JPH0152834B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0152834B2
JPH0152834B2 JP56047428A JP4742881A JPH0152834B2 JP H0152834 B2 JPH0152834 B2 JP H0152834B2 JP 56047428 A JP56047428 A JP 56047428A JP 4742881 A JP4742881 A JP 4742881A JP H0152834 B2 JPH0152834 B2 JP H0152834B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
current
transistor
memory cell
transistors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56047428A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS57164489A (en
Inventor
Kazuhiro Toyoda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56047428A priority Critical patent/JPS57164489A/en
Publication of JPS57164489A publication Critical patent/JPS57164489A/en
Publication of JPH0152834B2 publication Critical patent/JPH0152834B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/12Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体メモリ、特に負荷として
PNPトランジスタを有するメモリセルを備えた
半導体メモリに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory, particularly as a load.
The present invention relates to a semiconductor memory including a memory cell having a PNP transistor.

PNPトランジスタを負荷としたメモリセルは
第1図に示すように、フリツプフロツプを構成す
るマルチエミツタトランジスタT1,T2とPNPト
ランジスタT3,T4を有し、マルチエミツタトラ
ンジスタT1,T2の各第1のエミツタはビツト線
B0,B1に、第2のエミツタはワード線W-に共通
接続される。
As shown in FIG. 1, a memory cell with a PNP transistor as a load has multi-emitter transistors T 1 , T 2 and PNP transistors T 3 , T 4 forming a flip-flop . Each first emitter of 2 is a bit line.
The second emitters of B 0 and B 1 are commonly connected to the word line W - .

負荷のPNPトランジスタT3,T4のエミツタは
ワード線W+に接続される。
The emitters of the load PNP transistors T 3 and T 4 are connected to the word line W + .

このようなメモリセルにおいて、フリツプフロ
ツプを構成するトランジスタのうち、オン側のト
ランジスタ、例えばT1のコレクタ負荷はPNPト
ランジスタT3のエミツタベースにおけるダイオ
ードとなるために、その電圧、電流特性は第2図
のZcの特性を示す。
In such a memory cell, among the transistors constituting the flip-flop, the collector load of the on-side transistor, for example T1 , becomes a diode at the emitter base of the PNP transistor T3 , so its voltage and current characteristics are as shown in Figure 2. Shows the characteristics of Zc.

従つて、広範囲な電流で動作可能であり、微少
な保持電流、大きな読出電流で動作できるので、
低消費電力、高速動作の半導体メモリが実現され
る。また、このメモリセルのオン側トランジスタ
T1のベース側インピーダンスは、第2図にZB
示すようにPNPトランジスタの飽和領域特性を
示すので、低インピーダンスであり、ベース節点
に付く寄生容量のチヤージアツプが短時間で行な
うことができる。第3図に示すように、負荷とし
て抵抗RLを用いたメモリセルでは、この抵抗RL
と寄生容量により定まる時定数の遅延が生じるの
で、この意味からも第1図に示すPNP負荷のメ
モリセルは、このような第3図のメモリセルより
も低消費電力で、かつ高速読出可能なメモリセル
と言うことができる。
Therefore, it can operate with a wide range of current, and can operate with a small holding current and a large read current.
A semiconductor memory with low power consumption and high speed operation will be realized. Also, the on-side transistor of this memory cell
The base side impedance of T1 exhibits the saturation region characteristics of a PNP transistor as shown by ZB in FIG. 2, so it is a low impedance, and the parasitic capacitance attached to the base node can be charged up in a short time. As shown in Figure 3, in a memory cell using a resistor R L as a load, this resistor R L
In this sense, the PNP-loaded memory cell shown in Figure 1 consumes less power and can be read at higher speeds than the memory cell shown in Figure 3. It can be called a memory cell.

このようなPNP負荷のメモリセルを備えた半
導体メモリを第4図に示す。
FIG. 4 shows a semiconductor memory equipped with such a PNP-loaded memory cell.

図で破線内に示したメモリセルは第1図のメモ
リセルと同じもので、トランジスタTc1,Tc2
第1図のトランジスタT1,T2に、PNPトランジ
スタTC3,TC4は第1図のトランジスタT3,T4
に対応する。尚、TC1,TC2の夫々の一方のエミ
ツタは、保持電流源IHに接続されている。ビツト
線B0,B1には1対のトランジスタTs0,Ts1のエ
ミツタが接続され、夫々のベースには電位VD0
VD1が印加されると共に、夫々のコレクタはセン
スアンプSAに接続されている。ビツト線B0,B1
には、さらに夫々ベースに電位VYが印加される
1対のトランジスタTB0,TB1と、ビツト線電流
源IB0,IB1が接続されている。トランジスタTB0
TB1のエミツタはそれぞれ他のビツト線群と結合
され、VYに高レベルの信号が与えられたビツト
線列のトランジスタTB0,TB1のみがオンとなる。
The memory cells shown within the broken lines in the figure are the same as the memory cells in FIG. 1, and the transistors Tc 1 and Tc 2 are the transistors T 1 and T 2 in FIG. Transistors T 3 and T 4 in the figure
corresponds to Note that one emitter of each of TC 1 and TC 2 is connected to a holding current source IH . The emitters of a pair of transistors Ts 0 , Ts 1 are connected to the bit lines B 0 , B 1 , and the potentials V D0 , Ts 1 are connected to their respective bases.
V D1 is applied, and each collector is connected to a sense amplifier SA. Bit lines B 0 , B 1
Further connected to the transistors are a pair of transistors T B0 and T B1 to which a potential V Y is applied to their respective bases, and bit line current sources I B0 and I B1 . Transistor T B0 ,
The emitters of T B1 are respectively coupled to other bit line groups, and only transistors T B0 and T B1 of the bit line group to which a high level signal is applied to V Y are turned on.

次にデコーダ回路DECによりワード線W+がH
レベル、VYもHレベルとなり、図のメモリセル
がアクセスされた場合の読出しと書込み動作を説
明する。
Next, the word line W + is set to H by the decoder circuit DEC.
The read and write operations will be described when the memory cell in the figure is accessed with the level VY also at the H level.

(1) 読出し動作 トランジスタTs0,Ts1のベース電位をVD0
VD1とし、かつ、この電位はメモリセルのオン
側トランジスタ、例えばTC1のベース電位とコ
レクタ電位の中間のレベルとする。
(1) Read operation Set the base potential of transistors Ts 0 and Ts 1 to V D0 =
V D1 , and this potential is set to an intermediate level between the base potential and collector potential of the on-side transistor of the memory cell, for example, T C1 .

トランジスタTc1とTs0、トランジスタTc2
とTs1はそれぞれカレントスイツチを構成する
ので、Ts0がオフ、Ts1がオンとなり、電流iB1
がセンスアツプSAで検出されることにより、
メモリセルの内容が読出される。
Transistors Tc 1 and Ts 0 , transistor Tc 2
and Ts 1 constitute a current switch, so Ts 0 is off, Ts 1 is on, and the current i B1
is detected by Senseup SA,
The contents of the memory cell are read.

(2) 書込み動作 メモリセル内でオン側のトランジスタTc1
オフ、オフ側のトランジスタTc2をオンとして
反転情報を書込む場合を説明する。
(2) Write operation A case will be described in which inverted information is written by turning off the on-side transistor Tc 1 and turning on the off-side transistor Tc 2 in the memory cell.

トランジスタTs0のベース電位をHレベル、
Ts1のベース電位をLレベルとすると、電流源
IB1により引込まれる電流iB1はトランジスタTc2
を流れるので、Tc2のコレクタ電位、即ちTc1
のベース電位VBが下がり、トランジスタTc4
オンになる。
The base potential of the transistor Ts 0 is set to H level,
If the base potential of Ts 1 is set to L level, the current source
The current drawn by I B1 is the transistor Tc 2
, the collector potential of Tc 2 , that is, Tc 1
The base potential V B of is lowered, and the transistor Tc 4 is turned on.

これによりトランジスタTc4のコレクタ電流
がトランジスタTc2のベース電位Vcをチヤー
ジアツプし、同時に電位VBがトランジスタTc2
のコレクタ電流により下るので、トランジスタ
Tc1はオフとなり、次いでTc2がオンになつて
メモリセルへの書込みが行なわれる。
As a result, the collector current of the transistor Tc 4 charges up the base potential Vc of the transistor Tc 2 , and at the same time, the potential V B of the transistor Tc 2
Since the voltage decreases due to the collector current of the transistor
Tc 1 is turned off, then Tc 2 is turned on and writing to the memory cell is performed.

従つて電流端IB1により引込まれる電流iB1
多いほど書込み時間が短かくなるが、定常的に
電流源IB0,IB1に引込まれる電流を大きくして
おくと、読出時にメモリセルに大電流が流れる
ので、セル内の蓄積電荷が増加し、書込時間が
長くなる欠点がある。
Therefore, the write time becomes shorter as the current i B1 drawn by the current terminal I B1 increases , but if the current drawn into the current sources I B0 and I B1 is constantly increased, the memory cell Since a large current flows through the cell, the accumulated charge inside the cell increases and the writing time becomes longer.

本発明の目的は、従来のこのような欠点を解決
し、低消費電力でかつ高速書込み可能な半導体メ
モリを提供することにある。
An object of the present invention is to solve these conventional drawbacks and provide a semiconductor memory that consumes low power and can be written at high speed.

このような目的は、本発明によれば、フリツプ
フロツプを構成する1対のトランジスタと、
PNP負荷トランジスタを有するメモリセルが1
対のビツト線間に接続された半導体メモリにおい
て、該ビツト線に接続されたビツト線選択手段
と、該ビツト線選択手段に接続された第1の電流
源および該第1の電流源よりも大きな電流を流す
ための第2の電流源と、書込指示信号および書込
データを入力して第1および第2の制御信号を出
力する読出し・書込み制御手段と、該第1の制御
信号により、該メモリセルの読出し時には該第1
の電流源の電流のみを該ビツト線に流し、該第2
の制御信号により、書込み時には該第1および第
2の電流源の電流を該ビツト線に流すビツト線電
流切替手段と、該第2の制御信号により、該メモ
リセルの書込時に、該メモリセルのフリツプフロ
ツプを構成する1対のトランジスタのうち、オン
となるべきトランジスタが接続されたビツト線の
電位を低レベルに、オフとなるべきトランジスタ
が接続されたビツト線の電位を高レベルにクラン
プするクランプ手段を設けることにより達成され
る。
According to the present invention, this purpose is achieved by a pair of transistors constituting a flip-flop;
1 memory cell with PNP load transistor
In a semiconductor memory connected between a pair of bit lines, a bit line selection means connected to the bit line, a first current source connected to the bit line selection means, and a current source larger than the first current source are provided. A second current source for flowing current, a read/write control means for inputting a write instruction signal and write data and outputting first and second control signals, and the first control signal, When reading the memory cell, the first
Only the current of the current source is passed through the bit line, and the second
bit line current switching means for causing the currents of the first and second current sources to flow through the bit line during writing; A clamp that clamps the potential of the bit line connected to the transistor that should be turned on to a low level and the potential of the bit line connected to the transistor that should be turned off to a high level among a pair of transistors that make up a flip-flop. This is achieved by providing means.

以下、図面を用いて本発明の一実施例を説明す
る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第5図は、本発明の一実施例を示す回路図であ
り、書込み指示信号と書込みデータDINが入
力され、このとDINに対応した電位Vw0
Vw1を出力する読出し・書込み制御回路WAとこ
れに関連するトランジスタTw0,Tw1,TD0,TD
、電流源Ic0,Ic1およびダイオードD0,D1、ト
ランジスタTw3,Tw4、電流源I0,I1、さらには
電位VYがベースに印加されるトランジスタTB0
TB1,Ts2とこれらのトランジスタのエミツタに
接続された電流源Iw0,IR0,Iw1,IR1,Isを、第
1図の従来回路に付加したものである。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, in which a write instruction signal and write data D IN are input, and potentials Vw 0 and D IN corresponding to this and D IN are input.
Read/write control circuit WA that outputs Vw 1 and related transistors Tw 0 , Tw 1 , T D0 , T D
1 , current sources Ic 0 , Ic 1 and diodes D 0 , D 1 , transistors Tw 3 , Tw 4 , current sources I 0 , I 1 , and a transistor T B0 to which the potential V Y is applied to the base;
Current sources Iw 0 , I R0 , Iw 1 , I R1 , and Is connected to T B1 , Ts 2 and the emitters of these transistors are added to the conventional circuit shown in FIG. 1.

尚、センスアンプSAに接続されるトランジス
タTs0,Ts1のベースはビツト線B0,B1に接続さ
れ、かつ共通接続されたエミツタはトランジスタ
Ts2に接続されている。
The bases of the transistors Ts 0 and Ts 1 connected to the sense amplifier SA are connected to the bit lines B 0 and B 1, and the commonly connected emits of the transistors Ts 0 and Ts 1 are connected to the bit lines B 0 and B 1.
Connected to Ts 2 .

本実施例の読出し・書込み動作を次に説明す
る。
The read/write operations of this embodiment will be explained next.

(1) 読出し動作 書込み指示信号がHレベルの時、制御回
路WAの出力Vw0とVw1は等しく、かつその値
はダイオードD0,D1の順方向電圧降下をVF
した場合に、 Vw0(=Vw1)−VF>VYを満たすように設定
されている。
(1) Read operation When the write instruction signal is at H level, the outputs Vw 0 and Vw 1 of the control circuit WA are equal, and their value is as follows, assuming that the forward voltage drop of the diodes D 0 and D 1 is V F. It is set to satisfy Vw 0 (=Vw 1 )−V F >V Y.

従つて、トランジスタTw3とTB1、および
Tw4とTB0の各カレントスイツチにおいてトラ
ンジスタTw3,Tw4がオンとなるので電流源
Iw0,Iw1に引込まれる電流iW0,iW1は、トラ
ンジスタTw3,Tw4を流れ、トランジスタTB
,TB1は流れない。
Therefore, transistors Tw 3 and T B1 and
In each current switch Tw 4 and T B0 , transistors Tw 3 and Tw 4 are turned on, so the current source
The currents iW 0 and iW 1 drawn into Iw 0 and Iw 1 flow through the transistors Tw 3 and Tw 4 , and the currents iW 0 and iW 1 drawn into the transistors T B
0 , T B1 does not flow.

また出力Vw0(=Vw1)の電位からトランジ
スタTw1,Tw2のベース・エミツタ間電圧VBE
を引いた電位は、セル内のフリツプフロツプを
構成するトランジスタ(第4図のTc1,Tc2
相当する)のベース電位とコレクタ電位のほぼ
中点にも設定されており、セル内のトランジス
タ(第4図のTc1,Tc2)とトランジスタTD0
TD1とはカレントスイツチを構成する。
Also, from the potential of the output Vw 0 (=Vw 1 ), the base-emitter voltage V BE of the transistors Tw 1 and Tw 2
The potential obtained by subtracting . Tc 1 , Tc 2 ) in Fig. 4 and transistor T D0 ,
T D1 constitutes a current switch.

従つてセル内の左側のトランジスタ(Tc1
がオンであると、ビツト線B0の電位はセル内
から決まり、ビツト線B1の電位は出力Vw1
ら決まつて、ビツト線B0,B1間に電位差を生
じる。
Therefore the left transistor in the cell (Tc 1 )
is on, the potential of bit line B 0 is determined from within the cell, and the potential of bit line B 1 is determined from output Vw 1 , creating a potential difference between bit lines B 0 and B 1 .

この電位差は、トランジスタTs0,Ts1
Ts2、電流源Isから成る差動スイツチで検出さ
れ、センスアンプSAよりデータDoutが出力さ
れる。
This potential difference is caused by the transistors Ts 0 , Ts 1 ,
It is detected by a differential switch consisting of Ts 2 and current source Is, and data Dout is output from the sense amplifier SA.

この時メモリセルからビツト線B0を流れる
電流は電流源IR0により引込まれる電流iR0であ
り、iR0,iR1<iW0,iW1と設定されているの
で、読出し時、セル内を流れる電流を小さくす
ることができる。
At this time, the current flowing from the memory cell to the bit line B0 is the current i R0 drawn by the current source I R0 , and since i R0 , i R1 < iW 0 , iW 1 is set, when reading, the current inside the cell is The current flowing through can be reduced.

従つてメモリセル内のPNPトランジスタの
電荷蓄積効果を小さくすることができ、書込み
を高速に行うことができるようになる。
Therefore, the charge accumulation effect of the PNP transistor in the memory cell can be reduced, and writing can be performed at high speed.

(2) 書込み動作 メモリセルの右側のトランジスタTc2をオン
にする場合を説明する。
(2) Write operation The case of turning on the transistor Tc 2 on the right side of the memory cell will be explained.

書込み指示信号がLレベル、入力データ
DINがLレベルとするととVw1−VF<VY<Vw0
−VFを満足する電位Vw0,Vw1が出力される。
Write instruction signal is L level, input data
When D IN is at L level, Vw 1 −V F <V Y <Vw 0
Potentials Vw 0 and Vw 1 that satisfy −V F are output.

これにより電流源Iw1に引込まれる電流はビ
ツト線B1をトランジスタTB1を介して流れ、し
かも、ビツト線B1の電位はトランジスタTD1
Vw1−VBEで決まるベース電位により決定され
るので、充分低いレベルとなり大きな書込電流
がセルの右側のトランジスタ(Tc2)を流れる
ので、高速に書込みが行なわれる。
As a result, the current drawn into the current source Iw1 flows through the bit line B1 through the transistor T B1 , and moreover, the potential of the bit line B1 is the same as that of the transistor T D1.
Since it is determined by the base potential determined by Vw 1 −V BE , the level is sufficiently low and a large write current flows through the transistor (Tc 2 ) on the right side of the cell, so that writing is performed at high speed.

一方、ビツト線B0については、電流iW0がト
ランジスタTw4をバイパスして流れるので電
流iR0のみが、このビツト線を流れるが、高い
電位Vw0によりオンしているトランジスタTD0
から流れているのであつて、セルからは流れな
い。
On the other hand, regarding the bit line B0 , the current iW0 flows bypassing the transistor Tw4 , so only the current iR0 flows through this bit line, but the transistor TD0, which is turned on by the high potential Vw0 , flows through the bit line B0.
It flows from the cell, but not from the cell.

このように、読出し時には小電流をセル内の
オン側トランジスタから流すようにして電荷蓄
積効果を小さくし、一方、書込み時にはメモリ
セル内のオンさせようとするトランジスタ側の
ビツト線が低レベルにクランプされるので、こ
れら2つの効果が合いまつて書込動作の高速化
が図られる。
In this way, when reading, a small current flows from the on-side transistor in the cell to reduce the charge accumulation effect, while during writing, the bit line on the side of the transistor that is to be turned on in the memory cell is clamped to a low level. Therefore, these two effects combine to speed up the write operation.

尚、以上の説明中の読出し・書込み制御回路は
具体的には第6図に示され、トランジスタT61
T62,T63,T64とダイオードD2,D3、電流源I2
有し、基準電圧VR1,VR2が印加される構成とな
つている。
The read/write control circuit described above is specifically shown in FIG. 6, and includes transistors T 61 ,
It has T 62 , T 63 , T 64 , diodes D 2 , D 3 , and current source I 2 , and has a configuration to which reference voltages VR1 and VR2 are applied.

本制御回路WAは、既に特願昭50−84819号に
て提案されているものであるので、その詳細な動
作は省略する。
Since this control circuit WA has already been proposed in Japanese Patent Application No. 84819/1984, its detailed operation will be omitted.

第7図は、本発明の他の一実施例を示す回路図
であり、読出し・書込み制御回路WAの入力とし
て,DININに基づいてビツト線のクランプ
レベルおよびトランジスタTB0,TB1を介してビ
ツト線に接続される電流源Iw0,Iw1,IR0,IR1
選択を行なうための回路WA′が示されている。
FIG. 7 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention, in which the clamp level of the bit line and the transistors T B0 and T B1 are controlled based on D IN and IN as inputs of the read/write control circuit WA. A circuit WA' is shown for selecting the current sources Iw 0 , Iw 1 , I R0 , I R1 which are connected via the bit line to the bit lines.

読出し動作の場合には、がHレベルとな
り、Vw0=Vw1が出力される。
In the case of a read operation, becomes H level and Vw 0 =Vw 1 is output.

この時、トランジスタT71がオンであり、トラ
ンジスタTw3およびTw4のベース電位をVYより
高いので、電流iW0,iW1はトランジスタTw3
Tw4を流れる。
At this time, the transistor T 71 is on and the base potential of the transistors Tw 3 and Tw 4 is higher than V Y , so the currents iW 0 and iW 1 are transferred to the transistors Tw 3 and
Flows through Tw 4 .

一方、書込み動作の場合にはがLレベルと
なるので、DININのレベルに応じてVw0,Vw1
が出力されると同時にトランジスタTw3,Tw4
のいずれか一方がオフとなる。
On the other hand, in the case of a write operation, Vw 0 and Vw 1 are set to L level depending on the levels of D IN and IN .
At the same time, the transistors Tw 3 and Tw 4
Either one of them is turned off.

以上、説明したように、本発明によれば、
PNPトランジスタを負荷とするメモリセルを備
えた半導体メモリの書込み動作を高速にすること
ができる。
As explained above, according to the present invention,
The write operation of a semiconductor memory including a memory cell using a PNP transistor as a load can be made faster.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、一般的なPNPトランジスタを負荷
とするメモリセルを示す図、第2図は、第1図の
メモリセルの特性を示す図、第3図は、抵抗を負
荷とする一般的なメモリセルの図、第4図は、従
来の半導体メモリを示す図、第5図は、本発明の
一実施例を示す図、第6図は、第5図の読出し、
書込み制御回路を示す図、第7図は、本発明の他
の一実施例を示す図である。 Tc1,Tc2:フリツプフロツプを構成するトラ
ンジスタ、Tc3,Tc4:PNP負荷トランジスタ、
B0,B1:ビツト線、TB0,TB1:ビツト線選択手
段を構成するトランジスタ、IR0,IR1:第1の電
流源、Iw0,Iw1:第2の電流源、WA:読出し・
書込み制御手段、Tw3,Tw4:ビツト線電流切
替手段を構成するトランジスタ、TD0,TD1:ク
ランプ手段を構成するトランジスタ。
Figure 1 is a diagram showing a memory cell with a general PNP transistor as a load, Figure 2 is a diagram showing the characteristics of the memory cell in Figure 1, and Figure 3 is a diagram showing a general memory cell with a resistor as a load. 4 is a diagram showing a conventional semiconductor memory, FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a diagram showing the reading of FIG.
FIG. 7, a diagram showing a write control circuit, is a diagram showing another embodiment of the present invention. Tc 1 , Tc 2 : Transistors forming the flip-flop, Tc 3 , Tc 4 : PNP load transistors,
B 0 , B 1 : Bit line, T B0 , T B1 : Transistors constituting bit line selection means, I R0 , I R1 : First current source, Iw 0 , Iw 1 : Second current source, WA: reading·
Write control means, Tw 3 , Tw 4 : transistors forming bit line current switching means, T D0 , T D1 : transistors forming clamp means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 フリツプフロツプを構成する1対のトランジ
スタと、PNP負荷トランジスタを有するメモリ
セルが1対のビツト線間に接続された半導体メモ
リにおいて、該ビツト線に接続されたビツト線選
択手段と、該ビツト線選択手段に接続された第1
の電流源および該第1の電流源よりも大きな電流
を流すための第2の電流源と、書込指示信号およ
び書込データを入力して第1および第2の制御信
号を出力する読出し・書込み制御手段と、該第1
の制御信号により、該メモリセルの読出し時には
該第1の電流源の電流のみを該ビツト線に流し、
該第2の制御信号により、書込み時には該第1お
よび第2の電流源の電流を該ビツト線に流すビツ
ト線電流切替手段と、該第2の制御信号により、
該メモリセルの書込時に、該メモリセルのフリツ
プフロツプを構成する1対のトランジスタのう
ち、オンとなるべきトランジスタが接続されたビ
ツト線の電位を低レベルに、オフとなるべきトラ
ンジスタが接続されたビツト線の電位を高レベル
にクランプするクランプ手段を設けてなることを
特徴とする半導体メモリ。
1. In a semiconductor memory in which a pair of transistors constituting a flip-flop and a memory cell having a PNP load transistor are connected between a pair of bit lines, a bit line selection means connected to the bit line, and a bit line selection means connected to the bit line; the first connected to the means
a current source for passing a current larger than that of the first current source; and a read current source for inputting a write instruction signal and write data and outputting first and second control signals. a write control means;
A control signal causes only the current of the first current source to flow through the bit line when reading the memory cell;
bit line current switching means for causing currents of the first and second current sources to flow through the bit line during writing according to the second control signal;
When writing to the memory cell, the potential of the bit line to which the transistor to be turned on is connected is set to a low level among the pair of transistors forming the flip-flop of the memory cell, and the transistor to be turned off is connected to the bit line. A semiconductor memory characterized by being provided with clamping means for clamping the potential of a bit line to a high level.
JP56047428A 1981-03-31 1981-03-31 Semicondutor memory Granted JPS57164489A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56047428A JPS57164489A (en) 1981-03-31 1981-03-31 Semicondutor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56047428A JPS57164489A (en) 1981-03-31 1981-03-31 Semicondutor memory

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57164489A JPS57164489A (en) 1982-10-09
JPH0152834B2 true JPH0152834B2 (en) 1989-11-10

Family

ID=12774876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56047428A Granted JPS57164489A (en) 1981-03-31 1981-03-31 Semicondutor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57164489A (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60143497A (en) * 1983-12-29 1985-07-29 Hitachi Ltd semiconductor storage device
JPS60237699A (en) * 1985-04-23 1985-11-26 Hitachi Ltd semiconductor memory
US4853898A (en) * 1988-02-11 1989-08-01 Digital Equipment Corporation Bipolar ram having state dependent write current
JP2595876B2 (en) * 1993-09-08 1997-04-02 日本電気株式会社 Semiconductor memory circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57164489A (en) 1982-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4665505A (en) Write circuit for use in semiconductor storage device
JPH053080B2 (en)
US5016214A (en) Memory cell with separate read and write paths and clamping transistors
US4127899A (en) Self-quenching memory cell
JPS62197986A (en) Non-clock static memory array
JPH0252360B2 (en)
JPH022239B2 (en)
JPS6331879B2 (en)
JPS6028076B2 (en) Semiconductor memory write circuit
JPS5877092A (en) Reading of memory
JPH06168594A (en) Semiconductor storage
JPS62129996A (en) Memory cell having variable excitation
US4964081A (en) Read-while-write ram cell
US4703458A (en) Circuit for writing bipolar memory cells
JP3144797B2 (en) Semiconductor integrated circuit with built-in data match detection circuit
JP2878036B2 (en) Semiconductor storage device
JPH0241112B2 (en)
JP3153400B2 (en) Semiconductor memory and sense circuit
JPS593789A (en) Semiconductor memory
EP0131151A2 (en) High-speed sense amplifier circuit with inhibit capability
JP2545502B2 (en) Storage device
JPS6142348B2 (en)
JPS6118835B2 (en)
JPS6020837B2 (en) Storage device
JPS63138592A (en) Reading/writing control circuit