ノズルは流動層の下方で流体分配板及び支持
    グリツドに隣接して配置されており、酸素を実質
    上含まないガス流体を前記グリツドを介して上方
    に流入させる特許請求の範囲第5項記載の方法。 8 グリツドを介して流入させるガス流体の酸素
    含有量が5容量%未満である特許請求の範囲第7
    項記載の方法。 9 グリツドを介して流入させるガス流体には、
    ガス化反応において得られたガス生成物の一部を
    用い、高温反応生成物の一酸化炭素及び水素含有
    量を増加させた特許請求の範囲第7項記載の方
    法。 10 ガス生成物は共留炭化水素微細物質を含
    み、該微細物質はガス生成物から分離されて反応
    領域の流動層に戻され、反応領域でノズル内に同
    心的に配置された導管から放出される酸素含有ガ
    スと接触する特許請求の範囲第1項記載の方法。 11 固形塊状の炭化水素固形物を流動層でガス
    化反応によりガス生成物に変換するための反応器
    を備えた装置において、反応器には (a) 反応器の底部に配置され、漏斗状に窄つた中
    心部に開口を有する灰分取出しノズルと、 (b) ノズル内に同心的に配置され該ノズル内を上
    方に伸びてノズル内の漏斗状に窄つた中心部の
    開口の上方で終端する導管とを備えてなり、 (c) 酸素含有量の高いガス流を前記導管を介し、
    酸素含有量の低いガス流を前記ノズルを介して
    前記流動層の底部より導入することにより、ガ
    ス化反応により副生する灰分を反応器内で凝集
    させ、凝集した灰分を前記ノズルを介して反応
    器底部から取り出すようにしたことを特徴とす
    る炭化水素固形物質をガス生成物に変換する装
    置。 12 灰分取出しノズルがベンチユリ型のノズル
    からなる特許請求の範囲第11項記載の装置。 13 反応器の直径の導管の直径に対する比が約
    10対1よりも大きい特許請求の範囲第11項記載
    の装置。 14 反応器の直径の導管の直径に対する比が約
    20対1よりも大きい特許請求の範囲第11項記載
    の装置。
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