JPH0153402B2 - - Google Patents

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JPH0153402B2
JPH0153402B2 JP56101409A JP10140981A JPH0153402B2 JP H0153402 B2 JPH0153402 B2 JP H0153402B2 JP 56101409 A JP56101409 A JP 56101409A JP 10140981 A JP10140981 A JP 10140981A JP H0153402 B2 JPH0153402 B2 JP H0153402B2
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JP
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tube
partial
ring
point source
aperture
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JP56101409A
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JPS5746107A (en
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Fuitsushaa Herumyuuto
Suteiigumyuuraa Uiri
Horutsu Ueruna
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Fischer & Co Helmut GmbH
Original Assignee
Fischer & Co Helmut GmbH
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Publication date
Application filed by Fischer & Co Helmut GmbH filed Critical Fischer & Co Helmut GmbH
Publication of JPS5746107A publication Critical patent/JPS5746107A/ja
Publication of JPH0153402B2 publication Critical patent/JPH0153402B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/02Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、主特許請求範囲に記載のβ線による
薄層測定装置に関する。
この種の装置では、点源/絞り距離が最適であ
れば、最適な測定を行うことができる。この距離
は0.1〜1mmの範囲であるので距離が変化すると、
一度調整した最適性が極度に劣化する。この種の
距離変化は、使用時に随意に現れる。
従来の装置には、ガイガー・ミユラー管に直接
電圧を印加すると、装置の特性が経時的に変化す
るという欠点がある。長時間が経過して始めて、
“ビルド・アツプ”状態が得られる。現行技術で
は、β線は、統計的に把握する測定結果を与え、
従つて、統計値が別の時間依存の現象に重畳する
ので、このような情況は不利である。
更に、従来の装置には、装備変更に時間がかか
ると云う欠点がある。各種の測定上の問題がある
(異種層の異種物質、厚さの多様性、湾曲度の異
なる測定対象のための各種の絞り、etc、) 多くの場合、放射線としては、プロメチウム、
タリウム、ストロンチウムが好適である。
更に、公知の装置では、各放射線が、放射性同
位原素に関して個別的であり、各装置は、この個
別性に同調させなければならないと云うことが考
慮されていない。
本発明の目的は、上述のすべての欠点を経済的
な方法で排除する装置を提供することにある。
この目的は、本発明にもとづき、主特許請求範
囲の特徴記載部分に記載の装置によつて達成され
る。
即ち、少くとも下記の利点が得られる。
(a) 顕微鏡の安全装置または鏡筒および白熱電球
と同様に容易に交換できるコンパクトな測定要
素が得られる。
(b) 測定に関する不確さを最小にして容易に設定
できる。
(c) 構造形態が最適であるので、より小さい絞り
を用いて同一精度で操作でき、従つて、例えば
多数の絞りを実際上2つの測定要素に減少で
き、これで、実際上、用途の95%をカバーでき
る。
(d) 補修時、メーカの工場で、外郭を外して所要
の作業を行うことができる。顧客に、再調整し
た完全な装置が送られる。
(e) ユニツトが作成されたので、バツテリ充電ス
タンドまたは試薬ガラススタンドと類似のスタ
ンドの監視位置に上記ユニツトを保持でき、測
定要素は、その特性を保持し、測定装置のコン
ピユータに記憶した常数は、その有効性を不変
に保持する。
特許請求範囲第2項記載の特徴事項にもとづ
き、2つの部分管を相互にずらすだけでよいの
で、唯一回の調節で装置を調整できる。
特許請求範囲第3項記載の特徴事項にもとづ
き、構成ユニツトの特に好適な関連づけがなされ
る。但し、別の関連づけも可能である。
特許請求範囲第4項の特徴事項にもとづき、常
に同軸性を保持し、例えば、3゜の回転を容易に行
うことができ、対応して、距離の微調を行うこと
ができる簡単な微調装置が得られる。
特許請求範囲第5項の特徴事項にもとづき、一
方で、GM管を後部部分管内に正しく保持して簡
単に位置決めでき、他方では、前部部分管をそれ
に関連する構造ユニツトとともに簡単に位置決め
し、正しい位置に保持することができる。
特許請求の範囲第6項の特徴事項にもとづき、
簡単に接触させることができ、前部部分管を、同
時に、測定テーブルの保持手段として使用でき、
低い散乱性が得られ、従つて高い計数速度が得ら
れ、例えば、バツテリにおける如く、簡単な接触
方式が可能となる。
特許請求範囲第7項の特徴事項にもとづき、装
置に、容量性が極めて少ない作動抵抗を与えるこ
とができる。
特許請求範囲第8項の特徴事項にもとづき、逆
方向に散乱するβ線のしや蔽を考慮せずに、GM
管に支持装置を載せて固定できる。
特許請求範囲第9項の特徴事項にもとづき、パ
トローネ状の、容量性が極めて小さい押入体が得
られる。
特許請求範囲第10項に記載のGM管は、逆散
乱されるエネルギの小さい放射線の最適な捕獲、
放射線量の捕獲面積およびGM管内に負圧を作る
必要性に関して、極めて有効である。
特許請求範囲第11項の特徴事項にもとづき、
絞りリングを交換でき、最善の最適性(統計的誤
差の減少)を保持して、各種の絞りリングを用い
て同一の装置を極めて多面的に使用できる。
特許請求範囲第12項の特徴事項にもとづき、
絞りリングを交換する場合に、点源が損傷される
ことはない。
本装置では、更に、下記事項を考慮した。
1 GM管内は、負圧に作製するか、ガスを充填
して負圧とすることができる。本実施例では、
より大きい出力パルスが得られるので、ガス入
GM管を使用した。
2 増幅器を対応して後置すれば、本発明によつ
て比例計数管をGM計数管として使用できる。
3 中性子線感知器としてインオ化チヤンバも設
ける。しかしながら、その効率はチヤンバ容積
とともに増加するが、比較的小形な装置を創生
することが、本発明の目的の一つでもある。
4 現在公知の半導体感知器は使用しない。
何故ならば、半導体感知器は、現時点では、
GM管と等価の性質を有しておらず、極めて低
温にしなければならず、冷却装置は、装置の互
換性を実際上不可能とする。
5 シンチレーシヨン管も使用しない。シンチレ
ーシヨン管は、高価で、容積が大きく、複雑な
光電子増倍管を必要とする。
本発明を、好ましい実施例を参照して以下に説
明する。
特に指定しない限り、図面の尺度は3倍であ
る。即ち、実際の装置は親指大である。
本発明は、第1部分管21と、第2部分管22
と、GM管23と、絞りリング24と、点源27
の支持装置26を含む。
さて、本発明を詳細に説明する。
西独特許第2013270号(対応米国特許第3714436
号対応英国特許第1323906号)に開示のものに対
応する受けブロツク28は、幾何学的縦軸線29
に同軸に配置してある。受けブロツクは、このブ
ロツクを貫通する絞り開口30を有している。絞
り開口は、少くとも部品的に同軸であり、本実施
例では、半径方向スリツトの形状を有する。この
受けブロツク28は、同軸線上に配設した円錐台
状の外套部31をもつ絞りリング24の先端部内
に装填されている。上記外套部31は、環状突出
部32を介して環状ミゾ33に連続している。な
お、この環状ミゾ33は、必要に応じて保護カバ
ーを取付ける場合の固定用の溝として使われるも
のである。上記絞りリング24は、円筒状のナツ
トとして機能する部分管21と一体的に形成され
ている。この部分管21の外周面には、図示しな
い測定器に保持させるための保持用ミゾ34が軸
線と交叉するように設けられている。即ちこの装
置はペンのように手でもつて使うこともできる
が、測定器類に挿入保持させて使用することもで
きる。この場合、この保持用ミゾ34が位置決め
と固定のためにネジまたはスナツプロールと係合
する。また、部分管21の外周面には、駆動工具
が挿入できるように軸線に平行な縦方向ミゾ36
が設けられている。更に、部分管21の後部に
は、後述するロツクリング66が圧接する環状の
扁平な面が形成されている。一方、部分管21の
内部には、前記絞りリング24と同一軸線上の円
柱状の空間38が端面37に開口して設けられて
おり、この空間38の内周面には、後述する部分
管22の雄ネジ41が螺合する細目ネジ39が設
けられている。この部分管21は、受けブロツク
28を除いて金属で作られている。
部分管22は、絶縁体としての誘電体レジテツ
クス(Resitex)によつて形成され、軸線29上
に配設される。この部分管22は、これと一体に
設けた雄ネジ41によつて前記部分管21の雌ネ
ジ39に螺合する。金属製の部分管21と合成樹
脂製の部分管22との組合わせは摩擦抵抗が小さ
いため、両管は相互に緊密に螺合される。
雄ネジ41の後部には、半径方向に拡がる環状
の面42を有する外径の大きい円筒体43が一体
に設けられ、さらに環状の段状部44を介して径
の小さい口金46が一体に設けられている。第1
3図に示すように、口金46の端部47には、接
点板装着用の浅い凹孔48が開口しており、また
この部分管22の内部には、前面42側に開口す
る袋孔49が設けられている。この袋孔49と前
記凹孔48とは、リード挿通用の貫通ボア51で
連通している。
円筒体43には、第2図および第13図から明
らかな如く、長穴52が設けてある。この長穴
は、円筒体43の壁を完全に貫通し、ほぼ、1/10
ワツトの抵抗器の長さを有し、ほぼ45゜をなして
いる(第2図)。
真鍮リング53は同軸に配置してある。その円
筒形外周面54は、その部分範囲56が長穴52
の右端範囲(第2図)に現われるより、袋穴49
の壁に接着してある。真鍮リング53は、雌ネジ
57と右側の半径方向前面58とを有している。
真鍮リング53は、長さが僅か数mmで、薄く、軽
量で、従つて、アースに対するキヤパシタンスが
極めて小さい。
前記凹孔48には、第13図に示すように、口
金46の端面から後方へ僅かに突出する金属製の
接点板59が装着してある。
長穴52内には、GM管23の作動抵抗として
1/10ワツト抵抗器61が設けてある。円筒体43
は抵抗器61の径よりも厚いので、抵抗器61
は、長穴52内で保護されており、場合によつて
は、埋込むこともできる。その右脚62は、部分
範囲56のハンダ付個所63にハンダ付してあ
る。ハンダ付は、精密ハンダごてを用いて、長穴
を介して行うことができる。左脚64は、2回直
角に折曲げてあり、部分的に袋穴49の外側範囲
を経て貫通ボア51を通り、接点板59にハンダ
付けされている。
雄ネジ41には、対応する雌ネジを有し外径が
円筒体43の外径よりも僅かに大きいロツクリン
グ66が螺合してある。ロツクリング66を回転
して前面37に固定し、場合によつては、ラツカ
またはセツトネジで確保すれば、部分管21,2
2は、軸線方向に不動の位置に固定される。
GM管23は、外径が雌ネジ39の内径よりも
小さい環状スリーブをなす円筒状陰極67を含ん
でいる。マイカ製窓68は、環状前面から離隔し
て融着してある。陰極67は同軸に配置してあ
る、イオン化チヤンバ71内には、ワイヤ73か
ら成る陽極72が同軸に配置してあり、マイカ製
窓69直後のその自由端には、断面がほぼ楕円形
の回転対称の厚肉部74が設けてある。イオン化
チヤンバ71には、セラミツク体76が前部から
気密に接着してある。このセラミツク体は、円筒
形であり、後端範囲に小さいフランジ77を有
し、更にワイヤ73が通過する同軸の貫量ボア7
8を有している。
フランジ77には、ネジ付口金79が前部から
気密に接着してある。この口金は、金属製で、フ
ランジ77に適合しフランジ77と同様に袋穴4
9の径よりも大きい外径を有する接続フランジ8
1を有している。
接続フランジ81には、環状の前面82と一体
の雄ネジ83を有する。ネジ付口金79は、同軸
の貫通ボア84を有している。ワイヤ73は、こ
のボア内を更に延びていて、このボア内でネジ付
口金79に電気的に接続してある。端面86に
は、ガラス製排気スタツド87が融着してある。
このスタツドによつて、溶融前に、貫通ボア7
8,84を介してイオン化チヤンバ内に十分な負
圧を作ることができる。GM管23のネジ付口金
79は、真鍮リング53に螺合、固定してあるの
で、前面58,82は、相互に強固に当接し、後
に突転することはない。即ち、取付状態では、排
出スタツド87は、袋穴49の後部範囲内に保護
されて突出し、底部47と接触することはない。
排気スタツド87は、更に、抵抗器61にも脚6
4にも接触することはない。何故ならば、これら
部材は、半径方向外方に設けてあるからである。
GM管23を部分管22にネジ込んだ場合、セ
ラミツク体76のほぼ半部のみが部分管22を越
えて前方へ突出する。
支持装置26は、陰極67よりも幾分大きい外
径を有する同軸の金属円筒形リング88を含んで
いる。しかしながら、リング88は、僅かな遊び
をもつて−従つて、補助の取付案内が得られる−
雌ネジ39内に嵌合する。リング88の後面89
は、半径方向前面68に接着してある。従つて、
リング88の外壁は、陰極を越えて半径方向に突
出する。リング88の内壁91は、陰極67の内
壁に対して外方へ幾分ずらしてあり、従つて、イ
オン化チヤンバ71に対して障害にはならない。
内壁91は、相互に180゜ずれた2つの個所におい
て、半径方向スポーク92に移行する。このスポ
ークは、陰影化方向に細く、中央にリング状拡張
部93を有している。拡張部93には、線源27
を後方から適切に接着した同軸方向の貫通ボア9
4が設けてある。線源は、β線を吸収する材料か
ら成る外径0.2mmの小管から構成してある。始め
に図面の尺度について述べたが、寸法比較のため
に、上記小管の寸法を記述した。何故ならば、所
要の拡大によつて、本発明の価値評価に誤解を生
ずる恐れがあるからである。
小管96は、ワイヤ97を同軸に含んでいる。
このワイヤは、小管をその長さの大部分にわたつ
て閉鎖し、前面98には放射器小球99を有して
いる。小管96の前端は、厚さ10Muのチタン、
箔101で閉鎖してある。放射器小球99とチタ
ン箔との間隔は、放射器小球99が、プロメチウ
ム、タリウム、ストロンチウムから成る場合に
は、0.1〜0.2mmである。
カドミウム放射器を使用する場合には、この間
隔は幾分大きくする。かくして、放射器小球99
は前方に位置することになるが、全体を点源とみ
なすことができる。
取付完了状態では、チタン箔101は、受けブ
ロツク28からほぼ0.1〜0.8mmの距離に位置す
る。第1の寸法は、もちろん、受けブロツク28
に、小管96の前端が受けブロツク28内に少く
とも部分的に侵入できるよう構成した同軸の開口
が設けてある場合に限り、あてはまる。
第7図および第8図に示した接触バネ102
は、背部で結合した輪状部材の対103,104
から成つている。解放状態では、輪状部材103
は、同104よりも幾分小さい径を有する(第1
図)。部材103は、接触バネ102を陰極67
に機械的に固定し電気的に接続するのに役立つ。
この場合部材103は、前面89に当接するよう
前方へずらすことができる。この場合、この部材
は、リング88を越えて外方へ突出することはな
いので、その限りにおいて、ユニツトを雌ネジ3
9内に挿入することができる。
輪状部材104は、背部で、輪状部材103に
電気的に接続してあり、部分管21内にネジ込ん
だ際、多数の点接触を行う雌ネジ39に接触する
よう、幾何学的縦軸線29から少くとも部分的に
突出している。この場合、ロープ材104は、部
分的に陰極67上にあり、セラミツク体76の周
縁とに押しやられることはない。即ち、接触バネ
102は、陰極67と部分管21とを電気的に接
続する。
第14図に第2実施例を示した。この実施例で
は、一方では、線条点源27は保護されており、
他方では、絞りリング111を交換できるので、
各種の測定に対して適応できる。このために、円
すい台状に延び、β線を阻害することなく内側開
口109を有する保護壁108が、部分管107
の前面106から同軸に延びている。場合によつ
ては、この開口内にチタン箔を挿入することがで
きるが、すべての場合に、内側開口109を、例
えば、指で拭いた際に、点源27が折曲げられて
一度実施した調整が狂うことは、確実に防止され
る。
部分管107には、同軸の外側フランジ112
を有する絞りリング111が、独立の構成要素と
してはめ込んである。このフランジの内面113
は、前面に設けた短い同軸の外側環状面114に
当接して位置決めを行う。絞りリング111は、
部分管107の対応する雄ネジに螺着する雌ネジ
117を有するスリーブナツト116によつて後
方へ引張られる。スリーブナツト116は、内側
ユニツト118によつて、外側フランジ112を
同形肩部分119に引きつけるので、軸線方向の
連動は起り得ない。絞りリング111は、保護壁
108と同様に、上記保護壁に平行に延びていて
受けブロツク122を支持する円すい台状部12
1を有している。
前面および外側から接近し得るよう、スリーブ
ナツト116には180゜ずらした2つの凹み123
が設けてある。
上記凹み内には、多目的工具126のホゾ12
4を挿入できる。この工具126の前面には、ス
リーブナツト116を外した際に円すい台状部1
21および受けブロツク122を挿入できる凹み
127が設けてある。
スリーブナツト116を外せば、減衰リング1
11を取り出して別のリングと交換し、次いで、
多目的工具126を用いてスリーブナツト116
を再びネジ込むことができる。
例えば、別の放射器を使用するので、ユニツト
を使用しない場合には、同じく、多目的工具12
6を操作する。このために、この工具の別の前面
には、部分管107の雄ネジ131に適合する雌
ネジ129を有する同軸の袋穴128が設けてあ
る。多目的工具126は、β線を吸収する材料か
らなり、このために、無限の厚さを有する(例え
ば、アルミニウム)。袋穴128の底面には、逆
散乱データが既知である層132が設けてある。
多目的工具126は、本発明に係るユニツトとと
もに、上方へ向つて垂直に開いた対応する大きさ
の凹み134を有するスタンド133内に挿入で
きる。凹みの底部には、接触板136が設けてあ
り、ある高さ位置には、弾性環状接点136が設
けてある。この接点は、部分管21に接続し、か
くして、陰極67を接続する。接触板136は、
接触板59を接続し、かくして、陽極72を接続
する。ユニツトが、常に運転電圧下にあるよう、
高電圧源141に至るリード線138,139が
設けてある。この回路には、計数装置(図示して
ない)も設けてあるので、逆散乱β線を計数でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、装置の側面図、第2図は第1図の分
解図、第3図は、第1図を矢印Aから見たときの
図、第4図は、矢印Aとは逆平行に見た前部部分
管の図面、第5図は、GM管上にある支持装置の
正面図、第6図は、第5図の線6−6に沿う拡大
断面図、第7図は、接触バネの側面図、第8図は
接触バネをその軸線方向から見た図、第9図は、
ロツクリングをその軸線から見た図、第10図は
GM管の拡大断面図、第11図は、後部部分管を
その軸線方向後方から見た図面、第12図は、第
1図の矢印Bから見た図、第13図は、作動抵抗
器および接触板の立体的位置、後部部分管のネジ
付リングの配置を示す図面(GM管の後部は破線
で示してある)、第14図は、第2実施例の絞り
リングの範囲の半径方向断面図、第15図は、ス
タンド内に挿入した状態の装置および装置用工具
の半径方向図である。 21……第1部分管、22……第2部分管、2
3……ガイガー・ミユラー管、24……絞りリン
グ、27……点源、38;41……微調装置、6
6……ロツク装置、67……陰極、72……陽
極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 きわめてめて小さい絞り開口を有する絞りリ
    ングと、絞り開口の後方に該開口に対して離隔
    し、かつ同軸に配置したβ線放射器の点源と、点
    源の支持装置と、支持装置の背後に配置した同軸
    のガイガーミユラー管と、このガイガーミユラー
    管の支持装置と、GM管の陽極の接点装置と、
    GM管の陰極の接点装置とを備えたβ線による薄
    層測定装置において、第1部分管21と第2部分
    管22とを有する少なくとも1つの管装置が設け
    られ、部分管21,22は、少なくとも1つの微
    調装置39,41によつて軸線方向に相互に変位
    できるように構成されており、部分管21,22
    内には、点源27およびGM管23が設けられ、
    部分管21,22は絞りリング24、点源27、
    GM管23からなるユニツトの1つまたは2つに
    結合され、微調装置39,41をロツクする少な
    くとも1つのロツク装置66が設けられ、1つの
    部分管22は、陽極72に電気的に接続され、他
    の部分管21は、陰極67に電気的に接続してあ
    ることを特徴とする装置。 2 2つの部分管21,22のうち一方の部分管
    22が、絞りリング24、点源27またはGM管
    23、点源27を支持し、他方の部分管21が、
    GM管23または絞りリング24を支持すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 前部部分管21が、絞りリング24を支持
    し、後部部分管22が、点源27を備えたGM管
    23を支持することを特徴とする特許請求の範囲
    第2項記載の装置。 4 微調装置39,41は、1回転当たりのピツ
    チが0.5mm〜1mm、好ましくは0.75mmの微調可能
    な細目ネジであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の装置。 5 前部部分管21が、雌ネジ39を備えたスリ
    ーブナツトであり、後部部分管22が、前記雌ネ
    ジに螺合する雄ネジ41を前部範囲に有するネジ
    装置82,83によつてGM管23をねじ込んだ
    管であり、雄ネジ41には、ネジ付ロツクリング
    66がロツク装置として螺合してあることを特徴
    とする特許請求の範囲第3項記載の装置。 6 前部部分管21は金属製であり、環状の接触
    バネ103,104を介して電気的に接続されて
    おり、ネジ付口金79は、絶縁材からなる後部部
    分管22内の金属製内側リング53に接触してお
    り、内側リング53が、後部部分管22の後端に
    設けた接点板59と電気的に接続していることを
    特徴とする特許請求の範囲第3項記載の装置。 7 後部部分管22は、GM管23の作動抵抗器
    61を設けた凹孔52を有し、前記抵抗器61の
    一方のリード62が陽極72に電気的に接続して
    あり、他方のリード64は導体59に電気的に接
    続してあることを特徴とする特許請求の範囲第2
    項記載の装置。 8 支持装置26が、点源27を支持するスポー
    ク92をもつスリーブリング88を有し、このス
    リーブリングの後面89が、接着剤によつてGM
    管23の外套部67の前面に固定してあることを
    特徴とする特許請求の範囲第2項記載の装置。 9 GM管23が、前部に円筒形スリーブリング
    89を有し、次いでセラミツク体76、ネジ付口
    金79が続き、排気スタツド87がネジ付口金7
    9に接続されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の装置。 10 GM管23が、0.5〜1.3cm、好ましくは0.8
    cmの径を有し、重量が1.5〜0.7mg/cm2好ましくは
    1mg/cm2のマイカ製窓69で閉塞してあることを
    特徴とする特許請求の範囲第9項記載の装置。 11 絞りリング111が、交換可能な構成部品
    として組付けられてあり、部分管107に同軸に
    位置決めして保持してあることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の装置。 12 点源27と絞りリング111との間には、
    絞りリング111の下方に、点源27のβ線を阻
    止することなく通す孔109を同軸に有する点源
    カバー108が設けてあることを特徴とする特許
    請求の範囲第1〜11項記載の装置。
JP56101409A 1980-08-09 1981-07-01 Thin layer measuring apparatus by b rays Granted JPS5746107A (en)

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DE3030227C2 (de) 1987-04-23
GB2081892A (en) 1982-02-24
CH650859A5 (de) 1985-08-15
JPS5746107A (en) 1982-03-16
DE3030227A1 (de) 1982-03-25
GB2081892B (en) 1984-06-27

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