JPH0152814B2 - - Google Patents
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- JPH0152814B2 JPH0152814B2 JP56045393A JP4539381A JPH0152814B2 JP H0152814 B2 JPH0152814 B2 JP H0152814B2 JP 56045393 A JP56045393 A JP 56045393A JP 4539381 A JP4539381 A JP 4539381A JP H0152814 B2 JPH0152814 B2 JP H0152814B2
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- Japan
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- film
- magnetic
- polyethylene terephthalate
- cla
- magnetic recording
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/672—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having different compositions in a plurality of magnetic layers, e.g. layer compositions having differing elemental components or differing proportions of elements
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Lubricants (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高密度磁気記録用媒体に関するもので
ある。更に詳しくは、雑音レベルが少なく、かつ
データ読取りにおける信号対雑音比の良い、特に
高密度記録での再生時のノイズレベルの少ない、
薄膜磁気記録媒体に係るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a high density magnetic recording medium. More specifically, it has a low noise level and a good signal-to-noise ratio when reading data, especially when playing back high-density recording.
This relates to thin film magnetic recording media.
現用の磁気記録における普通の記録媒体は、適
当な基材例えば厚さ数μm〜数10μmの可撓性高
分子フイルム(ポリエステルフイルム等)の表面
上にγ−Fe2O3、Co−ドープ処理されたγ−
Fe2O3,CrO2又はFe等の強磁性粉末が有機結合
剤の中に分散したものを数μmから約10μm程度
までの厚さとなるように塗布して磁気記録層を形
成せしめた積層体である。 A common recording medium for current magnetic recording is a γ-Fe 2 O 3 , Co-doped treatment on the surface of a suitable base material, such as a flexible polymer film (polyester film, etc.) with a thickness of several μm to several tens of μm. γ−
A laminate in which a magnetic recording layer is formed by coating ferromagnetic powder such as Fe 2 O 3 , CrO 2 or Fe dispersed in an organic binder to a thickness of several μm to about 10 μm. It is.
磁気記録技術に要求される改良として、所定面
積当りの記録密度を増加させることが要求されて
いる。デイスク、ドラムまたはテープの記録装置
に使用される磁気メモリー素子において、記録密
度の限界は、保磁界に対する減磁界の比率によつ
てきまる。また減磁界の強さは記録媒体層の飽和
磁化および厚さに関係している。そして、信号対
雑音比の許容水準達成のためには、充分な出力信
号を得ることのできる薄い記録媒体層を得ること
が必要である。記録媒体のB−Hカーブの飽和磁
束密度および角形比が高くなるにつれて達成が容
易となる。かかる意味において本発明の目的は、
高い保磁力を有し、角形比の良いヒステリシスル
ープをもち、かつ記録媒体層が薄く、しかも高い
残留磁気モーメントを有する磁気記録媒体を提供
しようとするもので、とりわけ雑音レベルが低
く、かつデータ読取時の信号対雑音比が良く、特
に高密度記録での再生時のノイズレベルの少ない
金属薄膜磁気記録媒体を提供しようとするもので
ある。 A required improvement in magnetic recording technology is to increase the recording density per given area. In magnetic memory devices used in disk, drum, or tape recording devices, the limit of recording density is determined by the ratio of the demagnetizing field to the coercive field. Further, the strength of the demagnetizing field is related to the saturation magnetization and thickness of the recording medium layer. In order to achieve an acceptable level of signal-to-noise ratio, it is necessary to obtain a thin recording medium layer capable of obtaining a sufficient output signal. This becomes easier to achieve as the saturation magnetic flux density and squareness ratio of the B-H curve of the recording medium become higher. In this sense, the purpose of the present invention is to
The objective is to provide a magnetic recording medium that has a high coercive force, a hysteresis loop with a good squareness ratio, a thin recording medium layer, and a high remanent magnetic moment, which has a particularly low noise level and is easy to read data. The object of the present invention is to provide a metal thin film magnetic recording medium that has a good signal-to-noise ratio during recording and has a low noise level, especially during high-density recording and reproduction.
近年高密度磁気記録用媒体として、バインダー
を用いず、磁気記録層として金属薄膜を真空蒸着
やスパツタリングの如き真空沈着法又はメツキ法
によつて非磁性支持体上に形成して、この強磁性
金属を薄膜磁気記録材としたものが提案されてい
る。例えばCoの蒸着テープ(特開昭54−147010
号公報)、Co−Cr合金からなる垂直磁化膜(特開
昭52−134706号公報)等が開示されている。この
ような蒸着、スパツタ又はイオンプレーテイング
等の薄膜形成手段によつて形成される金属薄膜
は、厚みが1.5μm以下で、磁性層の厚みが3μm以
上である従来の塗布型記録媒体と同等の性能が得
られる。ところで静的特性である保磁力Hc、ま
たはヒステリシスループの角形比ような磁気特性
は、用いられる非磁性支持体の表面状態にあまり
依存しないと考えられる。このような考えによつ
たものの例として米国特許3787327号明細書に開
示されたような真空蒸着によるCo−Crの多層構
造の例が挙げられる。しかしながら形成される金
属薄膜厚さが薄く、非磁性支持体の表面状態(表
面凹凸)がそのまま磁性膜の凹凸として発現し、
それが雑音の原因となることが欠点とされてい
た。 In recent years, as high-density magnetic recording media, ferromagnetic metal has been developed by forming a thin metal film as a magnetic recording layer on a nonmagnetic support by a vacuum deposition method such as vacuum evaporation or sputtering, or a plating method without using a binder. A thin film magnetic recording material has been proposed. For example, Co vapor deposition tape (JP-A-54-147010
JP-A-52-134706) and a perpendicularly magnetized film made of a Co--Cr alloy (JP-A-52-134706). A metal thin film formed by such thin film forming means such as vapor deposition, sputtering, or ion plating has a thickness of 1.5 μm or less and is equivalent to a conventional coated recording medium in which the magnetic layer has a thickness of 3 μm or more. Performance can be obtained. Incidentally, it is considered that magnetic properties such as the coercive force Hc, which is a static property, or the squareness ratio of the hysteresis loop do not depend much on the surface condition of the nonmagnetic support used. An example of a structure based on this idea is a Co--Cr multilayer structure formed by vacuum deposition as disclosed in US Pat. No. 3,787,327. However, the formed metal thin film is thin, and the surface condition (surface irregularities) of the non-magnetic support directly manifests as irregularities on the magnetic film.
The drawback was that it caused noise.
雑音の観点からは、非磁性支持体の表面状態が
出来るだけ平滑であることが好ましい。一方フイ
ルム巻取、巻出しといつたハンドリングの観点か
ら、フイルム表面が平滑であると、フイルム−フ
イルム相互の滑り性が悪くブロツキング現象が発
生し、製品にはなり得ず、ベースフイルム表面が
粗であることが要求される。 From the viewpoint of noise, it is preferable that the surface condition of the nonmagnetic support is as smooth as possible. On the other hand, from the viewpoint of handling such as winding and unwinding of the film, if the film surface is smooth, the film-to-film slipperiness will be poor and a blocking phenomenon will occur, making it impossible to use as a product, and the base film surface will be rough. is required.
電磁変換特性という観点からは非磁性支持体の
表面が平滑であることが要求され、ハンドリング
性、走行性の観点からは粗であることが要求され
る。これら両者の二律相反する性質を同時に満足
する非磁性支持体からなる磁気記録媒体について
鋭意検討した結果本発明に到達したものである。 From the viewpoint of electromagnetic conversion characteristics, the surface of the nonmagnetic support is required to be smooth, and from the viewpoint of handling and running properties, it is required to be rough. The present invention was arrived at as a result of extensive research into a magnetic recording medium made of a nonmagnetic support that satisfies these two contradictory properties at the same time.
すなわち本発明は、配向ポリエチレンテレフタ
レートフイルムであつて、当該フイルムの表面粗
さ〔CLA(単位・μm)〕及び突起物の突起高さ
〔h(単位・μm)〕の個数〔単位:個/mm2〕が以
下の式
CLA<0.005 −(1)
0.27<h ≦0.54…0.2個/mm2以下 −(2)
で示される範囲に有り、当該フイルムの他の片面
には水または溶剤系に滑剤を分散せしめた溶液を
塗布して易滑性塗膜を設けてなる表裏異面フイル
ムであつて、該塗膜の設けていない表面に強磁性
体金属を真空沈着又はメツキしてなる、非磁性配
向ポリエチレンテレフタレートフイルム支持体上
に磁気薄膜を担持した、磁気記録媒体である。 That is, the present invention is an oriented polyethylene terephthalate film, and the surface roughness of the film [CLA (unit/μm)], the protrusion height [h (unit/μm)], and the number of protrusions [unit: pieces/mm] 2 ] is in the range shown by the following formula: CLA<0.005 −(1) 0.27<h ≦0.54…0.2 pieces/mm 2 or less −(2), and the other side of the film is coated with water or a solvent-based lubricant. A non-magnetic film with different surfaces on both sides, which is coated with an easily slippery coating film by applying a solution containing dispersed ferromagnetic metal. This is a magnetic recording medium in which a magnetic thin film is supported on an oriented polyethylene terephthalate film support.
本発明にいうポリエチレンテレフタレートはポ
リエチレンテレフタレートホモポリマーのみなら
ず、繰り返し単位の数の85%以上がエチレンテレ
フタレート単位よりなり、残りが他の酸またはグ
リコール成分であるような共重合ポリエチレンテ
レフタレートを含む。 The polyethylene terephthalate referred to in the present invention includes not only a polyethylene terephthalate homopolymer but also a copolymerized polyethylene terephthalate in which 85% or more of the repeating units are composed of ethylene terephthalate units, and the remainder is other acid or glycol components.
磁性薄膜形成の手段は従来公知のすべての方法
が用いられるが、殊に真空蒸着法、イオンプレー
テイング法、スパツタ法、無電解メツキ法が好ま
しく使用できる。 All conventionally known methods can be used to form the magnetic thin film, but vacuum evaporation, ion plating, sputtering, and electroless plating are particularly preferred.
真空蒸着法の場合には、10-4〜10-6Torrの真
空下でタングステンボートやアルミナハース中の
蒸着金属を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加
熱等により蒸発させ、上記支持体上に沈着せしめ
る。蒸着金属としてはFe、Ni、Co及びそれらの
合金が通常用いられる。また、本発明には、O2
雰囲気中でFeを蒸着させ酸化鉄薄膜を得る反応
蒸着法も適用できる。イオンプレーテイング法で
は、10-4〜10-3Torrの不活性ガスを主成分とす
る雰囲気中でDCグロー放電、RFグロー放電を起
し、該放電中で金属を蒸発さす。不活性ガスとし
ては通常Arが用いられる。スパツタ法では10-3
〜10-1TorrのArを主成分とする雰囲気中でグロ
ー放電を起し、生じたArイオンでターゲツト表
面の原子をたたき出す。グロー放電を起す方法と
して直流2極、3極スパツタ法及び高周波スパツ
タ法がある。又、マグネトロン放電を利用したマ
グネトロンスパツタ法もある。無電解メツキ法で
はCo−P、Co−Ni−Pメツキ膜がある。 In the case of the vacuum evaporation method, the evaporated metal in a tungsten boat or alumina hearth is evaporated under a vacuum of 10 -4 to 10 -6 Torr by resistance heating, high-frequency heating, electron beam heating, etc., and deposited on the support. urge Fe, Ni, Co, and alloys thereof are usually used as the deposited metal. The present invention also includes O 2
A reactive vapor deposition method in which Fe is vapor-deposited in an atmosphere to obtain an iron oxide thin film can also be applied. In the ion plating method, DC glow discharge or RF glow discharge is generated in an atmosphere containing an inert gas of 10 -4 to 10 -3 Torr as a main component, and metal is evaporated in the discharge. Ar is usually used as the inert gas. 10 -3 in the spatuta method
A glow discharge is generated in an atmosphere containing Ar as the main component at ~10 -1 Torr, and the generated Ar ions knock out atoms on the target surface. Methods for generating glow discharge include DC two-pole, three-pole sputtering methods, and high-frequency sputtering methods. There is also a magnetron sputtering method that uses magnetron discharge. In the electroless plating method, there are Co-P and Co-Ni-P plating films.
本発明による磁気薄膜の厚さは高密度磁気記録
媒体として充分な信号出力を提供するものでなけ
ればならない。従つて磁気薄膜の厚さは薄膜形成
法、用途によつて異なるが、一般に0.02〜1.5μm
(200〜15000Å)の間にあることが好ましい。 The thickness of the magnetic thin film according to the present invention must be such that it provides sufficient signal output as a high density magnetic recording medium. Therefore, the thickness of the magnetic thin film varies depending on the thin film formation method and application, but is generally 0.02 to 1.5 μm.
(200 to 15000 Å) is preferable.
オーデイオ、ビデオ、コンピユーター等の長手
記録用磁気薄膜の形成法としては、蒸着(熱蒸
着、電子ビーム蒸着等)、スパツタリング(2極
直流スパツタリンング、高周波スパツタリング
等)等の方法が挙げられる。蒸着の場合磁化容易
軸をテープ水平方向に発現するようCo等の強磁
性体金属を非磁性配向ポリエチレンテレフタレー
ト支持体に対し連続的に斜方蒸着を行い、繰り返
し積層することで、結晶磁気異方性、形状異方性
をテープ水平方向に発現させるものである。従つ
てトータルとしての金属薄膜厚さは、0.02〜0.5μ
m(200〜5000Å)程度であることが良い。また、
上述の如きオーデイオ、ビデオ、コンピユーター
等の長手記録用の他に、高密度デジタル記録が可
能な方法としてPCM、フレキシブルデイスク用
に、磁化容易軸を非磁性配向ポリエチレンテレフ
タレート支持体の垂直方向に発現するよう、例え
ばCoにCrを適当量混入(10〜20%)して、発生
する減磁界を抑えて垂直方向に磁化容易軸を発現
させ、基盤面に対し垂直方向に記録を行う垂直磁
気記録法も適用できる。 Methods for forming magnetic thin films for longitudinal recording in audio, video, computers, etc. include methods such as vapor deposition (thermal vapor deposition, electron beam vapor deposition, etc.), sputtering (dipolar direct current sputtering, high frequency sputtering, etc.). In the case of vapor deposition, ferromagnetic metal such as Co is continuously obliquely vapor-deposited onto a non-magnetic oriented polyethylene terephthalate support so that the axis of easy magnetization appears in the horizontal direction of the tape, and by repeated lamination, crystal magnetic anisotropy is achieved. The tape exhibits anisotropy and shape anisotropy in the horizontal direction. Therefore, the total metal thin film thickness is 0.02 to 0.5μ.
It is preferable that the thickness is about m (200 to 5000 Å). Also,
In addition to the above-mentioned longitudinal recording for audio, video, computers, etc., high-density digital recording is possible by developing an easy axis of magnetization in the perpendicular direction of a non-magnetic oriented polyethylene terephthalate support for PCM and flexible disks. For example, in the perpendicular magnetic recording method, an appropriate amount of Cr (10 to 20%) is mixed into Co to suppress the generated demagnetizing field and to develop an axis of easy magnetization in the perpendicular direction, thereby recording in the perpendicular direction to the substrate surface. can also be applied.
通常スパツタ法で0.2〜1.5μ厚みのCo〜Cr合金
が用いられる。この時非磁性配向ポリエチレンテ
レフタレート支持体と、垂直方向に磁化容易軸を
有する磁気記録層の間にパーアロイ(Fe−Ni)、
スーパーアロイ等の高透磁率材料からなる磁束集
束体薄膜を配することができる。磁束集束体とし
ての高透磁率材料はスパツタリングによつて形成
され、膜厚は0.1〜1μm(1000〜10000Å)の低保
磁力(500e以下薄膜層である。このときの磁気記
録層のCo−Cr膜厚は、0.2〜1.5μm(2000〜15000
Å)程度に形成するとよい。 Usually, a Co-Cr alloy with a thickness of 0.2 to 1.5μ is used by the sputtering method. At this time, peralloy (Fe-Ni) is placed between the non-magnetic oriented polyethylene terephthalate support and the magnetic recording layer having an axis of easy magnetization in the perpendicular direction.
A magnetic flux concentrator thin film made of a high magnetic permeability material such as a superalloy can be provided. The high permeability material as the magnetic flux concentrator is formed by sputtering, and the film thickness is 0.1 to 1 μm (1000 to 10000 Å) and is a thin film layer with a low coercive force (less than 500e). The film thickness is 0.2~1.5μm (2000~15000μm)
It is preferable to form it to a degree of Å).
このように蒸着、スパツター等の手段で形成さ
れる金属薄膜厚さは最大1.5μmと薄く、非磁性配
向ポリエチレンテレフタレート支持体の表面状態
がそのまま磁性膜の凹凸として発現し、雑音の原
因となる。雑音の観点から非磁性配向ポリエチレ
ンテレフタレート支持体の表面が平滑であること
が好ましく、当該配向ポリエチレンテレフタレー
ト支持体の平均的表面粗さCLA(単位・μm)が
0.005μm以下で同時に突起物の突起高さ〔h(単
位・μm)〕0.27<h≦0.54の個数が0.2個/mm2以
下あれば金属薄膜磁気記録媒体とした時の雑音が
飛躍的に減少し、ノイズレベルは格段に優れる。
平均的表面粗さCLAは好ましくは0.004μm以下で
あることがよく、突起物の突起高さ0.27<h≦
0.54の個数は、実質的に0個/mm2であることが良
い。CLAの下限は特に限定されないが通常0.003μ
程度である。 The thickness of the metal thin film formed by means such as vapor deposition or sputtering is as thin as 1.5 μm at most, and the surface condition of the non-magnetic oriented polyethylene terephthalate support is directly expressed as unevenness of the magnetic film, causing noise. From the viewpoint of noise, it is preferable that the surface of the non-magnetic oriented polyethylene terephthalate support is smooth, and the average surface roughness CLA (unit: μm) of the oriented polyethylene terephthalate support is
If the number of protrusions (h (unit: μm)) 0.27<h≦0.54 is less than 0.005μm and the number of protrusions is less than 0.2/ mm2 , noise will be dramatically reduced when used as a metal thin film magnetic recording medium. However, the noise level is much better.
The average surface roughness CLA is preferably 0.004 μm or less, and the protrusion height of the protrusion is 0.27<h≦
It is preferable that the number of 0.54 pieces is substantially 0 pieces/mm 2 . The lower limit of CLA is not particularly limited, but is usually 0.003μ
That's about it.
かかるフイルム表面特性を付与するためには、
例えばフイルム原料に用いる高分子中に不活性無
機化合物を添加したり、不溶性触媒残渣を生成せ
しめたり、機械的、化学的な粗面化処理を施す等
の方法があるが、最も好ましくは、光学的にフラ
ツトな表面を形成するポリエチレンテレフタレー
ト単独が良い。 In order to impart such film surface characteristics,
For example, there are methods such as adding an inert inorganic compound to the polymer used as a film raw material, generating an insoluble catalyst residue, and performing mechanical or chemical surface roughening treatment. Polyethylene terephthalate alone is good because it forms a flat surface.
不活性無機化合物とは、熱可塑性樹脂に対し不
溶性であり、かつ反応しない物質が含まれる。配
合される物質として、例えばMgO、ZnO、
MgCo3、CaCO3、CaSO4、BaSO4、Al2O3、
SiO2、TiO2、例えば代表例としてシリカ、カオ
リン、陶土、珪藻土、炭酸カルシウム、アルミノ
珪酸塩およびその水和物、テレフタール酸カルシ
ウム、その他カーボンブラツク、燐酸カルシウム
等が挙げられる。 The inert inorganic compound includes a substance that is insoluble and does not react with the thermoplastic resin. For example, MgO, ZnO,
MgCo3 , CaCO3 , CaSO4 , BaSO4 , Al2O3 ,
Examples of SiO 2 and TiO 2 include silica, kaolin, china clay, diatomaceous earth, calcium carbonate, aluminosilicate and its hydrate, calcium terephthalate, carbon black, calcium phosphate, and the like.
所望とする表面特性は、添加する不活性化合物
の粒度、添加量、製膜条件を適宜組合せることで
得ることができる。粒度は、添加剤の粉砕および
混合操作を含むこの分野に精通した人々により行
うことのできる種々の方法で得ることができる。
例えば炭酸カルシウムの場合は、エチレングリコ
ールのスラリーとして、分級装置(例えば巴工業
社製P−660スーパーデカンター)等を用いて分
級すると得られる。テレフタール酸カルシウムの
場合は、せん断、圧縮、衝撃等の荷重を加えるこ
とにより適当な大きさの塊状粒子を得、分級する
ことによつて得られる。燐酸カルシウムの場合
は、市販の燐酸塩の分散液を調製し、サンド・ミ
ル中で分散燐酸塩を粉砕する。分散液は粉砕操作
を一回、又はそれ以上の回数反復してスラリー中
の添加剤の粒度を所望の粒度まで下げることによ
り得ることができる。 Desired surface properties can be obtained by appropriately combining the particle size, amount, and film forming conditions of the inert compound added. Particle size can be obtained in a variety of ways that can be performed by those skilled in the art, including additive milling and mixing operations.
For example, in the case of calcium carbonate, it can be obtained as a slurry of ethylene glycol by classifying it using a classifier (for example, P-660 Super Decanter manufactured by Tomoe Kogyo Co., Ltd.). In the case of calcium terephthalate, it can be obtained by applying loads such as shearing, compression, impact, etc. to obtain bulk particles of an appropriate size, and then classifying the particles. For calcium phosphate, prepare a commercially available phosphate dispersion and grind the dispersed phosphate in a sand mill. The dispersion can be obtained by repeating the milling operation one or more times to reduce the particle size of the additive in the slurry to the desired particle size.
不活性無機化合物の添加量は、粒径分布に依存
し、一義的に決められないが、通常0.01〜1wt%
が良い。 The amount of inert inorganic compound added depends on the particle size distribution and cannot be determined unambiguously, but it is usually 0.01 to 1 wt%.
is good.
不活性無機化合物の粒径分布の好ましい範囲
は、粒径〔d(単位・μm)〕比率が以下の式
d>0.5…… 0%
1.5≧d>0.5…… 0〜 5%
0.5≧d>0.2……20〜50%
0.2≧d……45〜80%
で示される範囲にあることが好ましい。 The preferred range of the particle size distribution of the inert inorganic compound is that the particle size [d (unit/μm)] ratio is expressed by the following formula: d>0.5...0% 1.5≧d>0.5...0~5% 0.5≧d> 0.2...20-50% 0.2≧d...45-80% Preferably.
不溶性触媒残渣は、例えばポリエステルにおい
てエステル交換触媒と安定剤との適当量の組合せ
によつて不溶性触媒残渣を形成し、ポリエステル
フイルム表面に凹凸を形成し、表面特性を制御す
るものである。 The insoluble catalyst residue is formed by combining an appropriate amount of a transesterification catalyst and a stabilizer in polyester, for example, to form irregularities on the surface of the polyester film and control the surface characteristics.
最も好ましくは、光学的にフラツトな表面を形
成するポリエチレンテレフタレート樹脂を得るこ
とがよく、例えば、
テレフタール酸を主成分とする二官能性カルボ
ン酸の低級アルキルエステルとエチレングリコー
ルを主成分とするグリコール類とを、Mn、Zn、
Ca、Mgの中から選ばれた1種又は2種以上の金
属の化合物、及び下記のグリコール溶液〔A〕
〔A〕:トリ低級アルキルホスフエートをエチレ
ングリコール中で、加熱処理した溶液で
あつて、且つ該溶液を苛性カリで滴定し
た際に該溶液のPHが9.5に達するまでに
要する苛性カリの量が下記式〔〕を満
足する燐化合物のグリコール溶液
0.53≦〔P〕/〔KOH〕≦0.71 …〔〕
(式中〔P〕は滴定に供したグリコー
ル溶液中の燐の量(モル)であり、
〔KOH〕は滴定に要した苛性カリの量
(モル)である。)
を用いてエステル交換反応せしめ次いで得られた
エステル交換反応生成物を重縮合反応させて得ら
れる。この時安定剤調製時の反応温度が130〜180
℃の範囲でないと生成された配向ポリエチレンテ
レフタレートフイルム中に触媒残渣起因の突起物
が多数存在する傾向がある。このようにして得ら
れたポリエチレンテレフタレート樹脂を単独で用
いるか、又は粒径分布がコントロールされた不活
性無機化合物を前述のポリエチレンテレフタレー
ト樹脂に適当量混入して、樹脂温度260〜320℃、
押出機内滞留時間2〜20分間で溶融押出された固
有粘度〔η〕が0.35〜1.0の未延伸フイルムを、
ポリエチレンテレフタレートの二次転移点(Tg
とあらわす)以上(Tg+70℃)以下の温度で縦
あるいは横方向に2.5〜5.0倍の延伸倍率で延伸
し、次いで前記延伸方向と直角方向に(前記延伸
方向が縦方向であるならば横方向に)Tg〜(Tg
+70℃)で2.5〜5.0倍の延伸倍率で延伸する(延
伸はこのような逐次二軸延伸であつてもよく同時
二軸延伸であつても良く、その製造法は特に限定
されない)。場合によつてはさらに縦あるいは横
方向に延伸し、トータルとしての延伸倍率が2.5
〜6.0倍程度になるよう延伸してもよい。 Most preferably, a polyethylene terephthalate resin that forms an optically flat surface is obtained, for example, a lower alkyl ester of a difunctional carboxylic acid whose main component is terephthalic acid and a glycol whose main component is ethylene glycol. and, Mn, Zn,
A compound of one or more metals selected from Ca, Mg, and the following glycol solution [A] [A]: A solution obtained by heat-treating a tri-lower alkyl phosphate in ethylene glycol. , and a glycol solution of a phosphorus compound in which the amount of caustic potassium required for the solution to reach PH 9.5 when titrated with caustic potassium satisfies the following formula [] 0.53≦[P]/[KOH]≦0.71... [] (In the formula, [P] is the amount (mol) of phosphorus in the glycol solution subjected to titration,
[KOH] is the amount (mol) of caustic potassium required for titration. ) is used to carry out a transesterification reaction, and then the resulting transesterification reaction product is subjected to a polycondensation reaction. At this time, the reaction temperature when preparing the stabilizer is 130 to 180.
If the temperature is not within this range, a large number of protrusions due to catalyst residues tend to exist in the produced oriented polyethylene terephthalate film. The polyethylene terephthalate resin thus obtained is used alone, or an appropriate amount of an inert inorganic compound with a controlled particle size distribution is mixed into the above-mentioned polyethylene terephthalate resin, and the resin temperature is 260 to 320°C.
An unstretched film with an intrinsic viscosity [η] of 0.35 to 1.0 that is melt-extruded with a residence time of 2 to 20 minutes in an extruder,
Secondary transition point (Tg) of polyethylene terephthalate
Stretched in the longitudinal or transverse direction at a stretching ratio of 2.5 to 5.0 times at a temperature of 2.5 to 5.0 times (expressed as )Tg~(Tg
+70°C) at a stretching ratio of 2.5 to 5.0 times (the stretching may be such sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching, and the manufacturing method is not particularly limited). In some cases, it may be further stretched in the vertical or horizontal direction, resulting in a total stretching ratio of 2.5.
It may be stretched to about 6.0 times.
このようにして得られた二軸配向ポリエチレン
テレフタレートフイルムは(Tg+70℃)〜融点
以下の温度で1〜100秒間熱固定するのが通例で
ある。 The biaxially oriented polyethylene terephthalate film thus obtained is usually heat-set for 1 to 100 seconds at a temperature of (Tg+70°C) to below the melting point.
当該配向ポリエチレンテレフタレート支持体の
平均的表面粗さCLA(単位・μm)が0.005μm以
下であり、同時に突起高さ〔h(単位・μm)〕
0.27<h≦0.54の個数が全く0個/mm2と存在させ
ないスラリー調製法は、不活性物質の種類によつ
ては、工業的には有利に行い難い場合もあるの
で、突起高さ0.27<h≦0.54の小個数の存在は実
用上排除しなくともよい。 The average surface roughness CLA (unit/μm) of the oriented polyethylene terephthalate support is 0.005 μm or less, and at the same time, the protrusion height [h (unit/μm)]
Depending on the type of inert substance, it may be difficult to carry out the slurry preparation method in which the number of particles with 0.27<h≦0.54 is completely 0/mm 2 depending on the type of inert substance. The existence of a small number of h≦0.54 does not need to be excluded in practice.
かくして得られた配向ポリエチレンテレフタレ
ートフイルムは、フイルム−フイルム相互の滑り
性が悪く、ブロツキング現象が発生し、製品には
なり得ず、滑り性を付与する必要がある。滑り性
を付与するには、水又は溶剤に滑剤を分散せしめ
た溶液を塗布して行なわれる。溶液を塗布して、
滑り性を付与する方法は、従来公知のすべての方
法が用いられる。例えば(滑剤+高分子系バイン
ダー十界面活性剤)の水系或いは溶剤系溶液をフ
イルム製膜時に塗布する等の方法が用いられる。 The thus obtained oriented polyethylene terephthalate film has poor film-to-film slipping properties and causes a blocking phenomenon, and cannot be used as a product, so it is necessary to impart slipping properties. To impart slipperiness, a solution of a lubricant dispersed in water or a solvent is applied. Apply the solution and
All conventionally known methods can be used to impart slipperiness. For example, a method may be used in which an aqueous or solvent solution of (lubricant + polymeric binder + surfactant) is applied during film formation.
滑剤としてソルビタン等の有機滑剤、テフロ
ン、ポリエチレン等の有機高分子滑剤:アルミ
ナ、カオリン、シリカ、硫化モリブデン等の無機
滑剤が挙げられる。 Examples of the lubricant include organic lubricants such as sorbitan, organic polymer lubricants such as Teflon and polyethylene, and inorganic lubricants such as alumina, kaolin, silica, and molybdenum sulfide.
高分子系バインダーとして共重合ポリエチレン
テレフタレート、ポリウレタン、ナイロン、メラ
ミン等が挙げられる。 Examples of the polymeric binder include copolymerized polyethylene terephthalate, polyurethane, nylon, and melamine.
(滑剤+高分子系バインダー十界面活性剤)を
水又は溶剤に分散した溶液をフイルム製膜時或い
はフイルム製膜後塗布、乾操して滑り性を付与す
ることができる。この時勿論紫外線吸収剤、帯電
防止剤等を添加することは差しつかえない。 A solution prepared by dispersing (lubricant + polymeric binder + surfactant) in water or a solvent can be applied during or after film formation and dried to impart slipperiness. At this time, it is of course possible to add ultraviolet absorbers, antistatic agents, etc.
以下に、不活性無機化合物の粒径構成比、その
測定法及びフイルム表面物性の測定法を示す。 The particle size composition ratio of the inert inorganic compound, its measurement method, and the measurement method of film surface properties are shown below.
1 不活性物質の粒径構成比
島津遠心沈降式粒度分布測定装置CP−50を用
いてストークス(Stokes)の式
T=18ηh/G(ρp−ρp)×d2
但し、式中T:沈降時間(sec)
η:媒質の粘度(g/cm・sec=
poise)
h:沈降距離(cm)
G:重力の加速度(980cm/sec2)
ρp:不活性物質の密度(g/cm2)
ρp:媒質の密度(g/cm2)
d:不活性物質の粒径(直径・cm)
を用いて夫々の粒径に相当する沈降時間を算出
し、夫々の粒径の範囲に相当する沈降時間範囲を
求め、その沈降時間範囲内での不活性物質の重量
を求めて全不活性物質重量に対する割合を%で表
わし構成比とする。1 Particle size composition ratio of inert substance Using Shimadzu centrifugal sedimentation type particle size distribution analyzer CP-50, Stokes' equation T=18ηh/G(ρ p −ρ p )×d 2 However, in the formula, T: Sedimentation time (sec) η: Viscosity of medium (g/cm・sec=
h: Sedimentation distance (cm) G: Acceleration of gravity (980cm/sec 2 ) ρ p : Density of inert substance (g/cm 2 ) ρ p : Density of medium (g/cm 2 ) d: Inert Calculate the settling time corresponding to each particle size using the particle size (diameter/cm) of the substance, find the settling time range corresponding to each particle size range, and calculate the settling time of the inert substance within that settling time range. Determine the weight of the inert substance, express the proportion to the total weight of the inert substance as a percentage, and use it as the composition ratio.
2 CLA〔センター・ライン・アベレツジ
(Center Line Average・中心線平均粗さ)〕
JIS B 0601に準じ、東京精密社(株)製の触針式
表面粗さ計(SURFCOM 3B)を使用して、
針の半径2μm、荷重0.07gの条件下にチヤート
をかかせ、フイルム表面粗さ曲線からその中心
線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、この
抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向を
Y軸として、粗さ曲線をY=f(x)で表わし
た時、次の式で与えられた値をμm単位で表わ
す。2 CLA [Center Line Average (Center Line Average)]
According to JIS B 0601, using a stylus type surface roughness meter (SURFCOM 3B) manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
Place the chart under the conditions of a needle radius of 2 μm and a load of 0.07 g, and extract a portion of measurement length L from the film surface roughness curve in the direction of its center line. When the roughness curve is expressed as Y=f(x), with the direction of Y being the Y axis, the value given by the following equation is expressed in μm.
RCLA=1/L∫L O|f(x)|dx
この測定は基準長を0.25mmとして8個測定
し、値の大きい方から3個除いた5個の平均値
で表わす。 R CLA = 1/L∫ L O |f(x)|dx In this measurement, 8 measurements were taken with the reference length as 0.25 mm, and the average value of 5 measurements excluding 3 from the largest value is expressed.
3 表面突起数
表面を観察せんとするフイルム表面に400〜500
Å乃至それ以下の厚みにアルミニウムを均一に真
空蒸着し、反対の非蒸着面(フイルム面)にコロ
ジオン貼付けし、乾燥して後、可視単色光多重干
渉反射式顕微鏡(例えば、Carl Zeiss JENA社
製)を用い100倍で任意の100ヵ所以上を撮り、各
写真中の突起物の突起高さに対応する突起数を求
め1mm2当りに換算する。この時写真1枚の視野は
0.155mm2である。3 Number of surface projections: 400 to 500 on the surface of the film whose surface is to be observed.
Aluminum is uniformly vacuum-deposited to a thickness of 100 Å or less, and collodion is pasted on the opposite non-deposited surface (film side). After drying, a visible monochromatic light multiple interference reflection microscope (for example, manufactured by Carl Zeiss JENA) is used. ), take pictures of 100 or more locations at 100x magnification, find the number of protrusions corresponding to the protrusion height in each photo, and convert it to 1 mm 2 . At this time, the field of view of one photo is
It is 0.155mm2 .
以下に実施例で説明するが、如何なる理由でも
これらの方法に限定されるものではない。 Examples will be described below, but the method is not limited to these methods for any reason.
実施例1〜4;比較例1〜3
実施例1〜4はジメチルテレフタレート100部
及びエチレングリコール70部に触媒として酢酸亜
鉛0.023部(0.020モル%対ジメチルテレフタレー
ト)を加え、150〜240℃で4時間メタノールを留
去しつつエステル交換反応を行つた。Examples 1 to 4; Comparative Examples 1 to 3 In Examples 1 to 4, 0.023 parts of zinc acetate (0.020 mol% to dimethyl terephthalate) was added as a catalyst to 100 parts of dimethyl terephthalate and 70 parts of ethylene glycol, and the mixture was heated at 150 to 240°C. Transesterification reaction was carried out while methanol was distilled off.
次いで表−1に示す方法で調製した安定剤(燐
化合物のグリコール溶液)を一旦常温まで冷却後
トリメチルホスフエート換算で0.014部添加した
後、重縮合触媒として0.04部の三酸化アンチモン
を添加し、さらに表−1に記載した粒径および構
成比を有する所定の不活性物質を所定量(表−1
参照、但し実施例1〜3は添加剤なし)添加し
て、1mmHg以下の高真空で4時間重縮合反応を
行ない、表1に示す〔η〕=0.65(o−クロロフエ
ノール溶媒、25℃測定)のポリエチレンテレフタ
レートを得た。 Next, a stabilizer (a glycol solution of a phosphorus compound) prepared by the method shown in Table 1 was once cooled to room temperature, and then 0.014 part in terms of trimethyl phosphate was added, and then 0.04 part of antimony trioxide was added as a polycondensation catalyst. Furthermore, a predetermined amount of a predetermined inert substance having the particle size and composition ratio listed in Table-1 (Table-1
(Reference, however, in Examples 1 to 3, no additives were used) and polycondensation reaction was carried out in a high vacuum of 1 mmHg or less for 4 hours. ) polyethylene terephthalate was obtained.
比較例1〜3は、ジメチルテレフタレートに対
し、触媒として酢酸亜鉛40ミリモル%、三酸化ア
ンチモン20ミリモル%、亜リン酸40ミリモル%を
加えてエステル交換反応させ、次いで表1に記載
した粒径および構成比を有する所定の不活性物質
を所定量(表1参照、但し比較例1は添加剤な
し)添加して重縮合反応させ、〔η〕0.65のポリ
エチレンテレフタレートを得た。 In Comparative Examples 1 to 3, 40 mmol % of zinc acetate, 20 mmol % of antimony trioxide, and 40 mmol % of phosphorous acid were added as catalysts to dimethyl terephthalate, and the transesterification reaction was carried out. A predetermined amount of a predetermined inert substance having a composition ratio (see Table 1, however, no additive was used in Comparative Example 1) was added to cause a polycondensation reaction, and polyethylene terephthalate with [η] 0.65 was obtained.
実施例1〜4、比較例1〜3で得たポリエチレ
ンテレフタレートを160℃で乾燥し、290℃で溶融
押出し、40℃に保持したキヤステイングドラム上
に急冷固化せしめて、厚さ130μmの未延伸フイ
ルムを得た。 The polyethylene terephthalate obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was dried at 160°C, melt-extruded at 290°C, rapidly solidified on a casting drum kept at 40°C, and then unstretched to a thickness of 130 μm. I got the film.
該未延伸フイルムを縦延伸温度90℃、縦延伸倍
率3.5倍、横延伸温度129℃、横延伸倍率3.8倍で
逐次二軸延伸し、以下の組成の塗液
塗液の組成:ポリシロキサン 45重量%
アミノシラン 40 〃
MoS2 5 〃
界面活性剤 10 〃
からなる組成物の1%水溶液。 The unstretched film was sequentially biaxially stretched at a longitudinal stretching temperature of 90°C, a longitudinal stretching ratio of 3.5 times, a transverse stretching temperature of 129°C, and a transverse stretching ratio of 3.8 times, and a coating liquid having the following composition was applied.Composition of the coating liquid: Polysiloxane 45% by weight % aminosilane 40 〃 MoS 2 5 〃 surfactant 10 〃 A 1% aqueous solution of a composition.
を塗布して後、205℃で10秒間熱固定して、厚さ
10μのフイルムを得た。After coating, heat set at 205℃ for 10 seconds to adjust the thickness.
A 10μ film was obtained.
かくして得られたフイルムの滑り性は良好でブ
ロツキングも発生せず良好に巻き取れた。 The film thus obtained had good slipperiness and could be wound up smoothly without any blocking.
このようにして得られたフイルムの塗液未塗布
面上に○ ○ on the uncoated surface of the film obtained in this way.
Claims (1)
一つの表面の表面粗さ〔CLA(単位・μm)〕及
び突起物の突起高さ〔h(単位・μm)〕の個数
〔単位:個/mm2〕が以下の式 CLA<0.005 −(1) 0.27<h ≦0.54…0.2個/mm2以下 −(2) で示される範囲に有り、該フイルムの他の表面に
滑剤を分散せしめた塗膜が形成されてなる表裏異
面フイルムであつて、塗膜の設けられていないフ
イルム表面に強磁性体金属を真空沈着又はメツキ
してなる、非磁性配向ポリエチレンテレフタレー
トフイルム支持体上に磁気薄膜を担持した、磁気
記録媒体。 2 当該フイルム表面粗さCLA及び、突起物の
突起高さhの個数が以下の式 CLA≦0.004 0.27<h ≦0.54…0個/mm2 で示される範囲にある特許請求の範囲第1項に記
載の磁気記録媒体。 3 当該磁気薄膜の薄膜厚みが1.5μm以下である
特許請求の範囲第1又は2項に記載の磁気記録媒
体。[Claims] 1. Surface roughness [CLA (unit/μm)] of one surface of oriented polyethylene terephthalate film and number of protrusions [h (unit/μm)] [unit: pieces/mm] 2 ] is in the range shown by the following formula: CLA<0.005 −(1) 0.27<h ≦0.54…0.2 pieces/mm 2 or less −(2), and the coating film has a lubricant dispersed on the other surface of the film. A magnetic thin film is supported on a non-magnetic oriented polyethylene terephthalate film support, which is a film with different surfaces on the front and back sides, in which a ferromagnetic metal is vacuum deposited or plated on the surface of the film without a coating film. magnetic recording media. 2. According to claim 1, the film surface roughness CLA and the number of protrusion heights h of the protrusions are within the range shown by the following formula: CLA≦0.004 0.27<h≦0.54...0 pieces/mm 2 The magnetic recording medium described. 3. The magnetic recording medium according to claim 1 or 2, wherein the magnetic thin film has a thickness of 1.5 μm or less.
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| JP56045393A JPS57162123A (en) | 1981-03-30 | 1981-03-30 | Magnetic recording medium |
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| JPH0152814B2 true JPH0152814B2 (en) | 1989-11-10 |
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Family Applications (1)
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-
1981
- 1981-03-30 JP JP56045393A patent/JPS57162123A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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