JPH0153878B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は新規な2′−デオキシ−５−フルオロウ
リジン誘導体に関する。 従来の技術 本発明誘導体は文献未載の新規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明者等は2′−デオキシ−５−フルオロウリ
ジンの抗腫瘍活性強化向上及び低毒性化を企てる
べく鋭意検討を重ねた結果、該2′−デオキシ−５
−フルオロウリジンの3′位又は5′位を特定の置換
基を有しもしくは有さないフエニル低級アルコキ
シ基又はフエニル低級アルケニルオキシ基又はナ
フチル低級アルコキシ基で置換した新規な化合物
の合成に成功すると共に、該化合物が上記目的に
合致した優れた制癌作用を発揮し、抗腫瘍剤とし
てきわめて有用であることを見い出した。 問題点を解決するための手段 本発明は、一般式 式中R¹はフエニル環上に低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、
低級アルコキシカルボニル基及びジ（低級アルキ
ル）アミノ基から選ばれる置換基を有することの
あるベンジル基又は置換基として低級アルキレン
ジオキシ基又はフエニル基を有するベンジル基又
はフエニル低級アルケニル基又はナフチル低級ア
ルキル基を示し、R²は水素原子又はアシル基を
示し、R³は水素原子、アシル基又はテトラヒド
ロフラニル基を示す。 但しR²及びR³の少なくとも一方はアシル基で
あり、該アシル基の少なくとも一方は、式 （式中R^xは置換基として水酸基、オキソ基、ハ
ロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、シアノ
基、ニトロ基、カルバモイル基、低級アルキルカ
ルバモイル基、カルボキシ低級アルキルカルバモ
イル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
カルバモイル基、フエニル環上に置換基としてハ
ロゲン原子、低級アルコキシ基及び低級アルキル
基を１〜３個有することのあるフエニルカルバモ
イル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルコキシカルボニル基、テトラヒドロフラニ
ル基、テトラヒドロピラニル基、低級アルコキシ
低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル
基、フエニル低級アルコキシ低級アルキル基、フ
タリジル基及びアシルオキシ基から選ばれた基の
１〜４個を有することのあるピリジル基を、Ｙは
アリーレン基を示す）で表されるピリジルオキシ
カルボニルアリーレンカルボニル基を示すものと
する。 で表わされる2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン誘導体に係る。 本明細書において、「低級アルキル」及び「低
級アルコキシ」なる語は、そのままで用いられた
場合も或は各種官能基中に含まれた形で用いられ
た場合も、夫々、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル基等の直鎖又は分枝の炭素数１〜６のアル
キル基及びメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ基等の直鎖又は分枝の
C₁−C₆アルコキシ基を例示するものとする。ま
た、本明細書において、「ハロゲン」なる語は、
そのままで用いられた場合も或は各種官能基中に
含まれた形で用いられた場合も、フツ素、塩素、
臭素、沃素等を例示するものとする。更に、本明
細書において、「低級アルキレンジオキシ」なる
語は、そのままで用いられた場合も各種官能基中
に含まれた形で用いられた場合も、メチレンジオ
キシ、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキ
シ、テトラメチレンジオキシ基等のC₁−C₄アル
キレンジオキシ基を例示するものとする。更に、
本明細書において、「低級アルケニル」なる語は、
そのままで用いられた場合も、各種官能基中に含
まれた形で用いられた場合も、ビニル、１−プロ
ペニル、アリル、イソプロペニル、１−ブテニ
ル、３−ブテニル、１−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘ
キセニル基等のC₂−C₆アルケニル基を例示する
ものとする。 置換ベンジル基の置換基としての低級アルキル
基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、
ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基を、低級アルコキシ基としては、例え
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルコキシ基を、またハロゲン原子と
しては、フツ素、塩素、臭素、沃素原子を夫々例
示できる。低級アルコキシカルボニル基として
は、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシ
カルボニル等の直鎖又は分枝の炭素数２〜７のア
ルコキシカルボニル基を例示できる。ジ（低級ア
ルキル）アミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジプロ
ピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−
ジペンチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ、
Ｎ−メチル，Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−メチル，Ｎ
−プロピルアミノ、Ｎ−メチル，Ｎ−ブチルアミ
ノ、Ｎ−メチル，Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−メチ
ル，Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−エチル、Ｎ−プロ
ピルアミノ基等の同一又は相異なる炭素数１〜６
のアルキル基を有するジアルキルアミノ基を例示
できる。 フエニル環上に、上記各置換基又はカルボキシ
ル基を有することのあるベンジル基としては、上
記置換基の１〜３個を有することのあるフエニル
基とメチレン基とが結合したベンジル基を例示で
きる。その具体例は次に示す通りである。 ベンジル、２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−エチルベンジ
ル、３−エチルベンジル、４−エチルベンジル、
２−プロピルベンジル、３−プロピルベンジル、
４−プロピルベンジル、２−ブチルベンジル、３
−ブチルベンジル、４−ブチルベンジル、２−ｔ
−ブチルベンジル、３−ｔ−ブチルベンジル、４
−ｔ−ブチルベンジル、２−ペンチルベンジル、
３−ペンチルベンジル、４−ペンチルベンジル、
２−ヘキシルベンジル、３−ヘキシルベンジル、
４−ヘキシルベンジル、２，３−ジメチルベンジ
ル、２，４−ジメチルベンジル、２，５−ジメチ
ルベンジル、２，６−ジメチルベンジル、３，４
−ジメチルベンジル、３，５−ジメチルベンジ
ル、２，３，４−トリメチルベンジル、２，４，
５−トリメチルベンジル、２，３，５−トリメチ
ルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、
３，４，５−トリメチルベンジル、２，３−ジエ
チルベンジル、２，４−ジエチルベンジル、２，
５−ジエチルベンジル、２，６−ジエチルベンジ
ル、２，４，６−トリエチルベンジル、２，４−
ジプロピルベンジル、３，４，５−トリエチルベ
ンジル、３−メチル−４−エチルベンジル、２−
メトキシベンジル、３−メトキシベンジル、４−
メトキシベンジル、２，３−ジメトキシベンジ
ル、２，４−ジメトキシベンジル、２，５−ジメ
トキシベンジル、３−メトキシ−４−エトキシベ
ンジル、２，６−ジメトキシベンジル、３，４−
ジメトキシベンジル、３，５−ジメトキシベンジ
ル、２，３，４−トリメトキシベンジル、２，
４，５−トリメトキシベンジル、２，３，５−ト
リメトキシベンジル、２，４，６−トリメトキシ
ベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジル、
２−エトキシベンジル、４−プロポキシベンジ
ル、３−ブトキシベンジル、２−ｔ−ブトキシベ
ンジル、３−ペンチルオキシベンジル、４−ヘキ
シルオキシベンジル、２，３−ジエトキシベンジ
ル、２−フルオロベンジル、３−フルオロベンジ
ル、４−フルオロベンジル、２，３−ジフルオロ
ベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、２，５
−ジフルオロベンジル、２−フルオロ−３−クロ
ロベンジル、２−フルオロ−３−ブロモベンジ
ル、２，６−ジフルオロベンジル、２，３，４−
トリフルオロベンジル、２，４，５−トリフルオ
ロベンジル、２，３，５−トリフルオロベンジ
ル、２，４，６−トリフルオロベンジル、３，
４，５−トリフルオロベンジル、２−ブロモベン
ジル、３−ブロモベンジル、４−ブロモベンジ
ル、２，３−ジブロモベンジル、２−ブロモ−３
−フルオロベンジル、２−フルオロ−４−ブロモ
ベンジル、２，４−ジブロモベンジル、２，５−
ジブロモベンジル、２，６−ジブロモベンジル、
２，３，４−トリブロモベンジル、２，４，５−
トリブロモベンジル、２，３，５−トリブロモベ
ンジル、２，４，６−トリブロモベンジル、３，
４，５−トリブロモベンジル、２−クロロベンジ
ル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、
２，３−ジクロロベンジル、２，４−ジクロロベ
ンジル、２，５−ジクロロベンジル、２，６−ジ
クロロベンジル、２−ブロモ−４−クロロベンジ
ル、２−フルオロ−４−クロロベンジル、２，
３，４−トリクロロベンジル、２，４，５−トリ
クロロベンジル、２，３，５−トリクロロベンジ
ル、２，４，６−トリクロロベンジル、３，４，
５−トリクロロベンジル、２−ヨードベンジル、
３−ヨードベンジル、４−ヨードベンジル、３，
４−ジヨードベンジル、３，４，５−トリヨード
ベンジル、２−カルボキシベンジル、３−カルボ
キシベンジル、４−カルボキシベンジル、２，３
−ジカルボキシベンジル、２，４−ジカルボキシ
ベンジル、２，５−ジカルボキシベンジル、２，
６−ジカルボキシベンジル、３，４−ジカルボキ
シベンジル、３，５−ジカルボキシベンジル、
２，３，４−トリカルボキシベンジル、２，４，
６−トリカルボキシベンジル、３，４，５−トリ
カルボキシベンジル、４−メトキシカルボニルベ
ンジル、３−メトキシカルボニルベンジル、２−
メトキシカルボニルベンジル、４−エトキシカル
ボニルベンジル、３−エトキシカルボニルベンジ
ル、２−エトキシカルボニルベンジル、４−プロ
ポキシカルボニルベンジル、４−ブトキシカルボ
ニルベンジル、４−ペンチルオキシカルボニルベ
ンジル、４−ヘキシルオキシカルボニルベンジ
ル、３，４−ジメトキシカルボニルベンジル、
２，４−ジメトキシカルボニルベンジル、３，５
−ジメトキシカルボニルベンジル、２，３，４−
トリメトキシカルボニルベンジル、３，４，５−
トリメトキシカルボニルベンジル、２−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ベンジル、３−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ベンジル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）ベンジル、４−（Ｎ，Ｎ−メチル，Ｎ
−エチルアミノ）ベンジル、２，４−ジ（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ベンジル、２，４，６−トリ
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル基等。 また上記一般式(1)中、R¹及びR²で定義される
置換基としての低級アルキレンジオキシ基又はフ
エニル基を有するベンジル基としては、例えば
２，３−メチレンジオキシベンジル、３，４−メ
チレンジオキシベンジル、２，３−エチレンジオ
キシベンジル、３，４−エチレンジオキシベンジ
ル、３，４−トリメチレンジオキシベンジル、
３，４−テトラメチレンジオキシベンジル、２−
フエニルベンジル、３−フエニルベンジル、４−
フエニルベンジル、基等の炭素数１〜４個のアル
キレンジオキシ基又はフエニル基が結合したフエ
ニル基とメチレン基とが結合したベンジルを例示
できる。 また、R¹で示されるフエニル低級アルケニル
基としては、２−フエニルビニル、３−フエニル
−１−プロペニル、３−フエニル−２−プロペニ
ル、４−フエニル−１−ブテニル、４−フエニル
−２−ブテニル、４−フエニル−３−ブテニル、
５−フエニル−４−ペンテニル、６−フエニル−
５−ヘキセニル等のフエニル−C₂−C₆アルケニ
ル基を例示できる。 また、R¹で示されるナフチル低級アルキル基
としては、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメ
チル、２−（α−ナフチル）エチル、３−（β−ナ
フチル）プロピル、４−（α−ナフチル）ブチル、
５−（β−ナフチル）ペンチル、６−（α−ナフチ
ル）ヘキシル、３−（α−ナフチル）−２−メチル
プロピル、１−（α−ナフチル）エチル基等のア
ルキル部分の炭素数が１〜６のナフチル低級アル
キル基を例示できる。 更に、本明細書中に開示され、特に、R²及び
R³で示されるアシル基としては、広く各種のも
のを包含し、例えば次の如きものを例示できる。 (i) ハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基、
アリールオキシ基、置換もしくは無置換アリー
ル基、フエニル低級アルコキシカルボニル基及
び低級アルキルカルバモイル基からなる群から
選ばれる基を置換基として有するか又は有さな
い炭素数１〜20のアルカノイル基。 (ii) アリール環上に置換基としてハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキ
シル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ
基、シアノ基、フエニル低級アルコキシカルボ
ニル基、水酸基、グアニジル基、フエニル低級
アルコキシ基、アミノ基及び低級アルキル基で
置換されたアミノ基からなる群から選ばれた置
換基の１〜３個又は低級アルキレンジオキシ基
を有することのあるアリールカルボニル基。 (iii) ヘテロ原子として窒素原子、硫黄原子又は酸
素原子を有する５員又は６員の不飽和ヘテロ環
カルボニル基。 (iv) アリールオキシカルボニル基、鎖状もしくは
環状のアルコキシカルボニル基等の炭酸エステ
ル残基。 (v) 置換又は未置換のシクロアルキルカルボニル
基。 (vi) 低級アルケニル（又は低級アルキニル）カル
ボニル基。 (vii) 低級アルケニル（又は低級アルキニル）オキ
シカルボニル基。 (viii) 式 〔式中R^xは置換基として水酸基、オキソ基、
ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、カルバモイル基、低級アル
キルカルバモイル基、カルボキシ低級アルキル
カルバモイル基、低級アルコキシカルボニル低
級アルキルカルバモイル基、フエニル環上に置
換基としてハロゲン原子、低級アルコキシ基及
び低級アルキル基を１〜３個有することのある
フエニルカルバモイル基、低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルコキシカルボニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピ
ラニル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低
級アルチルチオ−低級アルキル基、フエニル低
級アルコキシ低級アルキル基、フタリジル基及
びアシル部分が上記したR¹、R²、R³のアシル
基であるアシルオキシ基から選ばれた基の１〜
４個を有することのあるピリジル基を、Ｙはア
リーレン基を示す〕 で表わされるピリジルオキシカルボニルアリーレ
ンカルボニル基を包含する。之等各群に属する基
の具体例は次に示す通りである。 (i) ハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基、
アリールオキシ基、置換もしくは無置換アリー
ル基、フエニル低級アルコキシカルボニル基及
び低級アルキルカルバモイル基からなる群から
選ばれる基を置換基として有するか又は有さな
い炭素数１〜20のアルカノイル基。 ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイ
ル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイ
ル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイ
ル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペン
タデカノイル、ヘキサデカノイル、ヘプタデカ
ノイル、オクタデカノイル、ノナデカノイル、
エイコサノイル基等の炭素数１〜20の未置換ア
ルカノイル基；モノクロロアセチル、モノブロ
モアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロア
セチル、３−クロロプロピオニル、４−クロロ
ブチリル、５−クロロペンタノイル、６−クロ
ロヘキサノイル基等のハロゲン原子が１〜３個
置換した炭素数２〜６のアルカノイル基；ヒド
ロキシアセチル、３−ヒドロキシプロピオニ
ル、５−ヒドロキシペンタノイル、４−ヒドロ
キシブタノイル、６−ヒドロキシヘキサノイル
基等の水酸基置換の炭素数２〜６のアルカノイ
ル基；メトキシアセチル、エトキシアセチル、
３−プロポキシプロピオニル、６−ヘキシルオ
キシヘキサノイル、３−メトキシプロピオニル
基等の炭素数１〜６のアルコキシ置換の炭素数
２〜６のアルカノイル基；フエノキシアセチ
ル、２−フエノキシプロピオニル、３−フエノ
キシプロピオニル、４−フエノキシブチリル、
５−フエノキシペンタノイル、６−フエノキシ
ヘキサノイル、α−ナフチルオキシアセチル基
等のフエノキシ又はナフチルオキシ置換の炭素
数２〜６のアルカノイル基；α−フエニルアセ
チル、２−フエニルプロピオニル、３−フエニ
ルプロピオニル、４−フエニルブチリル、５−
フエニルペンタノイル、６−フエニルヘキサノ
イル、α−（２−クロロフエニル）アセチル、
α−（４−メチルフエニル）アセチル、α−
（３，４，５−トリメトキシフエニル）アセチ
ル、α−（３，４−ジメトキシフエニル）アセ
チル、６−（４−カルボキシフエニル）ヘキサ
ノイル、４−（４−エトキシカルボニルフエニ
ル）ペンタノイル、α−（４−ニトロフエニル）
アセチル、α−（４−シアノフエニル）アセチ
ル、α−ナフチルアセチル、β−ナフチルアセ
チル基等のアリール環（フエニル環、ナフチル
環等）上に置換基としてハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基及
びシアノ基からなる群から選ばれた基の１〜３
個を有するか有さないアリール置換の炭素数２
〜６のアルカノイル基；α−ベンジルオキシカ
ルボニルアセチル、２−ベンジルオキシカルボ
ニルプロピオニル、３−ベンジルオキシカルボ
ニルプロピオニル、４−ベンジルオキシカルボ
ニルブチリル、５−ベンジルオキシカルボニル
ペンタノイル、６−ベンジルオキシカルボニル
ヘキサノイル、３−（α−フエネチルオキシカ
ルボニル）プロピオニル、３−（β−フエネチ
ルオキシカルボニル）プロピオニル、５−（ベ
ンジルオキシカルボニル）ヘキサノイル、７−
（ベンジルオキシカルボニル）ヘプタノイル、
８−（α−フエネチルオキシカルボニル）オク
タノイル、９−（β−フエネチルオキシカルボ
ニル）ノナノイル、10−（ベンジルオキシカル
ボニル）デカノイル、11−（β−フエネチルオ
キシカルボニル）トリデカノイル、15−（ベン
ジルオキシカルボニル）ペンタデカノイル、17
−（ベンジルオキシカルボニル）ヘプタデカノ
イル、20−（ベンジルオキシカルボニル）エイ
コサノイル等のフエニル−C₂−C₇低級アルコ
キシカルボニル基を有する炭素数１〜20のアル
カノイル基；メチルカルバモイルアセチル、エ
チルカルバモイルアセチル、プロピルカルバモ
イルアセチル、ブチルカルバモイルアセチル、
ｔ−ブチルカルバモイルアセチル、ペンチルカ
ルバモイルアセチル、ヘキシルカルバモイルア
セチル、メチルカルバモイルプロピオニル、エ
チルカルバモイルブチリル、プロピルカルバモ
イルペンタノイル、エチルカルバモイルヘキサ
ノイル、エチルカルバモイルヘプタノイル、メ
チルカルバモイルオクタノイル、エチルカルバ
モイルノナイル、メチルカルバモイルデカノイ
ル、メチルカルバモイルトリデカノイル、エチ
ルカルバモイルペンタデカノイル、メチルカル
バモイルヘプタデカノイル、メチルカルバモイ
ルエイコサノイル等のアルキル部分が炭素数１
〜６の低級アルキルカルバモイル基を有する炭
素数１〜20のアルカノイル基等を例示できる。 (ii) アリール環上に置換基としてハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキ
シル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ
基、シアノ基、フエニル低級アルコキシカルボ
ニル基、水酸基、グアニジル基、フエニル低級
アルコキシ基、アミノ基及び低級アルキル基で
置換されたアミノ基からなる群から選ばれた置
換基の１〜３個又は低級アルキレンジオキシ基
を有することのあるアリールカルボニル基。 ベンゾイル、α−ナフチルカルボニル、β−
ナフチルカルボニル、２−メチルベンゾイル、
３−メチルベンゾイル、４−メチルベンゾイ
ル、２，４−ジメチルベンゾイル、３，４，５
−トリメチルベンゾイル、４−エチルベンゾイ
ル、２−メトキシベンゾイル、３−メトキシベ
ンゾイル、４−メトキシベンゾイル、２，４−
ジメトキシベンゾイル、３，４，５−トリメト
キシベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、２
−メトキシ−４−エトキシベンゾイル、２−プ
ロポキシベンゾイル、３−プロポキシベンゾイ
ル、４−プロポキシベンゾイル、２，４−ジプ
ロポキシベンゾイル、３，４，５−トリプロポ
キシベンゾイル、２−カルボキシベンゾイル、
３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベ
ンゾイル、２−クロロベンゾイル、３−クロロ
ベンゾイル、４−クロロベンゾイル、２，３−
ジクロロベンゾイル、２，４，６−トリクロロ
ベンゾイル、２−ブロモベンゾイル、４−フル
オロベンゾイル、２−メトキシカルボニルベン
ゾイル、３−メトキシカルボニルベンゾイル、
４−メトキシカルボニルベンゾイル、２−エト
キシカルボニルベンゾイル、３−エトキシカル
ボニルベンゾイル、４−エトキシカルボニルベ
ンゾイル、２−プロポキシカルボニルベンゾイ
ル、３−プロポキシカルボニルベンゾイル、４
−プロポキシカルボニルベンゾイル、２−イソ
プロポキシカルボニルベンゾイル、３−イソプ
ロポキシカルボニルベンゾイル、４−イソプロ
ポキシカルボニルベンゾイル、２−ブトキシカ
ルボニルベンゾイル、３−ブトキシカルボニル
ベンゾイル、４−ブトキシカルボニルベンゾイ
ル、２−ｔ−ブトキシカルボニルベンゾイル、
３−ｔ−ブトキシカルボニルベンゾイル、４−
ｔ−ブトキシカルボニルベンゾイル、２−ペン
チルオキシカルボニルベンゾイル、３−ペンチ
ルオキシカルボニルベンゾイル、４−ペンチル
オキシカルボニルベンゾイル、２−ヘキシルオ
キシカルボニルベンゾイル、３−ヘキシルオキ
シカルボニルベンゾイル、４−ヘキシルオキシ
カルボニルベンゾイル、３，５−ジメトキシカ
ルボニルベンゾイル、３，４，５−トリメトキ
シカルボニルベンゾイル、β−メチル−α−ナ
フチルカルボニル、α−メトキシ−β−ナフチ
ルカルボニル、β−クロロ−α−ナフチルカル
ボニル、２−シアノベンゾイル、４−シアノベ
ンゾイル、２−ニトロベンゾイル、４−ニトロ
ベンゾイル、２−ベンジルオキシカルボニルベ
ンゾイル、３−ベンジルオキシカルボニルベン
ゾイル、４−ベンジルオキシカルボニルベンゾ
イル、３−（α−フエネチルオキシカルボニル）
ベンゾイル、４−（β−フエネチルオキシカル
ボニル）ベンゾイル、４−（３−フエニルプロ
ポキシルカルボニル）ベンゾイル、４−（６−
フエニルヘキシルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル、２−ヒドロキシベンゾイル、３−ヒドロキ
シベンゾイル、２，３−ジヒドロキシベンゾイ
ル、３，４−ジヒドロキシベンゾイル、３，
４，５−トリヒドロキシベンゾイル、４−ヒド
ロキシベンゾイル、２−グアニジルベンゾイ
ル、３−グアニジルベンゾイル、４−グアニジ
ルベンゾイル、２−（ベンジルオキシ）ベンゾ
イル、３−（ベンジルオキシ）ベンゾイル、４
−（ベンジルオキシ）ベンゾイル、２−（α−フ
エネチルオキシ）ベンゾイル、３−（α−フエ
ネチルオキシ）ベンゾイル、４−（α−フエネ
チルオキシ）ベンゾイル、２−（β−フエネチ
ルオキシ）ベンゾイル、３−（β−フエネチル
オキシ）ベンゾイル、４−（β−フエネチルオ
キシ）ベンゾイル、４−（３−フエニルプロポ
キシ）ベンゾイル、４−（４−フエニルブトキ
シ）ベンゾイル、４−（５−フエニルペンチル
オキシ）ベンゾイル、４−（６−フエニルヘキ
シルオキシ）ベンゾイル、２−アミノベンゾイ
ル、３−アミノベンゾイル、４−アミノベンゾ
イル、２−メチルアミノベンゾイル、３−メチ
ルアミノベンゾイル、４−メチルアミノベンゾ
イル、２−エチルアミノベンゾイル、３−プロ
ピルアミノベンゾイル、４−ブチルアミノベン
ゾイル、３−ペンチルアミノベンゾイル、４−
ヘキシルアミノベンゾイル、２−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ベンゾイル、３−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ベンゾイル、３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−エチルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾイル、３−（Ｎ，
Ｎ−ジプロピルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ，
Ｎ−ジブチルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ，
Ｎ−ジペンチルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ，
Ｎ−ジヘキシルアミノ）ベンゾイル、３−ベン
ジルオキシカルボニル−１−ナフチルカルボニ
ル、６−（β−フエネチルオキシカルボニル）−
１−ナフチルカルボニル、４−ベンジルオキシ
カルボニル−２−ナフチルカルボニル、５−
（α−フエネチルオキシカルボニル）−２−ナフ
チルカルボニル、２−ヒドロキシ−１−ナフチ
ルカルボニル、３−ヒドロキシ−１−ナフチル
カルボニル、４−ヒドロキシ−１−ナフチルカ
ルボニル、５−ヒドロキシ−１−ナフチルカル
ボニル、６−ヒドロキシ−１−ナフチルカルボ
ニル、７−ヒドロキシ−１−ナフチルカルボニ
ル、８−ヒドロキシ−１−ナフチルカルボニ
ル、１−ヒドロキシ−２−ナフチルカルボニ
ル、４−ヒドロキシ−２−ナフチルカルボニ
ル、５−ヒドロキシ−２−ナフチルカルボニ
ル、７−ヒドロキシ−２−ナフチルカルボニ
ル、２−グアニジル−１−ナフチルカルボニ
ル、３−グアニジル−１−ナフチルカルボニ
ル、５−グアニジル−１−ナフチルカルボニ
ル、６−グアニジル−１−ナフチルカルボニ
ル、８−グアニジル−１−ナフチルカルボニ
ル、１−グアニジル−２−ナフチルカルボニ
ル、４−グアニジル−２−ナフチルカルボニ
ル、６−グアニジル−２−ナフチルカルボニ
ル、８−グアニジル−２−ナフチルカルボニ
ル、２−アミノ−１−ナフチルカルボニル、３
−アミノ−１−ナフチルカルボニル、４−アミ
ノ−１−ナフチルカルボニル、、６−アミノ−
１−ナフチルカルボニル、４−アミノ−２−ナ
フチルカルボニル、５−アミノ−１−ナフチル
カルボニル、７−アミノ−２−ナフチルカルボ
ニル、８−アミノ−２−ナフチルカルボニル、
３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−２−ナフチル
カルボニル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルア
ミノ）−１−ナフチルカルボニル、６−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）−１−ナフチルカルボニル、
７−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）−２−ナ
フチルカルボニル、８−（Ｎ−メチル−Ｎ−エ
チルアミノ）−１−ナフチルカルボニル、３，
４−メチレンジオキシベンゾイル、３，４−エ
チレンジオキシベンゾイル、２，３−メチレン
ジオキシベンゾイル基等の、置換基として低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、低
級アルコキシカルボニル基、フエニル低級アル
コキシカルボニル基、水酸基、グアニジル基、
フエニル低級アルコキシ基、アミノ基、及び低
級アルキル基で置換されたアミノ基からなる群
から選ばれた基を１〜３個又は低級アルキレン
ジオキシ基を有するか又は有さないフエニルカ
ルボニル又はナフチルカルボニルなどのアリー
ルカルボニル基を例示できる。 (iii) ヘテロ原子として窒素原子、硫黄原子又は酸
素原子を有する５員又は６員の不飽和ヘテロ環
カルボニル基。 ２−チエニルカルボニル、３−チエニルカル
ボニル、２−フラニルカルボニル、３−フラニ
ルカルボニル、４−チアゾリルカルボニル、２
−キノリルカルボニル、２−ピラジニルカルボ
ニル、２−ピリジルカルボニル、３−ピリジル
カルボニル、４−ピリジルカルボニル基などの
チエニルカルボニル、フラニルカルボニル、チ
アゾリルカルボニル、キノリルカルボニル、ピ
リジニルカルボニル、ピリジルカルボニル基等
を例示できる。 (iv) アリールオキシカルボニル基、鎖状もしくは
環状アルコキシカルボニル基等の炭酸エステル
残基。 フエノキシカルボニル、α−ナフチルオキシ
カルボニル、β−ナフチルオキシカルボニル、
２−メチルフエノキシカルボニル、３−メチル
フエノキシカルボニル、４−メチルフエノキシ
カルボニル、２，４−ジメチルフエノキシカル
ボニル、３，４，５−トリメチルフエノキシカ
ルボニル、４−エチルフエノキシカルボニル、
２−メトキシフエノキシカルボニル、３−メト
キシフエノキシカルボニル、４−メトキシフエ
ノキシカルボニル、２，４−ジメトキシフエノ
キシカルボニル、３，４，５−トリメトキシフ
エノキシカルボニル、４−エトキシフエノキシ
カルボニル、２−プロポキシフエノキシカルボ
ニル、３−プロポキシフエノキシカルボニル、
４−プロポキシフエシキシカルボニル、２，４
−ジプロポキシフエノキシカルボニル、３，
４，５−トリプロポキシフエノキシカルボニ
ル、２−クロロフエノキシカルボニル、３−ク
ロロフエノキシカルボニル、４−クロロフエノ
キシカルボニル、２，３−ジクロロフエノキシ
カルボニル、２，４，６−トリクロロフエノキ
シカルボニル、２−ブロモフエノキシカルボニ
ル、４−フルオロフエノキシカルボニル、β−
メチル−α−ナフチルオキシカルボニル、α−
メトキシ−β−ナフチルオキシカルボニル、β
−クロロ−α−ナフチルオキシカルボニル基等
のアリール環（フエニル環、ナフチル環等）上
に置換基としてハロゲン原子、低級アルコキシ
基及び低級アルキル基の１〜３個を有しもしく
は有さないアリールオキシカルボニル基；メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
ｔ−ブトキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル、シクロプロピルオキシカルボニ
ル、シクロブチルオキシカルボニル、シクロペ
ンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキ
シカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニ
ル、シクロオクチルオキシルカルボニル基等の
アルキル部分の炭素数が１〜８である鎖状又は
環状のアルコキシカルボニル基等を例示でき
る。 (v) 置換又は未置換のシクロアルキルカルボニル
基。 シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカ
ルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロ
ヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニ
ル、シクロオクチルカルボニル、２−クロロシ
クロヘキシルカルボニル、３−ヒドロキシシク
ロペンチルカルボニル、３−メチルシクロヘキ
シルカルボニル、４−メトキシシクロヘキシル
カルボニル基等のシクロアルキル環上の置換基
としてハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ
基又は低級アルキル基を有することがあり、且
つシクロアルキル環の炭素数が３〜８であるシ
クロアルキルカルボニル基を例示できる。 (vi) 低級アルケニル（又は低級アルキニル）カル
ボニル基。 ビニルカルボニル、アリルカルボニル、２−
ブテニルカルボニル、３−ブテニルカルボニ
ル、１−メチルアリルカルボニル、２−ペンテ
ニルカルボニル、３−ヘキセニルカルボニル、
エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル、
２−ブチニルカルボニル、１−メチル−３−ペ
ンチニルカルボニル、４−ヘキシニルカルボニ
ル基等の炭素数２〜６のアルケニル基又はアル
キニル基を有するカルボニル基を例示できる。 (vii) 低級アルケニル（又は低級アルキニル）オキ
シカルボニル基。 ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニル、２−ブテニルオキシカルボニル、３−
ブテニルオキシカルボニル、２−ヘキセニルオ
キシカルボニル、１−メチルアリルオキシカル
ボニル、２−ペンテニルオキシカルボニル、３
−ヘキセニルオキシカルボニル、エチニルオキ
シカルボニル、プロピニルオキシカルボニル、
２−ブチニルオキシカルボニル、１−メチル−
３−ペンチニルオキシカルボニル、４−ヘキシ
ニルオキシカルボニル基等の炭素数２〜６のア
ルケニルオキシ基又はアルキニルオキシ基を有
するカルボニル基を例示できる。 (viii) 式（Ｙ）で表わされるピリジルオキシカルボ
ニルアリーレンカルボニル基。 R^xで示される置換ピリジル基における置換
基としては、次のものを例示できる。低級アル
キルカルバモイル基としては、Ｎ−メチルカル
バモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロ
ピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモ
イル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ｔ−ブチ
ルカルバモイル、Ｎ−ペンチルカルバモイル、
Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ−イ
ソプロピル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−メチル−
Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ
−ペンチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジペンチル
カルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルカル
バモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルカルバモ
イル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−ペンチルカルバモイ
ル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイル基等の炭
素数１〜６のアルキル基の１〜２個を有するア
ルキルカルバモイル基を例示できる。 フエニル環上に置換基として、ハロゲン原子、
低級アルキル基及び低級アルコキシ基を１〜３個
有することのあるフエニルカルバモイル基として
は、Ｎ−（２−クロルフエニル）カルバモイル、
Ｎ−（３，５−ジクロルフエニル）カルバモイル、
Ｎ−（３−メトキシフエニル）カルバモイル、Ｎ
−（４−プロポキシフエニル）カルバモイル、Ｎ
−（２−メチルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（４
−エチルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（３−イ
ソプロピルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（４−
ヘキシルフエニル）カルバモイル、Ｎ−フエニル
カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフエニルカルバモイル
基等のフエニル環上に置換基としてハロゲン原
子、炭素数１〜６のアルコキシ基及び炭素数１〜
６のアルキル基を１〜３個有することのあるフエ
ニル基が１個又は２個置換されたカルバモイル基
を例示できる。 低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、
２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチルアリ
ル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の炭素
数２〜６のアルケニル基を例示できる。 低級アルコキシカルボニル基としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
基等の炭素数１〜６のアルコキシ基を有するカル
ボニル基を例示できる。 テトラヒドロフラニル基としては、２−テトラ
ヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル基を
例示できる。 低級アルコキシ低級アルキル基としては、メト
キシメチル、３−メトキシプロピル、４−エトキ
シブチル、６−プロポキシヘキシル、５−イソプ
ロポキシペンチル、１，１−ジメチル−２−ブト
キシエチル、２−メチル−３−ｔ−ブトキシプロ
ピル、２−ペンチルオキシエチル、２−ヘキシル
オキシエチル基等のアルコキシ部分及びアルキル
部分が夫々炭素数１〜６であるアルコキシアルキ
ル基を例示できる。 フエニル低級アルコキシ低級アルキル基として
は、フエニル基を有する上記例示の低級アルコキ
シ低級アルキル基の他、ベンジルオキシメチル、
２−ベンジルオキシエチル、５−（２−フエニル
ペンチルオキシ）ペンチル、６−ベンジルオキシ
ヘキシル、４−ヘキシルオキシヘキシル、フエニ
ルメトキシメチル、２−フエニルエトキシメチ
ル、２−（フエニルメトキシ）エチル、２−（フエ
ニルメトキシ）プロピル、４−（フエニルメトキ
シ）ブチル、５−（フエニルメトキシ）ペンチル、
６−（フエニルメトキシ）ヘキシル、２−（２−フ
エニルエトキシ）エチル、２−（４−フエニルブ
トキシ）エチル、４−（４−フエニルブトキシ）
ブチル、６−フエニルメトキシヘキシル基等の、
フエニル基を置換基として有しており、且つアル
コキシ部分及びアルキル部分が夫々炭素数１〜６
であるフエニルアルコキシアルキル基を例示でき
る。 低級アルコキシカルボニル低級アルキルカルバ
モイル基としては、メトキシカルボニルメチルカ
ルバモイル、３−メトキシカルボニルプロピルカ
ルバモイル、エトキシカルボニルメチルカルバモ
イル、プロポキシカルボニルメチルカルバモイ
ル、イソプロポキシカルボニルメチルカルバモイ
ル、ブトキシカルボニルメチルカルバモイル、ｔ
−ブトキシカルボニルメチルカルバモイル、ペン
チルオキシカルボニルメチルカルバモイル、ヘキ
シルオキシカルボニルメチルカルバモイル、２−
メトキシカルボニルエチルカルバモイル、２−メ
トキシカルボニル−１−メチルエチルカルバモイ
ル、４−メトキシカルボニルブチルカルバモイ
ル、２−メトキシカルボニル−１，１−ジメチル
エチルカルバモイル、５−メトキシカルボニルペ
ンチルカルバモイル、６−メトキシカルボニルヘ
キシルカルバモイル、２−エトキシカルボニルエ
チルカルバモイル、４−エトキシカルボニルブチ
ルカルバモイル、６−プロポキシカルボニルヘキ
シルカルバモイル、５−イソプロポキシカルボニ
ルペンチルカルバモイル、１，１−ジメチル−２
−ブトキシカルボニルエチルカルバモイル、２−
メチル−３−ｔ−ブトキシカルボニルプロピルカ
ルバモイル、２−ペンチルオキシカルボニルエチ
ルカルバモイル、ヘキシルオキシカルボニルエチ
ルカルバモイル基等のアルコキシ部分が炭素数１
〜６であつて且つアルキル部分が炭素数１〜６で
あるアルコキシカルボニルアルキル基が１個置換
されたカルバモイル基を例示できる。 カルボニル低級アルキルカルバモイル基として
は、Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル、Ｎ
−（２−カルボキシエチル）カルバモイル、Ｎ−
（３−カルボキシプロピル）カルバモイル、Ｎ−
（２−メチル−２−カルボキシエチル）−カルバモ
イル、Ｎ−（４−カルボキシブチル）カルバモイ
ル、Ｎ−（２−メチル−３−カルボキシプロピル）
カルバモイル、Ｎ−（２，２−ジメチル−２−カ
ルボキシエチル）カルバモイル、Ｎ−（５−カル
ボキシペンチル）カルバモイル、Ｎ−（６−カル
ボキシヘキシル）カルバモイル基等のカルボキシ
−C₁−C₆アルキルカルバモイル基を例示できる。 テトラヒドロピラニル基としては、２−テトラ
ヒドロピラニル、３−テトラヒドロピラニル、４
−テトラヒドロピラニル基等を例示できる。 低級アルキルチオ低級アルキル基としては、メ
チルチオメチル、エチルチオメチル、プロピルチ
オメチル、ブチルチオメチル、ｔ−ブチルチオメ
チル、ペンチルチオメチル、ヘキシルチオメチ
ル、メチルチオエチル、メチルチオプロピル、メ
チルチオブチル、メチルチオペンチル、メチルチ
オヘキシル、エチルチオエチル、エチルチオブチ
ル、プロピルチオヘキシル基等のC₁−C₆アルキ
ルチオ−C₁−C₆アルキル基を例示できる。 アシルオキシ基としては、アシル部分が前記
R¹、R²及びR³で示されるアシル基であるアシル
オキシ基であるが、好ましくは、アシル部分が前
記(i)〜(vii)に記載のアシル基であるアシルオキシ基
を例示できる。 これらピリジン環の置換基のうち水酸基、ハロ
ゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、シアノ
基、ニトロ基、オキソ基、低級アルキル基、低級
アルケニル基、低級アルコキシカルボニル基、カ
ルバモイル基及びアシルオキシ基は、好ましくは
ピリジン環の２位、３位、４位、５位及び６位の
いずれかの位置に、１〜４個置換する。またピリ
ジン環上の置換基のうち、カルバモイル基、低級
アルキルカルバモイル基、フエニル環上に置換基
としてハロゲン原子、低級アルコキシ基及び低級
アルキル基を１〜３個有することのあるフエニル
カルバモイル基、テトラヒドロフラニル基、フタ
リジル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フエ
ニル基を有する低級アルコキシ低級アルキル基及
び低級アルコキシカルボニル低級アルキルカルバ
モイル基は、好ましくはピリジン環の１位に結合
する。 式（Ｙ）で示される基の好ましい例としては、
式 〔式中、R^x1は、ヒドキシ基又はアシルオキシ基
を、R^x2及びR^x4は、夫々水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基、カルバモイル
基、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級
アルケニル基又は低級アルコキシカルボニル基
を、R^x3及びR^x5は、夫々水素原子、ヒドロキシ
基又はアシルオキシ基を示し、R^x1、R^x3及びR^x5
の少なくとも１つが遊離のヒドロキシル基である
場合、ピリジン環の１−位はケト・エノール互変
異性により

【式】なる構造をとることができ、 該水素原子は、低級アルキル基、テトラヒドロフ
ラニル基、テトラヒドロピラニル基、低級アルコ
キシ低級アルキル基、フタリジル基、カルバモイ
ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキルカ
ルバモイル基、フエニル低級アルコキシ低級アル
キル基、フエニル環上にハロゲン原子、低級アル
コキシ基及び低級アルキル基から選ばれた置換基
を１〜３個有することのあるフエニルカルバモイ
ル基、低級アルキルカルバモイル基、カルボキシ
ル低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルチ
オ低級アルキル基及び低級アルケニル基からなる
群から選ばれた置換基で置換されていてもよい。
但し、R^x1、R^x3及びR^x5の少なくとも１つはヒド
ロキシ基を示し、これらR^x1、R^x3又はR^x5で示さ
れる１つのヒドロキシ基の水素原子が基

【式】（式中、Ｙは上記に同じ）で置 換されているものとする。〕で表わされるもので
ある。 より好ましい式（Ｙ）で示される基は、式（Ｙ
−ａ）において、R^x4がハロゲン原子、アミノ
基、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルケニル
基又は低級アルコキシカルボニル基を示すもので
ある。 最も好ましい式（Ｙ）の基は、式（Ｙ−ａ）に
おいて、R^x4がハロゲン原子又はシアノ基を示す
ものである。 上記各種の置換基を有することのある、R^xで
示されるピリジル基の具体例としては、次の各基
を例示できる。 ２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
２−ヒドロキシ−３−ピリジル、２−ヒドロキシ
−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−ピリジ
ル、２−ヒドロキシ−６−ピリジル、２−ヒドロ
キシ−５−クロロ−３−ピリジル、２−ヒドロキ
シ−５−クロロ−４−ピリジル、４−ヒドロキシ
−５−クロロ−２−ピリジル、２−ヒドロキシ−
５−クロロ−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−５
−フルオロ−４−ピリジル、４−ヒドロキシ−５
−フルオロ−２−ピリジル、２−ヒドロキシ−５
−フルオロ−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−５
−ブロモ−４−ピリジル、４−ヒドロキシ−５−
ブロモ−２−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−ブ
ロモ−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−ヨー
ド−４−ピリジル、４−ヒドロキシ−５−ヨード
−２−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−ヨード−
６−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−ブロモ−４
−ピリジル、４−ヒドロキシ−３−ブロモ−２−
ピリジル、２−ヒドロキシ−３−クロロ−４−ピ
リジル、４−ヒドロキシ−３−クロロ−２−ピリ
ジル、２−ヒドロキシ−３−クロロ−６−ピリジ
ル、２−ヒドロキシ−４−クロロ−６−ピリジ
ル、１−（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−
ジヒドロ−２−オキソ−３−ピリジル、１−（２
−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒドロ−
２−オキソ−４−ピリジル、１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）−１，２−ジヒドロ−２−オキソ
−５−ピリジル、１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−ピリ
ジル、１−（３−テトラヒドロフラニル）−１，２
−ジヒドロ−２−オキソ−４−ピリジル、１−
（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒドロ
−２−オキソ−５−クロロ−４−ピリジル、１−
（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒドロ
−２−オキソ−５−クロロ−６−ピリジル、１−
（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒドロ
−２−オキソ−５−フルオロ−４−ピリジル、１
−（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒド
ロ−２−オキソ−５−ブロモ−４−ピリジル、１
−（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒド
ロ−２−オキソ−５−ヨード−４−ピリジル、１
−（３−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒド
ロ−２−オキソ−５−クロロ−４−ピリジル、１
−（２−テトラヒドロフラニル）−１，２−ジヒド
ロ−２−オキソ−３−クロロ−４−ピリジル、１
−エトキシメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキ
ソ−３−ピリジル、１−エトキシメチル−１，２
−ジヒドロ−２−オキソ−４−ピリジル、１−エ
トキシメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−
５−ピリジル、１−エトキシメチル−１，２−ジ
ヒドロ−２−オキソ−６−ピリジル、１−メトキ
シメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４−
ピリジル、１−（２−メトキシエチル）−１，２−
ジヒドロ−２−オキソ−４−ピリジル、１−エト
キシメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−５
−クロロ−３−ピリジル、１−エトキシメチル−
１，２−ジヒドロ−２−オキソ−５−クロロ−４
−ピリジル、１−エトキシメチル−１，２−ジヒ
ドロ−２−オキソ−５−クロロ−６−ピリジル、
１−エトキシメチル−１，２−ジヒドロ−２−オ
キソ−５−フルオロ−４−ピリジル、１−エトキ
シメチル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−５−
ブロモ−４−ピリジル、１−エトキシメチル−
１，２−ジヒドロ−２−オキソ−５−ヨード−４
−ピリジル、１−メトキシメチル−１，２−ジヒ
ドロ−２−オキソ−５−クロロ−４−ピリジル、
１−（２−エトキシエチル）−１，２−ジヒドロ−
２−オキソ−５−クロロ−４−ピリジル、１−
（２−エトキシメチル−１，２−ジヒドロ−２−
オキソ−３−クロロ−４−ピリジル、２−アセチ
ルオキシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−アセ
チルオキシ−５−フルオロ−４−ピリジル、２−
アセチルオキシ−５−ブロモ−４−ピリジル、２
−アセチルオキシ−５−ヨード−４−ピリジル、
２−アセチルオキシ−５−メチル−４−ピリジ
ル、２−アセチルオキシ−５−シアノ−４−ピリ
ジル、２−アセチルオキシ−５−ニトロ−４−ピ
リジル、２−アセチルオキシ−５−カルボキシ−
４−ピリジル、２−プロパノイルオキシ−５−ク
ロロ−４−ピリジル、２−ブタノイルオキシ−５
−クロロ−４−ピリジル、２−イソブタノイルオ
キシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−ペンタノ
イルオキシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−ヘ
キサノイルオキシ−５−クロロ−４−ピリジル、
３−アセチルオキシ−５−クロロ−４−ピリジ
ル、２−アセチルオキシ−３−クロロ−４−ピリ
ジル、４−アセチルオキシ−５−クロロ−２−ピ
リジル、４−アセチルオキシ−５−フルオロ−２
−ピリジル、４−アセチルオキシ−５−ブロモ−
２−ピリジル、４−アセチルオキシ−５−ヨード
−２−ピリジル、４−アセチルオキシ−５−メチ
ル−２−ピリジル、４−アセチルオキシ−５−シ
アノ−２−ピリジル、４−アセチルオキシ−５−
ニトロ−２−ピリジル、４−アセチルオキシ−５
−カルボキシ−２−ピリジル、６−アセチルオキ
シ−５−クロロ−２−ピリジル、４−プロパノイ
ルオキシ−５−クロロ−２−ピリジル、４−ブタ
ノイルオキシ−５−クロロ−２−ピリジル、４−
イソブタノイルオキシ−５−クロロ−２−ピリジ
ル、４−ペンタノイルオキシ−５−クロロ−２−
ピリジル、４−ヘキサノイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジル、４−アセチルオキシ−３−クロ
ロ−２−ピリジル、３−アセチルオキシ−５−ク
ロロ−２−ピリジル、２−アセチルオキシ−４−
ピリジル、２−プロパノイルオキシ−４−ピリジ
ル、２−ヘキサノイルオキシ−４−ピリジル、４
−アセチルオキシ−２−ピリジル、４−プロパノ
イルオキシ−２−ピリジル、４−ヘキサノイルオ
キシ−２−ピリジル、２−メトキシカルボニルオ
キシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−メトキシ
カルボニルオキシ−６−クロロ−４−ピリジル、
２−エトキシカルボニルオキシ−３−クロロ−４
−ピリジル、２−エトキシカルボニルオキシ−５
−クロロ−４−ピリジル、２−エトキシカルボニ
ルオキシ−５−フルオロ−４−ピリジル、２−エ
トキシカルボニルオキシ−５−ブロモ−４−ピリ
ジル、２−エトキシカルボニルオキシ−６−クロ
ロ−４−ピリジル、２−エトキシカルボニルオキ
シ−５−クロロ−３−ピリジル、２−エトキシカ
ルボニルオキシ−５−クロロ−６−ピリジル、２
−プロポキシカルボニルオキシ−５−クロロ−４
−ピリジル、２−ヘキシルオキシカルボニルオキ
シ−５−クロロ−４−ピリジル、２−ベンゾイル
オキシ−４−ピリジル、３−ベンゾイルオキシ−
４−ピリジル、４−ベンゾイルオキシ−２−ピリ
ジル、３−ベンゾイルオキシ−２−ピリジル、２
−（２−メチルベンゾイル）オキシ−４−ピリジ
ル、２−（３−メチルベンゾイル）オキシ−４−
ピリジル、２−（４−メチルベンゾイル）オキシ
−４−ピリジル、２−（４−エチルベンゾイル）
オキシ−４−ピリジル、２−（２−クロロベンゾ
イル）オキシ−４−ピリジル、２−（３−クロロ
ベンゾイル）オキシ−４−ピリジル、２−（４−
クロロベンゾイル）オキシ−４−ピリジル、２−
（４−フルオロベンゾイル）オキシ−４−ピリジ
ル、２−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）オキシ−
４−ピリジル、２−（４−ヘキシルベンゾイル）
オキシ−４−ピリジル、４−（２−メチルベンゾ
イル）オキシ−２−ピリジル、４−（４−エチル
ベンゾイル）オキシ−２−ピリジル、４−（３−
クロロベンゾイル）オキシ−２−ピリジル、４−
（４−フルオロベンゾイル）オキシ−２−ピリジ
ル、４−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）オキシ−
２−ピリジル、２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジル、２−ベンゾイルオキシ−５−
フルオロ−４−ピリジル、２−ベンゾイルオキシ
−５−ブロモ−４−ピリジル、２−ベンゾイルオ
キシ−５−ヨード−４−ピリジル、２−ベンゾイ
ルオキシ−５−メチル−４−ピリジル、２−ベン
ゾイルオキシ−５−シアノ−４−ピリジル、２−
ベンゾイルオキシ−５−ニトロ−４−ピリジル、
２−ベンゾイルオキシ−５−カルボキシ−４−ピ
リジル、３−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４
−ピリジル、２−ベンゾイルオキシ−３−クロロ
−４−ピリジル、２−（２−メチルベンゾイル）
オキシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−（３−
メチルベンゾイル）オキシ−５−クロロ−４−ピ
リジル、２−（４−メチルベンゾイル）オキシ−
５−クロロ−４−ピリジル、２−（３，４，５−
トリメチルベンゾイル）オキシ−５−クロロ−４
−ピリジル、２−（４−エチルベンゾイル）オキ
シ−５−クロロ−４−ピリジル、２−（４−ｔ−
ブチルベンゾイル）オキシ−５−フルオロ−４−
ピリジル、２−（４−ヘキシルベンゾイル）オキ
シ−５−ブロモ−４−ピリジル、２−（２−クロ
ロベンゾイル）オキシ−５−クロロ−４−ピリジ
ル、２−（３−クロロベンゾイル）オキシ−５−
クロロ−４−ピリジル、２−（４−クロロベンゾ
イル）オキシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−
（４−フルオロベンゾイル）オキシ−５−クロロ
−４−ピリジル、２−（２，４−ジクロロベンゾ
イル）オキシ−５−クロロ−４−ピリジル、２−
（３，４，５−トリクロロベンゾイル）オキシ−
５−クロロ−４−ピリジル、２−（２−メトキシ
ベンゾイル）オキシ−５−クロロ−４−ピリジ
ル、２−（３−メトキシベンゾイル）オキシ−５
−クロロ−４−ピリジル、２−（４−メトキシベ
ンゾイル）オキシ−５−クロロ−４−ピリジル、
２−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）オ
キシ−５−クロロ−４−ピリジル、４−ベンゾイ
ルオキシ−５−クロロ−２−ピリジル、４−ベン
ゾイルオキシ−５−フルオロ−２−ピリジル、４
−ベンゾイルオキシ−５−ブロモ−２−ピリジ
ル、４−ベンゾイルオキシ−５−ヨード−２−ピ
リジル、４−ベンゾイルオキシ−５−メチル−２
−ピリジル、４−ベンゾイルオキシ−５−シアノ
−２−ピリジル、４−ベンゾイルオキシ−５−ニ
トロ−２−ピリジル、４−ベンゾイルオキシ−５
−カルボキシ−２−ピリジル、３−ベンゾイルオ
キシ−５−クロロ−２−ピリジル、６−ベンゾイ
ルオキシ−５−クロロ−２−ピリジル、４−（４
−メチルベンゾイル）オキシ−５−クロロ−２−
ピリジル、４−（２，４−ジメチルベンゾイル）
オキシ−５−クロロ−２−ピリジル、４−（３，
４，５−トリメチルベンゾイル）オキシ−５−ク
ロロ−２−ピリジル、４−（２−クロロベンゾイ
ル）オキシ−５−クロロ−２−ピリジル、４−
（２，４−ジクロロベンゾイル）オキシ−５−ク
ロロ−２−ピリジル、４−（４−メトキシベンゾ
イル）オキシ−５−クロロ−２−ピリジル、１−
フタリジル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−３
−ピリジル、１−フタリジル−１，２−ジヒドロ
−２−オキソ−４−ピリジル、１−フタリジル−
１，２−ジヒドロ−２−オキソ−５−ピリジル、
１−フタリジル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ
−６−ピリジル、１−カルボメトキシメチルカル
バモイル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−３−
ピリジル、１−カルボメトキシメチルカルバモイ
ル−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４−ピリジ
ル、１−カルボメトキシメチルカルバモイル−
１，２−ジヒドロ−２−オキソ−５−ピリジル、
１−カルボメトキシメチルカルバモイル−１，２
−ジヒドロ−２−オキソ−６−ピリジル、１−カ
ルボエトキシメチルカルバモイル−１，２−ジヒ
ドロ−２−オキソ−４−ピリジル、２−ヒドロキ
シ−５−メチル−３−ピリジル、２−ヒドロキシ
−５−メチル−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−
５−メチル−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−５
−エチル−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−
メチル−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−シ
アノ−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−シア
ノ−５−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−シアノ
−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−シアノ−
６−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−ニトロ−４
−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−ニトロ−５−
ピリジル、２−ヒドロキシ−５−ニトロ−６−ピ
リジル、２−ヒドロキシ−６−ニトロ−４−ピリ
ジル、２−ヒドロキシ−５−カルボキシ−３−ピ
リジル、２−ヒドロキシ−５−カルボキシ−４−
ピリジル、２−ヒドロキシ−５−カルボキシ−６
−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−カルボキシ−
４−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−エトキシカ
ルボニル−３−ピリジル、２−ヒドロキシ−５−
エトキシカルボニル−４−ピリジル、２−ヒドロ
キシ−５−エトキシカルボニル−６−ピリジル、
２−ヒドロキシ−３−エトキシカルボニル−４−
ピリジル、２−ヒドロキシ−３，５−ジクロロ−
４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３，５−ジクロ
ロ−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−３，５−ジ
ブロモ−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３，５
−ジブロモ−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−３
−アミノ−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−
アミノ−５−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−ア
ミノ−６−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−カル
バモイル−４−ピリジル、２−ヒドロキシ−３−
カルバモイル−５−ピリジル、２−ヒドロキシ−
３−カルバモイル−６−ピリジル、２，４−ジヒ
ドロキシ−６−ピリジル、２，６−ジヒドロキシ
−４−ピリジル、１，２−ジヒドロ−２−オキソ
−４−ピリジル、１，６−ジヒドロ−６−オキソ
−２−ピリジル、１−（ベンジルオキシメチル）−
５−クロロ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４
−ピリジル、１−（ベンジルオキシメチル）−５−
フルオロ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６−
ピリジル、１−（β−フエネチルオキシメチル）−
５−ブロモ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４
−ピリジル、１−（２−ベンジルオキシエチル）−
５−クロロ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４
−ピリジル、５−クロロ−４−｛ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ベンゾイルオキシ｝−２−ピリジ
ル、５−ブロモ−４−｛ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ）ベンゾイルオキシ｝−２−ピリジル、５−
クロロ−４−｛ｐ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベ
ンゾイルオキシ｝−３−ピリジル、５−クロロ−
４−｛ｐ−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）ベン
ゾイルオキシ｝−２−ピリジル、５−フルオロ−
４−｛ｏ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾイル
オキシ｝−２−ピリジル、５−フルオロ−４−ヘ
キサノイルオキシ−２−ピリジル、５−ブロモ−
４−ヘキサノイルオキシ−２−ピリジル、５−ヨ
ード−４−ヘキサノイルオキシ−２−ピリジル、
５−フルオロ−４−オクタデカノイルオキシ−２
−ピリジル、５−クロロ−４−オクタデカノイル
オキシ−２−ピリジル、５−ブロモ−４−オクタ
デカノイルオキシ−２−ピリジル、５−ヨード−
４−オクタデカノイルオキシ−２−ピリジル、５
−フルオロ−４−（２−フロイルオキシ）−２−ピ
リジル、５−クロロ−４−（２−フロイルオキシ）
−２−ピリジル、５−ブロモ−４−（２−フロイ
ルオキシ）−２−ピリジル、５−ヨード−４−（２
−フロイルオキシ）−２−ピリジル、５−クロロ
−４−（３−フロイルオキシ）−２−ピリジル、５
−ブロモ−４−（３−フロイルオキシ）−２−ピリ
ジル、５−フルオロ−４−（２−テノイルオキシ）
−２−ピリジル、５−クロロ−４−（２−テノイ
ルオキシ）−２−ピリジル、５−ブロモ−４−（２
−テノイルオキシ）−２−ピリジル、５−ヨード
−４−（２−テノイルオキシ）−２−ピリジル、５
−クロロ−４−（３−テノイルオキシ）−２−ピリ
ジル、５−ヨード−４−（３−テノイルオキシ）−
２−ピリジル、４−（１−ナフトイルオキシ）−２
−ピリジル、４−（２−ナフトイルオキシ）−２−
ピリジル、５−（１−ナフトイルオキシ）−２−ピ
リジル、５−（２−ナフトイルオキシ）−２−ピリ
ジル、６−（２−ナフトイルオキシ）−２−ピリジ
ル、３−シアノ−６−（２−テノイルオキシ）−２
−ピリジル、３−シアノ−６−（３−テノイルオ
キシ）−２−ピリジル、４−シアノ−６−（２−テ
ノイルオキシ）−２−ピリジル、６−ベンゾイル
オキシ−３−シアノ−２−ピリジル、６−（２−
クロロベンゾイルオキシ）−３−シアノ−２−ピ
リジル、６−（４−フルオロベンゾイルオキシ）−
３−シアノ−２−ピリジル、６−（２，４−ジク
ロロベンゾイルオキシ）−３−シアノ−２−ピリ
ジル、６−（２−メチルベンゾイルオキシ）−３−
シアノ−２−ピリジル、６−（３−メチルベンゾ
イルオキシ）−３−シアノ−２−ピリジル、６−
（４−メチルベンゾイルオキシ）−３−シアノ−２
−ピリジル、６−（２，３，４−トリメトキシベ
ンゾイルオキシ）−３−シアノ−２−ピリジル、
６−（２−フロイルオキシ）−３−シアノ−２−ピ
リジル、６−ベンゾイルオキシ−３−クロロ−２
−ピリジル、６−（３，４，５−トリメトキシベ
ンゾイルオキシ）−３−シアノ−２−ピリジル、
６−（４−フルオロベンゾイルオキシ）−３−クロ
ロ−２−ピリジル基等。 また前記式（Ｙ）で表わされるピリジルオキシ
カルボニルアリーレンカルボニル基におけるＹで
示されるアリーレン基としては、芳香族炭化水素
又は環内に窒素原子及び酸素原子から選ばれた同
一又は相異なるヘテロ原子を１〜２個有する５員
又は６員の芳香族複数環の異なる炭素原子に結合
する水素原子を１個づつ除いてできる２価基を示
す。該アリーレン基の例としては、１，２−フエ
ニレン、１，３−フエニレン、１，４−フエニレ
ンなどのフエニレン基、１，２−ナフチレン、
１，３−ナフチレン、１，４−ナフチレン、１，
５−ナフチレン、１，６−ナフチレン、１，７−
ナフチレン、１，８−ナフチレンなどのナフチレ
ン基、２，３−ピリジンジイル、２，４−ピリジ
ンジイル、２，５−ピリジンジイル、２，６−ピ
リジンジイル、３，４−ピリジンジイル、３，５
−ピリジンジイルなどのピリジンジイル基、２，
３−ピラジンジイル、２，６−ピラジンジイル、
２，５−ピラジンジイル等のピラジンジイル基、
２，３−フランジイル、３，４−フランジイル、
２，５−フランジイルなどのフランジイル基、４
−ピリドン−１−メチル−２，３−ジイル、４−
ピリドン−１−メチル−２，５−ジイル、４−ピ
リドン−１−メチル−２，６−ジイルなどの４−
ピリドン−１−低級アルキル−ジイル基等を例示
できる。 前記式（Ｙ）で表わされる基を有する本発明化
合物には、ケト−エノール型の互変異性体が存在
し、本発明はこれら異性体を当然に包含する。 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物は、下
記反応工程式ａ〜ｄに示す方法により製造するこ
とができる。 ＜反応工程式ａ＞ 〔式中R³は前記に同じ。R⁴は水素原子であり、
R⁵は水素原子又はアシル基又は保護基を示す。
Ｒはフエニル環上に低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基及びジ（低級アルキル）ア
ミノ基から選ばれる置換基を有することのあるベ
ンジル基又は置換基として低級アルキレンジオキ
シ基又はフエニル基を有するベンジル基又はフエ
ニル低級アルケニル基又はナフチル低級アルキル
基を示す。R^1aは上記Ｒと同一基であり、R^2aは
水素原子又はアシル基を示す。Ｘはハロゲン原子
を示す。〕 上記においてR⁴又はR⁵で示される保護基には、
下記の各基が包含される。 (A) 一般式 〔式中Arはアリール基を示す〕 で表わされるトリアリール置換メチル基。該基
としては、置換基としてハロゲン原子、ニトロ
基、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を有
することのあるフエニル基等のアリール基の３
個で置換されたメチル基を例示できる。 (B) 一般式 〔式中R′は低級アルキル基及びｎは２又は３
をを示す〕 で表わされる環状エーテル残基。該基の例とし
ては、２−テトラヒドロフラニル基、２−テト
ラヒドロピラニル基等を例示できる。 (C) 低級アルコキシメチル基。該基としては、メ
トキシメチル、エトキシメチル、ヘキシルオキ
シメチル基等を例示できる。 (D) トリ低級アルキルシリル基。該基としては、
トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル
基等を例示できる。 本反応は、一般式(2)の化合物（化合物(2)とい
う、以下同様とする）にフエニル低級アルキルハ
ライド又はフエニル低級アルケニルハライド又は
ナフチル低級アルキルハライド（RX）を反応さ
せて、該化合物(2)の3′位又は5′位のヒドロキシ基
の水素原子を目的とするＲ基に置換させ、次いで
必要に応じて脱保護基反応又は脱アシル化反応を
行なつて、化合物(3)を得るものである。 上記においてＲ基の導入反応は通常の脱ハロゲ
ン化水素反応の反応条件下に行なわれる。脱ハロ
ゲン化水素剤としては、この種の反応に通常用い
られている各種の塩基性化合物をいずれも使用で
きる。その具体例としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属や水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アル
カリ金属類等を挙げることができる。 上記反応は、無溶媒でもあるいは溶媒の存在下
でも行なうことができる。溶媒としては通常の不
活性溶媒をいずれも使用でき、例えば水、テトラ
ヒドロフラン（THF）、ジオキサン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル類等が有利に用いられ
る。 化合物(2)とフエニル低級アルキルハライド、フ
エニル低級アルケニルハライド又はナフチル低級
アルキルハライド（RX）との使用割合は、特に
限定されず広い範囲から適宜選択すればよいが、
通常前者に対し後者を少なくとも等モル量程度、
好ましくは等モル量〜５倍モル量用いるのがよ
い。反応温度も特に限定されず広い範囲から適宜
選択されるが、一般には０〜100℃、好ましくは
室温〜80℃の範囲から選択されるのがよく、通常
30分〜64時間程度、好ましくは１〜５時間程度で
反応は終了する。 上記反応によつて得られる化合物が、その3′位
又は5′位に保護基を有する場合は、引続き該保護
基の脱離反応を行なうことにより、目的とする化
合物(3)が得られる。この脱保護基反応は、通常の
酸加水分解反応に慣用される適当な触媒、例えば
塩酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、
プロピオン酸等の低級アルカン酸、安息香酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸等の有
機スルホン酸等の有機酸の適当量を用いて、通常
溶媒中で実施される。溶媒としては、通常の不活
性溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエチル
エーテル、THF、ジオキサン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン
等の芳香族炭化水素類、酢酸、プロピオン酸等の
低級アルカン酸等やこれらの混合溶媒を用いるこ
とができる。反応温度は、特に限定されず広い範
囲から適宜選択すればよいが、通常０〜100℃、
好ましくは室温〜80℃程度とすればよく、反応は
３分〜20時間程度で終了する。尚、使用される酸
としては通常触媒量〜過剰量程度、好ましくは過
剰量程度とするのがよい。 また上記反応工程式ａにおいて得られる化合物
(3)中３位、3′位及び5′位の少なくとも１つにアシ
ル基を有する化合物は、これを加水分解反応させ
ることにより、該アシル基のいずれか１つ又は全
部を水素原子に変換させ得る。この加水分解反応
は通常の酸又はアルカリ加水分解の条件下に行な
われる。この際使用される触媒としては、通常の
酸又はアルカリ加水分解反応に用いられるものが
いずれも使用できる。代表的なものとしては水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
等の塩基性化合物及び塩酸、硫酸、硝酸等の無機
酸を例示できる。之等触媒の使用量は特に限定が
なく広い範囲から適宜選択すればよい。本反応は
一般に溶媒中で有利に進行し、この際使用される
溶媒としては、通常の不活性溶媒を広く使用でき
る。例えば水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等の低級アルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類やこれらの混合溶
媒等を有利に用いることができる。反応温度も特
に限定されず広い範囲から適宜選択すればよい
が、通常０〜100℃、好ましくは室温〜80℃程度
で反応を行なうのがよい。本反応は30分〜10時間
程度で終了する。 ＜反応工程式ｂ＞ （式中R¹′は上記Ｒ基であり、R²′が水素原子、ア
シル基又は保護基を示す。 R^3aはアシル基を示す。R¹及びR²は前記に同
じ。） 本反応は、ピリミジン骨格の３位にアシル基を
導入する反応（アシル化反応）であり、通常の方
法例えば酸ハライド法にしたがつて実施できる。
該酸ハライド法によれば化合物(4)にアシルハライ
ド（R^3aＸ）を、脱酸剤の存在下、適当な溶媒中
で作用させることにより、目的とする化合物(5)が
収得される。上記において脱酸剤としては例えば
炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、ピリジン、トリエチルアミンなどを使用で
きる。溶媒としては、例えばベンゼン、クロロホ
ルム、塩化メチレン、四塩化炭素、ジオキサン、
テトラヒドロフランなどが用いられる。アシルハ
ライドの使用量は、化合物(4)に対し少なくとも等
モル量程度、好ましくは等モル〜３モル程度とす
るのがよい。反応温度は通常−30〜100℃、好ま
しくは室温〜80℃程度であり、20分〜20時間程度
で反応は終了する。 尚上記反応において化合物(4)が、その3′位又は
5′位に遊離水酸基を有する場合は、これらの部位
も３位と同時にアシル化される。従つて之等化合
物の上記アシル化に当つては、予め3′位又は5′位
の水酸基を、保護しておき、アシル化後、保護基
の脱離を行なうのが好ましい。この保護基の導入
反応については後記する。また該保護基の脱離反
応は、前記反応工程式ａの項で説明した方法と同
様にして行ない得る。 ＜反応工程式ｃ＞ 〔式中R^1bは前記Ｒ基を示し、R^2bは水素原子を
示す。R^1cは前記Ｒ基を示し、R^2cはアシル基を示
す。R³は上記に同じ。〕 本反応によれば化合物(6)の3′位又は5′位遊離水
酸基をアシル化することにより、化合物(7)が得ら
れる。このアシル化反応には、通常のアシル化反
応方法、例えば酸ハライド法、酸無水物法、混合
酸無水物法、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド法（DCC法）等のいずれをも適用するこ
とができ、特に酸無水物法及び酸ハライド法が有
利に適用される。 酸無水物法は、化合物(6)を適当な溶媒中、酸無
水物と共に加熱することにより実施される。酸無
水物としては、3′位又は5′位に導入すべきアシル
基に対応する酸の無水物を使用する。その具体例
としては例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無
水酪酸、無水安息香酸等を例示できる。之等の酸
無水物は化合物(6)に対して少なくとも等モル量、
好ましくは１〜３倍モル量程度用いられるのがよ
い。溶媒としては各種の不活性溶媒、例えばピリ
ジン、クロロホルム、ジクロルメタン等のハロゲ
ン化炭化水素、ジオキサン、THF等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホ
キシド（DMSO）、アセトニトリル等を使用でき
る。反応温度は通常−30℃〜100℃程度、好まし
くは室温〜80℃程度とされ、約20分〜20時間で反
応は終了する。また上記反応は、塩基性化合物の
存在下に有利に行なわれる。該塩基性化合物とし
ては、例えばピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン等の第三級アミン類等の有
機塩基や、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、
酢酸ナトリウム等の無機塩基性化合物を例示でき
る。 酸ハライド法は、化合物(6)にアシルハライド
（R^3aＸ）を、脱酸剤の存在下、適当な溶媒中で
作用させることにより実施される。該方法は前記
反応工程式ｂに示したそれと同様にして行ない得
る。 上記反応工程式ｂ及び反応工程式ｃにおいて、
試薬即ち酸無水物又は酸ハライドの使用量を原料
に対して少なくとも２倍モル量とする時には、
3′位又は5′位（Ｏ−アシル体）と３位（Ｎ−アシ
ル体）とが同時にアシル化された化合物が得られ
る場合もあるが、このＯ−及びＮ−アシル体はＯ
−アシル体又はＮ−アシル体と容易に分離するこ
とができる。 ＜反応工程式ｄ＞ 〔式中R¹及びR²は前記に同じ。Ａはトリ低級ア
ルキルシリル基及びＢは低級アルカノイル基、例
えばC₁−C₆アルカノイル基を示す。またR¹″は前
記Ｒ基で、R²″が上記Ａ基又はアシル基を示す。〕 上記によれば、化合物(8)にビス−Ｎ、Ｏ−トリ
低級アルキルシリルアセトアミドを反応（トリア
ルキルシリル化反応）させて化合物(9)を得、次い
でこれに２−低級アルカノイルオキシテトラヒド
ロフランを反応（テトラヒドロフラニル化反応）
させることにより、化合物(10)を収得できる。 トリアルキルシリル化反応は、適当な不活性溶
媒、例えばジオキサン、THF等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
DMF、DMSO、アセトニトリル等の溶媒中、約
０〜100℃、好ましくは室温〜50℃の温度下に30
分〜６時間を要して行なわれる。上記においてビ
ス−Ｎ、Ｏ−トリ低級アルキルシリルアセトアミ
ドは、反応させるべき官能基１個に対して少なく
とも当量、好ましくは１〜２倍当量となる量で用
いられるのがよい。 上記に引き続くテトラヒドロフラニル化反応
は、上記と同様の溶媒中、約０〜100℃、好まし
くは室温〜50℃の温度下に30分〜６時間で行なわ
れる。２−低級アルカノイルオキシテトラヒドロ
フランの使用量は原料に対して少なくとも等モル
量、好ましくは１〜２倍モル量とするのがよい。
この反応はまた、反応系内に塩化第２錫
（SnCl₄）、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイ
ス酸を通常原料に対して約0.1モル以上存在させ
ることにより有利に進行する。また該テトラヒド
ロフラニル化反応において、R¹″又はR²″がトリ
低級アルキルシリル基である化合物を用いる場合
には、引き続き該トリ低級アルキルシリル基の脱
離反応を行なうことにより、目的とする化合物(10)
が収得される。この脱離反応は、反応工程式ａの
項で述べた脱保護基反応と同様にして実施され
る。 かくして本発明化合物を収得する。得られる化
合物は通常の分離手段例えば再沈澱、再結晶、シ
リカゲルクロマトグラフイー、イオン交換クロマ
トグラフイー、ゲルクロマトグラフイー、親和ク
ロマトグラフイー等により容易に単離精製され
る。 尚前記反応工程式ａ〜ｄにおいて用いる出発原
料化合物は、例えば下記反応工程式ｅ〜ｇに示す
方法により得られる。 ＜反応工程式ｅ＞ 〔R⁶はアシル基及びR⁷は保護基を示す〕 化合物(11)のアシル化反応は、前記反応工程式ｃ
に示す化合物(6)のアシル化反応と同様にしておこ
なわれる。より好ましくは、該アシル化反応は、
5′位に導入すべきアシル基に対応する酸無水物
を、化合物(11)に対して約１〜1.5倍モル量用い、
反応工程式ｃに示す酸無水物法と同様の不活性溶
媒中、−30℃〜80℃程度の温度条件下に約１〜６
時間を要して行なわれる。 上記反応により5′位がアシル化された化合物(12)
が主成分として得られ、副成分として3′位がアシ
ル化された化合物も得られる。 上記により得られる化合物(12)は、次いでその
3′位水酸基の保護反応に供される。この保護反応
は反応工程式ａの項で説明した保護基を化合物(12)
の3′位に導入するものであり、該保護基を導入す
るための試薬としては前記一般式(A)で表わされる
保護基を与えるトリアリール置換メチルハライ
ド、前記一般式(B)で表わされる保護基を与える下
記一般式 〔式中R′及びｎは一般式(B)におけるそれらに同
じ〕 で表わされる不飽和環状エーテル、低級アルコキ
シメチルハライド及びトリ低級アルキルシリルハ
ライドが用いられる。 上記ハライドを利用する保護基導入反応は、前
記反応工程式ａに示した脱ハロゲン化水素反応と
同様にして行なわれる。但し試薬量を化合物(12)に
対して１〜２倍モル、好ましくは１〜1.5倍とし、
反応温度を−30℃〜80℃とするのがよい。 上記一般式（B′）で表わされる不飽和環状エ
ーテルを利用した保護基導入反応は、酸触媒の存
在下、例えばTHF、ジオキサン、アセトニトリ
ル等の非プロトン性不活性溶媒中で行なわれる。
酸触媒としては臭化水素、塩化水素等のハロゲン
化水素酸や、塩化アルミニウム、弗化硼素、塩化
亜鉛等のルイス酸を使用できる。反応は試薬を化
合物(12)に対して１〜1.5倍モル量用い、−30℃〜60
℃下に約２〜５時間を要して行なわれる。 かくして得られる化合物（13）の5′位アシル基
の脱離反応は、アルカリ加水分解条件下に行なわ
れる。該条件は触媒として塩基性化合物を用いる
前記反応工程式ａの項で説明した加水分解反応と
同様である。 ＜反応工程式ｆ＞ 〔式中R⁷は上記に同じ〕 上記によれば、化合物(11)に直接保護基導入反応
を行なうことにより、5′位に保護基の導入された
化合物（15）が得られる。この保護基導入反応
は、反応工程式ｅに示すそれと同条件下に行なわ
れる。 上記反応工程式ｅ及びｆに示す反応により、
3′位又は5′位のいずれか一方にアシル基又は保護
基の導入された原料化合物を収得できる。 ＜反応工程式ｇ＞ 〔式中Ａは前記に同じ〕 化合物（16）のトリアルキルシリル化反応は、
ビスＯ，Ｎ−トリ低級アルキルシリルアセトアミ
ドを化合物（16）に対して少なくとも３モル用い
る以外は、反応工程式ｄに示す化合物(8)のトリア
ルキルシリル化反応と同様にして行なわれる。 得られる化合物（17）の３位のテトラヒドロフ
ラニル化反応及びこれに引き続く化合物（18）の
3′位及び5′位トリ低級アルキシリル基の脱離反応
は、いずれも反応工程式ｄに示す各反応と同様に
して行なわれる。かくして３位にテトラヒドロフ
ラニル基を有する化合物（19）が得られる。該化
合物（19）を上記反応工程式ｅ及びｆに示す反応
に従わせることにより、３位にテトラヒドロフラ
ニル基を有し、3′位又は5′位のいずれか一方にア
シル基又は保護基の導入された原料化合物を収得
できる。 上記各式に示す反応により得られる原料化合物
は、そのまま原料化合物として用いることもで
き、また通常の方法に従い反応系より分離して
後、原料化合物として用いることもできる。 また前記アシル化反応において、アシル基とし
て前述した式（Ｙ）のアシル基を導入する場合、
その原料であるアシルハライドは例えば下記反応
工程式ｈに示す方法により製造できる。 ＜反応工程式ｈ＞ 〔式中R^x、Ｙ及びＸは前記に同じ〕 上記反応は前記反応工程式ｃの酸ハライド法と
同様の方法により実施することができる。 さらに本発明化合物は、以下の反応工程式ｉ〜
ｎに示す方法によつても製造することができる。 ＜反応工程式ｉ＞ 〔式中R¹、R²、Ｘ及びＹは前記に同じ〕 上記反応は、前記反応工程式ｂの酸ハライド法
と同様にして実施することができる。 ＜反応工程式ｊ＞ 〔式中Ｒ、R^1b、R^2b、R³、Ｘ及びＹは前記に同
じ〕 上記反応は、反応工程式ｉと同様に実施でき
る。 ＜反応工程式ｋ＞ 〔各式中R¹、R²、R³、Ｘ、Ｙ、Ｒ及びR^xは前記
に同じ。R⁸は水素原子又はトリ（低級アルキル）
シリル基を示す〕 上記反応は反応工程式ｉ及びｊにより得られる
酸ハライド（23）、（24）及び（25）のいずれかに
化合物（26）を作用させてアシル化させる反応で
あり、化合物（26）のうち、R⁸が水素原子を示
す化合物を用いる場合には、前記反応工程式ｃに
示す方法と同様にして行なうことができる。 また化合物（26）のうち、R⁸がトリ（低級ア
ルキル）シリル基を示す化合物を用いる場合に
は、溶媒として反応に悪影響を与えないもの、好
ましくはジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素類、ジオキサン、アセトニトリル、ア
セトン、テトラヒドロフラン等の非プロトン性溶
媒を乾燥状態で、特に好ましくは無水状態で使用
して反応を行なう。化合物（26）は酸ハライド
（23）、（24）又は（25）に対して通常少なくとも
等モル量程度、好ましくは１〜３倍モル量使用す
るのがよく、反応は０〜100℃程度、好ましくは
室温〜80℃程度において１〜６時間、好ましくは
２時間程度で終了する。また本反応においてR⁸
が水素原子の場合は、トリエチルアミン、トリメ
チルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の塩
基を用いるのが好ましく、またR⁸がトリ（低級
アルキル）シリル基の場合は、塩化第２錫、塩化
亜鉛、塩化アルミニウム等のルイス酸を用いるの
が好ましい。 尚本反応に用いられる化合物（26）は、総じて
公知であるが、一部新規化合物を包含し、かかる
化合物は以下の方法により容易に合成できる。即
ちピリジン環に１位に２−テトラヒドロフラニル
基が置換した化合物は、該１位が水素原子である
対応する公知のピリジン誘導体にヘキサメチルジ
シラザンを加え２〜20時間程度還流後過剰量のヘ
キサメチルジシラザンを除去し、残渣をジクロロ
メタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、
ジオキサン、アセトニトリル等の非プロトン性の
溶媒に溶解し、２−アセトキシテトラヒドロフラ
ンを出発原料のピリジン誘導体に対し、少なくと
も等モル量〜２倍モル量程度加え塩化第２錫、塩
化亜鉛、塩化アルミニウム等のルイス酸を添加し
０〜100℃程度、好ましくは室温付近にて１〜10
時間程度反応させることにより得ることができ
る。また上記反応において２−アセトキシテトラ
ヒドロフランに代えてアロイルハライド、低級ア
ルカノイルハライド、アロイルオキシカルボニル
ハライド、低級アルコキシカルボニルハライド、
２−ハロゲノフタリド、アリルハライド、フエニ
ル低級アルコキシ低級アルキルハライド又は低級
アルコキシ低級アルキルハライドを用いることに
より、それぞれピリジン環の２位及び／又は４位
にアロイルオキシ基、低級アルカノイルオキシ
基、アロイルオキシカルボニルオキシ基又は低級
アルコキシカルボニルオキシ基が置換した化合物
及びピリジン環の１位にフタリジル基、アリル
基、フエニル低級アルコキシ低級アルキル基又は
低級アルコキシ低級アルキル基が置換した化合物
が得られる。更にピリジン環の１位にＮ−（低級
アルコキシカルボニル低級アルキル）アミノカル
ボニル基が置換した化合物はジオキサン、ジクク
ロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル、ア
セトン、ピリジン等の溶媒中にて、１位が水素原
子である対応するピリジン誘導体に、低級アルコ
キシカルボニル低級アルキルイソシアネートを少
なくとも等モル量程度加え、０〜100℃付近にて
10分〜１時間程度、好ましくは30分程度反応させ
ることにより収得することができる。 ＜反応工程式−ｌ＞ 〔各式中R¹、R²、R³、R⁸、Ｘ、Ｙ及びＲは前記
に同じ。R⁹は低級アルキル基を示す〕 本反応は、反応工程式ｉ及びｊにより得られた
各酸ハライド（23）、（24）及び（25）のいずれか
に化合物（30）を作用させる反応であり、反応工
程式ｋと同一の反応条件下に実施される。 ＜反応工程式−ｍ＞ （各式中R¹、R²、R^x、Ｘ、Ｙは前記に同じ） 上記反応は前記反応工程式ｉと同様に行なうこ
とができる。 本発明化合物(1)は優れた制癌作用を有し、しか
も低毒性であり、例えば体重減少等の副作用も少
なく、人及び動物の癌治療のための抗腫瘍剤とし
て非常に有用である。 また本発明者らの研究によれば、本発明化合物
(1)の制癌作用は、これを下記一般式（Ｘ）で表わ
されるピリジン誘導体と併用することにより、一
層増強されることが確認された。 〔式中Y¹及びY³は一方が水素原子で、他方が水
酸基を示す。Y²は水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基、シアノ基又はニトロ基を示し、
２、４及び／又は６位の水酸基はアシル化されて
いてもよい。〕 上記化合物（Ｘ）は、公知であるか又は公知の
方法〔Triv.Chem.Rec.73、704（1954）〕に準じて
容易に製造できる。２、４及び／又は６位のアシ
ル化は、反応工程式ｂ又はｃと同様にして行なう
ことができる。 本発明化合物は、通常一般的な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増
量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑
沢剤等の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調製され
る。この医薬製剤としては各種の形態が治療目的
に応じて選択でき、その代表的なものとして錠
剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、
カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）、
軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに
際しては、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナ
トリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カル
シウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の
賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロ
ツプ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、
カルボキシメチルセルロース、セラツク、メチル
セルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリ
ドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナト
リウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプ
ン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオ
バター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収
促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デン
プン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド
状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸
塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢
剤等を使用できる。さらに錠剤は必要に応じ通常
の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被
包錠、腸溶被錠、フイルムコーテイング錠あるい
は二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の形
態に成形するに際しては、担体として例えばブド
ウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、
カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、
トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用で
きる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、
高級アルコール、高級アルコールのエステル類、
ゼラチン、半合成グリセライド等を使用できる。
カプセル剤は常法に従い通常本発明化合物を上記
で例示した各種の担体と混合して硬質ゼラチンカ
プセル、軟質カプセル等に充填して調整される。
注射剤として調整される場合、液剤、乳剤及び懸
濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ま
しく、これらの形態に成形するに際しては、希釈
剤として例えば水、エチルアルコール、マクロゴ
ール、プロピレングリコール、エトキシ化イソス
テアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリ
ルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類等を使用できる。なお、この場合
等張性の溶液を調整するに充分な量の食塩、ブド
ウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せし
めてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無
痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着
色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医
薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペース
ト、クリーム及びゲル形態に成形するに際して
は、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフイ
ン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレ
ングリコール、シリコン、ベントナイト等を使用
できる。 本発明の医薬製剤中に含有されるべき本発明の
化合物の量としては、特に限定されず広範囲に適
宜選択されるが、通常医薬製剤中１〜70重量％と
するのがよい。 上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各
種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件患者
の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸
剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤
は経口投与される。注射剤は単独であるいはブド
ウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内
投与されれ、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮
内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直腸
内投与される。 上記医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性
別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択さ
れるが、通常有効成分である本発明化合物の量が
１日当り体重１Kg当り約0.5〜20mg程度とするの
がよく。該製剤は１日に１〜４回に分けて投与す
ることができる。 実施例 以下に参考例、実施例、薬理試験例及び製剤例
をを挙げる。 参考例及び実施例におけるNMRデータに関
し、「Ｃ」、「Ｈ」又は「Ｎ」の右下に付された数
字は、化合物中の位置を示す。例えば、「C₆−
Ｈ」とは、６位の炭素原子に結合した水素原子を
示す。同様に、例えば「C₃′、₄′、₅′−Ｈ」は、3′
位、
4′位、5′位の炭素原子に結合した水素原子を示
す。また、例えば「H₁」は、１位の炭素原子に
結合した水素原子を示し、更に例えば、「N₃−
Ｈ」は、５−フルオロウラシル環の３位の窒素原
子に結合した水素原子を示す。 参考例 １ 2′−デオキシ−5′−０−トリチル−５−フルオ
ロウリジンの製造 2′−デオキシ−５−フルオロウリジン5.00ｇの
ピリジン溶液に室温攪拌下、塩化トリチル9.00ｇ
を加えた。15時間後溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チルに溶解し飽和食塩水で３回洗浄した。酢酸エ
チル層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムを用いクロロホルム〜２％メ
タノール−クロロホルムで溶出して2′−デオキシ
−5′−０−トリチル−５−フルオロウリジン6.80
ｇ（69％）を得た。 参考例 ２ 2′−デオキシ−５−フルオロ−３−（２−テト
ラヒドロフラニル）ウリジンの製造 2′−デオキシ−５−フルオロウリジン5.00ｇの
乾燥ジクロロメタン50ml懸濁液に、室温攪拌下、
Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド
16.5ｇを加えた。４時間後、２−アセトキシテト
ラヒドロフラン4.00ｇと塩化第二錫1.17mlの乾燥
ジクロロメタン10ml溶液を加え、さらに1.5時間
攪拌した。次いでトリエチルアミン8.0mlを加え
て中和し、水洗した。ジクロロメタン層を濃縮
し、残渣をメタノール100mlに溶解し、ここに酢
酸３mlを加えて40℃で３時間放置した。溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホ
ルム〜４％メタノール−クロロホルムで溶出して
油状の2′−デオキシ−５−フルオロ−３−（２−
テトラヒドロフラニル）ウリジン5.25ｇ（81.7
％）を得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.06（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C₆−Ｈ） 6.53（1H、bt、Ｊ＝６Hz、

【式】 6.23（1H、bt、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.45−3.75（8H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ、C₃′、₅′
−
OH、

【式】） 2.29−2.16（6H、ｍ、C₂′−Ｈ、

【式】） 参考例 ３ ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−（２−テト
ラヒドロフラニル）−２（1H）−ピリドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリ
ドン1.00ｇにヘキサメチルジシラザン10mlを加え
６時間還流した。ついで過剰のヘキサメチルジシ
ラザンを留去し、油状残渣をジクロロメタン50ml
に溶解した。ここに２−アセトキシテトラヒドロ
フラン1.00ｇと塩化第２錫0.1mlを添加し、室温
で一夜攪拌した。トリエチルアミンで中和後溶媒
を留去し、残渣をメタノールを加えて室温で２時
間攪拌した。再度溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムを用い２％メタノール−クロロホルムで
溶出し、目的化合物1.07ｇ（73.5％）を得た。 融点 170−173℃ ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.6（1H、bs、OH） 7.59（1H、ｓ、C₆−Ｈ） 6.09−5.99（1H、ｑ、

【式】） 5.76（1H、ｓ、C₃−Ｈ） 4.39−3.73（2H、ｍ、

【式】） 2.42−1.82（4H、ｍ、

【式】） 参考例 ４ ５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒドロ
キシ−２（1H）−ピリドンの製造 参考例３で２−アセトキシテトラヒドロフラン
を用いる代りにクロロメチルエチルエーテルを用
い、５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒド
ロキシ−２（1H）−ピリドンを収率39％で得た。 融点 217−219℃ ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.63（1H、bs、OH） 7.87（1H、Ｓ、C₆−Ｈ） 5.75（1H、ｓ、C₃−Ｈ） 5.16（2H、ｓ、Ｎ−CH₂−Ｏ−） 3.49（2H、ｑ、Ｊ＝７Hz、−OCＨ ₂CH₃） 1.09（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、−OCH₂CＨ ₃） 参考例 ５ ２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４−ヒド
ロキシピリジンの製造 参考例３で２−アセトキシテトラヒドロフラン
を用いる代りにベンゾイルクロリドを用い、目的
化合物を収率51％で得た。 融点 184℃で軟化 ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 8.27（1H、ｓ、C₆−Ｈ） 8.16−8.07（2H、ｍ、

【式】） 7.78−7.51（3H、ｍ、

【式】） 6.91（1H、ｓ、C₃−Ｈ） 参考例 ６ ４−ヒドロキシ−１−（３−フタリジル）−２
（1H）−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリドン1.00ｇに
ヘキサメチルジシラザン10mlを加え、６時間還流
した。ついで反応溶液を減圧濃縮し、残渣をアセ
トニトリル20mlに溶解した。これに３−ブロモフ
タリド2.29ｇを添加し、室温で一夜攪拌した。反
応溶液にメタノールを加えて室温で15分間攪拌し
た。次に反応溶液を減圧濃縮し、残渣を１％メタ
ノール−クロロホルムを溶出液としたシリカゲル
カラムに付し、目的化合物0.62ｇ（30％）を得
た。 融点 239−241℃ ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.05（1H、bs、OH） 8.29−7.52（5H、ｍ、

【式】） 6.99（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、C₆−Ｈ） 5.88（1H、dd、J_3,5＝２Hz、J_5,6＝８Hz、C₅−
Ｈ） 5.65（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、C₃−Ｈ） 参考例 ７ １−カルボメトキシメチルカルバモイル−４−
ヒドロキシ−２（1H）−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリドン2.00ｇの
ジオキサン60ml懸濁液にカルボメトキシメチルイ
ソシアネート2.49ｇを加え、90℃で30分間攪拌し
た。溶媒を留去し、残渣にエーテルを加え、生成
した沈澱を取して、目的化合物2.20ｇ（54％）
を得た。 融点 124−126℃ ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.52（1H、bs、OH） 10.82（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、−CONＨCH₂−） 8.20（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、C₆−Ｈ） 6.17（1H、dd、J_5,6＝８Hz、J_3,5＝２Hz、C₅−
Ｈ） 5.74（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、C₃−Ｈ） 4.15（2H、ｄ、Ｊ＝６Hz、−CONHCＨ ₂−） 3.68（3H、ｓ、−COOCＨ ₃） 参考例 ８ １−ベンジルオキシメチル−５−クロロ−４−
ヒドロキシ−２（1H）−ピリドンの製造 参考例３で２−アセトキシテトラヒドロフラン
に代えベンジルオキシメチルクロリドを用い、溶
媒としてジクロロメタンに代えてアセトニトリル
を用い、目的化合物を収率57％で得た。 融点 165−167℃ ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.65（1H、bs、OH） 7.92（1H、Ｓ、C₆−Ｈ） 7.31（5H、ｓ、フエニル−Ｈ） 5.77（1H、ｓ、C₃−Ｈ） 5.27（2H、ｓ、−NCＨ ₂O−） 4.55（2H、ｓ、

【式】） 参考例 ９ ２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−クロロピリドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリ
ドン9.6ｇにヘキサメチルジシラザン50mlを加え、
油浴中140℃で一夜攪拌した。不溶物を去し、
液を減圧蒸留し沸点120℃／７mmHgの目的化合
物14.4ｇ（75％）を得た。 参考例 10 ２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシ
−２（1H）−ピリドンの製造 ２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−クロロピリジン5.00ｇの乾燥ジクロロメタン
250ml溶液に、アセチルブロミド2.09mlと塩化第
２錫0.10mlを加え、室温で3.5時間攪拌した。ト
リエチルアミンで中和後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムを用い、40％酢酸エチル−ベン
ゼンで溶出し、目的化合物2.07ｇ（64％）を得
た。 融点 270−272℃ ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.90（1H、bs、OH） 8.20（1H、ｓ、C₆−Ｈ） 6.69（1H、ｓ、C₃−Ｈ） 2.27（3H、ｓ、COCH₃） 実施例 １ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロ−３−〔３−（２−ヒドロ
キシ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾ
イル〕ウリジンの製造 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン3.00ｇの乾燥ジオ
キサン100ml溶液にイソフタロイルクロリド2.40
ｇとトリエチルアミン8.5mlを加え２時間還流し
た。ここに４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリドン
1.77ｇとトリエチルアミン9.60mlの乾燥ジオキサ
ン100ml懸濁液を加えさらに２時間還流した。不
溶物を去し、液を濃縮、残渣を酢酸エチル
100mlＣに溶解し、飽和食塩水30mlで２回洗浄し
た。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムを用いクロロホ
ルム〜２％メタノール−クロロホルムで溶出し、
目的物に対応するフラクシヨンを集め濃縮乾固し
て目的化合物の粉末1.48ｇ（30％）を得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.62−7.31（11H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.50（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、ピリジン環のC₃−
Ｈ） 6.31（1H、dd、J_5,6＝７Hz、J_3,5＝２Hz、ピリジ
ン環のC₅−Ｈ） 6.23（1H、ピリジン環のC₅−Ｈと一部重複、
C₁′−Ｈ） 4.52（2H、ｄ、

【式】）、 4.30−4.13（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ）、 2.53−2.06（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 実施例 ２ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
〔３−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリ
ジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン1.00ｇの乾燥ジオ
キサン50ml溶液にイソフタロイルクロリド0.80ｇ
とトリエチルアミン2.95mlを加え２時間還流し
た。不溶物を去し、液を濃縮、残渣を乾燥ジ
クロロメタン50mlに溶解し、２，４−ビス（トリ
メチルシリルオキシ）−５−クロロピリジン1.35
ｇを加え、室温で一夜攪拌した。溶媒を留去後残
渣を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和炭酸水素水30
mlで３回、飽和食塩水30mlで３回洗浄した。酢酸
エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホル
ム〜１％メタノール−クロロホルムで溶出し、目
的物に対応するフラクシヨンを集め、濃縮乾固し
て目的化合物の粉末0.30ｇ（17％）を得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.61−7.31（11H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.82（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.52（2H、ｄ、

【式】） 4.29−3.95（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.74−2.10（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 実施例 ３ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−３−［３−〔１，２−ジヒドロキシ−２
−オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−
４−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル］
−５−フルオロウリジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代えて４−ヒドロキシ−１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）−２（1H）−ピリドンを用い、同様
に反応及び後処理して目的化合物の粉末を収率41
％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.61−7.65（5H、ｍ、

【式】と C₆−Ｈ） 7.53（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−
Ｈ） 7.29（5H、ｓ、

【式】） 6.40（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、ピリジン環のC₃−
Ｈ） 6.27−6.12（3H、ｍ、C₁′−Ｈ、

【式】及び ピリジン環のC₅−Ｈ） 4.50（2H、ｓ、

【式】） 4.27−3.92（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.50−1.98（9H、ｍ、C₂′−Ｈ、COCＨ ₃及び

【式】） 実施例 ４ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
［３−〔５−クロロ−１，２−ジヒドロ−２−オ
キソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−４−
ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル］−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代えて３−クロロ−４−ヒドロキシ−１−
（２−テトラヒドロフラニル）−２（1H）−ピリド
ンを用い、同様に反応及び後処理して目的化合物
の粉末を収率72％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.93−7.58（6H、ｍ、C₆−Ｈ、ピリジン環のC₆
−Ｈと

【式】） 7.21（5H、ｓ、

【式】） 6.58（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20−6.08（2H、ｍ、C₁′−Ｈと

【式】） 4.50（2H、ｓ、

【式】） 4.36−3.97（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.55−1.92（9H、ｍ、C₂′−Ｈ、COCＨ ₃及び

【式】） 実施例 ５ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロ−３−〔３−（１，２−ジ
ヒドロ−１−エトキシメチル−２−オキソ−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕ウ
リジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代えて１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ
−２（1H）−ピリドンを用い、同様に反応及び後
処理して目的化合物の粉末を収率32％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.70−7.31（11H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.47（1H、bs、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20−6.10（2H、ｍ、C₁′−Ｈとピリジン環のC₅
−Ｈ） 5.36（2H、ｓ、Ｎ−ＣＨ ₂OC₂H₅） 4.52−4.00（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 3.63（2H、ｑ、Ｊ＝７Hz、−OCＨ ₂CH₃） 2.80−1.90（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 1.22（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、−OCH₂CＨ ₃） 実施例 ６ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
〔３−（５−クロロ−１，２−ジヒドロ−１−エ
トキシメチル−２−オキソ−４−ピリジルオキ
シカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デオキシ−
５−フルオロウリジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代え５−クロロ−１−エトキシメチル−４−
ヒドロキシ−２（1H）−ピリドンを用い、同様に
反応及び後処理して目的化合物の粉末を収率20％
で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66−7.68（5H、ｍ、C₆−Ｈと

【式】） 7.59（1H、ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.30（5H、ｓ、

【式】） 6.64（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 5.31（2H、ｓ、Ｎ−ＣＨ ₂OC₂H₅） 4.50（2H、ｓ、

【式】） 4.28−4.06（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 3.63（2H、ｑ、Ｊ＝７Hz、−Ｏ−ＣＨ ₂CH₃） 2.58−2.02（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 1.22（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、−OCH₂CＨ ₃） 実施例 ７ 5′−０−アセチル−３−〔３−（２−ベンゾイル
オキシ−５−クロロ−４−ピリジルオキシカル
ボニル）ベンゾイル〕−3′−０−ベンジル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンの代りに２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−
４−ヒドロキシピリジンを用い、同様に反応及び
後処理して目的化合物の粉末を収率27％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.68−7.41（12H、ｍ、C₆−Ｈ、ピリジン環の
C_3,6−Ｈ、

【式】と

【式】） 7.28（5H、ｓ、

【式】） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.49（2H、ｓ、

【式】） 4.27−4.04（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.70−2.07（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 実施例 ８ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−３−〔３−（１，２−ジヒドロ−１−カ
ルボメトキシメチルカルバモイル−２−オキソ
−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロウリジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代え４−ヒドロキシ−１−カルボメトキシメ
チルカルバモイル−２（1H）−ピリドンを用い、
同様に反応及び後処理して目的化合物の粉末を収
率5.7％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 10.86（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、−CONＨCH₂−） 8.61−7.60（6H、ｍ、C₆−Ｈ、

【式】とピリジン環のC₆− Ｈ） 7.31（5H、ｓ、

【式】） 6.62（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、ピリジン環のC₃−
Ｈ） 6.44−6.14（2H、ｍ、C₁′−Ｈとピリジン環のC₅
−Ｈ） 4.52（2H、ｄ、

【式】） 4.30−4.00（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと−NHCＨ
₂COOCH₃） 3.78（3H、ｓ、−COOCＨ ₃） 2.76−1.92（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 実施例 ９ 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
［４−〔５−クロロ−１，２−ジヒドロキシ−２
−オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−
４−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル］
−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例１でイソフタロイルクロリドに代えてテ
レフタロイルクロリドを、４−ヒドロキシ−２
（1H）−ピリドンに代え５−クロロ−４−ヒドロ
キシ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−２
（1H）−ピリドンを夫々用い、同様に反応及び後
処理して、目的化合物の粉末を収率38％で得た。 ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 8.50−8.20（5H、ｍ、C₆−Ｈと

【式】） 7.93（1H、ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.34（5H、ｓ、

【式】） 6.66（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20−6.10（2H、ｍ、C₁′−Ｈと

【式】） 4.55−3.70（8H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ、

【式】及び

【式】） 2.60−1.80（9H、ｍ、C₂′−Ｈ、

【式】及び COCＨ ₃） 実施例 10 ３−ベンゾイル−3′−０−ベンジル−5′−０−
〔３−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリ
ジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例２で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
３−ベンゾイル−3′−０−ベンジル−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジンを用い、同様に反応及
び後処理して、目的化合物の粉末を収率15％で得
た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.73−7.34（11H、ｍ、C₆−Ｈ、

【式】

【式】及び ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.28（5H、ｓ、

【式】） 6.77（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C₁′−Ｈ） 4.70−4.20（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.60−2.13（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 11 ３−ベンゾイル−3′−０−ベンジル−5′−０−
［３−〔５−クロロ−１，２−ジヒドロ−２−オ
キソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−４−
ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル］−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例１で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
３−ベンゾイル−3′−０−ベンジル−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジンを用い、且つ４−ヒド
ロキシ−２（1H）−ピリドンに代え５−クロロ−
４−ヒドロキシ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）−２−（1H）−ピリドンを用い、同様に反応及
び後処理して、目的化合物の粉末を収率46％で得
た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.77−7.34（11H、ｍ、C₆−Ｈ、

【式】

【式】及 びピリジン環のC₆−Ｈ） 7.28（5H、ｓ、

【式】） 6.57（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.21−6.06（2H、ｍ、C₁′−Ｈと

【式】） 4.53（2H、ｓ、

【式】） 4.53−4.02（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.55−1.96（6H、ｍ、C₂′−Ｈと

【式】） 実施例 12 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−３−〔３−〔１，２−ジヒドロキシ−２
−オキソ−１−フタリジル−４−ピリジルオキ
シカルボニル）ベンゾイル〕−５−フルオロウ
リジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代えて４−ヒドロキシ−１−フタリジル−２
（1H）−ピリドンを用い、同様に反応及び後処理
して、目的化合物を収率19％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.60−7.57（10H、ｍ、C₅−Ｈ、

【式】と

【式】） 7.32（5H、ｓ、

【式】） 6.90（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−
Ｈ） 6.60（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、ピリジン環のC₃−
Ｈ） 6.28−6.04（2H、ｍ、C₁′−Ｈとピリジン環のC₅
−Ｈ） 4.51（2H、ｓ、

【式】） 4.28−4.06（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.60−2.01（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 実施例 13 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
〔３−（１−ベンジルオキシメチル−５−クロロ
−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４−ピリジ
ルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デオ
キシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例１で４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリド
ンに代えて１−ベンジルオキシメチル−５−クロ
ロ−４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリドンを用い、
同様に反応及び後処理して、目的化合物の粉末を
収率34％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.65−7.58（6H、ｍ、C₆−Ｈ、

【式】とピリジン環のC₅−Ｈ） 7.34（10H、ｓ、

【式】） 6.64（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C₁′−Ｈ） 5.42（2H、ｓ、−NCＨ ₂O−） 4.66（2H、ｓ、

【式】） 4.53（2H、ｓ、

【式】） 4.30−4.03（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.77−1.97（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCＨ ₃） 実施例 14 5′−０−アセチル−３−〔３−（２−アセトキシ
−５−クロロ−４−ピリジルオキシカルボニ
ル）ベンゾイル〕−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン2.00ｇの乾燥ジオ
キサン100ml溶液にイソフタロイルクロリド1.60
ｇとトリエチルアミン1.47mlを加え30分間還流し
た。その後さらにトリエチルアミン4.40mlを加え
50分間還流した。生成した塩を去し、液を減
圧濃縮した。残渣をアセトニトリル100mlに溶解
し、ここにトリエチルアミン3.66mlと２−アセト
キシ−５−クロロ−４−ヒドロキシピリジン1.19
ｇを加え、室温で1.5時間攪拌した。溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホル
ムで溶出し、目的物に対応するフラクシヨンを集
め、濃縮乾固して、目的化合物の粒末2.83ｇ（77
％）を得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.68（6H、ｍ、C₅−Ｈ、ピリジン環のC₆−Ｈと

【式】） 7.30（5H、ｓ、

【式】） 7.27（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.51（2H、ｄ、

【式】） 4.25−4.07（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.60−2.20（5H、ｍ、C₂′−Ｈとピリジン環上の
−COCＨ ₃） 2.09（3H、ｓ、5′位の−COCＨ ₃） 実施例 15 5′−０−アセチル−３−〔３−（４−ベンゾイル
オキシ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカル
ボニル）ベンゾイル〕−3′−０−ベンジル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン0.60ｇの乾燥ジオ
キサン30ml溶液にイソフタロイルクロリド0.42ｇ
とトリエチルアミン1.11mlを加え２時間還流し
た。ついで４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−
２（1H）−ピリドン0.60ｇとトリエチルアミン1.11
mlを加え、さらに１時間還流した。生成した沈澱
を去し、液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムを用い、40％酢酸エチル−ベンゼンで溶出して
目的化合物0.45ｇ（37％）を得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66−7.28（17H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.49（2H、ｓ、

【式】） 4.27−4.01（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.66−1.90（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃） 実施例 16 5′−０−アセチル−３−〔３−（４−アセチルオ
キシ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカルボ
ニル）ベンゾイル〕−3′−０−ベンジル−2′−
デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例15で４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２（1H）−ピリドンに代え４−アセトキシ−５
−クロロ−２（1H）−ピリドンを用い、同様に反
応および後処理して目的化合物を収率51％で得
た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.65−7.17（12H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.49（2H、ｓ、

【式】） 4.26−4.12（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.55−2.07（8H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃×２） 実施例 16 5′−０−アセチル−３−〔３−（４−ベンゾイル
オキシ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベン
ゾイル〕−3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−
５−フルオロウリジンの製造 実施例15で４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２（1H）−ピリドンに代え４−ベンゾイルオキ
シ−２（1H）−ピリドンを用い、同様に反応及び
後処理して目的化合物を収率55％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66−7.25（18H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,5,6−Ｈ） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.51（2H、ｓ、

【式】） 4.29−4.07（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.76−1.98（5H、ｍ、COCH₃とC₂′−Ｈ） 実施例 17 5′−０−アセチル−３−〔３−（２−ベンゾイル
オキシ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベン
ゾイル〕−3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−
５−フルオロウリジンの製造 実施例15で４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２（1H）−ピリドンに代え２−ベンゾイルオキ
シ−４−ヒドロキシピリジンを用い、同様に反応
及び後処理して目的化合物を収率42％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66−7.23（18H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,5,6−Ｈ） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.52（2H、ｓ、

【式】） 4.30−4.06（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.72−2.04（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃） 実施例 18 5′−０−アセチル−３−｛３−〔２−（２−メチ
ルベンゾイルオキシ）−４−ピリジルオキシカ
ルボニル〕ベンゾイル｝−3′−０−ベンジル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例15で４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２（1H）−ピリドンに代え２−（２−メチルベン
ゾイルオキシ）−４−ヒドロキシピリジンを用い、
同様に反応及び後処理して目的化合物を収率31％
で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66−7.20（17H、ｍ、フエニル−Ｈ、C⁶−Ｈと
ピリジン環のC_3,5,6−Ｈ） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.51（2H、ｓ、

【式】） 4.28−4.07（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.68−2.02（8H、ｍ、C₂′−Ｈ、

【式】とCOCH₃） 実施例 19 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
〔３−（５−クロロ−２−エトキシカルボニルオ
キシ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾ
イル〕−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン
の製造 実施例15で４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２（1H）−ピリドンに代え５−クロロ−２−エ
トキシカルボニルオキシ−４−ヒドロキシピリジ
ンを用い、同様に反応及び後処理して目的化合物
を収率52％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66−7.26（12H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.53−4.08（8H、ｍ、

【式】− Ｏ−ＣＨ ₂CH₃とC₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.75−2.11（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃） 1.40（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、−OCH₂CＨ ₃） 実施例 20 5′−０−アセチル−３−〔３−（４−ベンゾイル
オキシ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカル
ボニル）ベンゾイル〕−3′−０−（４−クロロベ
ンジル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ンの製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
5′−０−アセチル−3′−０−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンを用
い、同様に反応及び後処理して目的化合物を収率
50％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.65−7.22（16H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.18（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.44（2H、ｓ、

【式】） 4.27−4.11（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.70−2.00（5H、ｍ、COCH₃とC₂′−Ｈ） 実施例 21 5′−０−アセチル−３−〔３−（２−アセトキシ
−５−クロロ−４−ピリジルオキシカルボニ
ル）ベンゾイル〕−3′−０−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
5′−０−アセチル−3′−０−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンを用
い、４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２
（1H）−ピリドンに代え２−アセトキシ−５−ク
ロロ−４−ヒドロキシピリジンを用い、同様に反
応および後処理して目的化合物を収率43％で得
た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.65−7.24（11H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.47（2H、ｓ、

【式】） 4.30−4.08（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.62−2.11（8H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃×２） 実施例 22 5′−０−アセチル−３−〔３−（４−アセトキシ
−５−クロロ−２−ピリジルオキシカルボニ
ル）ベンゾイル〕−3′−０−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
5′−０−アセチル−3′−０−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンを、
４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２（1H）−
ピリドンに代え４−アセトキシ−５−クロロ−２
（1H）−ピリジンを用い、同様に反応および後処
理して目的化合物を収率52％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.65−7.18（11H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.18（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.46（2H、ｓ、

【式】） 4.28−4.07（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.54−2.09（8H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃×２） 実施例 23 5′−０−アセチル−３−〔３−（２−ベンゾイル
オキシ−５−クロロ−４−ピリジルオキシカル
ボニル）ベンゾイル〕−3′−０−（４−クロロベ
ンジル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ンの製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
5′−０−アセチル−3′−０−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンを、
４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２（1H）−
ピリドンに代え２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ヒドロキシピリジンを用い、同様に反応
および後処理して目的化合物を収率53％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.68−7.26（16H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.46（2H、ｓ、

【式】） 4.30−4.08（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.73−2.05（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃） 実施例 24 5′−０−アセチル−３−〔５−（２−アセトキシ
−５−クロロ−４−ピリジルオキシカルボニ
ル）−３−ピリジルカルボニル〕−3′−０−ベン
ジル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン1.00ｇの乾燥ジオ
キサン50ml溶液にトリエチルアミン3.26ｇとピリ
ジン−３，５−ジカルボニルクロリド0.80ｇを加
え、１時間還流した。生成した沈澱を去し、
液を減圧濃縮した。残渣をアセトニトリル50mlに
溶解し、ここにトリエチルアミン1.83mlと２−ア
セトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシピリジン
0.59ｇを加え、室温で2.5時間攪拌した。溶媒を
減圧濃縮後残渣をシリカゲルカラムを用い、クロ
ロホルムで溶出して目的化合物0.22ｇ（12％）を
得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 9.57−8.88（3H、ｍ、

【式】） 8.47（1H、ｓ、

【式】） 7.83（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C₅−Ｈ） 7.30（5H、ｓ、フエニル−Ｈ） 7.27（1H、ｓ、

【式】） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.51（2H、ｓ、

【式】） 4.28−4.12（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.38−2.09（8H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃×２） 実施例 25 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−３−
〔４−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリ
ジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン1.00ｇの乾燥ジオ
キサン50ml溶液にトリエチルアミン2.88ｇとテレ
フタロイルクロリド0.80ｇを加え1.5時間還流し。
溶媒を留去後、残渣をアセトニトリル50mlに溶解
しここに２，４−ビス（トリメチルシリルオキ
シ）−５−クロロピリジン1.53ｇを加え室温で一
夜攪拌した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカ
ラムを用い、0.5％エタノール−クロロホルムで
溶出して目的化合物0.18ｇ（10％）を得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.25（1H、ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.17−7.93（4H、ｍ、

【式】） 7.80（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C₆−Ｈ） 7.28（5H、ｓ、

【式】） 6.79（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.51（2H、ｓ、

【式】） 4.44−4.09（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.75−2.10（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃） 実施例 26 ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
3′−０−ベンジル−５−フルオロ−5′−０−ニ
コチノイルウリジンの製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオロ
−5′−０−ニコチノイルウリジンを、４−ベンゾ
イルオキシ−５−クロロ−２（1H）−ピリドンに
代え４−アセトキシ−５−クロロ−２（1H）−ピ
リドンを用い、同様に反応および後処理して目的
化合物を収率41％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 9.21−7.29（15H、ｍ、フエニル−Ｈ、

【式】C₆−Ｈと

【式】） 7.18（1H、ｓ、

【式】） 6.18（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.60−4.19（6H、ｍ、

【式】C₃′、₄ ′、₅′−Ｈ） 2.80−2.03（5H、ｍ、C₂′−ＨとCOCH₃） 実施例 27 ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−5′−０−（３，４−メチレンジオキシベン
ゾイル）ウリジンの製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオロ
−5′−０−（３，４−メチレンジオキシベンゾイ
ル）ウリジンを、４−ベンゾイルオキシ−５−ク
ロロ−２（1H）−ピリドンに代え４−アセトキシ
−５−クロロ−２（1H）−ピリドンを用い、同様
に反応および後処理して目的化合物を収率42％で
得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.65−8.17と7.79−7.52（7H、ｍ、

【式】C₆−Ｈ、

【式】とピリジン環のC₆− Ｈ） 7.39（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、

【式】） 7.30（5H、ｓ、

【式】） 7.25（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.84（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、

【式】 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 6.03（2H、ｓ、−OCH₂O−） 4.55−4.12（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.70−2.51と2.25−2.02（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 2.38（3H、ｓ、COCH₃） 実施例 28 ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
3′−０−ベンジル−5′−０−（４−クロロベン
ゾイル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ンの製造 実施例15で5′−０−アセチル−3′−０−ベンジ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに代え
3′−０−ベンジル−5′−０−（４−クロロベンゾ
イル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンを、
４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２（1H）−
ピリドンに代え４−アセトキシ−５−クロロ−２
（1H）−ピリドンを用い、同様に反応および後処
理して目的化合物を収率61％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.64−7.17（16H、ｍ、フエニル−Ｈ、C₆−Ｈと
ピリジン環のC_3,6−Ｈ） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.55−4.18（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.62−2.13（5H、ｍ、C₂′−Ｈと−COCH₃） 実施例 29 ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
3′−Ｏ−ベンジル−５−フルオロ−2′−デオキ
シ−5′−Ｏ−（１−ナフトイル）ウリジンの製
造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン−5′−Ｏ−（１−ナフトイル）ウリジ
ン0.50ｇを用い、実施例15と同様にして粉末状の
目的化合物0.05ｇ（収率６％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.89−7.36（13H、ｍ、

【式】

【式】H₆とピリジン環のH₆） 7.30（5H、ｓ、

【式】） 7.16（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.24（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.70−4.24（6H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′と

【式】） 2.75−2.03（5H、ｍ、H₂′とCH₃CO−） 実施例 30 ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン1.00ｇの乾燥ジオキサン30ml溶液にト
リエチルクロロシラン1.50mlとトリエチルアミン
4.20mlとを加え、室温で20分間攪拌した。生成し
た沈澱を去し、液を濃縮し、残渣を乾燥ジオ
キサン30mlに溶解した。この溶液にイソフタロイ
ルクロライド724mgとトリエチルアミン2.47mlと
を加え、100℃で45分間攪拌した。 更にこの反応溶液を室温まで冷却後、これに４
−アセチルオキシ−５−クロロ−２−ピリドン
0.84ｇを加え、室温で２時間攪拌した。生成した
沈澱を去し、液を濃縮し、残渣を酢酸エチル
50mlに溶解し、飽和食塩水30mlで３回洗浄した。
酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃
縮した。残渣にメタノール50mlと酢酸1.0mlとを
加え、室温で16時間攪拌した。溶媒を留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにか
け、１％アセトン−クロロホルムで溶出して目的
化合物0.74ｇ（収率38％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.66−8.18（3H、ｍ、

【式】） 8.45（1H、ｓ、ピリジン環のH₆） 8.11（1H、ｄ、H₆、Ｊ＝７Hz） 7.68（1H、ｔ、

【式】Ｊ＝８Hz） 7.31（5H、ｓ、

【式】） 7.18（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.24（1H、ｔ、H₁′、Ｊ＝４Hz） 4.52（1H、ｄ、

【式】Ｊ＝１Hz） 4.29−4.11（2H、ｍ、H₃′、H₄′） 4.04−3.67（2H、ｍ、H₅′） 2.57−2.04（2H、ｍ、H₂′） 2.39（3H、ｓ、ＣH₃ CO−） 実施例 32 3′−Ｏ−ベンジル−３−〔３−（５−クロロ−
１，２−ジヒドロ−２−オキソ−ピリジルオキ
シカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デオキシ−
５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.50ｇを実施例30と同様にしてシリル
化及びイソフタロイル化した。不溶物を去後、
溶媒を留去し、残渣をピリジン100mlに溶解した。
これに５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリド
ン0.35ｇを加え、室温で一晩放置した。ピリジン
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーにかけ、クロロホルム〜４％メタノール−
クロロホルムで溶出して目的化合物0.23ｇ（収率
25％）を得た。NMR（DMSO−d₆）δ 12.04（1H、bs、−NH−） 8.62−8.26（4H、ｍ、H₆と

【式】） 7.92−7.74（2H、ｍ、

【式】と ピリジン環のH₆） 7.33（5H、ｓ、

【式】） 6.63（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.11（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 5.29（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′−OH） 4.54（2H、ｓ、

【式】） 4.35−4.08（2H、ｍ、H₃′、H₄′） 3.70−3.61（2H、ｍ、H₅′） 2.51−2.08（2H、ｍ、H₂′） 実施例 32 ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.50ｇを用い、実施例30と同様にして
目的化合物の粉末0.29ｇ（収率27％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.68−8.13（7H、ｍ、

【式】

【式】H₆とピリジン環のH₆） 7.81−7.42（4H、ｍ、

【式】と

【式】） 7.39（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 7.30（5H、ｓ、

【式】） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝４Hz、H₁′） 4.55（2H、ｄ、Ｊ＝１Hz、

【式】） 4.46−4.12（2H、ｍ、H₃′、H₄′） 4.03−3.66（2H、ｍ、H₅′） 2.67−2.07（2H、ｍ、H₂′） 実施例 33 3′−Ｏ−ベンジル−３−〔３−（５−クロロ−４
−ヒドロキシ−２−ピリジルオキシカルボニ
ル）ベンゾイル〕−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.50ｇを実施例30と同様にしてシリル
化及びイソフタロイル化した。不溶物を去し、
溶媒を留去し、残渣をジクロルメタン50mlに溶解
した。これに２，４−ビス（トリメチルシリルオ
キシ）−５−クロロピリジン0.57ｇ及び塩化第二
錫0.10mlを加え、室温で６時間攪拌した。トリエ
チルアミンで中和後、濃縮し、残渣を酢酸エチル
で抽出し、抽出液を水洗し、乾燥後、濃縮した。
残渣をメタノール40mlに懸濁させ、室温で一夜攪
拌した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにかけ、１％メタノール−ク
ロロホルムで溶出して目的化合物の粉末0.19ｇ
（収率21％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.58−8.16（4H、ｍ、ピリジン環のH₆、

【式】） 8.05（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、H₆） 7.62（1H、ｔ、Ｊ＝８Hz、

【式】） 7.29（5H、ｓ、フエニル−Ｈ） 6.78（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁） 4.49（2H、ｓ、

【式】） 4.32−3.78（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 2.49−2.09（2H、ｍ、H₂） 実施例 34 ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン及び４−ベンゾイルオキ
シ−５−クロロ−２−ピリドンを用い、実施例30
と同様に反応させた。 脱シリール化は、上記反応溶液の残渣をクロロ
ホルム５mlに溶解し、それにメタノール10mlを加
え、室温に16時間放置した。溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて１％
アセトン−クロロホルムにより溶出して目的化合
物の粉末0.24ｇ（収率24％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.67−8.17（6H、ｍ、

【式】

【式】とピリジン環のH₆） 8.11（1H、ｄ、H₆、Ｊ＝６Hz） 7.78−7.43（4H、ｍ、

【式】と

【式】） 7.39（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 7.26（4H、ｄ、

【式】Ｊ＝２ Hz） 6.24（1H、ｔ、Ｊ＝４Hz、H₁′） 4.48（2H、ｓ、

【式】） 4.36−4.15（2H、ｍ、H₃′、H₅′） 4.10−3.73（2H、ｍ、H₅′） 2.70−2.10（2H、ｍ、H₂′） 実施例 35 3′−Ｏ−ベンジル−３−〔３−（５−クロロ−４
−ジメチルアミノベンゾイルオキシ−２−ピリ
ジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン1.00ｇを用い、実施例30と同様にして
目的化合物の粉末0.48ｇ（収率21％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.69−8.46（4H、ｍ、ピリジン環のH₆、

【式】） 8.00−7.76（4H、ｍ、H₆、

【式】と

【式】） 7.73（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 7.32（5H、ｓ、

【式】） 6.82（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz、

【式】） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、H₁′） 5.30（1H、ｔ、Ｊ＝５Hz、5′−OH） 4.53（2H、ｓ、

【式】） 4.42−3.63（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 3.07（6H、ｓ、−Ｎ（ＣH₃）₂ ） 2.56−2.20（2H、ｍ、H₂′） 実施例 37 ３−〔３−（４−アセトキシ−２−ピリジルオキ
シカルボニル）ベンゾイル〕−5′−Ｏ−アセチ
ル−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フ
ルオロウリジンの製造 実施例15と同様にして目的化合物を収率46％で
得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.66−8.11（4H、ｍ、ピリジン環のH₆、

【式】） 7.80（1H、ｄ、Ｊ＝６Hz、H₆） 7.68（1H、ｔ、Ｊ＝８Hz、

【式】） 7.31（5H、ｓ、フエニル−Ｈ） 7.22−7.09（2H、ｍ、ピリジン環のH₃、H₅） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.52と4.50（各1H、ｓ、

【式】） 4.44−4.08（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 2.69−2.02（8H、ｍ、H₂′とＣH₃ CO−×２） 実施例 38 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
〔３−（５−クロロ−１，２−ジヒドロ−２−オ
キソ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾ
イル〕−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン
の製造 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン0.50ｇのジオキサ
ン50ml溶液にイソフタロイルクロライド0.40ｇと
トリエチルアミン1.0mlとを加え、１時間還流し
た。放冷後、不溶物を去し、液を濃縮し、乾
燥をピリジン100mlに溶解した。これに５−クロ
ロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン0.38ｇを加
え、室温で一夜攪拌した。溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、２
％メタノール−クロロホルムで溶出して、目的化
合物0.23ｇ（収率27％）を得た。 ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 12.00（1H、bs、−NH−） 8.67−7.88（6H、ｍ、H₆、

【式】とピリジン環のH₆） 7.33（5H、ｓ、

【式】） 6.63（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.10（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.54（2H、ｓ、

【式】） 4.24（4H、bs、H₃′、H₄′、H₅′） 2.46−2.01（5H、ｍ、H₂′とCH₃CO−） 実施例 39 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
〔３−（５−クロロ−４−ｎ−ヘキサノイルオキ
シ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 実施例15と同様にして目的化合物の粉末を収率
75％で得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.63−8.06（4H、ｍ、

【式】と ピリジン環のH₆） 7.83−7.60（2H、ｍ、

【式】と H₆） 7.31（5H、ｓ、

【式】） 7.18（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.52（2H、ｓ、

【式】） 4.44−4.09（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 2.65（2H、ｔ、Ｊ＝７Hz−COCH₂ CH₂−） 2.22−0.93（14H、ｍ、COCH₃−、H₂′と−
COCH₂（ＣH₂）₃ ＣH₃ ） 実施例 40 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
〔３−（５−クロロ−４−オクタデカノイルオキ
シ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 実施例15と同様にして目的化合物の粉末を収率
17％で得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.60−8.05（4H、ｍ、

【式】と ピリジン環のH₆） 7.82−7.57（2H、ｍ、

【式】と H₆） 7.31（5H、ｓ、

【式】） 7.18（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 6.19（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.52（2H、ｓ、

【式】） 4.30−4.10（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 2.67（2H、ｔ、Ｊ＝７Hz、−COCH₂ CH₂−） 2.58−2.05（5H、ｍ、COCH₃ −とH₂′） 1.26（30H、bs、−COCH₂（ＣH₂）₁₅ CH₃） 0.88（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、−CH₂CH₃ ） 実施例 41 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
｛３−〔５−クロロ−４−（２−フロイルオキシ）
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 実施例15と同様にして目的化合物を収率57％で
得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.66−8.21（5H、ｍ、

【式】と ピリジン環のH₆とフラン環のH₅） 7.84−7.69（2H、ｍ、

【式】と H₆） 7.49（1H、dd、J3，４＝４Hz、J3，５＝１Hz、
フラン環のH₃） 7.36（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 7.31（5H、ｓ、

【式】） 6.64（1H、dd、J3，４＝４Hz、J4，５＝２Hz、
フラン環のH₄） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.53と4.51（各1H、ｓ、

【式】） 4.30−4.09（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 2.58−2.09（5H、ｍ、H₂′とCH₃CO−） 実施例 42 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
｛３−〔５−クロロ−４−（２−テノイルオキシ）
−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル｝−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 実施例15と同様にして目的化合物を収率59％で
得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.65−7.58（8H、ｍ、

【式】ピ リジン環のH₆、チオフエン環のH₃、チオフエ
ン環のH₅及びH₆） 7.38（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 7.30−7.15（6H、ｍ、

【式】と チオフエン環のH₄） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.52と4.50（各1H、ｓ、

【式】） 4.28−4.09（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 2.72−2.05（5H、ｍ、H₂′とCH₃CO−） 実施例 43 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
｛３−〔５−クロロ−４−（３，４，５−トリメ
トキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキ
シカルボニル〕ベンゾイル｝−2′−デオキシ−
５−フルオロウリジンの製造 実施例15と同様にして目的化合物の粉末を収率
71％で得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.67−8.18（4H、ｍ、

【式】と ピリジン環のH₆） 7.84−7.60（2H、ｍ、

【式】と H₆） 7.47（2H、ｓ、

【式】） 7.38（1H、ｓ、ピリジン環のH₃） 7.31（5H、ｓ、

【式】） 6.21（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、H₁′） 4.53と4.50（各1H、ｓ、

【式】） 4.29−4.08（4H、ｍ、H₃′、H₄′、H₅′） 3.96と9.93（9H、各ｓ、−OCH₃×３） 2.50−2.05（5H、ｍ、H₂′とＣH₃ CO−） 実施例 44 2′−デオキシ−３｛３−〔６−（２，４−ジクロ
ロベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカ
ルボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−3′−
０−（３−メチルベンジル）−5′−０−（２−フ
ロイル）ウリジンの製造 実施例15と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率24％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66（1H、ｔ、Ｊ＝２Hz、

【式】） 8.50と8.26（2H、各々dt、Ｊ＝８Hz、Ｊ＝２Hz、

【式】） 8.14−7.92（3H、ｍ、

【式】 C₆−Ｈ、ピリジン環のC₄−Ｈ） 7.69（1H、ｔ、Ｊ＝８Hz、

【式】） 7.60（1H、bs、フラニルのC₅−Ｈ） 7.53（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz、

【式】） 7.36（1H、dd、Ｊ＝８Hz、Ｊ＝２Hz、

【式】） 7.30−7.11（7H、ｍ、

【式】、 ピリジン環のC_3,5−ＨとフラニルのC₃−Ｈ） 6.55（1H、dd、Ｊ＝４Hz、Ｊ＝２Hz、フラニル
のC₄−Ｈ） 6.34（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.75−4.15（6H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈと

【式】） 2.77−2.01（5H、C₂′−ＨとCH₃） 実施例 45 5′−０−シクロヘキサノイル−2′−デオキシ−
3′−０−（２，４−ジクロロベンジル−５−フ
ルオロ−３−｛３−〔３−シアノ−６−（３−メ
チルベンゾイル）−２−ピリジルオキシカルボ
ニル〕ベンゾイル｝ウリジンの製造 実施例15と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率13％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.66（1H、ｔ、Ｊ＝２Hz、

【式】） 8.52と8.35−8.18（3H、ｍ、

【式】とピリジン環のC₄−Ｈ） 8.04−7.92（2H、ｍ、

【式】） 7.86−7.65（21H、ｍ、C₆−Ｈと

【式】） 7.49−7.16（6H、ｍ、ピリジン環のC₅−Ｈ、

【式】と

【式】） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.55（2H、ｓ、

【式】 4.42−4.09（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.85−1.10（16H、ｍ、C₂′−Ｈ、CH₃、シクロ
ヘキシル） 実施例 46 3′−０−ベンジル−３−〔３−（５−クロロ−
１，２−ジヒドロ−１−エトキシメチル−２−
オキソ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベン
ゾイル〕−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率49％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.67−8.19（4H、ｍ、C₆−Ｈと

【式】） 7.77−7.61（2H、ｍ、

【式】と ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.30（5H、ｓ、

【式】） 6.66（1H、ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 5.34（2H、ｓ、Ｎ−ＣH₂ Ｏ−） 4.52（2H、ｓ、

【式】） 4.32−3.81（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 3.64（2H、ｑ、Ｊ＝７Hz、−OCH₂ CH₃） 3.10（1H、bs、C₅′−OH） 2.52−2.19（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 1.24（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz、OCH₂CH₃ ） 実施例 47 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率39％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.71−8.10（6H、ｍ、C₆−Ｈと

【式】と

【式】） 7.97（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ビリジン環のC₄−
Ｈ） 7.76−7.40（4H、ｍ、

【式】と

【式】）、 7.28（5H、ｓ、

【式】） 7.25（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−
Ｈ） 6.23（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.48（2H、ｓ、

【式】） 4.26−3.66（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 3.07（1H、bs、C₅′−OH） 2.52−2.12（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 48 ３−〔３−（６−（ベンゾイルオキシ−３−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−０−（４−クロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率45％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.69−8.11（6H、ｍ、C₆−Ｈと

【式】と

【式】） 7.98（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−
Ｈ） 7.76−7.39（4H、ｍ、

【式】と

【式】） 7.30−7.11（5H、ｍ、

【式】と ピリジン環のC₅−Ｈ） 6.22（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.42（2H、ｓ、

【式】） 4.23−3.75（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 3.06（1H、bs、C₅′−OH） 2.66−2.02（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 49 ３−〔４−（６−（ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−フ
ロイル〕−3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−
５−フルオロウリジンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率31％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.35（2H、ｓ、

【式】） 8.18−7.94（4H、ｍ、C₆−Ｈとピリジン環のC₄
−Ｈと

【式】） 7.63−7.38（4H、ｍ、ピリジン環のC₅−Ｈと

【式】） 7.25（5H、ｓ、

【式】） 6.12（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.39と4.37（各々、1H、ｓ、

【式】） 4.25−3.55（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 2.78（1H、bs、C₅′−OH） 2.60−2.11（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 50 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率33％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.71−8.12（7H、ｍ、C₆−Ｈとピリジン環のC₄
−Ｈと

【式】と

【式】） 7.78−7.37（5H、ｍ、ピリジン環のC₅−Ｈと

【式】と

【式】） 7.29（5H、ｓ、

【式】） 6.23（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.49（2H、ｓ、

【式】） 4.29−3.66（4H、ｍ、C₃′、₄′、₅′−Ｈ） 3.47（1H、bs、C₅′−OH） 2.68−2.19（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 51 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−０−（２−クロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率43％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.72−8.12（7H、ｍ、

【式】と

【式】C₆−Ｈとピリジン環のC₄ −Ｈ） 7.78−7.15（9H、ｍ、

【式】と

【式】

【式】とピ リジン環のC₅−Ｈ） 6.26（1H、bt、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.57（2H、ｓ、

【式】） 4.33−4.17（2H、ｍ、C₃′、₄′−Ｈ） 4.01−3.71（2H、ｍ、C₅′−Ｈ） 2.86（1H、bs、C₅′−OH） 2.68−2.14（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 52 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−０−
（４−フルオロベンジル）ウリジンの製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率57％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.70−8.10（7H、ｍ、

【式】

【式】C₆−Ｈとピリジン環のC₄ −Ｈ） 7.79−6.89（6H、ｍ、

【式】

【式】とピリジン環のC₅−Ｈ） 6.22（1H、bt、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.45（2H、ｓ、

【式】） 4.31−4.10（2H、ｍ、C₃′、₄′−Ｈ） 4.00−3.63（2H、ｍ、C₅′−Ｈ） 2.80−2.00（3H、ｍ、C₅′−OH、C₂′−Ｈ） 実施例 53 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−０−
（２，４，６−トリメチルベンジル）ウリジン
の製造 実施例30と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率47％で得た。 ¹H−NMR（CDCl₃）δ： 8.67−8.12（6H、ｍ、

【式】

【式】とC₆−Ｈ） 7.97（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−
Ｈ） 7.77−7.37（4H、ｍ、

【式】と

【式】） 7.25（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−
Ｈ） 6.82（2H、ｓ、

【式】） 6.27（1H、bt、Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.48（2H、ｓ、

【式】） 4.27−4.02（2H、ｍ、C₃′、₄′−Ｈ） 4.00−3.71（2H、ｍ、C₅′−Ｈ） 2.72−2.05（12H、ｍ、5′−OH、C₂′−Ｈ、CH₃
×３） 実施例 54 3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−３−〔３−（１，６−ジヒドロキシ−６−オ
キソ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾ
イル〕ウリジンの製造 実施例33と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率33％で得た。 ¹H−NMR（DMSO−d₆）δ： 11.45（1H、bs、NH） 8.66−8.44（4H、ｍ、

【式】と ピリドン環のC₄−Ｈ） 7.94−7.73（2H、ｍ、

【式】とC₆ −Ｈ） 7.33（5H、ｓ、フエニル−Ｈ） 6.81と6.64（2H、各々ｄ、Ｊ＝８Hz、ピリドン
環のC_3,5−Ｈ） 6.11（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、C₁′−Ｈ） 5.29（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz、C₅′−OH） 4.54（2H、ｓ、

【式】） 4.29−4.10（2H、ｍ、C₃′、₄′−Ｈ） 3.74−3.63（2H、ｍ、C₅′−Ｈ） 2.45−2.23（2H、ｍ、C₂′−Ｈ） 実施例 55 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジンの製造 ６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒド
ロキシピリジン1.00ｇのジオキサン50ml溶液にト
リエチルアミン2.88ml及び塩化イソフタロイル
1.01ｇを加え、室温下1.5時間攪拌した。 別途に3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジン1.40ｇのジオキサン50ml溶液に
トリエチルアミン2.88ml及びトリメチルシリルク
ロライド0.69mlを加え室温下１時間攪拌した。反
応溶液を過濃縮し、残渣を先に調製した反応溶
液に加え、80℃で30分攪拌した。反応溶液を過
濃縮し残渣をアセトン20mlに溶かしこれに水５ml
を加え、75℃で１時間攪拌した。アセトンを濃縮
後酢酸エチル50mlを加え抽出した。有機層を水洗
後、硫酸マグネシウムで乾燥、次いで濃縮し、残
渣をベンゼン：酢酸エチル（４：１）を移動相、
フロリジルを固定相としたカラムクロマトグラフ
イーに付したところ目的とする化合物が80mg（３
％）得られた。 得られた化合物を、薄層クロマトグラフイー及
び液体クロマトグラフイーにて分析したところ、
実施例50で得られた化合物と同一であつた。 薬理試験例 ICR系マウスに腹水として、継代したザルコー
マ（Sarcoma）−180を、生理食塩水で希釈して
１匹当り２×10⁷個となる量を同系マウスの背部
皮下に移植し実験に供した。腫瘍移植24時間後よ
り１日１回、７日間、５％アラビアゴムで懸濁さ
せた薬剤を連日経口投与した。 腫瘍移植10日目に背部皮下の固型癌を摘出し、
腫瘍重量を測定し、薬剤投与の腫瘍重量（Ｔ）と
薬剤未投与の対照群の腫瘍重量(C)との比（Ｔ／
Ｃ）を求め、薬剤投与量と該比（Ｔ／Ｃ）の用量
−反応曲線よりＴ／Ｃが0.5となる50％腫瘍抑制
用量（ED50値）を求めた。結果を第１表に示す。

【表】

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Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R¹はフエニル環上に低級アルキル基、低
   級アルコキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル
   基、低級アルコキシカルボニル基及びジ（低級ア
   ルキル）アミノ基から選ばれる置換基を有するこ
   とのあるベンジル基又は置換基として低級アルキ
   レンジオキシ基又はフエニル基を有するベンジル
   基又はフエニル低級アルケニル基又はナフチル低
   級アルキル基を示し、 R²は水素原子又はアシル基を示し、 R³は水素原子、アシル基又はテトラヒドロフ
   ラニル基を示す。 但しR²及びR³の少なくとも一方はアシル基で
   あり、該アシル基の少なくとも一方は、式 （式中R^xは置換基として水酸基、オキソ基、ハ
   ロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、シアノ
   基、ニトロ基、カルバモイル基、低級アルキルカ
   ルバモイル基、カルボキシ低級アルキルカルバモ
   イル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
   カルバモイル基、フエニル環上に置換基としてハ
   ロゲン原子、低級アルコキシ基及び低級アルキル
   基を１〜３個有することのあるフエニルカルバモ
   イル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルコキシカルボニル基、テトラヒドロフラニ
   ル基、テトラヒドロピラニル基、低級アルコキシ
   低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル
   基、フエニル低級アルコキシ低級アルキル基、フ
   タリジル基及びアシルオキシ基から選ばれた基の
   １〜４個を有することのあるピリジル基を、Ｙは
   アリーレン基を示す）で表されるピリジルオキシ
   カルボニルアリーレンカルボニル基を示すものと
   する。〕 で表される2′−デオキシ−５−フルオロウリジン
   誘導体。 ２ R³が、式 （式中R^x′は置換基として水酸基、オキソ基、ハ
   ロゲン原子、シアノ基及びアシルオキシ基から選
   ばれた基の１〜４個を有することのあるピリジル
   基を、Y′はフエニレン基を示す） で表されるピリジルオキシカルボニルフエニレン
   カルボニル基である、特許請求の範囲第１項記載
   の2′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体。 ３ 5′−Ｏ−アセチル−３−〔３−（４−ベンゾイ
   ルオキシ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカル
   ボニル）ベンゾイル〕−3′−Ｏ−ベンジル−2′−
   デオキシ−５−フルオロウリジンである特許請求
   の範囲第２項記載の2′−デオキシ−５−フルオロ
   ウリジン誘導体。 ４ 5′−Ｏ−アセチル−３−〔３−（４−アセチル
   オキシ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカルボ
   ニル）ベンゾイル〕−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デ
   オキシ−５−フルオロウリジンである特許請求の
   範囲第２項記載の2′−デオキシ−５−フルオロウ
   リジン誘導体。 ５ 5′−Ｏ−アセチル−３−〔３−（４−アセトキ
   シ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカルボニ
   ル）ベンゾイル〕−3′−Ｏ−（４−クロロベンジ
   ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンであ
   る特許請求の範囲第２項記載の2′−デオキシ−５
   −フルオロウリジン誘導体。 ６ ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
   ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
   ル〕−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フ
   ルオロウリジンである特許請求の範囲第２項記載
   の2′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体。