JPH0151162B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0151162B2 JPH0151162B2 JP59020137A JP2013784A JPH0151162B2 JP H0151162 B2 JPH0151162 B2 JP H0151162B2 JP 59020137 A JP59020137 A JP 59020137A JP 2013784 A JP2013784 A JP 2013784A JP H0151162 B2 JPH0151162 B2 JP H0151162B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light beam
- optical
- optical means
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
- B23K26/0738—Shaping the laser spot into a linear shape
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0095—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0911—Anamorphotic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0977—Reflective elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔本発明の分野〕
本発明は、光学結像系、特に、コリメートされ
た光線を必要な曲率及び開口数（NA）の自己発
光性光源として適用できるようにする光学系に関
する。
た光線を必要な曲率及び開口数（NA）の自己発
光性光源として適用できるようにする光学系に関
する。
マイクロエレクトロニクス装置の回路密度を高
める必要性から、種々の高分解能リソグラフイ技
術に対する関心が増々高まつてきた。この技術に
は、より微細な高分解能パターンを高い生産性で
形成する能力が必要とされる。フオトリソグラフ
イでは、周知のように、より短い波長の光を用い
て分解能を上げている。その結果、遠紫外線スペ
クトル領域で露光を行なう方法及び材料の開発に
努力が払われてきた。そのような先行技術では、
光源として重水素ランプ又はキセノン−水銀アー
ク・ランプが、従来より用いられてきた。そのよ
うなランプを光線として用いると、次のような問
題が生じる。即ち、所望のスペクトル領域におい
ては、そのようなランプから十分な出力を得るこ
とができないことである。典型的なランプを典型
的な光学系で用いる場合、集めて使用できる全遠
紫外線出力は、数十ミリワツト程度である。それ
で、遠紫外線感光フオトレジストの露光時間は、
典型的には数分である。
める必要性から、種々の高分解能リソグラフイ技
術に対する関心が増々高まつてきた。この技術に
は、より微細な高分解能パターンを高い生産性で
形成する能力が必要とされる。フオトリソグラフ
イでは、周知のように、より短い波長の光を用い
て分解能を上げている。その結果、遠紫外線スペ
クトル領域で露光を行なう方法及び材料の開発に
努力が払われてきた。そのような先行技術では、
光源として重水素ランプ又はキセノン−水銀アー
ク・ランプが、従来より用いられてきた。そのよ
うなランプを光線として用いると、次のような問
題が生じる。即ち、所望のスペクトル領域におい
ては、そのようなランプから十分な出力を得るこ
とができないことである。典型的なランプを典型
的な光学系で用いる場合、集めて使用できる全遠
紫外線出力は、数十ミリワツト程度である。それ
で、遠紫外線感光フオトレジストの露光時間は、
典型的には数分である。
特願昭57−6190号により、光源としてパルス動
作エクサイマー・レーザーを用いたフオトリソグ
ラフイ装置が開示されている。この装置により、
それまでよりもかなり短い露光時間で、高分解能
パターンを一様に露光できるようになつた。この
パルス動作エクサイマー・レーザー光源は、ほぼ
コリメートされた光線を生じるが、これは、湾曲
スリツトのような形の照明を利用するように設計
された先行技術の投影装置で用いるのには適して
いない。
作エクサイマー・レーザーを用いたフオトリソグ
ラフイ装置が開示されている。この装置により、
それまでよりもかなり短い露光時間で、高分解能
パターンを一様に露光できるようになつた。この
パルス動作エクサイマー・レーザー光源は、ほぼ
コリメートされた光線を生じるが、これは、湾曲
スリツトのような形の照明を利用するように設計
された先行技術の投影装置で用いるのには適して
いない。
特願昭58−42499号により例えばパルス化され
たレーザー光線を、光学的には任意の形状及び開
口数の自己発光性光源に相当するものに変える、
ホログラフイ方法及び装置が開示されている。
たレーザー光線を、光学的には任意の形状及び開
口数の自己発光性光源に相当するものに変える、
ホログラフイ方法及び装置が開示されている。
特願昭58−44618号により、コリメートされた
光線を新規に次のようなレンズ配列体及び光フア
イバ配列体を提供して任意の形状及び開口数の自
己発光性光源のように変える光学系が開示されて
いる。そのレンズ配列体は、各々が所定の開口数
を有する複数の点光線のように働くものである。
一方、その光フアイバ配列体は、各光フアイバの
入力端が前記レンズ配列体における対向していな
い１つのレンズから光を受取るように配置されて
そして、複数の光フアイバの出力端が所望の形状
及び開口数の自己発光性光源を形成するように配
置された構成をなすものである。
光線を新規に次のようなレンズ配列体及び光フア
イバ配列体を提供して任意の形状及び開口数の自
己発光性光源のように変える光学系が開示されて
いる。そのレンズ配列体は、各々が所定の開口数
を有する複数の点光線のように働くものである。
一方、その光フアイバ配列体は、各光フアイバの
入力端が前記レンズ配列体における対向していな
い１つのレンズから光を受取るように配置されて
そして、複数の光フアイバの出力端が所望の形状
及び開口数の自己発光性光源を形成するように配
置された構成をなすものである。
このように、先行技術は、実質的にコリメート
された光線を強度が長さ方向に沿つて一様な湾曲
した線状光線に変えて自己発光性光源として適用
できるようにする通常のアナモルフイツクな光学
手段から成る光学系を何ら示していない。
された光線を強度が長さ方向に沿つて一様な湾曲
した線状光線に変えて自己発光性光源として適用
できるようにする通常のアナモルフイツクな光学
手段から成る光学系を何ら示していない。
本発明の目的は、コリメートされた光線を所望
の曲率の湾曲した線状光線に変えて自己発光性光
源として適用できるようにする装置を提供するこ
とである。
の曲率の湾曲した線状光線に変えて自己発光性光
源として適用できるようにする装置を提供するこ
とである。
このような装置は、次のような構成をなす。即
ち、実質的にコリメートされた光線を生じる光源
と、前記光線を所定の光路に向ける手段と、前記
光路に配置され第１の位置に前記光線を線状に集
束可能な第１の光学手段と、前記第１の光学手段
と前記第１の位置との間に挿入され、前記第１の
光学手段を通つた光線から断面が弓形の光線を生
じて第２の位置に向ける第２の光学手段と、前記
第２の位置に設けられ前記断面が弓形の光線を受
けて発光する第３の光学手段とを備える構成であ
る。前記第３の光学手段は、例えば、指向性の拡
散器から成る。
ち、実質的にコリメートされた光線を生じる光源
と、前記光線を所定の光路に向ける手段と、前記
光路に配置され第１の位置に前記光線を線状に集
束可能な第１の光学手段と、前記第１の光学手段
と前記第１の位置との間に挿入され、前記第１の
光学手段を通つた光線から断面が弓形の光線を生
じて第２の位置に向ける第２の光学手段と、前記
第２の位置に設けられ前記断面が弓形の光線を受
けて発光する第３の光学手段とを備える構成であ
る。前記第３の光学手段は、例えば、指向性の拡
散器から成る。
本発明によつて、既存の投影装置にコリメート
された光線を使用するこができるようになつた。
された光線を使用するこができるようになつた。
第１図に示すように、本発明を実施する光学系
には、光源からのコリメートされた光線１０が含
まれる。この光線は、矢印で示されているよう
に、所定の光路を通るように方向付けられてい
る。好ましい光源は、パルス動作エクサイマー・
レーザーである。このレーザーは、強度がガウス
分布をなしているというよりもむしろ光線の幅に
わたつて実質的に一様な分布をなしているような
光線を生じる。光線１０は、球面レンズ１２，１
４に入射する。これらのレンズは、光線を拡大す
るが、光線の形状には影響を与えない。光線は、
反射手段１６によつて円柱型レンズ１８に向けら
れる。この円柱型レンズ１８は、光線が第１の位
置S′において線像に集束して強度がその長さ方向
に一様に分布するような、一方向に倍率を備えて
いる。しかしながら、湾曲した反射手段２０が、
円柱型レンズ１８と第１の位置S′との間に所定の
角度で挿入される。円柱形レンズ１８により集束
された横方向に細長い像をなす光線は、その横方
向と集束軸が交差するように配置された長く伸び
る湾曲した反射手段で反射されると、幾何光学の
反射法則より、湾曲反射面の集束軸を通つて、反
射手段の湾曲した形状が反転的に反映された湾曲
した線像となる。そして、この湾曲した線像は、
反射手段を所定の角度に傾けているので、第２の
位置Ｓに形成される。この線像は、その長さ方向
に沿つて強度が一様に分布している。拡散手段２
２が、第２の位置Ｓに設けられる。この拡散手段
は、湾曲した線像を受取り、NAの大きな放射を
するような湾曲した自己発光性の分布を生じる。
には、光源からのコリメートされた光線１０が含
まれる。この光線は、矢印で示されているよう
に、所定の光路を通るように方向付けられてい
る。好ましい光源は、パルス動作エクサイマー・
レーザーである。このレーザーは、強度がガウス
分布をなしているというよりもむしろ光線の幅に
わたつて実質的に一様な分布をなしているような
光線を生じる。光線１０は、球面レンズ１２，１
４に入射する。これらのレンズは、光線を拡大す
るが、光線の形状には影響を与えない。光線は、
反射手段１６によつて円柱型レンズ１８に向けら
れる。この円柱型レンズ１８は、光線が第１の位
置S′において線像に集束して強度がその長さ方向
に一様に分布するような、一方向に倍率を備えて
いる。しかしながら、湾曲した反射手段２０が、
円柱型レンズ１８と第１の位置S′との間に所定の
角度で挿入される。円柱形レンズ１８により集束
された横方向に細長い像をなす光線は、その横方
向と集束軸が交差するように配置された長く伸び
る湾曲した反射手段で反射されると、幾何光学の
反射法則より、湾曲反射面の集束軸を通つて、反
射手段の湾曲した形状が反転的に反映された湾曲
した線像となる。そして、この湾曲した線像は、
反射手段を所定の角度に傾けているので、第２の
位置Ｓに形成される。この線像は、その長さ方向
に沿つて強度が一様に分布している。拡散手段２
２が、第２の位置Ｓに設けられる。この拡散手段
は、湾曲した線像を受取り、NAの大きな放射を
するような湾曲した自己発光性の分布を生じる。
特定の実施例では、第２の位置Ｓが、フオトリ
ソグラフイの投影装置における通常の集光系２４
の光源面即ちランプを設ける面であり、反射手段
２０の曲率は、その投影装置における光源即ちラ
ンプの曲率に合うように選ばれる。ランプのよう
に光源が弓形の形状をしている場合には、反射手
段２０は、湾曲した線像を投影装置の光源面へ方
向付けるような特別の角度に傾けられた円筒型セ
グメントから成る。このような装置では、マスク
部材２８に入射する光が所望の程度に部分的にコ
ヒーレントとなるように、開口回転板２６の特定
の開口を選ぶことにより、適切なNAが選択され
る。
ソグラフイの投影装置における通常の集光系２４
の光源面即ちランプを設ける面であり、反射手段
２０の曲率は、その投影装置における光源即ちラ
ンプの曲率に合うように選ばれる。ランプのよう
に光源が弓形の形状をしている場合には、反射手
段２０は、湾曲した線像を投影装置の光源面へ方
向付けるような特別の角度に傾けられた円筒型セ
グメントから成る。このような装置では、マスク
部材２８に入射する光が所望の程度に部分的にコ
ヒーレントとなるように、開口回転板２６の特定
の開口を選ぶことにより、適切なNAが選択され
る。
光源としてエクサイマー・レーザーを既存の投
影装置に使用した例においては、数秒程度の短い
走査時間で、ウエハ全体の一様な露光が達成され
た。これは、露光時間を大幅に短くするものであ
る。
影装置に使用した例においては、数秒程度の短い
走査時間で、ウエハ全体の一様な露光が達成され
た。これは、露光時間を大幅に短くするものであ
る。
このように、既存の投影装置で露光時間を大幅
に短くできるが、拡散手段２２を次のように方向
付けることにより、露光時間をさらに短くするこ
とができる。即ち、散乱光の非常に多くの部分
が、開口回転板２６の選択開口３０により決まる
開口数内であるようにである。このことが、第２
図に示されている。即ち、プロツトしたグラフ２
７は、通常の拡散手段の典型的な強度分布であ
り、プロツトしたグラフ２９は、指向性の拡散手
段についてのものである。これらのグラフは、指
向性の拡散手段の方が、小さな角度については大
きな強度の分布となつていることを示している。
に短くできるが、拡散手段２２を次のように方向
付けることにより、露光時間をさらに短くするこ
とができる。即ち、散乱光の非常に多くの部分
が、開口回転板２６の選択開口３０により決まる
開口数内であるようにである。このことが、第２
図に示されている。即ち、プロツトしたグラフ２
７は、通常の拡散手段の典型的な強度分布であ
り、プロツトしたグラフ２９は、指向性の拡散手
段についてのものである。これらのグラフは、指
向性の拡散手段の方が、小さな角度については大
きな強度の分布となつていることを示している。
第３図に、集光系２４の概略を示す。この図に
は、マスク部材２８の露光に利用する光を、有限
の円すい体状に示してある。このような集光系２
４では、拡散手段２２に入射した光は、拡散し、
許容可能な円すい体状内の光が、第３図に概略的
に示してある反射手段３２によつて、選択開口３
０の方へ向けられる。先に述べた特定の例では、
その投影装置に許容可能な光の最大の半分角θ
は、約7゜である。
は、マスク部材２８の露光に利用する光を、有限
の円すい体状に示してある。このような集光系２
４では、拡散手段２２に入射した光は、拡散し、
許容可能な円すい体状内の光が、第３図に概略的
に示してある反射手段３２によつて、選択開口３
０の方へ向けられる。先に述べた特定の例では、
その投影装置に許容可能な光の最大の半分角θ
は、約7゜である。
指向性の拡散器を作る１つの適切な方法を、第
４図及び第５図に示す。この方法では、拡散手段
３６に方向付けられたコヒーレント光線３４を用
いる。拡散手段３６で散乱した光は、平らな基板
４０に付着された適切なフオトレジスト３８を露
光するように方向付けられる。その散乱光によつ
て、フオトレジスト３８には、はん点のパターン
が生じる。コヒーレント光が光学手段即ち拡散性
の反射手段から反射又は散乱するときには、干渉
パターンが生じることは、コヒーレント光の特徴
である。これらの干渉パターンは、一般には“レ
ーザーはん点”として現われる。変調周期を伴う
光強度の100％変調は、照射領域のサイズよりも
ずつと小さい。
４図及び第５図に示す。この方法では、拡散手段
３６に方向付けられたコヒーレント光線３４を用
いる。拡散手段３６で散乱した光は、平らな基板
４０に付着された適切なフオトレジスト３８を露
光するように方向付けられる。その散乱光によつ
て、フオトレジスト３８には、はん点のパターン
が生じる。コヒーレント光が光学手段即ち拡散性
の反射手段から反射又は散乱するときには、干渉
パターンが生じることは、コヒーレント光の特徴
である。これらの干渉パターンは、一般には“レ
ーザーはん点”として現われる。変調周期を伴う
光強度の100％変調は、照射領域のサイズよりも
ずつと小さい。
第５図に示すように、所望の深さの表面レリー
フ４２を生じるように、現像時間を調節して、は
ん点のパターンで露光されたフオトレジスト３
８′が、現像不足の処理を施される。現像前では、
フオトレジストの表面は鏡のようになつており、
それ故に、散乱は無視できるほどである。一方、
長時間現像すると、その表面ははつきりしたレリ
ーフになり、それで光は多くの異なる角度で拡散
して、円すい体状の角度が増す。しかしながら、
現像不足のレジストについては、よりゆるやかな
起伏が生じ、それで、第５図に矢印で示されてい
るように、入射光が拡散される角度の範囲は、そ
れに伴なつてより小さくなる。このようにして、
散乱する円すい体状の角度は、現像のパラメータ
により制御される。
フ４２を生じるように、現像時間を調節して、は
ん点のパターンで露光されたフオトレジスト３
８′が、現像不足の処理を施される。現像前では、
フオトレジストの表面は鏡のようになつており、
それ故に、散乱は無視できるほどである。一方、
長時間現像すると、その表面ははつきりしたレリ
ーフになり、それで光は多くの異なる角度で拡散
して、円すい体状の角度が増す。しかしながら、
現像不足のレジストについては、よりゆるやかな
起伏が生じ、それで、第５図に矢印で示されてい
るように、入射光が拡散される角度の範囲は、そ
れに伴なつてより小さくなる。このようにして、
散乱する円すい体状の角度は、現像のパラメータ
により制御される。
指向性の拡散器は、伝送又は反射のいずれのモ
ードでも使用できる。指向性の拡散器を反射モー
ドで使用する場合、フオトレジストの表面は、所
望する程度の現像後には、金属付着される。指向
性の拡散器を伝送モードで使用する場合、基板は
石英のような透明物質で作られ、金属付着のステ
ツプは行なわれない。もし、レジスト物質が所望
の波長では透明でないなら、パターンが石英に移
される。
ードでも使用できる。指向性の拡散器を反射モー
ドで使用する場合、フオトレジストの表面は、所
望する程度の現像後には、金属付着される。指向
性の拡散器を伝送モードで使用する場合、基板は
石英のような透明物質で作られ、金属付着のステ
ツプは行なわれない。もし、レジスト物質が所望
の波長では透明でないなら、パターンが石英に移
される。
指向性の拡散器における散乱中心のサイズは、
第４図に示されているように、次のような関係に
よつて与えられる光学手段の適切な位置決めによ
り、簡便に制御できる。即ち、 平均的なはん点サイズ＝ｓ＝λL／ｄ ｄ：コヒーレント光線３４の直径 Ｌ：拡散手段３６とフオトレジスト３８の表
面との間の距離 λ：コヒーレント光線３４の波長 より細かな拡散を生じるためには、ｄを大きくし
たり、Ｌを小さくしたりすべきである。
第４図に示されているように、次のような関係に
よつて与えられる光学手段の適切な位置決めによ
り、簡便に制御できる。即ち、 平均的なはん点サイズ＝ｓ＝λL／ｄ ｄ：コヒーレント光線３４の直径 Ｌ：拡散手段３６とフオトレジスト３８の表
面との間の距離 λ：コヒーレント光線３４の波長 より細かな拡散を生じるためには、ｄを大きくし
たり、Ｌを小さくしたりすべきである。
第１図は、本発明を実施する光学系を示す図、
第２図は、通常の拡散器及び指向性の拡散器によ
り散乱された光の強度分布を示すグラフ、第３図
は、特定のフオトリソグラフイ装置における指向
性の拡散器の効果を示す図、第４図は、所定の散
乱特性を生じるような指向性の拡散器を作ること
ができる方法を示す図、第５図は、第４図に示し
た方法によつて作られた指向性の拡散器を示す図
である。 １０……コリメートされた光線、１２，１４…
…球面レンズ、１６……反射手段、１８……円柱
型レンズ、２０……円筒型反射手段、２２……拡
散手段。
第２図は、通常の拡散器及び指向性の拡散器によ
り散乱された光の強度分布を示すグラフ、第３図
は、特定のフオトリソグラフイ装置における指向
性の拡散器の効果を示す図、第４図は、所定の散
乱特性を生じるような指向性の拡散器を作ること
ができる方法を示す図、第５図は、第４図に示し
た方法によつて作られた指向性の拡散器を示す図
である。 １０……コリメートされた光線、１２，１４…
…球面レンズ、１６……反射手段、１８……円柱
型レンズ、２０……円筒型反射手段、２２……拡
散手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 実質的にコリメートされた光線を生じる光源
と、 前記光線を所定の光路に向ける手段と、 前記光路に配置され、第１の位置に前記光線を
線状に集束可能な第１の光学手段と、 前記第１の光学手段と前記第１の位置との間に
挿入され、前記第１の光学手段を通つた光線から
断面が弓形の光線を生じて第２の位置に向ける第
２の光学手段と、 前記第２の位置に設けられ、前記断面が弓形の
光線を受けて発光する第３の光学手段と、 を備える弓形の発光を生じる装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/497,392 US4521087A (en) | 1983-05-23 | 1983-05-23 | Optical system with diffuser for transformation of a collimated beam into a self-luminous arc with required curvature and numerical aperture |
| US497392 | 1983-05-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59216118A JPS59216118A (ja) | 1984-12-06 |
| JPH0151162B2 true JPH0151162B2 (ja) | 1989-11-01 |
Family
ID=23976672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59020137A Granted JPS59216118A (ja) | 1983-05-23 | 1984-02-08 | 弓形の発光を生じる装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4521087A (ja) |
| EP (1) | EP0127045B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59216118A (ja) |
| DE (1) | DE3473356D1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8703356D0 (en) * | 1987-02-13 | 1987-03-18 | Lloyd Doyle Ltd | Optical apparatus |
| US5310624A (en) * | 1988-01-29 | 1994-05-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Integrated circuit micro-fabrication using dry lithographic processes |
| US5115349A (en) * | 1989-05-25 | 1992-05-19 | Kabushiki Kaisha Machida Seisakusho | Projector system and system for detecting flaw |
| US5095386A (en) * | 1990-05-01 | 1992-03-10 | Charles Lescrenier | Optical system for generating lines of light using crossed cylindrical lenses |
| DE4018355A1 (de) * | 1990-06-08 | 1992-01-09 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von werkstuecken mit laserstrahlung |
| DE4042349A1 (de) * | 1990-06-08 | 1991-12-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von werkstuecken mit laserstrahlung |
| US6398374B1 (en) * | 1998-12-31 | 2002-06-04 | The Regents Of The University Of California | Condenser for ring-field deep ultraviolet and extreme ultraviolet lithography |
| US6186632B1 (en) * | 1998-12-31 | 2001-02-13 | The Regents Of The University Of California | Condenser for ring-field deep-ultraviolet and extreme-ultraviolet lithography |
| DE602004031844D1 (de) * | 2003-07-30 | 2011-04-28 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Beleuchtungssystem für die mikrolithographie |
| US8247730B2 (en) * | 2007-09-28 | 2012-08-21 | Corning Incorporated | Method and apparatus for frit sealing with a variable laser beam |
| DE102011102588A1 (de) * | 2011-05-25 | 2012-11-29 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optische Anordnung zum Umformen eines einfallenden Lichtstrahlbündels, Verfahren zum Umformen eines Lichtstrahlbündels zu einem Linienfokus sowie optische Vorrichtung dafür |
| US9568885B2 (en) * | 2013-08-26 | 2017-02-14 | Luminit Llc | Composite holographic optical diffuser structure with high frequency overlay and method of fabrication thereof |
| CN104148803B (zh) * | 2014-08-19 | 2015-09-30 | 大连理工大学 | 一种大批量异形零件激光冲击强化装置及方法 |
| CN105328331B (zh) * | 2015-11-10 | 2017-08-04 | 哈尔滨工程大学 | 用于激光车削和磨削复合加工的强聚焦光学系统及加工方法 |
| AU2019203404B2 (en) | 2018-05-15 | 2024-11-07 | Howmedica Osteonics Corp. | Fabrication of components using shaped energy beam profiles |
| US12085517B2 (en) | 2020-04-10 | 2024-09-10 | Hitachi High-Tech Corporation | Lighting optical system and substrate inspecting device |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2551954A (en) * | 1947-02-21 | 1951-05-08 | John L Lehman | Lighting device having a lens which gives a long and relatively narrow area of illumination |
| US3586813A (en) * | 1967-08-31 | 1971-06-22 | Western Electric Co | Simultaneous multiple lead bonding |
| US3941475A (en) * | 1974-07-01 | 1976-03-02 | Tamarack Scientific Co., Inc. | Optical microcircuit printing system |
| US3957339A (en) * | 1974-07-12 | 1976-05-18 | Caterpillar Tractor Co. | Laser beam shaping arrangement |
| US4241390A (en) * | 1978-02-06 | 1980-12-23 | The Perkin-Elmer Corporation | System for illuminating an annular field |
| US4362384A (en) * | 1981-05-01 | 1982-12-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Means for providing uniform illumination to a light sensitive element |
| EP0066295B1 (en) * | 1981-06-03 | 1986-02-05 | Hitachi, Ltd. | Reflection type optical focusing apparatus |
| US4444456A (en) * | 1982-06-23 | 1984-04-24 | International Business Machines Corporation | Holographic method and apparatus for transformation of a light beam into a line source of required curvature and finite numerical aperture |
| US4516832A (en) * | 1982-06-23 | 1985-05-14 | International Business Machines Corporation | Apparatus for transformation of a collimated beam into a source of _required shape and numerical aperture |
-
1983
- 1983-05-23 US US06/497,392 patent/US4521087A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-02-08 JP JP59020137A patent/JPS59216118A/ja active Granted
- 1984-05-14 DE DE8484105424T patent/DE3473356D1/de not_active Expired
- 1984-05-14 EP EP84105424A patent/EP0127045B1/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3473356D1 (en) | 1988-09-15 |
| EP0127045A3 (en) | 1986-10-22 |
| US4521087A (en) | 1985-06-04 |
| EP0127045A2 (en) | 1984-12-05 |
| EP0127045B1 (en) | 1988-08-10 |
| JPS59216118A (ja) | 1984-12-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5302999A (en) | Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus | |
| JP2655465B2 (ja) | 反射型ホモジナイザーおよび反射型照明光学装置 | |
| JPS59216118A (ja) | 弓形の発光を生じる装置 | |
| JPH0561602B2 (ja) | ||
| JPH04270082A (ja) | マーキングシステム | |
| WO2011048877A1 (ja) | レーザ露光装置 | |
| JP2000021712A5 (ja) | ||
| US4444456A (en) | Holographic method and apparatus for transformation of a light beam into a line source of required curvature and finite numerical aperture | |
| KR20010043419A (ko) | 인코히어런트 광을 이용한 광학 마스터 제작법 | |
| US5218660A (en) | Illumination device | |
| JPH0629189A (ja) | 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 | |
| KR100922056B1 (ko) | 호모제니저 | |
| US7755741B2 (en) | Substrate exposure apparatus and illumination apparatus | |
| JP3067491B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH01114035A (ja) | 露光装置 | |
| JPH0774086A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPS6332555A (ja) | 露光装置 | |
| JP2914035B2 (ja) | 輪帯光束形成方法および照明光学装置 | |
| JP3521506B2 (ja) | 照明装置及び露光装置 | |
| JP2002033259A (ja) | 投影露光方法、投影露光装置および照明光学装置 | |
| JP2765162B2 (ja) | 照明装置 | |
| JPH0620925A (ja) | 露光装置 | |
| JP2005504357A (ja) | 可干渉性のビームの干渉性を低下させる装置 | |
| JP2007080953A (ja) | 照明装置及び露光装置 | |
| JPH04250455A (ja) | 円弧照明装置 |