JPH0153673B2 - - Google Patents

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JPH0153673B2
JPH0153673B2 JP57102541A JP10254182A JPH0153673B2 JP H0153673 B2 JPH0153673 B2 JP H0153673B2 JP 57102541 A JP57102541 A JP 57102541A JP 10254182 A JP10254182 A JP 10254182A JP H0153673 B2 JPH0153673 B2 JP H0153673B2
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JP
Japan
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group
general formula
formula
derivative represented
dihydro
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Application number
JP57102541A
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Japanese (ja)
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JPS58219178A (en
Inventor
Manzo Shiono
Yoshiji Fujita
Takuji Nishida
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58219178A publication Critical patent/JPS58219178A/en
Publication of JPH0153673B2 publication Critical patent/JPH0153673B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は一般式() で示される3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラ
ン誘導体の製造方法に関する。 上記式中、Rは水素原子又は保護基を表わす。
保護基としては水酸基保護の目的を達成する限り
通常用いられるいずれの保護基を用いてもよく、
例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基
などのアシル基、メチル基、t―ブチル基、トリ
フエニルメチル基、ベンジル基などが挙げられ
る。R1は水素原子又はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基などの低級アルキル基を表わ
す。R2及びR3は同一又は異なり水素原子;メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低
級アルキル基;若しくはメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などの低級アルコ
キシ基を表わすか、又はR2とR3は一緒になつて
―CH=CH―CH=CH―基を形成する。R4は有
機酸R4COOHを形成し得る有機基を表わし、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、オクチル基、ウンデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘプタデシル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、2―シクロヘキシルエチ
ル基などのアルキル基;ビニル基、1―プロペニ
ル基、アリル基、イソプロペニル基、2―メチル
アリル基、1―ブテニル基、2―ブテニル基、
1,3―ブタジエニル基などのアルケニル基;フ
エニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、
ピリジル基などのアリール基;ベンジル基、1―
フエニルエチル基、2―フエニルエチル基、1―
フエニルプロピル基、3―フエニルプロピル基、
2―メチル―1―フエニルプロピル基、2―ナフ
チルエチル基などのアラルキル基;メトキシメチ
ル基,エトキシメチル基、プロポキシメチル基、
ブトキシメチル基、エトキシエチル基、シクロヘ
キシルオキシメチル基、メトキシメチル基などの
アルコキシアルキル基;フエノキシメチル基、2
―フエノキシエチル基、ナフトキシメチル基など
のアリールオキシアルキル基などである。 一般式()で示される3,4―ジヒドロ―
2H―ベンゾピラン誘導体は有機材料、特に合成
樹脂の光、熱及び酸化剤の影響に対する安定剤と
して有用である(特開昭56―145283号公報参照)。 従来、3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラン
誘導体はハイドロキノン又はその誘導体と次式 又は で示されるアルケンジオール又はそのモノエステ
ルとをルイス酸の存在下で反応させ、必要により
アシル化することにより製造されてきた(特開昭
49―88876号公報及び特開昭56―145282号公報参
照)。しかしながら、この方法は原料として用い
るアルケンジオール及びそのモノエステルがグリ
ニヤール反応によつて製造されるなどその製造コ
ストは必ずしも安いものではなく、工業的に有利
な方法とは言い難い。 本発明者らは容易にしかも安価に入手できる原
料を用いて3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラ
ン誘導体を製造する方法を開発すべく種々検討し
た結果、4―メチル―5,6―ジヒドロ―2H―
ピラン又は4―メチレンテトラヒドロピランから
一般式() 〔式中、R4は一般式()におけると同じ意味
を有し、Qはハロゲン原子又はR5COO―基を表
わす。ここでR5はR4と同一又は異なり、有機基
を表わす。〕 で示されるアルケン誘導体が容易に得られ、この
アルケン誘導体を原料として3,4―ジヒドロ―
2H―ベンゾピラン誘導体が容易に製造されるこ
とを見出し、本発明に至つた。 すなわち、本発明によれば、一般式() 〔式中、R、R1、R2及びR3は一般式()にお
けると同じ意味を有する。〕 で示されるハイドロキノンン又はその誘導体と前
記一般式()で示されるアルケン誘導体とをル
イス酸の存在下に反応させることにより前記一般
式()で示される3,4―ジヒドロ―2H―ベ
ンゾピラン誘導体を製造することができる。ま
た、一般式()で示されるアルケン誘導体は一
般式() (式中、X及びZのいずれか一方は水素原子であ
り他方はYと一緒になつて結合を形成する。) で示されるピラン誘導体と一般式() 〔式中、R4及びQは一般式()におけると同
じ意味を有する。〕 で示される酸誘導体とをルイス酸の存在下に反応
させることによつて容易に得られる。 原料として用いる4―メチル―5,6―ジヒド
ロ―2H―ピラン及び4―メチレンテトラヒドロ
ピランはイソブテンとホルマリンよりイソブレン
を製造する際に多量に副生し、また酸触媒の存在
下での第3級ブタノールとホルムアルデヒド水溶
液との反応などによつても合成することができ、
容易にしかも安価に入手できる。 一般式()で示されるピラン誘導体と一般式
()で示される酸誘導体との縮合反応で用いる
ルイス酸としては例えば、三フツ化ホウ素・エー
テル錯体、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ム、塩化第1鉄、塩化第2鉄、塩化第1スズ、塩
化第2スズ、塩化亜鉛、硫酸、p―トルエンスル
ホン酸などを挙げることができるが、好ましく塩
化亜鉛、塩化アルミニウム、三フツ化ホウ素・エ
ーテル錯体である。ルイス酸の使用量は一般式
()で示されるピラン誘導体に対して0.001〜
0.5倍モル量、好ましくは0.01〜0.5倍モル量であ
る。この縮合反応は溶媒中で行なうのが好まし
く、例えば1,2―ジクロルエタン、ジクロルメ
タン、クロロホルム、1,1,2―トリクロルエ
チレン、四塩化炭素、クロルベンゼンなどのハロ
ゲン化炭素水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、シクロヘキサン、n―ヘキサン、リグロイン
などの炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼ
ン、ベンゾニトリル、アセトニトリルなどの含窒
素化合物;メチルエチルケトン、酢酸、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどの含酸素化合物又はこれらの
混合物を溶媒として使用できる。溶媒の使用量は
一般式()で示されるピン誘導体に対して約2
〜100倍重量、好ましくは約5〜20倍重量である。
この縮合反応は通常−5℃〜70℃、好ましくは0
℃〜50℃で行なう。このようにして得られた一般
式()で示されるアルケン誘導体を含む反応混
合物をそのまま一般式()で示されるハイドロ
キノン又はその誘導体との反応に供することもで
きる。 一般式()で示されるハイドロキノン又はそ
の誘導体と一般式()で示されるアルケン誘導
体との縮合反応は、上記の一般式()で示され
るピラン誘導体と一般式()で示される酸誘導
体との縮合反応で用いると同じルイス酸の存在下
に行なうことができる。ルイス酸の使用量は一般
式()で示されるハイドロキノン又はその誘導
体に対して0.0001〜1倍モル量、好ましくは
0.001〜0.1倍モル量である。この縮合反応は溶媒
中で行なうのが好ましく、上記の一般式()で
示されるピラン誘導体と一般式()で示される
酸誘導体との縮合反応で使用される溶媒が同様に
用いられる。溶媒の使用量は一般式()で示さ
れるハイドロキノン又はその誘導体に対して約2
〜100倍重量、好ましくは約5〜20倍重量である。
この縮合反応は通常−40〜150℃、好ましくは0
℃〜100℃で行なう。 本発明の好適な実施態様においては、一般式
()で示されるピラン誘導体及びルイス酸を溶
媒に溶解又は懸濁させ、ついで一般式()で示
される酸誘導体を添加し、約0.5〜4時間撹拌を
続けることにより一般式()で示されるアルケ
ン誘導体を含む反応混合物が得られる。この反応
混合物から例えば、蒸留操作により一般式()
で示されるアルケン誘導体を単離する。次に、一
般式()で示されるハイドロキノン又はその誘
導体及びルイス酸を溶媒に溶解又は懸濁させ、窒
素等の不活性ガス雰囲気下に撹拌加熱しながら一
般式()で示されるハイドロキノン又はその誘
導体に対して等モル〜1.2倍モル量の一般式()
で示されるアルケン誘導体を約0.5〜8時間に渡
つて添加し反応させる。一般式()で示される
アルケン誘導体を添加後さらに約0.5〜4時間撹
拌を続けることにより一般式()で示される
3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラン誘導体を
含む反応混合物が得られる。この反応混合物から
の3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラン誘導体
の分離回収は通常の方法により行なうことができ
る。例えば、反応混合物に水を加え、ついでエー
テルなどで抽出し、抽出液を水洗、乾燥したの
ち、溶媒を留去し、ついで真空蒸留することによ
り無色ないしは淡黄色の粘稠な一般式()で示
される3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラン誘
導体を得ることができる。 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 窒素雰囲気下にトリメチルハイドロキノン3.04
g、無水塩化亜鉛0.14g及び1,2―ジクロルエ
タン20mlの混合液に加熱還流しながら5―クロル
―3―メチル―3―ペンテン―1―イル アセテ
ート3.53gを滴下した。滴下後、1時間加熱還流
したのち、反応液を水にあけ、ついでエーテルで
抽出した。抽出液を食塩水で洗滌し、乾燥したの
ち、低沸点物を減圧下に留去した。得られた濃縮
液を蒸留することにより、下記の物性を有する2
―アセトキシエチル―3,4―ジヒドロ―2,
5,7,8―テトラメチル―2H―ベンゾピラン
―6―オールを5.14gを得た(収率88%)。 沸点:178〜187℃/0.2mmHg NMRスペクトル(90MHz)δHMS CDCl3: 1.22(s、3H);1.6〜2.2(m、16H);2.56(t、
J=7Hz,2H);4.06〜4.4(m、2H);4.55
(s、1H) 実施例 2〜14 4―メチル―5,6―ジヒドロ―2H―ピラン
1.96g、1,2―ジクロルエタン10ml及び無水塩
化亜鉛0.08gの混合液に第1表に示すカルボン酸
ハライド20mmolを滴下し、室温で1時間撹拌し
た。得られた反応液をトリメチルハイドロキノン
2.7g、無水塩化亜鉛0.05g及び1,2―ジクロ
ルエタン18mlの混合液に加熱還流下に滴下した。
滴下後、2時間加熱還流したのち、反応混合物を
冷却し、水にあけ、ついでエーテルで抽出した。
抽出液を水洗し、乾燥後、低沸点物を留去し、得
られた濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーで精製することにより、相当する2―アシル
オキシエチル―3,4―ジヒドロ―2,5,7,
8―テトラメチル―2H―ベンゾピラン―6―オ
ールを第1表に示す収率で得た。
The present invention is based on the general formula () The present invention relates to a method for producing a 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative represented by: In the above formula, R represents a hydrogen atom or a protective group.
As the protecting group, any commonly used protecting group may be used as long as it achieves the purpose of protecting the hydroxyl group.
Examples include acyl groups such as acetyl, propionyl, and butyryl, methyl, t-butyl, triphenylmethyl, and benzyl groups. R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group such as a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group. R 2 and R 3 are the same or different and each represents a hydrogen atom; a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group; or a lower alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group; Or R 2 and R 3 together form a -CH=CH-CH=CH- group. R 4 represents an organic group capable of forming an organic acid R 4 COOH, such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, octyl group, undecyl group, pentadecyl group, heptadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group , alkyl groups such as 2-cyclohexylethyl group; vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, isopropenyl group, 2-methylallyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group,
Alkenyl groups such as 1,3-butadienyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group,
Aryl group such as pyridyl group; benzyl group, 1-
Phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-
phenylpropyl group, 3-phenylpropyl group,
Aralkyl groups such as 2-methyl-1-phenylpropyl group and 2-naphthylethyl group; methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group,
Alkoxyalkyl groups such as butoxymethyl group, ethoxyethyl group, cyclohexyloxymethyl group, methoxymethyl group; phenoxymethyl group, 2
- Aryloxyalkyl groups such as phenoxyethyl group and naphthoxymethyl group. 3,4-dihydro- represented by general formula ()
2H-benzopyran derivatives are useful as stabilizers for organic materials, especially synthetic resins, against the effects of light, heat and oxidizing agents (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 145283/1983). Conventionally, 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivatives are combined with hydroquinone or its derivatives by the following formula: or It has been produced by reacting an alkenediol or its monoester represented by in the presence of a Lewis acid, and acylating if necessary (Japanese Patent Application Laid-open No.
49-88876 and JP-A-56-145282). However, since the alkenediol and its monoester used as raw materials are produced by Grignard reaction, the production cost of this method is not necessarily low, and it cannot be said to be an industrially advantageous method. The present inventors conducted various studies to develop a method for producing 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivatives using easily and inexpensively available raw materials, and found that 4-methyl-5,6-dihydro-2H ―
General formula () from pyran or 4-methylenetetrahydropyran [In the formula, R 4 has the same meaning as in the general formula (), and Q represents a halogen atom or an R 5 COO- group. Here, R 5 is the same as or different from R 4 and represents an organic group. ] The alkene derivative shown is easily obtained, and using this alkene derivative as a raw material, 3,4-dihydro-
It was discovered that 2H-benzopyran derivatives can be easily produced, leading to the present invention. That is, according to the present invention, the general formula () [In the formula, R, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as in the general formula (). ] A 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative represented by the above general formula () is obtained by reacting hydroquinone or its derivative represented by the above with an alkene derivative represented by the above general formula () in the presence of a Lewis acid. can be manufactured. In addition, the alkene derivative represented by the general formula () is the general formula () (In the formula, either one of X and Z is a hydrogen atom, and the other forms a bond together with Y.) Pyran derivatives represented by the general formula () [In the formula, R 4 and Q have the same meanings as in the general formula (). ] It can be easily obtained by reacting the acid derivative shown in the following in the presence of a Lewis acid. 4-Methyl-5,6-dihydro-2H-pyran and 4-methylenetetrahydropyran used as raw materials are produced in large quantities when producing isobrene from isobutene and formalin. It can also be synthesized by reacting butanol with an aqueous formaldehyde solution.
It can be obtained easily and inexpensively. Examples of Lewis acids used in the condensation reaction between the pyran derivative represented by the general formula () and the acid derivative represented by the general formula () include boron trifluoride/ether complex, aluminum chloride, aluminum bromide, and ferrous chloride. , ferric chloride, stannous chloride, stannic chloride, zinc chloride, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, etc., but preferred are zinc chloride, aluminum chloride, and boron trifluoride/ether complex. . The amount of Lewis acid used is 0.001 to 0.001 for the pyran derivative represented by the general formula ().
The amount is 0.5 times the molar amount, preferably 0.01 to 0.5 times the molar amount. This condensation reaction is preferably carried out in a solvent, such as hydrogen halides such as 1,2-dichloroethane, dichloromethane, chloroform, 1,1,2-trichloroethylene, carbon tetrachloride, and chlorobenzene; benzene, toluene, and xylene. Hydrocarbons such as , cyclohexane, n-hexane, and ligroin; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, nitrobenzene, benzonitrile, and acetonitrile; oxygen-containing compounds such as methyl ethyl ketone, acetic acid, ethyl acetate, and butyl acetate, or mixtures thereof can be used as solvents. . The amount of solvent used is approximately 2 for the pin derivative represented by the general formula ().
~100 times the weight, preferably about 5 to 20 times the weight.
This condensation reaction is usually carried out at -5°C to 70°C, preferably at 0°C.
Perform at ℃~50℃. The reaction mixture containing the alkene derivative represented by the general formula () thus obtained can also be directly subjected to a reaction with hydroquinone represented by the general formula () or a derivative thereof. The condensation reaction between hydroquinone or its derivative represented by the general formula () and the alkene derivative represented by the general formula () is the condensation reaction between the pyran derivative represented by the general formula () above and the acid derivative represented by the general formula (). It can be carried out in the presence of the same Lewis acid used in the condensation reaction. The amount of Lewis acid used is 0.0001 to 1 mole amount, preferably 0.0001 to 1 times the amount of hydroquinone or its derivative represented by the general formula ().
The amount is 0.001 to 0.1 times the molar amount. This condensation reaction is preferably carried out in a solvent, and the solvent used in the condensation reaction between the pyran derivative represented by the general formula () and the acid derivative represented by the general formula () above can be similarly used. The amount of solvent used is approximately 2% for the hydroquinone or its derivative represented by the general formula ().
~100 times the weight, preferably about 5 to 20 times the weight.
This condensation reaction is usually carried out at -40 to 150°C, preferably at 0.
Perform at ℃~100℃. In a preferred embodiment of the present invention, the pyran derivative represented by the general formula () and the Lewis acid are dissolved or suspended in a solvent, and then the acid derivative represented by the general formula () is added for about 0.5 to 4 hours. By continuing stirring, a reaction mixture containing an alkene derivative represented by the general formula () is obtained. From this reaction mixture, for example, the general formula () is obtained by distillation operation.
The alkene derivative represented by is isolated. Next, hydroquinone or its derivative represented by general formula () and a Lewis acid are dissolved or suspended in a solvent, and while stirring and heating under an inert gas atmosphere such as nitrogen, hydroquinone or its derivative represented by general formula () is dissolved or suspended in a solvent. Equimolar to 1.2 times the molar amount of the general formula ()
The alkene derivative represented by is added and reacted over about 0.5 to 8 hours. After adding the alkene derivative represented by the general formula (), stirring is continued for about 0.5 to 4 hours to obtain a reaction mixture containing the 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative represented by the general formula (). The 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative can be separated and recovered from this reaction mixture by a conventional method. For example, water is added to the reaction mixture, then extracted with ether, etc., the extract is washed with water, dried, the solvent is distilled off, and then vacuum distilled to give a colorless or pale yellow viscous general formula (). The 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative shown can be obtained. The present invention will be specifically described below with reference to Examples. Example 1 Trimethylhydroquinone 3.04 under nitrogen atmosphere
3.53 g of 5-chloro-3-methyl-3-penten-1-yl acetate was added dropwise to a mixed solution of 0.14 g of anhydrous zinc chloride and 20 ml of 1,2-dichloroethane while heating under reflux. After the dropwise addition, the reaction solution was heated under reflux for 1 hour, poured into water, and then extracted with ether. After washing the extract with brine and drying, low-boiling substances were distilled off under reduced pressure. By distilling the obtained concentrate, 2 having the following physical properties is obtained.
-acetoxyethyl-3,4-dihydro-2,
5.14 g of 5,7,8-tetramethyl-2H-benzopyran-6-ol was obtained (yield 88%). Boiling point: 178-187℃/0.2mmHg NMR spectrum (90MHz) δ HMS CDCl3 : 1.22 (s, 3H); 1.6-2.2 (m, 16H); 2.56 (t,
J=7Hz, 2H); 4.06-4.4 (m, 2H); 4.55
(s, 1H) Examples 2 to 14 4-Methyl-5,6-dihydro-2H-pyran
20 mmol of the carboxylic acid halide shown in Table 1 was added dropwise to a mixed solution of 1.96 g, 10 ml of 1,2-dichloroethane, and 0.08 g of anhydrous zinc chloride, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The resulting reaction solution was diluted with trimethylhydroquinone.
It was added dropwise to a mixed solution of 2.7 g of anhydrous zinc chloride, 0.05 g of anhydrous zinc chloride, and 18 ml of 1,2-dichloroethane while heating under reflux.
After the dropwise addition, the reaction mixture was heated under reflux for 2 hours, cooled, poured into water, and then extracted with ether.
After washing the extract with water and drying, low-boiling substances were distilled off, and the resulting concentrated liquid was purified by silica gel column chromatography to obtain the corresponding 2-acyloxyethyl-3,4-dihydro-2,5 ,7,
8-Tetramethyl-2H-benzopyran-6-ol was obtained in the yield shown in Table 1.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 実施例 15〜22 実施例1において無水塩化亜鉛0.14g及び1,
2―ジクロルエタン20mlの代りに第2表に示すル
イス酸の所定量及び所定の溶媒20mlを用いて実施
例1と同様の方法により、2―アセトキシエチル
―3,4―ジヒドロ―2,5,7,8―テトラメ
チル―2H―ベンゾピラン―6―オールを得た。
その結果を第2表に示す。
[Table] Examples 15-22 In Example 1, 0.14 g of anhydrous zinc chloride and 1,
2-acetoxyethyl-3,4-dihydro-2,5,7 was prepared in the same manner as in Example 1 using the specified amount of Lewis acid shown in Table 2 and 20 ml of the specified solvent instead of 20 ml of 2-dichloroethane. , 8-tetramethyl-2H-benzopyran-6-ol was obtained.
The results are shown in Table 2.

【表】【table】

【表】 実施例 23 窒素雰囲気下にトリメチルハイドロキノン3.04
g、三フツ化ホウ素・エーテル錯体0.28g及び
1,2―ジクロルエタン20mlの混合液に加熱還流
しながら1,5―ジアセトキシ―3―メチル―2
―ペンテン4.0gを滴下した。滴下後、1時間加
熱還流したのち、反応液を水にあけ、ついでエー
テルで抽出した。抽出液を食塩水で洗滌し、乾燥
したのち、低沸点物を減圧下に留去した。得られ
た濃縮液を蒸留することにより、2―アセトキシ
エチル―3,4―ジヒドロ―2,5,7,8―テ
トラメチル―2H―ベンゾピラン―6―オール
4.44g得た(収率76%)。 実施例 24 窒素雰囲気下にハイドロキノン1.10g、三フツ
化ホウ素・エーテル錯体0.14g及び1,2―ジク
ロルエタン10mlの混合液に加熱還流しながら5―
クロル―3―メチル―3―ペンテン―1―イル
アセテート1.76gを滴下した。滴下後、さらに1
時間加熱還流したのち、反応混合物を冷却し、こ
れに水を加え、ついでエーテルで抽出した。抽出
液を水洗し、乾燥したのち、低沸点物を留去し、
得られた濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーで精製することにより、2―アセトキシエ
チル―3,4―ジヒドロ―2―メチル―2H―ベ
ンゾピラン―6―オールを1.92gを得た(収率
76.8%) 実施例 25 実施例24においてハイドロキノン1.10gの代り
に2,3―ジメトキシ―5―メチル―p―ハイド
ロキノン1.84gを用いる以外は実施例24と同様の
方法により反応及び後処理を行なうことにより、
2―アセトキシエチル―3,4―ジヒドロ―7,
8―ジメトキシ―2,5―ジメチル―2H―ベン
ゾピラン―6―オールを2.53g得た(収率78.1
%)。 実施例 26 実施例24においてハイドロキノン1.10gの代り
に2―メチルナフトキノン1.74gを用いる以外は
実施例24と同様の方法により反応及び後処理を行
なうことにより、2―アセトキシエチル―3,4
―ジヒドロ―2,5―ジメチル―2H―ナフト
〔1,2―b〕ピラン―6―オールを1.75g得た
(収率55.7%)。 実施例 27 窒素雰囲気下に4―アセトキシ―2,3,5―
トリメチルフエノール1.94g、、塩化亜鉛0.14g
及び1,2―ジクロルエタン10mlの混合液に加熱
還流しながら5―クロル―3―メチル―3―ペン
テン―1―イル アセテート1.76gを滴下した。
滴下後、さらに1時間加熱還流したのち、反応混
合物を冷却し、これに水を加え、ついでエーテル
で抽出した。抽出液を水洗し、乾燥したのち、低
沸点物を留去し、得られた濃縮液をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーで精製することにより、
下記のNMRスペクトルを有する6―アセトキシ
―2―アセトキシエチル―3,4―ジヒドロ―
2,5,7,8―テトラメチル―2H―ベンゾピ
ランを2.73g得た(収率82%)。 NMRスペクトル(90MHz)δHMS CDCl3: 1.23(s、3H)、1.6〜2.1(m、16H)、2.26(s、
3H)、2.56(t、J=7Hz、2H)、40〜4.5(m、
2H) 実施例 28 実施例27において4―アセトキシ―2,3,5
―トリメチルフエノール1.94gの代りに4―ベン
ジルオキシ―2,3,5―トリメチルフエノール
2.42gを用いる以外は実施例27と同様の方法によ
り反応及び後処理を行なうことにより、2―アセ
トキシエチル―6―ベンジルオキシ―3,4―ジ
ヒドロ―2,5,7,8―テトラメチル―2H―
ベンゾピランを3.16g得た(収率83%)。 実施例 29〜32 4―メチル―5,6―ジヒドロ―2H―ピラン
1.96g、トルエン10ml及び無水塩化亜鉛0.08gの
混合液に第3表に示すカルボン酸ハライド
20mmolを滴下し、室温で1時間撹拌した。得ら
れた反応液をトリメチルハイドロキノン2.7g、
無水塩化亜鉛0.05g及びトルエン18mlの混合液に
加熱還流下に滴下した。滴下後、2時間加熱還流
したのち、反応混合物を冷却し、水にあけ、つい
でエーテルで抽出した。抽出液を水洗し、乾燥
後、低沸点物を留去し、得られた濃縮液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーで精製することに
より、相当する2―アシルオキシエチル―3,4
―ジヒドロ―2,5,7,8―テトラメチル―
2H―ベンゾピラン―6―オールを第3表に示す
収率で得た。
[Table] Example 23 Trimethylhydroquinone 3.04 under nitrogen atmosphere
g, 1,5-diacetoxy-3-methyl-2 to a mixture of 0.28 g of boron trifluoride/ether complex and 20 ml of 1,2-dichloroethane while heating under reflux.
- 4.0g of pentene was dropped. After the dropwise addition, the reaction solution was heated under reflux for 1 hour, poured into water, and then extracted with ether. After washing the extract with brine and drying, low-boiling substances were distilled off under reduced pressure. By distilling the obtained concentrate, 2-acetoxyethyl-3,4-dihydro-2,5,7,8-tetramethyl-2H-benzopyran-6-ol
4.44g was obtained (yield 76%). Example 24 Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 1.10 g of hydroquinone, 0.14 g of boron trifluoride/ether complex, and 10 ml of 1,2-dichloroethane was heated under reflux while 5-
Chlor-3-methyl-3-penten-1-yl
1.76 g of acetate was added dropwise. After dropping, add 1 more
After heating under reflux for an hour, the reaction mixture was cooled, water was added thereto, and then extracted with ether. After washing the extract with water and drying, low-boiling substances were distilled off.
The obtained concentrate was purified by silica gel column chromatography to obtain 1.92 g of 2-acetoxyethyl-3,4-dihydro-2-methyl-2H-benzopyran-6-ol (yield:
76.8%) Example 25 By carrying out the reaction and post-treatment in the same manner as in Example 24, except for using 1.84 g of 2,3-dimethoxy-5-methyl-p-hydroquinone instead of 1.10 g of hydroquinone,
2-acetoxyethyl-3,4-dihydro-7,
2.53g of 8-dimethoxy-2,5-dimethyl-2H-benzopyran-6-ol was obtained (yield 78.1
%). Example 26 By carrying out the reaction and post-treatment in the same manner as in Example 24 except that 1.74 g of 2-methylnaphthoquinone was used instead of 1.10 g of hydroquinone, 2-acetoxyethyl-3,4
1.75 g of -dihydro-2,5-dimethyl-2H-naphtho[1,2-b]pyran-6-ol was obtained (yield 55.7%). Example 27 4-acetoxy-2,3,5- under nitrogen atmosphere
Trimethylphenol 1.94g, Zinc chloride 0.14g
1.76 g of 5-chloro-3-methyl-3-penten-1-yl acetate was added dropwise to a mixed solution of 10 ml of 1,2-dichloroethane while heating under reflux.
After the dropwise addition, the reaction mixture was further heated under reflux for 1 hour, then cooled, water was added thereto, and then extracted with ether. After washing the extract with water and drying, low-boiling substances were distilled off, and the resulting concentrated liquid was purified by silica gel column chromatography.
6-acetoxy-2-acetoxyethyl-3,4-dihydro- with the following NMR spectrum
2.73 g of 2,5,7,8-tetramethyl-2H-benzopyran was obtained (yield 82%). NMR spectrum (90MHz) δ HMS CDCl3 : 1.23 (s, 3H), 1.6-2.1 (m, 16H), 2.26 (s,
3H), 2.56 (t, J=7Hz, 2H), 40-4.5 (m,
2H) Example 28 In Example 27, 4-acetoxy-2,3,5
-4-benzyloxy-2,3,5-trimethylphenol instead of 1.94g of trimethylphenol
By performing the reaction and post-treatment in the same manner as in Example 27 except for using 2.42 g, 2-acetoxyethyl-6-benzyloxy-3,4-dihydro-2,5,7,8-tetramethyl- 2H―
3.16g of benzopyran was obtained (yield 83%). Examples 29-32 4-Methyl-5,6-dihydro-2H-pyran
1.96g of carboxylic acid halide shown in Table 3 in a mixed solution of 10ml of toluene and 0.08g of anhydrous zinc chloride.
20 mmol was added dropwise and stirred at room temperature for 1 hour. The resulting reaction solution was mixed with 2.7 g of trimethylhydroquinone,
The mixture was added dropwise to a mixed solution of 0.05 g of anhydrous zinc chloride and 18 ml of toluene while heating under reflux. After the dropwise addition, the reaction mixture was heated under reflux for 2 hours, cooled, poured into water, and then extracted with ether. After washing the extract with water and drying, low-boiling substances were distilled off, and the resulting concentrated liquid was purified by silica gel column chromatography to obtain the corresponding 2-acyloxyethyl-3,4
-dihydro-2,5,7,8-tetramethyl-
2H-benzopyran-6-ol was obtained in the yield shown in Table 3.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、Rは水素原子又は保護基を表わし、R1
は水素原子又は低級アルキル基を表わす。R2
びR3は同一又は異なり水素原子、低級アルキル
基若しくは低級アルコキシ基を表わし、又はR2
とR3は一緒になつて―CH=CH―CH=CH―基
を形成する。) で示されるハイドロキノン又はその誘導体と一般
(式中、R4は有機基を表わし、Qはハロゲン原
子又はR5COO―基を表わす。ここでR5はR4と同
一又は異なり、有機基を表わす。) で示されるアルケン誘導体とをルイス酸の存在下
に反応させることを特徴とする一般式 (式中、R、R1、R2、R3及びR4は前記定義のと
おりである。) で示される3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラ
ン誘導体の製造方法。 2 一般式 (式中、X及びZのいずれか一方は水素原子であ
り他方はYと一緒になつて結合を形成する。) で示されるピラン誘導体と一般式 (式中、R4は有機基を表わし、Qはハロゲン原
子又はR5COO―基を表わす。ここでR5はR4と同
一又は異なり、有機基を表わす。) で示される酸誘導体とをルイス酸の存在下に反応
させて一般式 (式中、R4及びQは前記定義のとおりである。) で示されるアルケン誘導体を得、ついで該アルケ
ン誘導体と一般式 (式中、Rは水素原子又は保護基を表わし、R1
は水素原子又は低級アルキル基を表わす。R2
びR3は同一又は異なり水素原子、低級アルキル
基若しくは低級アルコキシ基を表わし、又はR2
とR3は一緒になつて―CH=CH―CH=CH―基
を形成する。) で示されるハイドロキノン又はその誘導体とをル
イス酸の存在下に反応させることを特徴とする一
般式 (式中、R、R1、R2、R3及びR4は前記定義のと
おりである。) で示される3,4―ジヒドロ―2H―ベンゾピラ
ン誘導体の製造方法。
[Claims] 1. General formula (In the formula, R represents a hydrogen atom or a protective group, and R 1
represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. R 2 and R 3 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group, or R 2
and R 3 together form a -CH=CH-CH=CH- group. ) Hydroquinone or its derivatives and general formula (In the formula, R 4 represents an organic group, and Q represents a halogen atom or R 5 COO- group. Here, R 5 is the same as or different from R 4 and represents an organic group.) General formula characterized by reaction in the presence of Lewis acid (In the formula, R, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.) A method for producing a 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative represented by the following formula. 2 General formula (In the formula, either one of X and Z is a hydrogen atom, and the other forms a bond together with Y.) Pyran derivatives represented by the general formula (In the formula, R 4 represents an organic group, and Q represents a halogen atom or R 5 COO- group. Here, R 5 is the same as or different from R 4 and represents an organic group.) By reacting in the presence of Lewis acid, the general formula (wherein R 4 and Q are as defined above) is obtained, and then the alkene derivative and the general formula (In the formula, R represents a hydrogen atom or a protective group, and R 1
represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. R 2 and R 3 are the same or different and represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group, or R 2
and R 3 together form a -CH=CH-CH=CH- group. ) A general formula characterized by reacting hydroquinone or its derivative represented by in the presence of a Lewis acid. (In the formula, R, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.) A method for producing a 3,4-dihydro-2H-benzopyran derivative represented by the following formula.
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