JPH0151093B2 - - Google Patents

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JPH0151093B2
JPH0151093B2 JP53062670A JP6267078A JPH0151093B2 JP H0151093 B2 JPH0151093 B2 JP H0151093B2 JP 53062670 A JP53062670 A JP 53062670A JP 6267078 A JP6267078 A JP 6267078A JP H0151093 B2 JPH0151093 B2 JP H0151093B2
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    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
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    • HELECTRICITY
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    • H03K19/08Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体素子によつて構成された回路に
関し、特に絶縁ゲート型電界効果トランジスタを
用いた回路に関するものである。
以下の説明はすべて絶縁ゲート型電界効果トラ
ンジスタのうち、代表的なMOSトランジスタ
(以下MOSTと称す)を用い、かつNチヤネル
MOSTで行ない高レベルが論理1レベルであり、
低レベルが論理0レベルである。しかし回路的に
はPチヤネルMOSTでも本質的に同様である。
MOSダイナミツクランダムアクセスメモリ
(以下RAMと称す)の回路で、内部節点を電源
VDDレベルまで充電し、且つダイナミツクに維持
する必要のある場合がみられる。即ち、1トラン
ジスタメモリセルのRAMにおいて、デイジツト
線をVDDレベルまで充電しダイナミツクセンスア
ンプの活性化によるリフレツシユ高レベルの低下
を抑えている例があり、今後大容量化に向い電源
VDDレベルを下げなければならないとき、この種
の充電方式に対する要求は高まるものと予想され
る現状は充電用MOSTのゲートレベルをブー
ト・ストラツプ容量の効果を用いVDDレベルを越
えて充分上昇させMOSTを非飽和領域に置いて
VDDレベルに充電しているが、このVDD以上のゲ
ートレベルは一度レベル設定された後は、レベル
を保持する回路機能がなく、ロング・サイクルタ
イミングではリーク減衰などによりレベルが低下
し、その結果、充電レベルも低下して動作マージ
ンに影響する可能性がある。1トランジスタメモ
リセルのRAMでデイジツト線を充電する場合
は、センスアンプの両側でのレベルバランスが厳
しく要求されるため、充電用MOSTのVDD以上の
ゲート・レベルは安定に維持されなければなら
ず、この成否如何が直接動作マージンを決定する
要因となる。
本発明は、VDD以上のレベルに保つべき充電用
MOSTのゲートにブート・ストラツプ容量を更
に1個追加して1端を接続し、他端をやはり電源
電圧VDDで駆動される発振回路の出力に接続して
ゲートレベルが周期的にVDD以上のレベルにリフ
レツシユされるようにし、充電レベルを安定に
VDDレベルに維持できるようにする回路を提供す
ることを目的とする。
以下本発明を図面を参照して説明する。本発明
の基本構成を第1図に各節点の動作波形を第2図
に示す。クロツクΦが低レベルのとき、節点1及
び節点2は大地電位とし、節点3は浮遊電位(フ
ローテイング)に置く。節点4はクロツクΦが高
レベルの期間、VDDレベルに保つべき節点で、回
路上の使用個所によりクロツクΦが低レベルの間
の節点4のレベルが異なるが、ここでは大地電位
と考える。クロツクΦが低レベルから高レベルに
上昇し、高レベルはVDDに等しいとすると、節点
1がMOSTQ1を通して上昇し始め(VDD−閾値
電圧)レベルに達する。節点1の上昇を受け、
MOSTQ2を通して節点4も上昇し(VDD−2×
閾値電圧)レベルに至る。クロツクΦは遅延回路
の入力ともなり、遅延時間Td後に節点2が上昇
し始めVDDレベルに達するものとする。遅延時間
Tdの期間で節点1と節点2の間のブート・スト
ラツプ容量C12Fは(VDD−閾値電圧)レベルに充
電され節点2の上昇を受けて節点1は VDD−閾値電圧+C12F/C1+C12F×VDD で表わされるレベルに達する。ここでC1は節点
1の容量を表わす。節点1のこのレベル上昇によ
りMOSTQ2は非飽和領域に駆動され、節点4は
VDDレベルに至る。これで所要の回路機能は達成
されたことになるが、節点4のVDDレベルを維持
することについてはこれだけの現状で何らバツク
アプ機能を備えていない。MOSTRAMについて
基板電源発生回路をチツプ内蔵したものがまずス
タテイツク型であらわれ、ダイナミツク型でも導
入されつつあるが、この回路はCR発振回路を信
号発生源とし、そのバツフアを通した出力を利用
して、基板電源レベルをリフレツシユしつつ発生
している。この発振回路をチツプ内蔵するMOS
ダイナミツクRAMについて、そのバツフア出力
をやはりレベルリフレツシユに利用すると節点4
のVDDレベルの維持が行なえる。節点1と、発振
回路バツフア出力、節点3の間にブートストラツ
プ容量C13Fを接続し、節点4がVDDレベルに至つ
てから、節点3の発振出力波形があらわれるよう
にすれば、まず節点3が高レベルから低レベルに
変化するのを受けて、節点1のレベルが低下し、
MOSTQ1を通したクロツクΦによる充電レベル
即ち、(VDD−閾値電圧)レベルになると共に
C13Fにも(VDD−閾値電圧)の電位差がかかる。
その後節点3が低レベルから高レベルに変化する
とき節点1のレベルは上昇して VDD−閾値電圧+C13F/C1+C13F×(節点
3の電位変化量)(1) というVDDを充分越えたレベルまで達し、
MOSTQ2を非導通にして節点4のVDDレベルを
リフレツシユする。発振回路の周期に応じた節点
3のレベル変化を受けて節点1は(1)式と(VDD
閾値電圧)のレベルを交互に繰り返す変化を生
じ、(1)式のレベルにある期間に節点4のVDDレベ
ルがリフレツシユされることになる。
本発明の具体的な実施例を第3図に主要な節点
の動作波形を第4図に示す。プリチヤージクロツ
クPが高レベルのとき回路はリセツト状態にあ
り、このときPはVDDレベルであるとすると、節
点3及び節点15は(VDD−閾値電圧)レベルに
充電され、節点1、節点2、節点4、節点5、節
点11、節点12、節点13節点14は大地電位
に置かれる。クロツクPが高レベルから低レベル
に移行し、活性動作期間に入ると、まずクロツク
Φ1が活性化され、低レベルから高レベルに移行
し、VDDレベルに至るとする。MOSTQ1を通し
て節点1が上昇し始め(VDD−閾値電圧)レベル
まで至り、次いでMOSTQ3,Q9を通してそれ
ぞれ節点2、節点5が上昇し共に(VDD−2×閾
値電圧)レベルに達する。節点1の上昇により
MOSTQ7も導通するがMOSTQ8の電流能力は
MOSTQ7より充分大きく採り節点4を低レベル
に抑えて、ブートストラツプ容量C14Fの充電を
行なう。MOSTQ23及びQ24はリセツト期間
から既に非導通であり、MOSTQ31もPが低レ
ベルにすると非導通となるので節点13はフロー
テイング状態にあり、節点1に追随して、ブート
ストラツプ容量C113Fを介して節点13も(VDD
−閾値電圧)レベルに上昇する。節点2の上昇に
よりMOSTQ6が導通し、節点3が放電されて大
地電位に達する。MOSTQ8が非導通になると、
既に導通しているMOSTQ7を通して節点4が上
昇し始めブートストラツプ容量C14Fにより節点
1が VDD−閾値電圧+C14F/C1+C14F×V4 (2) (ここでC1は節点1の容量であり、V4は節点4
の電圧である。)というレベルに上昇し、
MOSTQ7は非飽和状態を維持して節点4はVDD
レベルに至る。このとき節点13は依然フローテ
イング状態にあるのでブートストラツプ容量
C113Fは節点1のレベルに影響を与えることはな
く、節点13は節点1に追随して(2)式のレベルに
達する。節点1のこの上昇によりMOSTQ9は非
飽和領域に置かれ、節点5はVDDレベルに至る。
このままで放置しているのが現状であるが、不安
材料となるのは節点1の(2)式で表わされるレベル
の維持であり、リークによりレベルが低下するこ
とがあればクロツクΦ1の高レベルがVDDに保たれ
るとして節点1は(VDD−閾値電圧)レベルまで
低下する可能性があり、節点5も(VDD−2×閾
値電圧)レベルまで低下し得てVDDレベルに維持
できなくなる。MOSTQ11〜Q31及びブート
ストラツプ容量C113Fは節点5のVDDレベルの維
持に対し、次のように寄与する。節点4の上昇を
受け、MOSTQ27を通して節点14が(VDD
閾値電圧)レベルまで上昇する。MOSTQ30が
導通して節点15が放電され大地電位に至り、
MOSTQ25及びQ26は非導通になる。クロツ
クΦ2を活性化するタイミング時刻は特に制限さ
れず、MOSTQ25及びQ26が非導通であるこ
と及びクロツクΦ2が活性化されることという2
つの条件が揃つてから節点11及び節点12に発
振出力波形があらわれる。MOSTQ27〜Q30
は節点5がVDDレベルに達してから発振出力を得
るための遅延回路である。MOSTQ11〜Q18
は周知のように発振回路を構成し、まず節点6及
び節点8が低レベルになつているとして出発する
とMOSTQ12を通して節点7が上昇し始め、
MOSTQ14を通して節点8も充電されレベルが
上昇する。MOSTQ16の電流能力はMOSTQ1
5より充分大きく採つており、節点8の上昇を受
けてMOSTQ15により高レベルになつている節
点9は低レベルに移行する。MOSTQ18が非導
通になりMOSTQ17を通して節点10が上昇す
る。MOSTQ11を通して節点6が上昇し
MOSTQ13の電流能力はMOSTQ12より充分
大きく採つてあるため、節点7が放電され
MOSTQ14を通して節点8も放電されて、レベ
ルが低下する。この後は、節点9の上昇、節点1
0の下降、MOSTQ11を通して節点6の下降と
続いて、これで1周期が完了する。この周期は
(MOSTQ11の抵抗)×(節点6の容量)及び
(MOSTQ14の抵抗)×(節点8の容量)という
時定数により決められる。節点9には論理的にレ
ベルの確定した発振出力波形が得られ、これを
MOSTQ20で受ける。Φ2が上昇しており、
MOSTQ25及びQ26が非導通になつている
と、節点11及び節点12に応答発振出力があら
われる。節点9が高レベルから低レベルに移行す
ると、MOSTQ20は非導通になり、MOSTQ1
9を通して節点11が上昇してΦ2の高レベルを
VDDとすると(VDD−閾値電圧)レベルまで至る。
MOSTQ22の電流能力はMOSTQ21より充分
大きく採り、節点11の上昇を受けて節点12は
低レベルに落着く。逆に節点9が低レベルから高
レベルに移行すると、MOSTQ20が導通し、
MOSTQ20の電流能力はMOSTQ19より充分
大きく採つてあるので、節点11は低レベルに移
行する。MOSTQ22が非導通になると節点12
が上昇し始め(VDD−閾値電圧)レベルまで達す
る。このように周期的に互いに逆相にレベル変化
する節点11及び節点12をそれぞれMOSTQ2
4及びQ23のゲートで受け節点13には高レベ
ルが(VDD−2×閾値電圧)レベルである発振出
力波形が得られる。ブートストラツプ容量C113F
がまず節点1のレベルに影響を及ぼすのは節点1
3が最初に低レベルになるときであり、このとき
節点1は(VDD−閾値電圧)レベルに低下すると
共にC113Fは(VDD−閾値電圧)レベルに充電さ
れる。節点13が低レベルから高レベルに変化す
るとブートストラツプ容量C113Fにより節点1の
レベルが上昇して VDD−閾値電圧+C113F/C1+C113F×(VDD
−2×閾値電圧)(3) にほゞ等しいレベルまで上昇する。MOSTQ7は
節点1の電位が(VDD+閾値電圧)レベル以下で
あると飽和領域であり、節点4はフローチイング
状態に近く、ブートストラツプ容量C14Fはこの
場合節点1のレベルにほとんど関係しない。節点
1のレベル上昇によりMOSTQ9は非飽和領域に
駆動され、節点5のVDDレベルがリフレツシユさ
れる。以後節点13の発振出力を受け、ブートス
トラツプ容量C113Fを通して節点1は(3)式のレベ
ルと(VDD−閾値電圧)レベルとの周期的な繰り
返しとなり(3)式のレベルにある間に節点5のVDD
レベルがリフレツシユされることになる。クロツ
クPが低レベルから高レベルにクロツクΦ1及び
Φ2が高レベルから低レベルに移行すれば回路は
リセツト状態に戻る。
以上で本発明の基本的な回路動作が説明された
が、第3図の回路では節点1が(3)式のレベルから
(VDD−閾値電圧)レベルに低下する際MOSTQ
9のゲート・ソース間容量により節点5のレベル
が殆んどの場合0.2〜0.3v程度VDDより低下するた
め節点5がデイジツト線で常に精確にVDDレベル
にあることが要求されるような場合には適当でな
い。第5図は本発明を効果的に利用し、この要求
を満足する機能を有する回路図を示し、主要節点
の動作波形を第6図に示す。VDDレベルに維持す
べき節点5を充電するMOSTは第3図では1個
であつたがここではMOSTQ9,Q11及びQ1
2の3個で行ないそれぞれのゲートに対応する節
点1、節点6及び節点10の内絶えずいずれかが
VDDを充分越えたレベルにあるようにして節点5
のVDDレベル維持を計つている。クロツクPが高
レベルから低レベルに移行し、次いでクロツク
Φ1が低レベルからVDDレベルに等しい高レベルに
移行して活性期間に入ると、MOSTQ1を通して
節点1がまず(VDD−閾値電圧)レベルまで上昇
し、MOSTQ3〜Q8の遅延回路の出力である節
点4の上昇を受けてブート・ストラツプ容量
C14Fにより VDD−閾値電圧+C14F/C1+C14F×V4 (ここでC1は節点1の容量であり、V4は節点4
の電圧である。) というVDDを充分越えたレベルに更に持ち上げ
られMOSTQ9を通して節点5をVDDレベルに駆
動する。節点6及び節点10は節点1と全く同様
にレベル変化しそれぞれ VDD−閾値電圧+C69F/C6+C69F×V9 (ここでC6は節点6の容量であり、V9は節点9
の電圧である。) VDD−閾値電圧+C1013F/C10+C1013F×V13 (ここでC10は節点10の容量であり、V13は節
点13の電圧である。) で表わされるVDDを充分越えたレベルに至り、
MOSTQ11及びQ12を非飽和領域にして、や
はり節点5をVDDレベルに駆動する。従つて同一
の回路ブロツク3組で並列に節点5をVDDレベル
に充電するのであるから、MOSTの電流能力は
第3図の場合に比べて3分の1に採れば充分であ
る。節点1は従来通り、上昇させたまゝ放置し、
このレベルがリークで低下することがあれば発振
出力を受けて節点6及び節点10が交互にVDD
上の充分高いレベルに上昇して節点5のVDDレベ
ル維持に寄与する。前述したようにクロツクΦ2
が活性化され節点23が放置されてMOSTQ47
及びQ48が非導通になると節点19及び節点2
0は互に逆相の発振波形が得られる。クロツク
Φ2の高レベルVDDレベルとすると節点19及び節
点20は(VDD−閾値電圧)レベルまで上昇し、
節点19が高レベル、節点20が低レベルのとき
は節点21は上昇して(VDD−2×閾値電圧)レ
ベルまで至り、節点24は大地電位となり、逆に
節点19が低レベル、節点20が高レベルのとき
は節点21は大地電位となり、節点24は上昇し
て(VDD−2×閾値電圧)レベルまで至るという
節点21及び節点24にも互いに逆相の発振出力
波形を生じる。節点6はブートストラツプ容量
C621Fを通して節点21の出力波形の影響を受
け、節点21が低レベルのときには(VDD−閾値
電圧)レベル高レベルのときには、 VDD−閾値電圧+C621F/C6+C621F×(VDD
−2×閾値電圧)(4) というVDDを充分越えたレベルに落ち着く。同様
に節点10はブートストラツプ容量C1024Fを通
して、節点24の影響を受け、節点24が低レベ
ルのときには(VDD−閾値電圧)レベル、高レベ
ルのときには、 VDD−閾値電圧+C1024F/C10+C1024F×(
VDD−2×閾値電圧)(5) というVDDを充分越えたレベルに至る。このよう
にして節点6及び節点10が交互にVDDを充分越
えたレベルとなるのでMOSTQ11及びQ12の
いずれかが絶えず非飽和領域に置かれ節点1のレ
ベルが低下しても節点5のVDDレベルが維持され
ることになる。節点6及び節点10のレベルが変
化するときについては、例えば節点6が(4)式のレ
ベルから(VDD−閾値電圧)レベルに低下すると
MOSTQ11のゲートソース間容量により、節点
5は若干低下する向きとなるが、同時に節点10
が(VDD−閾値電圧)レベルから(5)式のレベルに
上昇するのでMOSTQ12のゲート・ソース間容
量により節点5は逆に同じ量上昇する向きとなり
打ち消し合つて、結果として節点5はVDDレベル
に保たれる。以上より節点5の充電VDDレベルが
安定に維持される機構が説明される。
第1図から第6図により述べた本発明の基本構
成及び実施例は入力クロツクΦ乃至Φ1に同期さ
せて出力を低レベルから電源VDDレベルまで上昇
させΦ乃至Φ1が高レベルの期間ずつと出力をVDD
レベルに維持することを目指したものであるが入
力クロツクに関係せず出力を常に電源VDDレベル
に維持し、電源回路として使用する第7図及び第
8図に示す実施例も考えられる。第7図は第3図
に対応する回路で節点2の出力VDDレベルが周期
的にリフレツシユされ、節点1が(VDD−閾値電
圧)レベルに低下する期間は節点2のレベルは
MOSTQ2のゲート・ソース間容量によりVDD
り若干低下する。第8図は第5図に対応する回路
で、この場合は節点1及び節点2が交互に周期的
にVDDより充分高いレベルに上昇するため、節点
3はVDDレベルに安定に維持される。
今までの説明はすべてエンハンスメント
MOSTで行なつたが負荷MOSTにデプレツシヨ
ンMOSTを用い、VDD=+5vTYPと電源電圧を
下げる場合に本発明は特に有効になることが考え
られる。
以上述べたように本発明によれば主として基板
電源発生回路をチツプ内蔵するMOSRAMのよう
に発振回路を有するものについて、出力を電源
VDDレベルに充電するため充電用MOSTのゲート
を遅延回路出力及びブートストラツプ容量により
VDD以上の充分高いレベルに上昇させる場合、こ
のゲートレベル及び出力のVDDレベルのリークに
よる減衰を防止することをねらい充電用MOST
のゲートにブートストラツプ容量を更に1個追加
して1端を接続し、他端を発振回路のバツフア出
力に接続することによりゲートレベルが周期的に
VDD以上の充分高いレベルにリフレツシユされ、
出力レベルが安定にVDDレベルに維持されるとい
う回路機能が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本構成を示し、各節点の動
作波形を第2図に示す。本発明の具体的な実施回
路例を第3図に主要な節点の動作波形を第4図に
示す。第5図は本発明の効果的な実施例であり、
第6図に主要な節点の動作波形を示す。第7図お
よび第8図は本発明の他の異なる実施例を示す回
路図である。各図において、数字は節点番号、Q
に続く数字はMOSトランジスタの番号、C××
Fはブートストラツプ容量を表わす。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 電源端子と第1の節点との間にソース・ドレ
    インが接続されゲートに該電源端子の電位以内の
    振幅の第1の入力信号が印加された第1の電界効
    果トランジスタと、該第1の節点と基準電位端子
    との間にソース・ドレインが接続されゲートに該
    第1の信号とはほぼ逆相の第2の入力信号が印加
    された第2の電界効果トランジスタと、前記電源
    端子と出力端子との間にソース・ドレインが接続
    されゲートが前記第1の節点に接続された第3の
    電界効果トランジスタと、該出力端子と該基準電
    位端子との間にソース・ドレインが接続されゲー
    トに該第2の入力信号が印加された第4の電界効
    トランジスタと、前記第1の入力信号に応答して
    上記第3の電界効果トランジスタのゲート電位を
    第1のブートストラツプ容量を介して該電源端子
    の電位以上に引き上げて前記第3のトランジスタ
    を導通させる遅延駆動回路と、発振回路と、入力
    が前記発振回路に接続され出力が第2のブートス
    トラツプ容量を介して該第3の電界効果トランジ
    スタのゲートに接続されたバツフア回路と、前記
    遅延駆動回路の出力が該電源端子の電位近傍の時
    に該バツフア回路を動作状態とし、該第2の入力
    信号が該電源端子の電位近傍の時に該バツフア回
    路を非動作状態とする制御回路とを有し、前記遅
    延駆動回路が前記第2のトランジスタを導通状態
    にしているほぼ全期間においてのみ前記第3のト
    ランジスタのゲート電位を周期的に該電源端子の
    電位以上にして前記出力端子に前記電源端子の電
    位を出力せしめるようにした半導体回路。
JP6267078A 1978-05-24 1978-05-24 Semiconductor circuit using insulation gate type field effect transistor Granted JPS54153565A (en)

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