JPH0571594B2 - - Google Patents

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JPH0571594B2
JPH0571594B2 JP86181027A JP18102786A JPH0571594B2 JP H0571594 B2 JPH0571594 B2 JP H0571594B2 JP 86181027 A JP86181027 A JP 86181027A JP 18102786 A JP18102786 A JP 18102786A JP H0571594 B2 JPH0571594 B2 JP H0571594B2
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JP
Japan
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phenyl
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lower alkyl
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Setsuo Fujii
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Priority to SE8701118A priority patent/SE464303B/sv
Priority to CH1091/87A priority patent/CH671578A5/de
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Priority to DE3709699A priority patent/DE3709699C2/de
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な５−フルオロウラシル誘導体及
びその製造法に関する。 従来の技術 本発明誘導体は文献未載の新規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬として有用な化
合物及びその製造法を提供することを目的とす
る。 問題点を解決するための手段 上記目的は下記一般式(1)で表わされる５−フル
オロウラシル誘導体により達成される。 一般式 【式】 〔式中R1は置換基として水酸基、ハロゲン原
子、シアノ基、オキソ基、テトラヒドロフラニル
基、フエニル基を有する低級アルコキシ低級アル
キル基、フエニル低級アルキルオキシ基、低級ア
ルカノイルオキシ基、フエニル環上に置換基とし
てハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコ
キシ基からなる群から選ばれた基の１〜３個を有
することのあるベンゾイルオキシ基、フラニルカ
ルボニルオキシ基、チエニルカルボニルオキシ基
及びナフチルカルボニルオキシ基なる群から選ば
れた基の１〜４個を有するピリジル基を示す。Ａ
はフエニレン基、ピリジンジイル基又はフランジ
イル基を示す。R2は後記一般式(e)〜(g)で表わさ
れる５−フルオロウラシル誘導体の残基を示す。 本発明者等は公知の５−フルオロウラシル誘導
体の抗腫瘍効果の強化向上及び／又は低毒性化を
企てるべく鋭意検討を重ねた結果、上記一般式(1)
で表わされる新規な化合物の合成に成功すると共
に、該化合物が上記目的に合致した優れた制癌作
用を発揮し、抗腫瘍剤として極めて有用であるこ
とを見い出した。 本明細書において定義される各基は、夫々以下
の通りである。 低級アルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル
基を、低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基を、また
ハロゲン原子としては、フツ素、塩素、臭素、沃
素原子を夫々例示できる。更に本明細書において
定義される各基は、それぞれ以下の通りである。 低級アルキルカルバモイル基としては、Ｎ−メ
チルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ
−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカル
バモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ｔ−ブ
チルカルバモイル、Ｎ−ペンチルカルバモイル、
Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロ
ピル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ
−メチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチ
ルカルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルカ
ルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジペンチルカルバモイル、
Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ−ヘ
キシル−Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ
ヘキシルカルバモイル基等の炭素数１〜６のアル
キル基の１〜２個を有するアルキルカルバモイル
基を例示できる。 低級アルコキシカルボニル基としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
基等の炭素数１〜６のアルコキシ基を有するカル
ボニル基を例示できる。 低級アルコキシ低級アルキル基としては、メト
キシメチル、３−メトキシプロピル、４−エトキ
シブチル、６−プロポキシヘキシル、５−イソプ
ロポキシペンチル、１，１−ジメチル−２−ブト
キシエチル、２−メチル−３−ｔ−ブトキシプロ
ピル、２−ペンチルオキシエチル、２−ヘキシル
オキシエチル基等のアルコキシ部分及びアルキル
部分が夫々炭素数１〜６であるアルコキシアルキ
ル基を例示できる。 フエニル基を有する低級アルコキシ低級アルキ
ル基としては、ベンジルオキシメチル、２−ベン
ジルオキシエチル、５−（２−フエニルペンチル
オキシ）ペンチル、６−ベンジルオキシヘキシ
ル、６−（４−フエニルヘキシルオキシ）ヘキシ
ル、２−フエニルエトキシメチル、２−（フエニ
ルメトキシ）エチル、２−（フエニルメトキシ）
プロピル、４−（フエニルメトキシ）ブチル、５
−（フエニルメトキシ）ペンチル、６−（フエニル
メトキシ）ヘキシル、２−（２−フエニルエトキ
シ）エチル、２−（４−フエニルブトキシ）エチ
ル、４−（４−フエニルブトキシ）ブチル、６−
フエニルメトキシヘキシル基等の、フエニル基を
置換基として有しており、且つアルコキシ部分及
びアルキル部分が夫々炭素数１〜６であるアルコ
キシアルキル基を例示できる。 フエニル環上に置換基としてハロゲン原子、低
級アルコキシ基及び低級アルキル基から選ばれた
基の１〜３個を有することのあるフエニル低級ア
ルキルオキシ基のフエニル低級アルキル基として
は、ベンジル、２−メチルベンジル、３−メチル
ベンジル、４−メチルベンジル、２−エチルベン
ジル、３−エチルベンジル、４−エチルベンジ
ル、２−プロピルベンジル、３−プロピルベンジ
ル、４−プロピルベンジル、２−ブチルベンジ
ル、３−ブチルベンジル、４−ブチルベンジル、
２−ｔ−ブチルベンジル、３−ｔ−ブチルベンジ
ル、４−ｔ−ブチルベンジル、２−ペンチルベン
ジル、３−ペンチルベンジル、４−ペンチルベン
ジル、２−ヘキシルベンジル、３−ヘキシルベン
ジル、４−ヘキシルベンジル、２，３−ジメチル
ベンジル、２，４−ジメチルベンジル、２，５−
ジメチルベンジル、２，６−ジメチルベンジル、
３，４−ジメチルベンジル、３，５−ジメチルベ
ンジル、２，３，４−トリメチルベンジル、２，
４，５−トリメチルベンジル、２，３，５−トリ
メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジ
ル、３，４，５−トリメチルベンジル、２，３−
ジエチルベンジル、２，４−ジエチルベンジル、
２，５−ジエチルベンジル、２，６−ジエチルベ
ンジル、２，４，６−トリエチルベンジル、２，
４−ジプロピルベンジル、３，４，５−トリエチ
ルベンジル、３−メチル−４−エチルベンジル、
１−フエニルエチル、２−フエニルエチル、２−
フエニル−１−メチルエチル、１−（２−メチル
フエニル）エチル、２−（２−メチルフエニル）
エチル、２−（３−メチルフエニル）エチル、２
−（４−メチルフエニル）エチル、１−（２，４−
ジメチルフエニル）エチル、２−（２，４−ジメ
チルフエニル）エチル、１−（２，４，６−トリ
メチルフエニル）エチル、２−（２，４，６−ト
リメチルフエニル）エチル、３−フエニルプロピ
ル、３−（４−メチルフエニル）プロピル、４−
フエニルブチル、４−（２−メチルフエニル）ブ
チル、５−フエニルペンチル、５−（３−メチル
フエニル）ペンチル、６−フエニルヘキシル、６
−（４−メチルフエニル）ヘキシル、２−メトキ
シベンジル、３−メトキシベンジル、４−メトキ
シベンジル、２，３−ジメトキシベンジル、２，
４−ジメトキシベンジル、２，５−ジメトキシベ
ンジル、３−メトキシ−４−エトキシベンジル、
２，６−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキ
シベンジル、３，５−ジメトキシベンジル、２，
３，４−トリメトキシベンジル、２，４，５−ト
リメトキシベンジル、２，３，５−トリメトキシ
ベンジル、２，４，６−トリメトキシベンジル、
３，４，５−トリメトキシベンジル、２−エトキ
シベンジル、４−プロポキシベンジル、３−ブト
キシベンジル、２−ｔ−ブトキシベンジル、３−
ペンチルオキシベンジル、４−ヘキシルオキシベ
ンジル、２，３−ジエトキシベンジル、１−（４
−メトキシフエニル）エチル、２−（３，４−ジ
メトキシフエニル）エチル、３−（４−メトキシ
フエニル）プロピル、４−（２−メトキシフエニ
ル）ブチル、５−（４−メトキシフエニル）ペン
チル、６−（４−メトキシフエニル）ヘキシル、
６−（３，４，５−トリペンチルオキシフエニル）
ヘキシル、２−フルオロベンジル、３−フルオロ
ベンジル、４−フルオロベンジル、２，３−ジフ
ルオロベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、
２，５−ジフルオロベンジル、２−フルオロ−３
−クロロベンジル、２−フルオロ−３−ブロモベ
ンジル、２，６−ジフルオロベンジル、２，３，
４−トリフルオロベンジル、２，４，５−トリフ
ルオロベンジル、２，３，５−トリフルオロベン
ジル、２，４，６−トリフルオロベンジル、３，
４，５−トリフルオロベンジル、１−（２−フル
オロフエニル）エチル、２−（２−フルオロフエ
ニル）エチル、３−（３−フルオロフエニル）プ
ロピル、４−（２−フルオロフエニル）ブチル、
５−（２−フルオロフエニル）ペンチル、６−（３
−フルオロフエニル）ヘキシル、２−ブロモベン
ジル、３−ブロモベンジル、４−ブロモベンジ
ル、２，３−ジブロモベンジル、２−ブロモ−３
−フルオロベンジル、２−フルオロ−４−ブロモ
ベンジル、２，４−ジブロモベンジル、２，５−
ジブロモベンジル、２，６−ジブロモベンジル、
２，３，４−トリブロモベンジル、２，４，５−
トリブロモベンジル、２，３，５−トリブロモベ
ンジル、２，４，６−トリブロモベンジル、３，
４，５−トリブロモベンジル、１−（２−ブロモ
フエニル）エチル、２−（２−ブロモフエニル）
エチル、３−（２−ブロモフエニル）プロピル、
４−（３−ブロモフエニル）ブチル、５−（２−ブ
ロモフエニル）ペンチル、６−（４−ブロモフエ
ニル）ヘキシル、２−クロロベンジル、３−クロ
ロベンジル、４−クロロベンジル、２，３−ジク
ロロベンジル、２，４−ジクロロベンジル、２，
５−ジクロロベンジル、２，６−ジクロロベンジ
ル、２−ブロモ−４−クロロベンジル、２−フル
オロ−４−クロロベンジル、２，３，４−トリク
ロロベンジル、２，４，５−トリクロロベンジ
ル、２，３，５−トリクロロベンジル、２，４，
６−トリクロロベンジル、３，４，５−トリクロ
ロベンジル、１−（４−クロロフエニル）エチル、
２−（４−クロロフエニル）エチル、３−（２−ク
ロロフエニル）プロピル、４−（４−クロロフエ
ニル）ブチル、５−（３−クロロフエニル）ペン
チル、６−（４−クロロフエニル）ヘキシル、２
−（３，４−ジクロロフエニル）エチル、２−ヨ
ードベンジル、３−ヨードベンジル、４−ヨード
ベンジル、３，４−ジヨードベンジル、３，４，
５−トリヨードベンジル、２−（３−ヨードフエ
ニル）エチル、６−（２−ヨードフエニル）ヘキ
シル基等のフエニル環上に置換基として炭素数１
〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基
及びハロゲン原子から選ばれた基の１〜３個を有
するか又は有さず且つアルキル部分が炭素数１〜
６であるフエニルアルキル基をフエニル低級アル
キルオキシ基としては、ベンジルオキシ、１−フ
エニルエチルオキシ、２−フエニルエチルオキ
シ、２−フエニル−１−メチルエチルオキシ、３
−フエニルプロピルオキシ、４−フエニルブチル
オキシ、５−フエニルペンチルオキシ、６−フエ
ニルヘキシルオキシ基等のアルキル部分が炭素数
１〜６であるフエニルアルキルオキシ基を例示で
きる。 低級アルカノイルオキシ基としては、ホルミル
オキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、
ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノ
イルオキシ、ヘキサノイルオキシ基等の炭素数１
〜６のアルカノイルオキシ基をできる。 フエニル環上に置換基としてハロゲン原子、低
級アルキル基及び低級アルコキシ基からなる群か
ら選ばれた基の１〜３個を有することのあるベン
ゾイルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基の
他、２−メチルベンゾイルオキシ、３−メチルベ
ンゾイルオキシ、４−メチルベンゾイルオキシ、
２，４−ジメチルベンゾイルオキシ、３，４，５
−トリメチルベンゾイルオキシ、４−エチルベン
ゾイルオキシ、２−メトキシベンゾイルオキシ、
３−メトキシベンゾイルオキシ、４−メトキシベ
ンゾイルオキシ、２，４−ジメトキシベンゾイル
オキシ、３，４，５−トリメトキシベンゾイルオ
キシ、４−エトキシベンゾイルオキシ、２−メト
キシ−４−エトキシベンゾイルオキシ、２−プロ
ポキシベンゾイルオキシ、３−プロポキシベンゾ
イルオキシ、４−プロポキシベンゾイルオキシ、
２，４−ジプロポキシベンゾイルオキシ、３，
４，５−トリプロポキシベンゾイルオキシ、２−
クロロベンゾイルオキシ、３−クロロベンゾイル
オキシ、４−クロロベンゾイルオキシ、２，３−
ジクロロベンゾイルオキシ、２，４−ジクロロベ
ンゾイルオキシ、２，４，６−トリクロロベンゾ
イルオキシ、２−ブロモベンゾイルオキシ、４−
ブロモベンゾイルオキシ、４−フルオロベンゾイ
ルオキシ基等の、置換基として炭素数１〜６のア
ルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基及びハロ
ゲン原子からなる群から選ばれた基の１〜３個を
有するベンゾイルオキシ基を例示できる。 フラニルカルボニルオキシ基としては、２−フ
ラニルカルボニルオキシ、３−フラニルカルボニ
ルオキシ基等のフラニルカルボニルオキシ基を例
示できる。 チエニルカルボニルオキシ基としては、２−チ
エニルカルボニルオキシ、３−チエニルカルボニ
ルオキシ基等のチエニルカルボニルオキシ基を例
示できる。 ナフチルカルボニルオキシ基としては、α−ナ
フチルカルボニルオキシ、β−ナフチルカルボニ
ルオキシ基等のナフチルカルボニルオキシ基を例
示できる。 また、後記する一般式(f)において定義されるア
シルオキシ基のアシル基には、以下の各群に属す
るものが包含される。 (1) ハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基、
アリールオキシ基及び置換もしくは無置換アリ
ール基からなる群から選ばれる基を置換基とし
て有するか又は有さない炭素数１〜20のアルカ
ノイル基。 その例としては、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノ
イル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノ
イル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイ
ル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデ
カノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノ
ナデカノイル、エイコサノイル基等の炭素数１
〜20の未置換アルカノイル基、及びモノクロロ
アセチル、モノブロモアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセチル、３−クロロプロピ
オニル、４−クロロブチリル、５−クロロペン
タノイル、６−クロロペンタノイル基等のハロ
ゲン原子が１〜３個置換した炭素数２〜６のア
ルカノイル基；ヒドロキシアセチル、３−ヒド
ロキシプロピオニル、５−ヒドロキシペンタノ
イル、４−ヒドロキシブタノイル、６−ヒドロ
キシヘキサノイル基等の水酸基置換の炭素数２
〜６のアルカノイル基；メトキシアセチル、エ
トキシアセチル、３−プロポキシプロピオニ
ル、６−ヘキシルオキシヘキサノイル、３−メ
トキシプロピオニル基等の炭素数１〜６のアル
コキシ置換の炭素数２〜６のアルカノイル基；
フエノキシアセチル、２−フエノキシプロピオ
ニル、３−フエノキシプロピオニル、４−フエ
ノキシブチリル、５−フエノキシペンタノイ
ル、６−フエノキシヘキサノイル、α−ナフチ
ルオキシアセチル基等のフエノキシ又はナフチ
ルオキシ置換の炭素数２〜６のアルカノイル
基；α−フエニルアセチル、２−フエニルプロ
ピオニル、３−フエニルプロピオニル、４−フ
エニルブチリル、５−フエニルペンタノイル、
６−フエニルヘキサノイル、α−（２−クロロ
フエニル）アセチル、α−メチルフエニル）ア
セチル、α−（３，４，５−トリメトキシフエ
ニル）アセチル、α−（３，４−ジメトキシフ
エニル）アセチル、６−（４−カルボキシフエ
ニル）ヘキサノイル、４−（４−エトキシカル
ボニルフエニル）ペンタノイル、α−（４−ニ
トロフエニル）アセチル、α−（４−シアノフ
エニル）アセチル、α−ナフチルアセチル、β
−ナフチルアセチル基等のアリール環（フエニ
ル環、ナフチル環等）上に置換基としてハロゲ
ン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１
〜６のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコ
キシ部分の炭素数が１〜６であるアルコキシカ
ルボニル基、ニトロ基及びシアノ基からなる群
から選ばれた基の１〜３個を有するか又は有さ
ないアリール置換の炭素数２〜６のアルカノイ
ル基等を例示できる。 (2) アリール環上に置換基としてハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキ
シル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルキルアミノ基、ニトロ基及びシアノ基からな
る群から選ばれた置換基の１〜３個を有するこ
とのあるアリールカルボニル基。 その例としては、ベンゾイル、α−ナフチル
カルボニル、β−ナフチルカルボニル、２−メ
チルベンゾイル、３−メチルベンゾイル、４−
メチルベンゾイル、２，４−ジメチルベンゾイ
ル、３，４，５−トリメチルベンゾイル、４−
エチルベンゾイル、２−メトキシベンゾイル、
３−メトキシベンゾイル、４−メトキシベンゾ
イル、２，４−ジメトキシベンゾイル、３，
４，５−トリメトキシベンゾイル、４−エトキ
シベンゾイル、２−メトキシ−４−エトキシベ
ンゾイル、２−プロポキシベンゾイル、３−プ
ロポキシベンゾイル、４−プロポキシベンゾイ
ル、２，４−ジプロポキシベンゾイル、３，
４，５−トリプロポキシベンゾイル、２−カル
ボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイ
ル、４−カルボキシベンゾイル、２−クロロベ
ンゾイル、３−クロロベンゾイル、４−クロロ
ベンゾイル、２，３−ジクロロベンゾイル、
２，４−ジクロロベンゾイル、２，４，６−ト
リクロロベンゾイル、２−ブロモベンゾイル、
４−ブロモベンゾイル、４−フルオロベンゾイ
ル、２−メトキシカルボニルベンゾイル、３−
メトキシカルボニルベンゾイル、４−メトキシ
カルボニルベンゾイル、２−エトキシカルボニ
ルベンゾイル、３−エトキシカルボニルベンゾ
イル、４−エトキシカルボニルベンゾイル、２
−プロポキシカルボニルベンゾイル、３−プロ
ポキシカルボニルベンゾイル、４−プロポキシ
カルボニルベンゾイル、２−イソプロポキシカ
ルボニルベンゾイル、３−イソプロポキシカル
ボニルベンゾイル、４−イソプロポキシカルボ
ニルベンゾイル、２−ブトキシカルボニルベン
ゾイル、３−ブトキシカルボニルベンゾイル、
４−ブトキシカルボニルベンゾイル、２−ｔ−
ブトキシカルボニルベンゾイル、３−ｔ−ブト
キシカルボニルベンゾイル、４−ｔ−ブトキシ
カルボニルベンゾイル、２−ペンチルオキシカ
ルボニルベンゾイル、３−ペンチルオキシカル
ボニルベンゾイル、４−ペンチルオキシカルボ
ニルベンゾイル、２−ヘキシルオキシカルボニ
ルベンゾイル、３−ヘキシルオキシカルボニル
ベンゾイル、４−ヘキシルオキシカルボニルベ
ンゾイル、３，５−ジメトキシカルボニルベン
ゾイル、３，４，５−トリメトキシカルボニル
ベンゾイル、β−メチル−α−ナフチルカルボ
ニル、α−メトキシ−β−ナフチルカルボニ
ル、β−クロロ−α−ナフチルカルボニル、４
−ジメチルアミノベンゾイル、３−ジエチルア
ミノベンゾイル、４−プロピルアミノベンゾイ
ル、２−シアノベンゾイル、４−シアノベンゾ
イル、２−ニトロベンゾイル、４−ニトロベン
ゾイル基等の、置換基として炭素数１〜６のア
ルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロ
ゲン原子、カルボキシル基、炭素数１〜６のア
ルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基及びアル
コキシ部分の炭素数が１〜６であるアルコキシ
カルボニル基からなる群から選ばれた基を１〜
３個有するか又は有さないアリールカルボニル
基を例示できる。 (3) ヘテロ原子として窒素原子、硫黄原子又は酸
素原子を有する５員又は６員の不飽和ヘテロ環
カルボニル基。 その例としては、２−フラニルカルボニル、
３−フラニルカルボニル、２−チエニルカルボ
ニル、３−チエニルカルボニル、４−チアゾリ
ルカルボニル、２−キノリルカルボニル、２−
ピラジニルカルボニル、２−ピリジルカルボニ
ル、３−ピリジルカルボニル、４−ピリジルカ
ルボニル基等のフラニルカルボニル、チエニル
カルボニルチアゾリルカルボニル、キノリルカ
ルボニル、ピラジニルカルボニル、ピリジルカ
ルボニル基等を例示できる。 (4) アリールオキシカルボニル基、鎖状もしくは
環状の飽和もしくは不飽和のアルコキシカルボ
ニル基等の炭酸エステル残基。 その例としては、フエノキシカルボニル、α
−ナフチルオキシカルボニル、β−ナフチルオ
キシカルボニル、２−メチルフエノキシカルボ
ニル、３−メチルフエノキシカルボニル、４−
メチルフエノキシカルボニル、２，４−ジメチ
ルフエノキシカルボニル、３，４，５−トリメ
チルフエノキシカルボニル、４−エチルフエノ
キシカルボニル、２−メトキシフエノキシカル
ボニル、３−メトキシフエノキシカルボニル、
４−メトキシフエノキシカルボニル、２，４−
ジメトキシフエノキシカルボニル、３，４，５
−トリメトキシフエノキシカルボニル、４−エ
トキシフエノシキカルボニル、２−プロポキシ
フエノシキカルボニル、３−プロポキシフエノ
キシカルボニル、４−プロポキシフエノキシカ
ルボニル、２，４−ジプロポキシフエノキシカ
ルボニル、３，４，５−トリプロポキシフエノ
キシカルボニル、２−クロロフエノキシカルボ
ニル、３−クロロフエノキシカルボニル、４−
クロロフエノキシカルボニル、２，３−ジクロ
ロフエノキシカルボニル、２，４，６−トリク
ロロフエノキシカルボニル、２−ブロモフエノ
キシカルボニル、４−フルオロフエノキシカル
ボニル、β−メチル−α−ナフチルオキシカル
ボニル、α−メトキシ−β−ナフチルオキシカ
ルボニル、β−クロロ−α−ナフチルオキシカ
ルボニル基等のアリール環（フエニル環、ナフ
チル環等）上に置換基としてハロゲン原子、炭
素数１〜６のアルコキシ基及び炭素数１〜６の
アルキル基の１〜３個を有しもしくは有さない
アリールオキシカルボニル基；メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブトキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
基等のアルコキシ部分の炭素数が１〜６である
アルコキシカルボニル基；シクロプロピルオキ
シカルボニル、シクロブチルオキシカルボニ
ル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロ
ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオ
キシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボ
ニル基等のシクロアルキル部分の炭素数が３〜
８であるシクロアルコキシカルボニル基；ビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ル、２−ブテニルオキシカルボニル、３−ブテ
ニルオキシカルボニル、２−ヘキセニルオキシ
カルボニル、１−メチルアリルオキシカルボニ
ル、２−ペンテニルオキシカルボニル、３−ヘ
キセニルオキシカルボニル等のアルケニル部分
の炭素数が２〜６であるアルケニルオキシカル
ボニル基；エチニルオキシカルボニル、プロピ
オニルオキシカルボニル、２−ブチニルオキシ
カルボニル、１−メチル−３−ペンチニルオキ
シカルボニル、４−ヘキシニルオキシカルボニ
ル等のアルキニル部分の炭素数が２〜６である
アルキニルオキシカルボニル基等を例示でき
る。 (5) 置換又は未置換のシクロアルキルカルボニル
基。 その例としては、シクロプロピルカルボニ
ル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチル
カルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シク
ロヘプチルカルボニル、シクロオクチルカルボ
ニル、２−クロロシクロヘキシルカルボニル、
３−ヒドロキシシクロペンチルカルボニル、３
−メチルシクロヘキシルカルボニル、４−メト
キシシクロヘキシルカルボニル基等のシクロア
ルキル環上に置換基としてハロゲン原子、水酸
基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数１
〜６のアルキル基を有することがあり、且つシ
クロアルキル環の炭素数が３〜８であるシクロ
アルキルカルボニル基を例示できる。 (6) 低級アルケニル（又は低級アルキニル）カル
ボニル基。 その例としては、ビニルカルボニル、アリル
カルボニル、２−ブテニルカルボニル、３−ブ
テニルカルボニル、１−メチルアリルカルボニ
ル、２−ペンテニルカルボニル、３−ヘキセニ
ルカルボニル、エチニルカルボニル、プロピニ
ルカルボニル、２−ブチニルカルボニル、１−
メチル−３−ペンチニルカルボニル、４−ヘキ
シニルカルボニル基等の炭素数２〜６のアルケ
ニル基又はアルキニル基を有するアルケニル−
又はアルキニル−カルボニル基を例示できる。
更に、低級アルカノイルオキシ基としては、ホ
ルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニル
オキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキ
シ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ
基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアル
カノイルオキシ基を例示できる。 低級アルカノイルオキシ低級アルコキシカルボ
ニル基としては、アセチルオキシメトキシカルボ
ニル、４−（ホルミルオキシ）ブトキシカルボニ
ル、６−（プロピオニルオキシ）ヘキシルオキシ
カルボニル、５−（イソブチリルオキシ）ペンチ
ルオキシカルボニル、６−（ヘキサノイルオキシ）
ヘキシルオキシカルボニル、２−（ヘキサノイル
オキシ）エトキシカルボニル、２−（アセチルオ
キシ）エトキシカルボニル、アセチルオキシメト
キシカルボニル基等の、アルカノイル部分及びア
ルコキシ部分の炭素数が各々１〜６であるアルカ
ノイルオキシアルコキシカルボニル基を例示でき
る。 更に加えて、一般式(1)においてＡで表わされる
フエニレン基、ピリジンジイル基及びフランジイ
ル基としては、１，２−フエニレン、１，３−フ
エニレン、１，４−フエニレン基等のフエニレン
基、２，３−ピリジンジイル、２，４−ピリジン
ジイル、２，５−ピリジンジイル、２，６−ピリ
ジンジイル、３，４−ピリジンジイル、３，５−
ピリジンジイル基等のピリジンジイル基及び２，
３−フランジイル、３，４−フランジイル、２，
５−フランジイル基等のフランジイルイ基をそれ
ぞれ例示できる。 本発明化合物を表わす前記一般式(1)中、R1（置
換ピリジル基）の置換基のうち、水酸基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、オキソ基、低級アルカノイル
オキシ基、フエニル環上に置換基としてハロゲン
原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた基の１〜３個を有することの
あるベンゾイルオキシ基、フラニルカルボニルオ
キシ基、チエニルカルボニルオキシ基及びナフチ
ルカルボニルオキシ基は、好ましくはピリジン環
の２位、３位、４位、５位及び６位のいずれかの
位置に、１〜４個置換する。またピリジン環上の
置換基のうち、フエニル基を有する低級アルコキ
シ低級アルキル基及びテトラヒドロフラニル基
は、好ましくはピリジン環の１位に結合する。 特に好ましい上記置換ピルジル基（R1基）を
含むピリジルオキシカルボニルアリーレンカルボ
ニル基の具体例は、下記一般式(a)〜(d)で表わされ
る。 【化】 〔式中Ａは前記に同じ。R1aは水素原子、ハロ
ゲン原子又はシアノ基を示す。R1bは水酸基、フ
エニル低級アルキルオキシ基、低級アルカノイル
オキシ基、フエニル環上に置換基としてハロゲン
原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた基の１〜３個を有することの
あるベンゾイルオキシ基、フラニルカルボニルオ
キシ基、チエニルカルボニルオキシ基又はナフチ
ルカルボニルオキシ基を示す。ｌは１又は２を示
す。但し【式】基の置換位置はピリ ジン環の２位、４位又は６位のいずれかであり、
R1b基の置換位置は残りの２位、４位及び６位の
いずれか少なくともひとつとする。〕 【化】 〔式中Ａ及びR1aは前記に同じ。R1cはフエニル
基を有する低級アルコキシ低級アルキル基又はテ
トラヒドロフラニル基を示す。但し
【式】はピリドン環の４位又は６位 に結合するものとする。〕 【化】 〔式中Ａ、R1a及びR1cは前記に同じ。但し
【式】基はピリドン環の２位又は６ 位に結合するものとする。〕 【化】 〔式中Ａ、R1a及びR1cは前記に同じ。但し
【式】基はピリドン環の４位又は６ 位に結合するものとする。〕 上記一般式(a)〜(d)で定義されるR1a基は、特に
シアノ基及びハロゲン原子であるのが好ましい。 また、R2で示される基は、生体内で５−フル
オロウラシルに変換され得る５−フルオロウラシ
ル誘導体残基であつて、該基は、その隣接するカ
ルボニル基と、エステル結合又はアミド結合によ
り結合するものとする。該R2基を形成する５−
フルオロウラシル誘導体は、下記一般式(e)〜(g)で
表わされる。 【式】 〔式中R3は水素原子、テトラヒドロフラニル
基、低級アルキルカルバモイル基、フタリジル
基、低級アルコキシ低級アルキル基又は低級アル
カノイルオキシ低級アルコキシカルボニル基を示
す。〕 【式】 〔式中R4は水素原子、水酸基又はアシルオキ
シ基を示し、R5は水酸基、アシルオキシ基又は
フエニル環上に置換基として低級アルキル基、低
級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基
の１〜３個を有することのあるフエニル低級アル
キルオキシ基を示し、R6は水素原子、水酸基、
アシルオキシ基又はフエニル環上に置換基として
低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン
原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあ
るフエニル低級アルキルオキシ基を示す。但し
R4が水素原子のとき、R5及びR6は一方がフエニ
ル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
コキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基の１〜
３個を有することのあるフエニル低級アルキルオ
キシ基で且つ他方が水酸基又はアシルオキシ基で
あつてはならない。〕 【化】 〔式中R7は低級アルコキシカルボニル基を示
し、R8は低級アルコキシ基又は基
【式】基を示す。〕 R2が上記一般式(e)に示す基の場合、該基R2は、
その５−フルオロウラシル環の３位又は１位の窒
素原子にて、【式】基と結合して アミド結合を形成することができる。 R2が上記一般式(f)に示す基の場合、該基R2は、
その５−フルオロウラシル環の３位の窒素原子又
はその糖部分の水酸基にて、
【式】基と結合して、アミド結合 又はエステル結合を形成することができる。 R2が上記一般式(g)に示す基の場合、該基R2は、
その５−フルオロウラシル環の１位又は３位の窒
素原子にて、【式】基と結合して アミド結合を形成することができる。 該ピリジルオキシカルボニルアリーレンカルボ
ニル基を有する本発明化合物中には、ケトーエノ
ール型の互変異性体が存在する場合があり、本発
明はこれら異性体を当然に包含する。 尚、前記一般式(a)で表わされるピリジルオキシ
カルボニルアリーレンカルボニル基のうちでは、
特にR1aがシアノ基で且つR1bがハロゲン原子を
有することのあるベンゾイル基であるものが好ま
しい。また、前記一般式(e)で表わされる５−フル
オロウラシル誘導体のうちでは、特にR3が低級
アルコキシ低級アルキル基であるものが好まし
い。 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物のうち
で、特に好ましいものは、下記一般式（1A）で
表わされる。 【化】 〔式中Ra及びRbは、同一又は相異なつて、水
素原子又はハロゲン原子を示す。Rcは低級アル
コキ低級アルキル基を示す。〕 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物の代表
例を挙げれば次の通りである。 ○ ５−フルオロ−３−〔３−（４−ペンタノイル
オキシ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベン
ゾイル〕−１−（２−テトラヒドロフラニル）ウ
ラシル ○ ５−フルオロ−３−｛３−〔２−（２−メチル
ベンゾイルオキシ）−４−ピリジルオキシカル
ボニル〕ベンゾイル｝−１−（２−テトラヒドロ
フラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−４−ビリ
ジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５−フ
ルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）ウ
ラシル ○ ５−フルオロ−３−｛３−〔４−（２−ナフト
イルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕
ベンゾイル｝−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル ○ ３−〔３−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−
４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕
−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラ
ニル）ウラシル ○ ５−フルオロ−３−｛３−〔４−（２−テノイ
ルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕
ベンゾイル｝−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル ○ ３−｛３−〔４−（２−フロイルオキシ）−２−
ピリジルオキシカルボニル｝ベンゾイル｝−５
−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
ウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−ブロ
モ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル ○ ３−〔３−（２−アセトキシ−５−クロロ−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−｛３−（４−（２−クロロ−３−メチルベ
ンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボ
ニル）ベンゾイル〕−５−フルオロ−１−（２−
テトラヒドロフラニル）ウラシル ○ ５−フルオロ−３−｛３−〔４−（４−メトキ
シベンゾイルオキシ）−５−クロロ−２−ビリ
ジルオキシカルボニル〕ベンゾイル｝−１−（２
−テトラヒドロフラニル）ウラシル ○ ５−フルオロ−３−｛３−〔４−（３，４，５
−トリメトキシベンゾイルオキシ）−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル｝−１−（２−テトラヒドロフラニル）ウラシ
ル ○ ３−〔３−（１−ベンジルオキシメチル−５−
クロロ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５
−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
ウラシル ○ ３−｛３−〔５−クロロ−１，２−ジヒドロ−
２−オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル ○ ３−〔３−（１−ジヒドロ−２−オキソ−６−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５
−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
ウラシル ○ ３−｛３−〔３−クロロ−６−（４−フルオロ
ベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカル
ボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−１−（２
−テトラヒドロフラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（３，４，５−
トリメトキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジ
ルオキシカルボニル〕ベンゾイル｝−５−フル
オロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）ウラ
シル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−フロイル
オキシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベ
ンゾイル｝−５−フルオロ−１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）ウラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−テノイル
オキシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベ
ンゾイル｝−５−フルオロ−１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）ウラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２，４−ジク
ロロベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシ
カルボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−１
−（２−テトラヒドロフラニル）ウラシル ○ ３−〔３−（３−シアノ−６−アセトキシ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル ○ ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（Ｎ−ヘキシルカルバ
モイル）ウラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−フロイル
オキシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベ
ンゾイル｝−５−フルオロ−１−（Ｎ−ヘキシル
カルバモイル）ウラシル ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（Ｎ−ヘキシルカルバモイ
ル）ウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（Ｎ−ヘキシルカルバ
モイル）ウラシル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（Ｎ−ヘキシルカルバ
モイル）ウラシル ○ ３−〔３−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（Ｎ−ヘキシルカルバモイ
ル）ウラシル ○ ３−｛３−〔３−クロロ−６−（４−フルオロ
ベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカル
ボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−１−（３
−フタリジル）ウラシル ○ ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（３−フタリジル）ウ
ラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（３，４，５−
トリメトキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジ
ルオキシカルボニル〕ベンゾイル｝−５−フル
オロ−１−（３−フタリジル）ウラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２，４−ジク
ロロベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシ
カルボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−１
−（３−フタリジル）ウラシル ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（３−フタリジル）ウラシ
ル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（３−フタリジル）ウ
ラシル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（３−フタリジル）ウ
ラシル ○ ３−｛３−〔５−クロロ−１，２−ジヒドロ−
２−オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
−４−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル｝−５−フルオロ−１−（３−フタリジル）ウ
ラシル ○ １−アセトキシメトキシカルボニル−３−
〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロウラシル ○ １−アセトキシメトキシカルボニル−３−
｛３−〔３−シアノ−６−（２−テノイルオキシ）
−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル｝−５−フルオロウラシル ○ １−アセトキシメトキシカルボニル−３−
〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロウラシル ○ １−アセトキシメトキシカルボニル−３−
〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロウラシル ○ １−アセトキシメトキシカルボニル−３−
｛３−〔５−クロロ−４−（３，４，５−トリメ
トキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキ
シカルボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロウ
ラシル ○ ３−｛３−〔３−クロロ−６−（４−フルオロ
ベンゾイルオキシ−２−ピリジルオキシカルボ
ニル〕ベンゾイル｝−５，６−ジヒドロ−５−
エトキシカルボニル−５−フルオロ−６−フル
フリリデンアミノオキシウラシル ○ ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５，６−ジヒドロ−５−エトキシカルボ
ニル−５−フルオロ−６−フルフリリデンアミ
ノオキシウラシル ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（３，４，５−
トリメトキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジ
ルオキシカルボニル〕ベンゾイル｝５，６−ジ
ヒドロ−５−エトキシカルボニル−５−フルオ
ロ−６−フルフリリデンアミノオキシウラシル ○ ３−〔３−（６−アセトキシ−３−シアノ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕
５，６−ジヒドロ−５−エトキシカルボニル−
５−フルオロ−６−フルフリリデンアミノオキ
シウラシル ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕
５，６−ジヒドロ−５−エトキシカルボニル−
５−フルオロ−６−フルフリリデンアミノオキ
シウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕５，６−ジヒドロ−５−エトキシカルボニ
ル−５−フルオロ−６−フルフリリデンアミノ
オキシウラシル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕５，６−ジヒドロ−５−エトキシカルボニ
ル−５−フルオロ−６−フルフリリデンアミノ
オキシウラシル ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
１−エトキシメチル−５−フルオロウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−１−エトキシメチル−５−フルオロウラ
シル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−１−エトキシメチル−５−フルオロウラ
シル ○ ３−｛３−〔４−（２−クロロ−３−メチルベ
ンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボ
ニル〕ベンゾイル｝−１−エトキシメチル−５
−フルオロウラシル ○ ３−｛３−〔５−クロロ−４−（３，４，５−
トリメトキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジ
ルオキシカルボニル〕ベンゾイル｝−１−エト
キシメチル−５−フルオロウラシル ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロウラシル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロウラシル ○ ３−〔３−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−
６−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕
−５−フルオロウラシル ○ ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジン ○ ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−フロイル
オキシ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベン
ゾイル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセ
チル−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル−５
−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（２−アセトキシ−５−クロロ−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル−５
−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジン ○ ３−｛３−（５−クロロ−４−（４−メトキシ
ベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカル
ボニル〕ベンゾイル｝−5′−デオキシ−2′，3′−
ジ−Ｏ−アセチル−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−ベンジル
−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−（４−ク
ロロベンジル）−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−ベンジル
−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−（４−ク
ロロベンジル）−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ2′−3′，5′−トリ−Ｏ−アセ
チルウリジン ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−2′，3′，5′−トリ−Ｏ−ア
セチルウリジン ○ ３−｛３−〔５−クロロ−１，２−ジヒドロ−
２−オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
−４−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル）−５−フルオロ−2′，3′，5′−トリ−Ｏ−ア
セチルウリジン ○ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセチル−５
−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジン ○ ３−｛３−〔５−クロロ−４−（４−メトキシ
ベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカル
ボニル〕ベンゾイル｝−2′−デオキシ−3′，5′−
ジ−Ｏ−アセチル−５−フルオロウリジン ○ ３−〔３−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセチル−５
−フルオロウリジン ３−〔３−（４−ベンゾイ
ルオキシ−５−クロロ−２−ピリジルオキシカ
ルボニル）ベンゾイル〕−５−フルオロウラシ
ル ○ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロウラシル ○ ３−〔３−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−
６−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕
−５−フルオロウラシル ○ １−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロウラシル ○ １−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロウラシル ○ ３−〔４−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−
４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕
−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラ
ニル）ウラシル ○ ３−〔４−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシル ○ ３−〔４−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（３−フタリジイル）
ウラシル ○ ３−〔４−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（３−フタリジイル）ウラ
シル ○ ３−〔４−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−2′，3′，5′−トリ−Ｏ−ア
セチルウリジン ○ ３−〔４−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−フ
ロイル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒド
ロフラニル）ウラシル ○ ３−〔４−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−フ
ロイル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセ
チル−５−フルオロウリジン ○ ３−〔４−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−フ
ロイル〕−５−フルオロ−2′，3′，5′−トリ−Ｏ
−アセチルウリジン ○ ３−〔４−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）−３−フ
ロイル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒド
ロフラニル）ウラシル ○ ３−〔４−（４−アセトキシ−５−クロロ−２
−ピリジルオキシカルボニル）−３−フロイル〕
−５−フルオロ−2′，3′，5′−トリ−Ｏ−アセ
チルウリジン ○ ３−〔５−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−ニ
コチノイル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラ
ヒドロフラニル）ウラシル ○ ３−〔５−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−ニ
コチノイル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ′−Ｏ
−アセチル−５−フルオロウリジン ○ １−〔５−（６−ベンゾイルオキシ−３−シア
ノ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−ニ
コチノイル〕−５−フルオロウラシル ○ ３−〔５−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−ニ
コチノイル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−
アセチル−５−フルオロウリジン ○ ３−〔５−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロ
ロ−４−ピリジルオキシカルボニル）−３−ニ
コチノイル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラ
ヒドロフラニル）ウラシル 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物は、下
記反応工程式−１又は−２に示す方法により製造
することができる。 ＜反応工程式 １＞ 【化】 【化】 〔式中R1，R2及びＡは前記に同じ。Ｘはハロ
ゲン原子を示す。R9は水素原子又はトリ低級ア
ルキルシリル基を示す。〕 反応工程式−１に示す方法によれば、まず公知
化合物(2)と公知化合物(3)とを反応させることによ
り、中間体(4)を得る。 この反応は適当な脱酸剤の存在下、適当な溶媒
中で行なわれる。脱酸剤としては通常用いられる
もの、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基性化合物及びトリ
エチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジ
ン、ピリジン等の有機塩基性化合物を使用でき
る。溶媒としては、反応に悪影響を与えない各種
のもの、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド等を使用できる。 化合物(2)に対する化合物(3)の使用量は、特に限
定されるものではないが、通常少なくとも等モル
量程度、好ましくは等モル〜３倍モル量程度の範
囲内から選択されるのがよい。反応温度は一般に
−30〜100℃、好ましくは室温〜100℃程度とする
のがよく、反応は約10分〜20時間程度で終了す
る。 次いで、得られる中間体(4)と公知又は新規な化
合物(5)とを反応させることにより本発明の目的化
合物(1)を収得できる。この反応は、化合物(5)の種
類に応じて、R9が水素原子である化合物(5)を用
いる場合には、上記化合物(2)と化合物(3)との反応
と同条件下に行なわれる。またR9がトリ低級ア
ルキルシリル基である化合物(5)を用いる場合に
は、反応は適当な溶媒、例えばジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、アセトニトリル等のニトリル類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類等の非プロトン性溶媒を、好ましくは無
水状態で用いて実施例される。いずれの場合も反
応温度としては通常−30〜100℃、好ましくは室
温〜60℃程度が採用され、約１〜20時間で反応は
終了する。上記中間体(4)と化合物(5)との反応にお
いては、また塩化アルミニウム、塩化第二錫、塩
化亜鉛等のルイス酸の触媒量を用いることもでき
る。 化合物(5)の使用量は適宜決定されるが、通常中
間体(4)に対して少なくとも等モル量程度、好まし
くは等モル〜３倍モル程度とするのが適当であ
る。 ＜反応工程式 ２＞ 【化】 【式】 〔式中R1，R2、Ａ及びＸは前記に同じ。〕 反応工程式−２に示す化合物(6)と化合物(3)との
反応は、前記反応工程式−１に示した化合物(2)と
化合物(3)との反応と同様にして行なわれる。 かくして得られる中間体(7)と化合物(2)との反応
も、前記した化合物(2)と化合物(3)との反応と同様
にして実施することができる。 上記反応工程式−１又は−２において用いられ
る化合物(5)及び化合物(6)は、一部新規な化合物を
包含している。これら化合物は、例えば以下に示
す方法のいずれか又はこれらを適宜組み合せるこ
とにより製造できる。 ピリジン環上に低級アルカノイルオキシ基、フ
エニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級ア
ルキル基及び低級アルコキシ基からなる群から選
ばれた基の１〜３個を有することのあるベンゾイ
ルオキシ基、フラニルカルボニルオキシ基、チエ
ニルカルボニルオキシ基又はナフチルカルボニル
オキシ基を導入する反応、例えばR1基が低級ア
ルカノイルオキシ基、フエニル環上に置換基とし
てハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコ
キシ基からなる群から選ばれた基の１〜３個を有
することのあるベンゾイルオキシ基、フラニルカ
ルボニルオキシ基、チエニルカルボニルオキシ基
又はナフチルカルボニルオキシ基を置換基として
有するピリジル基である化合物(5)及び化合物(6)を
得る反応は、対応する水酸基又はトリ低級アルキ
ルシリルオキシ基を有するピリジン化合物を原料
として、これに適当なアシル化剤を反応させるこ
とにより実施される。このアシル化反応は、前記
反応工程式−１に示した化合物(2)と化合物(3)との
反応と同様にして行なうことができる。 ピリジン環の１位に、フエニル基を有する低級
アルコキシ低級アルキル基及びテトラヒドロフラ
ニル基から選ばれた置換基を導入する反応、例え
ばR1基が上記置換基を有するピリジル基である
化合物(5)及び化合物(6)を得る反応は、トリ低級ア
ルキルシリル基で保護された水酸基を有する対応
する（トリ低級アルキルシリルオキシ）ピリジン
誘導体を原料として、これに一般式 R1d−Ｘ (8) 〔式中R1dはフエニル基を有する低級アルコキ
シ低級アルキル基を示す。Ｘは前記に同じ。〕 で表わされる化合物又は一般式 R10−COO−R1e (9) 〔式中R10は低級アルキル基を示す。R1eはフ
エニル基を有する低級アルコキシ低級アルキル基
及びテトラヒドロフラニル基から選ばれた基を示
す。〕 で表わされる化合物を反応させることにより行な
われる。この反応は、適当な溶媒中、ルイス酸の
存在下又は不存在下に実施される。溶媒として
は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、アセト
ン、酢酸エチル等を、またルイス酸としては、三
弗化硼素、四塩化錫、塩化亜鉛等を好ましく使用
できる。化合物(8)又は化合物(9)は原料化合物に対
して約１〜２倍モル量用いられるのが望ましく、
反応は一般に室温〜60℃の温度条件下に、約１〜
４時間程度で終了する。 またピリジン環上にトリ低級アルキルシリルオ
キシ基を導入する反応、例えばR9がトリ低級ア
ルキルシリル基である化合物(5)を得る反応は、水
酸基を有する対応するピリジン誘導体にシリル化
剤を反応させることにより実施できる。ここでシ
リル化剤としては、通常のもの例えば１，１，
１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン等のト
リ低級アルキルジシラザン類、トリメチルクロロ
シラン等のハロゲン化トリ低級アルキルシラン
類、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルアセトアミド等のシ
リル化アセトアミド等を用いることができる。該
シリル化剤は、一般に原料化合物に対して約１〜
３倍モル量用いられる。尚上記ハロゲン化トリア
ルキルシラン類をシリル化剤として用いる場合に
は、反応系内に更に、トリエチルアミン、ジメチ
ルアニリン、ジエチルアミノピリジン等のアミン
類やピリジン等を、該シリル化剤に対して約１〜
３倍モル量添加存在させるのが望ましい。またこ
の場合又はシリル化アセトアミドをシリル化剤と
して利用する場合には、反応は適当な溶媒中、例
えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、アセトニトリル等のニ
トリル類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類等の溶媒中で好ましく実施され
る。シリル化剤としてトリ低級アルキルジシラザ
ン類を用いる場合には、該シリル化剤自体が溶媒
としての作用を兼ねるため、特に他の溶媒を用い
る必要はない。上記シリル化反応は、通常室温〜
反応溶媒の沸点附近の温度条件下に、約１〜15時
間を要して行なわれる。 また、本発明化合物中R1基がフエニル低級ア
ルキルオキシ基を有するピリジル基である化合物
はこれを通常の接触還元操作に従わせることによ
り、該R1基が水酸基を有するピリジル基である
化合物に誘導することができる。 上記各反応工程で得られる目的化合物及び本発
明化合物は、通常の分離手段により反応系内より
分離され、更に精製される。この分離及び精製手
段としては、例えば再沈澱法、再結晶法、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー、イオン交換カラ
ムクロマトグラフイー、ゲルクロマトグラフイ
ー、親和クロマトグラフイー等を採用できる。 かくして得られる本発明化合物は、優れた制癌
作用を有し、しかも低毒性であり、例えば体重減
少等の副作用も少なく、人及び動物の癌治療のた
めの抗腫瘍剤として非常に有用である。特に本発
明化合物は、(1)吸収性がよい、(2)持続性がよい、
(3)安定性がよい、(4)下痢、おうと、消化管出血等
の消化管毒性が極めて少ない、(5)その本来の制癌
作用を奏する投与量と毒性等の副作用を惹起する
投与量との差が大きく、治療係数が優れており、
安全性が高い、等の優れた特徴を具備している。 本発明化合物は、通常一般的な医薬製剤の形態
で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増
量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑
沢剤等の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調整され
る。この医薬製剤としては各種の形態が治療目的
に応じて選択でき、その代表的なものとして錠
剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、
カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）、
軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に形成するに
際しては、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナ
トリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カル
シウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の
賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロ
ツプ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、
カルボキシメチルセルロース、セラツク、メチル
セルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリ
ドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナト
リウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプ
ン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオ
バター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収
促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デン
プン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド
状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸
塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢
剤等を使用できる。さらに錠剤は必要に応じ通常
の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被
包錠、腸溶被錠、フイルムコーテイング錠あるい
は二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の形
態に成形するに際しては、担体として例えばブド
ウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、
カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、
トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用で
きる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、
高級アルコール、高級アルコールのエステル類、
ゼラチン、半合成グリセライド等を使用できる。
カプセル剤は常法に従い通常本発明化合物を上記
で例示した各種の担体と混合して硬質ゼラチンカ
プセル、軟質カプセル等に充填して調整される。
注射剤として調整される場合、液剤、乳剤及び懸
濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ま
しく、これらの形態に成形するに際しては、希釈
剤として例えば水、エチルアルコール、マクロゴ
ール、プロピレングリコール、エトキシ化イソス
テアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリ
ルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類等を使用できる。なお、この場合
等張性の溶液を調整するに充分な量の食塩、ブド
ウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せし
めてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無
痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着
色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医
薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペース
ト、クリーム及びゲルの形態に成形するに際して
は、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフイ
ン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレ
ングリコール、シリコン、ベントナイト等を使用
できる。 本発明の医薬製剤中に含有されるべき本発明の
化合物の量としては、特に限定されず広範囲に適
宜選択されるが、通常医薬制中１〜70重量％とす
るのがよい。 上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各
種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患
者の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸
剤、液剤、懸濁剤、乳糖、顆粒剤及びカプセル剤
は経口投与される。注射剤は単独であるいはブド
ウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内
投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮
内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直腸
内投与される。 上記医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性
別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択さ
れるが、通常有効成分である本発明化合物の量が
１日当り体重１Kg当り約0.5〜20mg程度とするの
がよく、該製剤は１日に１〜４回に分けて投与す
ることができる。 実施例 以下、本発明化合物の製造に利用する原料化合
物の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化
合物の製造例を実施例として挙げ、更に本発明化
合物につき行なわれた薬理試験例を挙げる。 参考例 １ ４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドンの
製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
5.00ｇ及び塩化アセチル3.66mlをピリジン250ml
中、室温で３時間撹拌した。反応溶液を濃縮し、
残渣を酢酸エチル及び水で順次洗浄することによ
り目的化合物3.39ｇ（収率52％）を得た。1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.91（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.81（1H，ｓ，ピリジン環のC6−Ｈ） 6.35（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 2.32（3H，ｓ，CH3） 参考例 ２〜４ 参考例１と同様にして以下の各化合物を製造し
た。 参考例 ２ ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリ
ドン 融点 196〜197℃ 参考例 ３ ５−クロロ−４−オクタデカノイルオキシ−２
−ピリドン1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.87（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.80（1H，ｓ，ピリジン環のC6−Ｈ） 6.32（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 2.60（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz，ＣH2 CO） 1.24（30H，bs，CH2×15） 0.85（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH3） 参考例 ４ ４−（２−ナフトイルオキシ）−２−ピリドン1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.72（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 8.81−7.64（7H，ｍ，ナフタレン環のＨ） 7.51（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC6−Ｈ） 6.33−6.25（2H，ｍ，ピリジン環のCH3,5−Ｈ） 参考例 ５ ２−ベンゾイルオキシ−４−ヒドロキシピリジ
ンの製造 塩化メチレン50ml中、２，４−ジ（トリメチル
シリルオキシ）ピリジン4.0ｇに、塩化ベンゾイ
ル2.65ｇ及び塩化第２錫0.2mlを加え、室温で約
１時間撹拌した。溶媒を留去した後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、酢酸エ
チル−ベンゼン（２：３）で溶出して目的化合物
1.00ｇ（収率29.6％）を得た。 融点 124〜127℃ 参考例 ６ ４−ヒドロキシ−２−（２−メチルベンゾイル
オキシ）ピリジンの製造 参考例５と同様にして目的化合物を得た。 融点 116〜119℃ 参考例 ７ ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−（２−テト
ラヒドロフラニル）−２−ピリドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリ
ドン1.00ｇに、ヘキサメチルジシラザン10mlを加
え、６時間還流した。次いで過剰のヘキサメチル
ジシラザンを留去し、油状残渣をジクロロメタン
50mlに溶解した。ここに２−アセトキシテトラヒ
ドロフラン1.00ｇと塩化第２錫0.1mlとを添加し、
室温で一夜撹拌した。トリエチルアミンで中和
後、溶媒を留去し、残渣にメタノールを加えて室
温で２時間撹拌した。再度溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムを用いて２％メタノール−クロ
ロホルムで溶出して目的化合物1.07ｇ（収率73.5
％）を得た。 融点 170〜173℃1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.6（1H，bs，OH） 7.59（1H，ｓ，C6−Ｈ） 6.09−5.99（1H，ｑ，【式】） 5.76（1H，ｓ，CH3−Ｈ） 4.39−3.73（2H，ｍ，【式】） 2.42−1.82（4H，ｍ，【式】） 参考例 ８〜９ 参考例７と同様にして以下の各化合物を製造し
た。 参考例 ８ １−ベンジルオキシメチル−５−クロロ−４−
ヒドロキシ−２−ピリドン 融点 165〜167℃1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.65（1H，bs，OH） 7.92（1H，ｓ，C6−Ｈ） 7.31（5H，ｓ，フエニル−Ｈ） 5.77（1H，ｓ，CH3−Ｈ） 5.27（2H，ｓ，−NCH2 Ｏ−） 4.55（2H，ｓ，【式】） 参考例 ９ ２−ベンゾイルオキシメチル−５−クロロ−４
−ヒドロキシピリジン 融点 184℃で軟化1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 8.27（1H，ｓ，C6−Ｈ） 8.16−8.07（2H，ｍ，【式】） 7.78−7.51（3H，ｍ，【式】） 6.91（1H，ｓ，CH3−Ｈ） 参考例 10 ６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒド
ロキシピリジンの製造 ３−シアノ−２，６−ジヒドロキシピリジン
1.00ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド40ml溶液
に、トリエチルアミン0.51ml及び塩化ベンゾイル
0.43mlを加え、室温で15分間撹拌した。更に反応
溶液にトリエチルアミン0.51ml及び塩化ベンゾイ
ル0.43mlを加え、室温下15分間撹拌した。反応溶
液を過し、液を減圧濃縮し、残渣をクロロホ
ルム及び水で洗浄して目的化合物1.06ｇ（収率60
％）を得た。1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 12.76（1H，bs，OH又はNH） 8.33（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 8.17−8.07（2H，ｍ，【式】） 7.94−7.58（3H，ｍ，【式】） 6.95（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC5−Ｈ） 参考例 11〜15 参考例10と同様にして以下の各化合物を製造し
た。 参考例 11 ３−シアノ−６−（２，４−ジクロロベンゾイ
ルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン1 H−NMR（（CD3）2CO）δ： 8.29（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 8.17（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，
【式】） 7.74（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz，
【式】） 7.61（1H，dd，Ｊ＝８Hz、Ｊ＝２Hz，
【式】） 7.01（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC6−Ｈ） 参考例 12 ３−シアノ−６−（２−フロイルオキシ）−２−
ヒドロキシピリジン1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 8.32（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 8.14（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝２Hz，
【式】） 7.63（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝４Hz，
【式】 6.95（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC5−Ｈ） 6.82（1H，dd，Ｊ＝２Hz，Ｊ＝４Hz，
【式】 参考例 13 ３−シアノ−６−（３，４，５−トリメトキシ
ベンゾイルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 8.32（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 7.39（2H，ｓ，【式】） 6.93（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC6−Ｈ） 3.89（6H，ｓ，【式】） 3.80（3H，ｓ，【式】） 参考例 14 ３−シアノ−６−（２−テノイルオキシ）−２−
ヒドロキシピリジン1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 8.32（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 8.15（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝５Hz，
【式】） 8.06（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝４Hz，
【式】） 7.33（1H，dd，Ｊ＝４Hz、Ｊ＝５Hz，
【式】） 6.96（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC5−Ｈ） 参考例 15 ３−クロロ−６−（４−フルオロベンゾイルオ
キシ）−２−ヒドロキシピリジン1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 12.27（1H，bs，OH又はNH） 8.26−8.10（2H，ｍ，【式】） 7.96（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 7.43（2H，ｔ，Ｊ＝９Hz，
【式】） 6.79（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC5−Ｈ） 実施例 １ ３−〔３−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシルの製造 ５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル1.00ｇの乾燥ジオキサン30ml溶液に
塩化イソフタロイル1.00ｇとトリエチルアミン
0.70mlとを加え、２時間還流した。更にトリエチ
ルアミン1.00mlを加え、２時間還流後、４−ヒド
ロキシ−２（1H）−ピリドン0.60ｇを加え、３時
間還流した。溶媒を留去後、残渣に酢酸エチル30
mlと水30mlとを加え、不溶物を去後、酢酸エチ
ル層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホ
ルム〜２％メタノール−クロロホルムで溶出し、
目的物に対応するフラクシヨンを集め、濃縮して
粉末状物質0.40ｇ（18％）を得た。1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.74（1H，bs，−NH−，D2Ｏ添加で消失） 8.63−8.41（3H，ｍ，【式】） 8.14（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz，C6−Ｈ） 7.84（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.51（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC6−Ｈ） 6.34−6.26（2H，ｍ，ピリジン環のC3,5−Ｈ） 5.93（1H，ｔ，Ｊ＝４Hz，C1′−Ｈ） 4.41−4.20，3.92−3.72（各1H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.27−1.92（4H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 実施例 ２ ３−〔４−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシルの製造 実施例１と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（DMSO−d6）δ： 11.73（1H，bs，−NH−，D2Ｏ添加で消失） 8.28（4H，ｓ，フエニル−Ｈ） 8.14（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz，C6−Ｈ） 7.52（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC6−Ｈ） 6.33−6.25（2H，ｍ，ピリジン環のC3,5−Ｈ） 5.92（1H，bt，Ｊ＝４Hz，C1′−Ｈ） 4.49−4.26と4.03−3.77（各1H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.30−1.92（4H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 実施例 ３ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジンの製造 実施例１と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.68−8.17（6H，m.【式】 【式】とピリジン環のC6−Ｈ） 7.79−7.44（5H，ｍ，【式】 【式】とC6−Ｈ） 7.39（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.27（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，C1′−Ｈ） 5.29−5.17（1H，ｍ，C3′−Ｈ） 4.51−4.28（3H，ｍ，C4′，5′−Ｈ） 2.70−2.08（8H，ｍ，C2′−ＨとCOCH3×２） 実施例 ４ ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−４−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシルの製造 実施例１と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（DDCl3）δ： 8.69−8.16（6H，m.【式】 【式】とピリジン環のC6−Ｈ） 7.81−7.45（5H，ｍ，【式】 【式】とC6−Ｈ） 7.41（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.00−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.42−3.87（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.55−1.89（4H，ｍ，C2′，C3′−Ｈ） 実施例 ５ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシルの製造 実施例１と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.17（6H，m.【式】 【式】とピリジン環のC6−Ｈ） 7.79−7.41（5H，ｍ，【式】 【式】とC6−Ｈ） 7.38（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.02−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.45−3.87（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.55−1.89（4H，ｍ，C2′，C3′−Ｈ） 実施例 ６ ３−〔３−（２−アセトキシ−５−クロロ−４−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５
−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
ウラシルの製造 １−（２−テトラヒドロフラニル）−５−フルオ
ロウラシル1.00ｇの乾燥ジオキサン50ml溶液にト
リエチルアミン5.53mlと塩化イソフタロイル1.52
ｇとを加え、１時間還流した。次いで反応溶液を
過し、液を濃縮し、残渣をアセトニトリル50
mlに溶解し、これにトリエチルアミン3.46ml及び
２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシピ
リジン1.40ｇを加え、室温下２時間撹拌した。反
応溶液を過し、濃縮後、残渣をクロロホルムを
溶出溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーで精製して目的化合物530mg（20％）を得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.68−8.22（3H，m.【式】） 8.47（1H，ｓ、ピリジン環のC6−Ｈ） 7.72（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.54（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.27（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 5.98−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.29−4.04（2H，ｍ、C4′−Ｈ） 2.35（3H，ｓ，COCH3） 2.43−1.89（4H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 実施例 ７ ３−〔３−（２−アセトキシ−５−クロロ−４−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル−５
−フルオロウリジンの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.75−8.21（4H，m.【式】とピリジ ン環のC6−Ｈ） 7.73（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.48（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.26（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 5.93（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，C1′−Ｈ） 5.31（1H，ｔ，Ｊ−６Hz，C2′−Ｈ） 5.03（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C3′−Ｈ） 4.38−4.12（1H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.35（3H，ｓ，ピリジン環上COCH3） 2.10と2.01（各々3H，ｓ，COCH3） 1.46（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C5′−Ｈ） 実施例 ８ ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−2′，3′，5′−トリ−Ｏ−ア
セチルウリジンの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.75−8.18（6H，m.【式】 【式】とピリジン環のC6−Ｈ） 7.79−7.43（5H，ｍ，【式】 【式】C6−Ｈ） 7.39（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.12−6.05（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 5.34−5.29（2H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 4.38（3H，bs，C4′,5′−Ｈ） 2.18と2.11と2.03（各々3H，ｓ，COCH3） 実施例 ９ ３−〔３−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５
−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.65−8.19（4H，m.【式】とピリジ ン環のC6−Ｈ） 7.70（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.53（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.18（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.02−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.45−3.87（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.44−1.90（7H，ｍ，COCH3とC2′，3′−Ｈ） 実施例 10 ５−フルオロ−３−｛３−〔２−（２−メチルベ
ンゾイルオキシ）−４−ピリジルオキシカルボ
ニル〕ベンゾイル｝−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.67−7.21（12H，ｍ，フエニルＨ，ピリジン環上
のＨとC6−Ｈ） 6.00−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.40−3.90（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.69（3H，ｓ，CH3） 2.60−1.95（4H，ｍ，C2′，C3′−Ｈ） 実施例 11 ３−〔３−（２−ベンゾイルオキシ−４−ピリジ
ルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５−フル
オロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）ウラ
シルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.67−8.18（6H，ｍ，【式】と 【式】とピリジン環のC6−Ｈ） 7.79−7.40（5H，ｍ，【式】と 【式】とC6−Ｈ） 7.34−7.23（2H，ｍ，ピリジン環のC3,5−Ｈ） 6.00−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.45−3.87（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.55−1.89（4H，ｍ，C2′，C3′−Ｈ） 実施例 12 ３−〔３−（１−ベンジルオキシメチル−５−ク
ロロ−１，２−ジヒドロ−２−オキソ−４−ピ
リジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−５−
フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）
ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.65−8.21（3H，ｍ，【式】） 7.79−7.51（3H，ｍ，【式】C6−Ｈ とピリジン環のC6−Ｈ） 7.34（5H，ｓ，【式】） 6.65（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 5.98−5.91（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 5.42（2H，ｓ，NCH2 Ｏ−） 4.66（2H，ｓ，【式】） 4.27−3.89（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.57−1.90（4H，ｍ，C2′，C3′−Ｈ） 実施例 13 ３−｛３−〔５−クロロ１，２−ジヒドロ−２−
オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−４
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル｝−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.92−8.20（3H，ｍ，【式】） 7.79−7.54（3H，ｍ，【式】C6−Ｈ とピリジン環のC6−Ｈ） 6.58（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.18−5.91（2H，ｍ，フラニル基のC1−Ｈ×２） 4.33−3.87（4H，ｍ，フラニル基のC4−Ｈ×２） 2.67−1.78（8H，ｍ，フラニル基のC2，C3−Ｈ×
２） 実施例 14 ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−ベンジル
−５−フルオロウリジンの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.11（7H，ｍ，【式】 【式】C6−Ｈ、ピリジン環のC6− Ｈ） 7.75−7.30（15H，ｍ，【式】 【式】【式】と ピリジン環のC3−Ｈ） 6.31（1H，bt，Ｊ＝７Hz，C1′−Ｈ） 4.56（2H，ｓ，C5′【式】又はC3′ 【式】） 4.50（2H，ｄ，Ｊ＝２Hz，C5′
【式】又はC3′− 【式】） 4.28−4.22（2H，ｍ，C3′−Ｈ，C4′−Ｈ） 3.91−3.52（2H，ｍ，C5′−Ｈ） 2.66−2.04（2H，ｍ，C2′−Ｈ） 実施例 15 ３−〔３−（４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−（４−ク
ロロベンジル）−５−フルオロウリジンの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.64−8.17（6H，ｍ，【式】 【式】とピリジン環のC6−Ｈ） 8.07（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.77−7.13（13H，ｍ，【式】 【式】 【式】とピリジン環のC3− Ｈ） 6.29（1H，bt，Ｊ＝７Hz，C1′−Ｈ） 4.52（2H，ｓ，C5′【式】又はC3′ 【式】） 4.45（2H，ｄ，Ｊ＝２Hz，C5′
【式】又はC3′− 【式】） 4.24−4.18（2H，ｍ，C3′−Ｈ，C4′−Ｈ） 3.90−3.51（2H，ｍ，C5′−Ｈ） 2.67−2.03（2H，ｍ，C2′−Ｈ） 実施例 16 ５−フルオロ−３−｛３−〔４−（２−ナフトイ
ルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕
ベンゾイル｝−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.75−7.20（15H，ｍ，ナフチル−Ｈ，フエニル−
Ｈ，ピリジン環のＨとC6−Ｈ） 5.97−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.52−3.85（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.52−1.78（4H，ｍ，C2′，C3′−Ｈ） 実施例 17 ３−｛３−〔３−クロロ−６−（４−フルオロベ
ンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボ
ニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−１−（２−
テトラヒドロフラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.67−8.13（5H，ｍ，【式】 【式】） 8.00（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 7.70（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.54（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.31−7.07（3H，ｍ，【式】ピリ ジン環のC5−Ｈ） 5.97−5.89（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.34−3.84（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.47−1.86（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 18 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフ
ラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.69−8.12（6H，ｍ，【式】 【式】とピリジン環のC4−Ｈ） 7.79−7.38（6H，ｍ，【式】 【式】C6−Ｈ，ピリジン環のC5− Ｈ） 5.96−5.87（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.30−3.80（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.50−1.85（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3−Ｈ） 実施例 19 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（３，４，５−ト
リメトキシベンゾイルオキシ）−２−ピリジル
オキシカルボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオ
ロ−１−（２−テトラヒドロフラニル）ウラシ
ルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.69−8.21（4H，ｍ，【式】ピリジ ン環のC4−Ｈ） 7.73（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.54（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.44（2H，ｓ，【式】） 7.42（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 5.97−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.34−3.81（11H，ｍ，C4′−Ｈと
【式】） 2.50−1.87（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 20 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−フロイルオ
キシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベン
ゾイル｝−５−フルオロ−１−（２−テトラヒド
ロフラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.68−8.20（4H，ｍ，【式】ピリジ ン環のC4−Ｈ） 7.81−7.40（5H，ｍ，【式】C6− Ｈ，ピリジン環のC5−Ｈと【式】） 6.61（1H，dd，Ｊ＝２Hz，Ｊ＝４Hz，
【式】） 5.98−5.88（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.27−3.84（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.36−1.86（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 21 ３−〔４−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−フロ
イル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロ
フラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.39（2H，ｓ，【式】） 8.25−8.11（3H，ｍ，【式】とピリ ジン環のC4−Ｈ） 7.69−7.22（5H，ｍ，【式】，C6− Ｈとピリジン環のC5−Ｈ） 5.92−5.82（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.22−3.71（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.33−1.68（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 22 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−5′−デオキシ−2′，3′−ジ−Ｏ−アセチル
−５−フルオロウリジンの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.77−8.14（6H，ｍ，【式】 【式】とピリジン環のC4−Ｈ） 7.80−7.39（6H，ｍ，【式】 【式】ピリジン環のC5−ＨとC6− Ｈ） 5.96（1H，dd，Ｊ＝１HzとＪ＝５Hz，C1′−Ｈ） 5.32（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C2′−Ｈ） 5.03（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C3′−Ｈ） 4.30−4.18（1H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.09（3H，ｓ，C2′−OCOCH3 又はC3′−OCOC
H3） 2.00（3H，ｓ，C2′−OCOCH3 又はC3′−OCOC
H3） 1.46（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C5′−Ｈ） 実施例 23 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−テノイルオ
キシ）−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベン
ゾイル｝−５−フルオロ−１−（２−テトラヒド
ロフラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.18（4H，ｍ，【式】ピリジ ン環のC4−Ｈ） 8.03（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝４Hz，
【式】） 7.81−7.64（2H，ｍ，【式】と 【式】） 7.53（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.44（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC5−Ｈ） 7.26−7.14（1H，ｍ，【式】） 6.00−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.28−3.87（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.50−1.89（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 24 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２，４−ジクロ
ロベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカ
ルボニル〕ベンゾイル｝−５−フルオロ−１−
（２−テトラヒドロフラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.67−8.21（4H，ｍ，【式】ピリジ ン環のC4−Ｈ） 8.09（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz，
【式】） 7.73（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.57−7.33（4H，ｍ，C6−Ｈ，ピリジン環のC5−
Ｈと【式】） 6.01−5.90（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.35−3.82（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.50−1.80（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 25 ３−〔５−（６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ
−２−ピリジルオキシカルボニル）−３−ニコ
チノイル〕−５−フルオロ−１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）ウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得る。1 H−NMR（CDCl3）δ： 9.57−8.84（3H，ｍ，【式】） 8.27（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，【式】） 8.25−8.12（2H，ｍ，，【式】） 7.70−7.42（4H，ｍ，C6−Ｈと
【式】） 7.40（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，【式】） 5.94−5.88（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.34−3.71（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.50−1.88（4H，ｍ，C2′−Ｈ，C3′−Ｈ） 実施例 26 ３−〔３−（１，２−ジヒドロ−２−オキソ−６
−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシルの製造 ５−フルオロ−１−（２−テトラヒドロフラニ
ル）ウラシル1.00ｇのジオキサン50ml溶液に塩化
イソフタロイル1.50ｇとトリエチルアミン6.0ml
を加え、1.5時間還流した。沈澱を去し、液
を濃縮した。残渣に塩化メチレン50mlを加え、こ
こに２，６−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピ
リジン1.50ｇの塩化メチレン溶液10mlを加え、室
温で３時間放置した。溶媒を留去後、残渣をシリ
カゲルカラムを用い、２％メタノール−クロロホ
ルムで溶出して、目的化合物0.30ｇ（14％）を得
た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.19（3H，ｍ，【式】） 7.83−7.62（2H，ｍ，【式】とピ リジン環のC4−Ｈ） 7.52（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 6.77と6.68（各々1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環
のC3,5−Ｈ） 5.99−5.92（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.30−3.88（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.44−1.89（4H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 実施例 27 ３−〔３−（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
2′−デオキシ−3′，5′−ジ−Ｏ−アセチル−５
−フルオロウリジンの製造 実施例26と同様にして、目的化合物を得た。1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.57−8.16（4H，ｍ，【式】ピリ ジン環のC6−Ｈ） 7.80−7.53（2H，ｍ，【式】とC6 −Ｈ） 6.76（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 6.19（1H，bt，Ｊ＝７Hz，C1′−Ｈ） 5.23−5.16（1H，ｍ，C3′−Ｈ） 4.32−4.24（3H，ｍ，C4′−Ｈ，C5′−Ｈ） 2.60−1.85（8H，ｍ，C2′−Ｈ，COCH3×２） 実施例 28 ３−〔３−（３−シアノ−６−ベンゾイルオキシ
−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
ル〕−１−エトキシメチル−５−フルオロウラ
シルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 融点 162〜164℃1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.14（6H，ｍ，【式】と 【式】とピリジン環のC4−Ｈ） 7.82−7.33（6H，ｍ，C6−Ｈと
【式】と【式】と ピリジン環のC5−Ｈ） 5.15（2H，ｓ，Ｎ−CH2） 3.62（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，ＣH2 CH3） 1.22（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz−CH3） 実施例 29 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（４−クロロベン
ゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボニ
ル〕ベンゾイル｝−１−エトキシメチル−５−
フルオロウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 融点 156〜158℃1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.08（6H，ｍ，【式】と 【式】とピリジン環のC4−Ｈ） 7.74（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.57−7.39（5H，ｍ，【式】と C6−Ｈとピリジン環のC2−Ｈ） 5.16（2H，Ｓ，Ｎ−CH2） 3.63（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，ＣH2 CH3） 1.23（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz−CH3） 実施例 30 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２，４−ジクロ
ロベンゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカ
ルボニル〕ベンゾイル｝−１−エトキシメチル
−５−フルオロウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 融点 140〜142℃1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.66−8.21（4H，ｍ，【式】ピリ ジン環のC4−Ｈ） 8.09（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，
【式】） 7.74（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz，【式】） 7.58−7.33（4H，ｍ，【式】と C6−Ｈとピリジン環のC5−Ｈ） 5.16（2H，ｓ，Ｎ−CH2） 3.63（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，−ＣH2 CH3） 1.22（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，−CH3） 実施例 31 ３−｛３−〔３−シアノ−６−（２−クロロベン
ゾイルオキシ）−２−ピリジルオキシカルボニ
ル〕ベンゾイル｝−１−エトキシメチル−５−
フルオロウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 性状 粉末1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.64−8.00（5H，ｍ，【式】と 【式】とピリジン環のC4−Ｈ） 7.77−7.39（5H，ｍ，C6−Ｈと
【式】と【式】） 7.34−7.25（2H，ｍ，ピリジン環のC3,5−Ｈ） 5.14（2H，ｓ，Ｎ−CH2） 3.61（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，ＣH2 CH3） 1.20（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，−CH3） 実施例 32 ３−〔３−（５−シアノ−６−ベンジルオキシ−
２−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイル〕
−１−エトキシメチル−５−フルオロウラシル
の製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 性状 粉末1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.69−8.18（3H，ｍ，【式】） 8.00（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 7.80−7.62（1H，ｍ，【式】） 7.53−7.19（6H，ｍ，C6−Ｈと
【式】） 6.88（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC3−Ｈ） 5.47（2H，ｓ，【式】） 5.15（2H，ｓ，Ｎ−CH2） 3.63（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz−ＣH2 CH3） 1.22（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH3） 実施例 33 ３−〔４−（３−シアノ−６−ベンゾイルオキシ
−２−ピリジルオキシカルボニル〕ベンゾイ
ル〕−１−エトキシメチル−５−フルオロウラ
シルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 性状 粉末1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.39−8.02（7H，ｍ，【式】と 【式】とピリジン環のC4−Ｈ） 7.67−7.39（5H，ｍ，【式】とC6 −Ｈとピリジン環のC5−Ｈ） 5.14（2H，ｓ，Ｎ−CH2） 3.61（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，−ＣH2 CH3） 1.22（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH3） 実施例 34 ３−〔４−（３−シアノ−６−フロイルオキシ−
２−ピリジルオキシカルボニル〕−３−フロイ
ル〕−１−（２−テトラヒドロフラニル）−５−
フルオロウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 性状 粉末1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.41と8.38（各々1H，ｄ，Ｊ＝２Hz，
【式】） 8.20（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 7.74−7.72（1H，ｍ，【式】） 7.49−7.20（3H，ｍ，C6−Ｈとピリジン環のC5−
Ｈと【式】） 6.64（1H，dd，Ｊ＝４Hz，２Hz，
【式】） 5.92−5.83（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.28−3.57（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.38−1.67（4H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 実施例 35 ３−〔４−（４−アセトキシ−５−クロロ−２−
ピリジルオキシカルボニル〕−３−フロイル〕−
１−（２−テトラヒドロフラニル）−５−フルオ
ロウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 性状 粉末1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.39−8.38（2H，ｍ，ピリジン環のC6−Ｈと
【式】） 8.29（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz，【式】） 7.38（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.02（1H，ｓ，ピリジン環のC3−Ｈ） 5.92−5.81（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.24−3.80（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.38−1.68（4H，ｍ，COCH3とC2′，3′−Ｈ） 実施例 36 ３−〔４−（３−シアノ−６−テノイルオキシ−
２−ピリジルオキシカルボニル）−３−フロイ
ル〕−１−（２−テトラヒドロフラニル）−５−
フルオロウラシルの製造 実施例６と同様にして、目的化合物を得た。 性状 粉末1 H−NMR（CDCl3）δ： 8.41と8.37（各々1H，ｄ，Ｊ＝２Hz，
【式】） 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 8.03（1H，dd，Ｊ＝４Hz，１Hz，チオフエン環の
C5−Ｈ） 7.76（1H，dd，Ｊ＝５Hz，１Hz，チオフエン環の
C3−Ｈ） 7.40（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC5−Ｈ） 7.37（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.21（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz，１Hz，チオフエン環の
C4−Ｈ） 5.94−5.83（1H，ｍ，C1′−Ｈ） 4.26−3.75（2H，ｍ，C4′−Ｈ） 2.44−1.72（4H，ｍ，C2′，3′−Ｈ） 実施例 37 ３−〔３−（５−シアノ−６−ヒドロキシ−２−
ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−１
−エトキシメチル−５−フルオロウラシルの製
造 ３−〔３−（６−ベンゾイルオキシ−５−シアノ−
２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイル〕−
１−エトキシメチル−５−フルオロウラシル780
mgを、アセトン30ml及びイソプロピルアルコール
80mlに溶解させた。これに10％パラジウム−炭素
100mgを加え、室温下に２時間接触還元反応を行
なわせた。触媒を去し、液を減圧濃縮して、
目的化合物520mg（80％）を得た。1 H−NMR（CD3COCD3）δ： 8.59−8.24（3H，ｍ，【式】） 8.14（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC4−Ｈ） 7.95（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C6−Ｈ） 7.80−7.64（1H，ｍ，【式】） 6.89（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，ピリジン環のC3−Ｈ） 5.09（2H，ｓ，Ｎ−CH2） 3.53（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，−ＣH2 CH3） 1.05（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，−CH3） 薬理試験例 Ｉ ICR系マウスに腹水として、継代したザルコー
マ（Sarcoma）−180を、生理食塩水で希釈して
１匹当り２×107個となる量を同系マウスの背部
皮下に移植し実験に供した。腫瘍移植24時間後よ
り１日１回、７日間、５％アラビアゴムで懸濁さ
せた薬剤を連日経口投与した。 腫瘍移植10日目に背部皮下の固型癌を摘出し、
腫瘍重量を測定し、薬剤投与群の腫瘍重量（Ｔ）
と薬剤末投与の対照群の腫瘍重量（Ｃ）との比
（Ｔ／Ｃ）を求め、薬剤投与量と該比（Ｔ／Ｃ）
の用量−反応曲線よりＴ／Ｃが0.5となる50％腫
瘍抑制用量（ED50値）を求めた。 結果を下記第１表に示す。尚、第１表には、対
照薬として５−フルオロ−１−（２−テトラヒド
ロフラニル）ウラシルとウラシルとを１対４（重
量比）で併用した制癌剤を用いた結果を併記す
る。 第１表供試化合物 ED50（mg／Kg） 実施例１の化合物 10 実施例３の化合物 ７ 実施例４の化合物 25 実施例５の化合物 18 実施例７の化合物 12 実施例８の化合物 22 実施例13の化合物28 実施例14の化合物 ５ 実施例20の化合物 18 実施例28の化合物 ５ 対照薬 30 以下、本発明化合物を用いた製剤例を挙げる。 製剤例 １ 実施例１の化合物 0.025mg デンプン 132mg マグネシウムステアレート 18mg 乳糖 50mg 合計 約200mg 常法により１錠中、上記組成物の錠剤を製造し
た。 製剤例 ２ 実施例２の化合物 0.25mg デンプン 130mg マグネシウムステアレート 20mg 乳糖 50mg 合計 約200mg 常法により１錠中、上記組成物の錠剤を製造し
た。 製剤例 ３ 実施例３の化合物 1.25mg ポリエチレングリコール （分子量：4000） 0.3ｇ 塩化ナトリウム 0.9ｇ ポリオキシエチレンソルビタン モノオレエート 0.4ｇ メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1ｇ メチル−パラベン 0.18ｇ プロピル−パラベン 0.02ｇ 注射用蒸留水 100ml 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び
塩化ナトリウムを撹拌しながら80℃で蒸留水に溶
解する。得られた溶液を40℃まで冷却し、これに
本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリ
オキシエチレンソルビタンモノオレエートを順次
溶解させ、次にその溶液に注射用蒸留水を加えて
最終の容量に調整し、適当なフイルターペーパー
を用いて滅菌過することにより滅菌して１mlず
つアンプルに分注し注射剤を調製する。 製剤例 ４ 実施例９の化合物 25mg デンプン 112mg マグネシウムステアレート 18mg 乳糖 45mg 合計 約200mg １錠が上記組成物となる錠剤を製造した。 製剤例 ５ 実施例10の化合物 10mg デンプン 125mg マグネシウムステアレート 20mg 乳糖 45mg 合計 約200mg １錠が上記組成物となる錠剤を製造した。 製剤例 ６ 実施例11の化合物 1.25ｇ ポリエチレングリコール （分子量：4000） 0.3ｇ 塩化ナトリウム 0.9ｇ ポリオキシエチレンソルビタン モノオレエート 0.4ｇ メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1ｇ メチルパラベン 0.18ｇ プロピルパラベン 0.02ｇ 注射用蒸留水 100mg 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び
塩化ナトリウムを撹拌しながら80℃で蒸留水に溶
解させ、得られた溶液を40℃まで冷却し、これに
本発明化合物、ポリエチレングリコール及びポリ
オキシエチレンソルビタンモノオレエートを順次
溶解させ、次にその溶液に注射用蒸留水を加えて
最終の容量に調製し、適当なフイルターペーパー
を用いて滅菌過することにより滅菌して１mlず
つアンプルに分注し注射剤を調製する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 【式】 〔式中R1は置換基として水酸基、ハロゲン原
    子、シアノ基、オキソ基、テトラヒドロフラニル
    基、フエニル基を有する低級アルコキシ低級アル
    キル基、フエニル低級アルキルオキシ基、低級ア
    ルカノイルオキシ基、フエニル環上に置換基とし
    てハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコ
    キシ基からなる群から選ばれた基の１〜３個を有
    することのあるベンゾイルオキシ基、フラニルカ
    ルボニルオキシ基、チエニルカルボニルオキシ基
    及びナフチルカルボニルオキシ基なる群から選ば
    れた基の１〜４個を有するピリジル基を示す。Ａ
    はフエニレン基、ピリジンジイル基又はフランジ
    ル基を示す。R2は一般式 【式】 （式中R3は水素原子、テトラヒドロフラニル
    基、低級アルキルカルバモイル基、フタリジル
    基、低級アルコキシ低級アルキル基又は低級アル
    カノイルオキシ低級アルコキシカルボニル基を示
    す）、一般式 【式】 （式中R4は水素原子、水酸基又はアシルオキ
    シ基を示し、R5は水酸基、アシルオキシ基又は
    フエニル環上に置換基として低級アルキル基、低
    級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基
    の１〜３個を有することのあるフエニル低級アル
    キルオキシ基を示し、R6は水素原子、水酸基、
    アシルオキシ基又はフエニル環上に置換基として
    低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあ
    るフエニル低級アルキルオキシ基を示す。但し
    R4が水素原子のとき、R5及びR6は一方がフエニ
    ル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
    コキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜
    ３個を有することのあるフエニル低級アルキルオ
    キシ基で且つ他方が水酸基又はアシルオキシ基で
    あつてはならない）及び一般式 【化】 （式中R7は低級アルコキシカルボニル基を示
    し、R8は低級アルコキシ又は基
    【式】を示す） で表わされるいずれかの５−フルオロウラシル
    誘導体の残基であつて、該基はその隣接するカル
    ボニル基とエステル結合又はアミド結合する基を
    示す。〕 で表わされる５−フルオロウラシル誘導体。 ２ ３−〔３−（３−シアノ−６−ベンゾイルオキ
    シ−２−ピリジルオキシカルボニル）ベンゾイ
    ル〕エトキシメチル−５−フルオロウラシルであ
    る特許請求の範囲第１項に記載の誘導体。 ３ 一般式 【化】 〔式中Ｘはハロゲン原子を示す。Ａはフエニレ
    ン基、ピリジンジイル基又はフランジイル基を示
    す。R2は一般式 【化】 （式中R3は水素原子、テトラヒドロフラニル
    基、低級アルキルカルバモイル基、フタリジル
    基、低級アルコキシ低級アルキル基又は低級アル
    カノイルオキシ低級アルコキシカルボニル基を示
    す）、一般式 【化】 （式中R4は水素原子、水酸基又はアシルオキ
    シ基を示し、R5は水酸基、アシルオキシ基又は
    フエニル環上に置換基として低級アルキル基、低
    級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた基
    の１〜３個を有することのあるフエニル低級アル
    キルオキシ基を示し、R6は水素原子、水酸基、
    アシルオキシ基又はフエニル環上に置換基として
    低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあ
    るフエニル低級アルキルオキシ基を示す。但し
    R4が水素原子のとき、R5及びR6は一方がフエニ
    ル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
    コキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜
    ３個を有することのあるフエニル低級アルキルオ
    キシ基で且つ他方が水酸基又はアシルオキシ基で
    あつてはならない）及び一般式 【化】 （式中R7は低級アルコキシカルボニル基を示
    し、R8は低級アルコキシ又は基
    【式】を示す） で表わされるいずれかの５−フルオロウラシル
    誘導体の残基であつて、該基はその隣接するカル
    ボニル基とエステル結合又はアミド結合する基を
    示す。〕 で表わされる化合物と一般式 R1−Ｏ−R9 〔式中R1は置換基として水酸基、ハロゲン原
    子、シアノ基、オキソ基、テトラヒドロフラニル
    基、フエニル基を有する低級アルコキシ低級アル
    キル基、フエニル低級アルキルオキシ基、低級ア
    ルカノイルオキシ基、フエニル環上に置換基とし
    てハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコ
    キシ基からなる群から選ばれた基の１〜３個を有
    することのあるベンゾイルオキシ基、フラニルカ
    ルボニルオキシ基、チエニルカルボニルオキシ基
    及びナフチルカルボニルオキシ基なる群から選ば
    れた基の１〜４個を有するピリジル基を示す。 R9は水素原子又はトリ低級アルキルシリル基を
    示す。〕 で表わされる化合物とを反応させることを特徴と
    する一般式 【式】 〔式中R1，R2及びＡは上記に同じ。〕 で表わされる５−フルオロウラシル誘導体の製造
    法。 ４ 一般式 【式】 〔式中R1は置換基として水酸基、ハロゲン原
    子、シアノ基、オキソ基、テトラヒドロフラニル
    基、フエニル基を有する低級アルコキシ低級アル
    キル基、フエニル低級アルキルオキシ基、低級ア
    ルカノイルオキシ基、フエニル環上に置換基とし
    てハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコ
    キシ基からなる群から選ばれた基の１〜３個を有
    することのあるベンゾイルオキシ基、フラニルカ
    ルボニルオキシ基、チエニルカルボニルオキシ基
    及びナフチルカルボニルオキシ基なる群から選ば
    れた基の１〜４個を有するピリジル基を示す。Ａ
    はフエニレン基、ピリジンジイル基又はフランジ
    イル基を示す。Ｘはハロゲン原子を示す。〕 で表わされる化合物と、一般式 【式】 （式中R3は水素原子、テトラヒドロフラニル
    基、低級アルキルカルバモイル基、フタリジル
    基、低級アルコキシ低級アルキル基又は低級アル
    カノイルオキシ低級アルコキシカルボニル基を示
    す）、一般式 【式】 （式中R4は水素原子、水酸基又はアシルオキ
    シ基を示し、R5は水酸基、アシルオキシ基又は
    はフエニル環上に置換基として低級アルキル基、
    低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれた
    基の１〜３個を有することのあるフエニル低級ア
    ルキルオキシ基を示し、R6は水素原子、水酸基、
    アシルオキシ基又はフエニル環上に置換基として
    低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン
    原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあ
    るフエニル低級アルキルオキシ基を示す。但し
    R4が水素原子のとき、R5及びR6は一方がフエニ
    ル環上に置換基として低級アルキル基、低級アル
    コキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜
    ３個を有することのあるフエニル低級アルキルオ
    キシ基で且つ他方が水酸基又はアシルオキシ基で
    あつてはならない）及び一般式 【化】 （式中R7は低級アルコキシカルボニル基を示
    し、R8は低級アルコキシ又は基
    【式】を示す） で表わされるいずれかの５−フルオロウラシル誘
    導体とを反応させることを特徴とする一般式 【化】 〔式中R1，R2及びＡは上記に同じ。〕 で表わされる５−フルオロウラシル誘導体の製造
    法。
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