JPH0143870Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、ガラス基板、半導体基板等を保持す
るための保持具に関するもので、特にフオトマス
クブランクからフオトマスクを製作するための各
処理（例えば、現像処理、エツチング処理、洗浄
処理等）に使用して好適な基板保持具に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種の基板保持具としては、例えば実
開昭59−192836号公報に開示されたものが知られ
ている。これを第６図に基づいて概略説明する
と、１は六角錐体からなる中実の載置台本体、２
は載置台本体１の底面中央に設けられた回転軸、
３は矩形のウエハー、４は載置台本体１の各斜面
１ａに凹設されウエハー３を支持する支持面で、
各支持面４には真空吸着穴５が開口され、この真
空吸着穴５を回転軸２内に設けた通路６に連通さ
せている。

ウエハー３の洗浄に際しては、通路６を真空排
気して各支持面４の密着させ、ウエハー３をこの
状態で回転軸２と共に載置台本体１を駆動手段に
よつて回転させ、不図示のノズルより洗浄液をウ
エハー３に向けて略直角に噴射して行う。

〔考案が解決しようとする課題〕

しかしながら、このような従来の基板保持具に
おいては、載置台本体１が中実体のため慣性が大
きいこと、通路６を排気してウエハー３を支持面
４に真空吸着させるため、載置台本体１が複雑化
し、装置自体が大掛りなものとなること、支持面
４を高精度に加工しなければならないこと、真空
吸着のためウエハー３を個別に脱着できないこ
と、ウエハー３の表裏両面を同時に洗浄すること
ができず、両面洗浄を必要とする場合、片面ずつ
行わざるを得ず、能率が悪く、また処理液中での
浸漬洗浄には不適であること、など多くの欠点を
有していた。

したがつて、本考案は上述したような従来の欠
点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、構造が比較的簡単で、被処理物としての基
板の表裏面を同時に処理することができ、また基
板を個別に脱着でき、しかもスプレー法、スピン
ドライ法デイツプ法等による処理が可能な基板保
持具を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本考案は上記目的を達成するために、回転軸
と、この回転軸を中心としてその周囲に等配され
た複数個のブロツクおよび各ブロツクを前記回転
軸に連結する連結部によつて中空枠状体に形成さ
れ、隣接するブロツク間がカセツト取付け窓を形
成するカセツト保持体と、それぞれ枠状に形成さ
れて隣接するブロツク間に開閉自在に配設され、
基板の両側端縁を保持する保持部を有する複数個
のカセツトと、このカセツトを前記カセツト保持
体に裏面側に所定角度傾斜して閉位置に係止する
係止手段とで構成したものである。

〔作用〕

本考案において、カセツト保持体は中空枠状体
なため、基板の表裏面を同時に処理する。基板は
カセツトによつて両側端縁を保持される。基板が
回転軸に対して裏面側に傾斜していることから、
保持具の移送中においては、基板表面に付着して
いる処理液の流れ落ちる速度が遅く、基板の下部
に集まる処理液の量を少なくする。

〔実施例〕

以下、本考案を図面に示す実施例に基づいて詳
細に説明する。

第１図は本考案に係る基板保持具の一実施例を
示す斜視図、第２図は平面図、第３図は正面図で
ある。これらの図において基板保持具１０は、回
転軸１１と、この回転軸１１に配設されたカセツ
ト保持体１２と、このカセツト保持体１２に開閉
自在に配設される複数個のカセツト１３とで概ね
構成されている。

前記回転軸１１は、断面形状が例えば角形で上
端には搬送時にロボツトアーム１４（第３図参
照）によつて保持される被クランプ部１５を一体
に有し、下部には中空枠状体に形成された前記カ
セツト保持体１２が配設されている。

前記カセツト保持体１２は本実施例の場合４個
のカセツト１３，１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３
ｄを保持する例を示し、そのため回転軸１１の周
りに等配された４つのブロツク１６，１６ａ，１
６ｂ，１６ｃ，１６ｄと、各ブロツク１６を前記
回転軸１１に連結する４本の略水平な連結部１
７，１７ａ，１７ｂ，１７ｃ，１７ｄを備えてい
る。各ブロツク１６は底面が略直角三角形で互い
に直交する２つの垂直面Ａ，Ｂを有する略三角柱
状体に形成されて前記回転軸１１の周りに90゜ず
つずれて配置され、隣接するブロツク間がカセツ
ト取付け窓を形成している。各連結部１７は一端
が回転軸１１の下部にそれぞれ連結され、他端が
対応するブロツク部１７はブロツク１６の頂部
に、前記垂直面Ａ，Ｂに対して45゜の角度でそれ
ぞれ交差するよう設けられている。

前記各カセツト１３，１３ａ，１３ｂ，１３
ｃ，１３ｄはそれぞれ略Ｈ形に形成されてカセツ
ト保持体１２のカセツト取付け窓、すなわち隣り
合うブロツク１６間１６ａと１６ｂ，１６ｂと１
６ｃ，１６ｃと１６ｄ，１６ａと１６ｄにそれぞ
れ開閉自在に配設されるもので、その下端が軸ピ
ン（図示せず）によつて軸支されることにより、
第１図矢印２０方向、すなわちカセツト１３の上
端が前記回転軸１１に対して接近離間する方向に
回動されるように構成されている。また、各カセ
ツト１３を形成する左右一対の枠部材２１，２２
の互いに対向する内側面には、基板であるフオト
マスクブランク３の両側端縁部を保持する保持部
としての溝２３，２４が高さ方向略全長に亘つて
それぞれ形成されている。

この場合、本実施例においてはフオトマスクブ
ランク３は、ガラス基板の一主表面上にCr膜を
成膜し、そのCr膜上にレジスト膜を塗布してい
る。また、前記各枠部材２１，２２の下端にカセ
ツト１３の中心方向に折曲された折曲部２５，２
６をそれぞれ一体に設け、これら折曲部２５，２
６の上面にも前記溝２３，２４に連通する溝２
７，２８（第１図参照）を設け、フオトマスクブ
ランク３の下端両側部をより確実に保持するよう
にしたが、前記溝２３，２４を各枠部材２１，２
２の上端より下端近傍まで形成しておけば、前記
折曲部２５，２６をかならずしも必要とするもの
ではない。

各枠部材２１，２２の外側面上端部には第２図
に示すように係合突起３０，３１が突設されてお
り、これらの係合突起３０，３１に対応して各ブ
ロツク１６の垂直面Ａ，Ｂの上端部には係合凹部
３２，３３がそれぞれ形成されている（第２図参
照）。前記係合突起３０，３１と係合凹部３２，
３３はカセツト１３の上端部をカセツト保持体１
２に係止する係止手段を構成するもので、カセツ
ト１３ａを起こしてブロツク１６ａ，１６ｂ間に
挿入していくと、係合突起３０がブロツク１６ｄ
の垂直面Ｂに形成された係合凹部３３に嵌入係合
すると同時に係合突起３１がブロツク１６ａの垂
直面Ａに形成された係合凹部３２に嵌入係合し、
これによつてカセツト１３ａが前記ブロツク１６
ａ，１６ｂ間に係止されるよう構成されている。
この状態において、フオトマスクブランク３は前
記回転軸１１に対して第３図に示すように裏面側
に所定角度Θ（例えばΘ＝30゜）傾斜した状態でセ
ツトされる。

なお、他のカセツト１３ｂ，１３ｃ，１３ｄも
前記カセツト１３ａと全く同様にブロツク間に係
止される。また、基板保持具１０を構成する各部
材、すなわち前記回転軸１１、カセツト保持体１
２、カセツト１３等は、耐食性、耐薬品性に優れ
た材料、例えばテフロン（商標名）等によつてそ
れぞれ形成されているものとする。

次に、本実施例による基板保持具１０を用いた
現像処理の方法を述べる。

先ず、各カセツト１３を回転軸１１から離間す
る方向に倒してフオトマスクブランク３を、レジ
スト膜側を外側にして溝２３，２４に挿入する。
次に、各カセツト１３を順次元に戻して係合突起
３０，３１と係合凹部３２，３３との係合により
カセツト保持体１２のブロツク間に係止する。フ
オトマスクブランク３が４枚セツトされたら、回
転機構を内蔵したロボツトアーム１４で回転軸１
１の被クランプ部１５を保持し、現像液上に基板
保持具１０を運び、該液中に浸すと共に前記被ク
ランプ部１５を介して回転軸１１に回転を伝達
し、基板保持具１０を所定の回転数で回転させ
る。すると、各フオトマスクブランク３は、回転
軸１１に対して所定角度Θ傾斜した状態で基板保
持具１０と一体的に回転し、これによりフオトマ
スクブランク３の表面に自然な液の流れが発生
し、各フオトマスクブランク３に塗布されたレジ
スト膜は、均一に現像される。さらに、フオトマ
スクブランク３が傾斜しているので、現像液中に
沈めるとき、または現像液から取り出すとき、垂
直保持と比較して、このブランク３の上下におい
て、時間的な差異を少なくすることができるの
で、面内の寸法バラツキ（フオトマスクブランク
３の現像、エツチング処理によつて形成されたパ
ターン寸法のバラツキ）を少なくすることもでき
る。またフオトマスクブランク３を傾斜保持して
いるので、垂直保持に比べて次槽への移動時にお
ける面内の寸法バラツキを少なくする。

すなわち、垂直保持の移送においてはフオトマ
スクブランク３に付着している液がブランク面に
沿つて下方に移動する速度が速く、下部に液が必
然的に多く集まるため、面内の寸法バラツキが生
じるが、本考案のように傾斜保持して移送する場
合には、上部の液が下部に移動する速度が遅く、
したがつて下部に集まる液の量が少なく、面内の
寸法バラツキをより少なくすることができる。こ
の場合、フオトマスクブランク３と回転軸１１と
のなす角度Θを大きくすればするほど、その効果
が大であることは本例によつて理解されるであろ
う。

なお、上記実施例は基板保持具１０を処理用薬
液中に浸漬してフオトマスクブランク３を処理す
る場合について説明したが、第４図に示すように
チヤンバー４０内に基板保持具１０を入れ、スプ
レーノズル４１から薬液を噴射しフオトマスクブ
ランク３に吹き付けることで処理することも可能
である。すなわち、従来からあるレジストの現
像、エツチング装置は回転軸に対してレジスト付
フオトマスクブランクを垂直にセツトするように
なつており、かつレジスト膜の上方より現像、エ
ツチングするための処理液がスプレーされるよう
になつていたため、各処理は同時に複数枚行うこ
とができなかつたが、本考案による基板保持具１
０を用いれば、複数枚のフオトマスクブランク３
を同時に処理することが可能である。

また、カセツト保持体１２は中空枠状体である
ため、洗浄時には浸漬洗浄、スプレー洗浄を問わ
ず、いずれの場合も両面を同時に洗浄でき、能率
的である。

また、熱処理（例えばポストベーク、プレベー
ク）も第５図に示すようにオーブン５０内に配設
した回転テーブル５１上に基板保持具１０を設置
することで可能とされる。この場合、処理に数十
分間を要するため、ロボツトアームは単に基板保
持具１０の搬送にのみ使用し、回転テーブル５１
により回転させた方が良策である。

以上の説明から明らかなように、本考案の基板
保持具１０は、回転軸１１を有し、かつロボツト
アーム１４を使用することで全処理プロセスの自
動化を行うことができることが理解されるであろ
う。

なお、上記実施例は基板としてフオトマスクブ
ランク３の処理に使用した場合について説明した
が、本考案はこれに限らず太陽電池や薄膜ELパ
ネルの透明電極付基板を形成するとき、すなわち
透明導電膜をパターン化するときにも使用できる
ものである。

また、カセツト１３の係止手段として係合突起
３０，３１と係合凹部３２，３３を用いたが、こ
れに何ら特定されることなく、種々の変更が可能
である。

〔考案の効果〕

以上述べたように本考案に係る基板保持具は、
中空枠状体からなるカセツト保持体に枠状体から
なる複数個のカセツトを設け、このカセツトで基
板の両側端縁部を保持するように構成したので、
保持具の構成が簡単で、基板を個別に脱着するこ
とができ、また基板の両面を同時に処理すること
ができ、作業能率の向上を図ることができる。ま
た、デイツプ法のみならず、スプレー法やスピン
ドライ法にもそのまま使用でき、保持具としての
汎用性が向上し、フオトマスクブランク等の基板
の各処理に用いて好適である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る基板保持具の一実施例を
示す斜視図、第２図は平面図、第３図は正面図、
第４図はスプレーノズル付チヤンバー内に配置し
て処理を行う場合の状態図、第５図は熱処理を行
う場合の状態図、第６図は基板保持具の従来例を
示す断面図である。 ３……フオトマスクブランク、１０……基板保
持具、１１……回転軸、１２……カセツト保持
体、１３……カセツト、１７……連結部、３０，
３１……係合突起、３２，３３……係合凹部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 回転軸と、 この回転軸を中心としてその周囲に等配された
   複数個のブロツクおよび各ブロツクを前記回転軸
   に連結する連結部によつて中空枠状体に形成さ
   れ、隣接するブロツク間がカセツト取付け窓を形
   成するカセツト保持体と、 それぞれ枠状に形成されて隣接するブロツク間
   に開閉自在に配設され、基板の両側端縁を保持す
   る保持部を有する複数個のカセツトと、 このカセツトを前記カセツト保持体に裏面側に
   所定角度傾斜して閉位置に係止する係止手段とを
   備えたことを特徴とする基板保持具。