JPH0147218B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0147218B2 JPH0147218B2 JP57001734A JP173482A JPH0147218B2 JP H0147218 B2 JPH0147218 B2 JP H0147218B2 JP 57001734 A JP57001734 A JP 57001734A JP 173482 A JP173482 A JP 173482A JP H0147218 B2 JPH0147218 B2 JP H0147218B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- catalyst layer
- duct
- inlet
- partition plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 20
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 11
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 8
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、排ガス処理装置に関し、特に排ガス
入口部と出口部との間の距離を短くすることので
きる装置に関するものである。
入口部と出口部との間の距離を短くすることので
きる装置に関するものである。
水処理場等の排ガスの脱臭装置は従来、第１図
に示すようなものが知られていた。
に示すようなものが知られていた。
第１図において、臭気を含んだ排ガスは、ダク
トの入口部１から入り、オゾン注入器２から注入
されるオゾンと混合され、触媒層３で反応が促進
され、脱臭される。そしてダクトの出口部４から
処理済みガスとして排出される。
トの入口部１から入り、オゾン注入器２から注入
されるオゾンと混合され、触媒層３で反応が促進
され、脱臭される。そしてダクトの出口部４から
処理済みガスとして排出される。
この脱臭装置において脱臭効果に影響する因子
としては次のものが挙げられる。
としては次のものが挙げられる。
(1) オゾンと排ガスとが均一混合すること。
(2) オゾンと排ガスとが触媒３を通過する前に気
相反応時間が必要であること。
相反応時間が必要であること。
(3) 触媒層３を通過する排ガス速度が或る値以上
にならないこと。（この値以上になると脱臭効
果が低減する。） (4) 触媒層３での速度分布が均一であること。不
均一な場合、速り速度の部分の脱臭効果が低減
し、また触媒層３の劣化に不均一が生じ、結果
的に全体の触媒層３の交換を早める。） 上記の(4)を達成するために、ダクトＢを入口ダ
クトＡより拡大部Ｃをもつて拡げられているが、
急激に拡大すると、第２図に示すように、ガス流
れが壁面から剥離し、上記(3)のガス速度を遅くす
る効果が得られなくなる。従つて、拡大部Ｃを短
かくすることができないし、更には上記(2)の反応
時間の関係から入口部１と出口部４との間に必要
最小な距離が定まる。
にならないこと。（この値以上になると脱臭効
果が低減する。） (4) 触媒層３での速度分布が均一であること。不
均一な場合、速り速度の部分の脱臭効果が低減
し、また触媒層３の劣化に不均一が生じ、結果
的に全体の触媒層３の交換を早める。） 上記の(4)を達成するために、ダクトＢを入口ダ
クトＡより拡大部Ｃをもつて拡げられているが、
急激に拡大すると、第２図に示すように、ガス流
れが壁面から剥離し、上記(3)のガス速度を遅くす
る効果が得られなくなる。従つて、拡大部Ｃを短
かくすることができないし、更には上記(2)の反応
時間の関係から入口部１と出口部４との間に必要
最小な距離が定まる。
排ガス処理装置を新設する場合、第１図に示す
ような装置を計画、配置することは可能である
が、既設の装置にこの種装置を設ける場合は、入
口部１と出口部４との間の距離を自由にすること
ができないことが多く、第１図のような装置を配
置することが不可能な場合がある。
ような装置を計画、配置することは可能である
が、既設の装置にこの種装置を設ける場合は、入
口部１と出口部４との間の距離を自由にすること
ができないことが多く、第１図のような装置を配
置することが不可能な場合がある。
本発明は、入口部、出口部の距離の短い脱臭装
置を提供するものである。
置を提供するものである。
すなわち本発明は、ダクトの一端に排ガス入口
部、他端に排ガス出口部、内部に触媒層を設けて
なる排ガス処理装置において、上記触媒層の上流
側に横手方向に隔壁板と開口比の異なる多孔板を
設けたことを特徴とする排ガス処理装置に関する
ものである。
部、他端に排ガス出口部、内部に触媒層を設けて
なる排ガス処理装置において、上記触媒層の上流
側に横手方向に隔壁板と開口比の異なる多孔板を
設けたことを特徴とする排ガス処理装置に関する
ものである。
第３図は本発明装置の一実施態様例を示す図で
ある。
ある。
第３図中、第１図と同一符号は第１図と同一機
能部を示し、５は隔壁板、６は多孔板、７は触媒
層ダクトＢと入口ダクトＡとの取付フランジ、８
は触媒層ダクトＢと出口ダクトＤとの取付フラン
ジであり、第３図のものは入口ダクトＡを触媒層
ダクトＢの端部に設ける例を示している。
能部を示し、５は隔壁板、６は多孔板、７は触媒
層ダクトＢと入口ダクトＡとの取付フランジ、８
は触媒層ダクトＢと出口ダクトＤとの取付フラン
ジであり、第３図のものは入口ダクトＡを触媒層
ダクトＢの端部に設ける例を示している。
排ガスは入口部１から入口ダクトＡに入り、触
媒層ダクトＢに導かれる。該ダクトＢ内には長手
方向と直角に（すなわち横手方向に）隔壁板５が
設けられており、排ガスは該隔壁板５により直角
に曲げられ、次いで該隔壁板５の端部５′で180゜
ターンされる。
媒層ダクトＢに導かれる。該ダクトＢ内には長手
方向と直角に（すなわち横手方向に）隔壁板５が
設けられており、排ガスは該隔壁板５により直角
に曲げられ、次いで該隔壁板５の端部５′で180゜
ターンされる。
また、上記の隔壁板５と平行に多孔板６が設け
られており、該多孔板６は、隔壁板５の端部５′
に近い部分の孔の開口は極端に小さく、隔壁板５
の端部５′から遠ざかる（すなわち多孔板６の端
部６′に近づく）に従つて孔の開口が大きくなる
ような開口比に示構成されている。
られており、該多孔板６は、隔壁板５の端部５′
に近い部分の孔の開口は極端に小さく、隔壁板５
の端部５′から遠ざかる（すなわち多孔板６の端
部６′に近づく）に従つて孔の開口が大きくなる
ような開口比に示構成されている。
上記の壁隔板５とこの多孔板６とにより整流さ
れた排ガスは、触媒層３に達し、該触媒層３にて
オゾンが活性化され、脱臭が促進される。
れた排ガスは、触媒層３に達し、該触媒層３にて
オゾンが活性化され、脱臭が促進される。
第４図は本発明装置の他の実施態様例を示す図
である。
である。
第４図中、第１，３図と同一符号は第１，３図
と同一機能部を示し、第４図のものは入口部１と
出口部４とが一直線上となるように入口ダクトＡ
を触媒層ダクトＢに取付ける例を示している。
と同一機能部を示し、第４図のものは入口部１と
出口部４とが一直線上となるように入口ダクトＡ
を触媒層ダクトＢに取付ける例を示している。
排ガスは入口部１から入口ダクト１に入り、隔
壁板５により触媒層ダクトＢの外周部に流れる。
壁板５により触媒層ダクトＢの外周部に流れる。
多孔板６は、孔の開口を外周部より中央部の方
に漸次大きくなるような開口比に構成されてお
り、上記排ガスはこの多孔板６の孔と通り、触媒
層３に達し、オゾンが活性化され、脱臭が促進さ
れる。
に漸次大きくなるような開口比に構成されてお
り、上記排ガスはこの多孔板６の孔と通り、触媒
層３に達し、オゾンが活性化され、脱臭が促進さ
れる。
以上説明した本発明装置は、
(1) 入口部１と出口部４との間の限られた距離に
合わせて触媒層ダクトＢを構成し、フランジ
７，８にて入口フランジＡ、出口フランジＤを
取付けることができる。
合わせて触媒層ダクトＢを構成し、フランジ
７，８にて入口フランジＡ、出口フランジＤを
取付けることができる。
(2) 隔壁板５にて排ガス通路を形成することによ
り、排ガスとオゾンとの均一混合および気相反
応時間が確保できる。
り、排ガスとオゾンとの均一混合および気相反
応時間が確保できる。
(3) 開口比の異なる多孔板６により排ガス速度の
均一化および必要な速度まで低速できる（触媒
層の劣化を遅らせ、かつ劣化を均一化できる）、 (4) 小さなスペースにも設置することができる、 等の効果を奏し得る。
均一化および必要な速度まで低速できる（触媒
層の劣化を遅らせ、かつ劣化を均一化できる）、 (4) 小さなスペースにも設置することができる、 等の効果を奏し得る。
なお、本発明装置は、脱臭装置に限らず各種の
排ガス処理装置として適用できる。
排ガス処理装置として適用できる。
第１図は従来の脱臭装置を示す図、第２図は第
１図の欠点を説明するための図、第３，４図は本
発明装置の実施態様例を示す図である。
１図の欠点を説明するための図、第３，４図は本
発明装置の実施態様例を示す図である。
Claims (1)
- １ ダクトの一端に排ガス入口部、他端に排ガス
出口部、内部に触媒層を設けてなる排ガス処理装
置において、上記触媒層の上側流に横手方向に隔
壁板と開口比の異なる多孔板を設けたことを特徴
とする排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57001734A JPS58119325A (ja) | 1982-01-11 | 1982-01-11 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57001734A JPS58119325A (ja) | 1982-01-11 | 1982-01-11 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58119325A JPS58119325A (ja) | 1983-07-15 |
| JPH0147218B2 true JPH0147218B2 (ja) | 1989-10-12 |
Family
ID=11509787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57001734A Granted JPS58119325A (ja) | 1982-01-11 | 1982-01-11 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58119325A (ja) |
-
1982
- 1982-01-11 JP JP57001734A patent/JPS58119325A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58119325A (ja) | 1983-07-15 |
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