JPH0159256B2 - - Google Patents
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- JPH0159256B2 JPH0159256B2 JP55100450A JP10045080A JPH0159256B2 JP H0159256 B2 JPH0159256 B2 JP H0159256B2 JP 55100450 A JP55100450 A JP 55100450A JP 10045080 A JP10045080 A JP 10045080A JP H0159256 B2 JPH0159256 B2 JP H0159256B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
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- secoprostaglandins
- trans
- methyl
- cis
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセコプロスタグランジン類およびその
製造法に関する。さらに詳しくは医薬品として近
年注目されているプロスタグランジン類で、11位
の炭素原子のない、いわゆる11,12−セコプロス
タグランジン類およびその製造法に関するもので
ある。
製造法に関する。さらに詳しくは医薬品として近
年注目されているプロスタグランジン類で、11位
の炭素原子のない、いわゆる11,12−セコプロス
タグランジン類およびその製造法に関するもので
ある。
従来、プロスタグランジン類は生体において重
要な生理的な役割を有し、その作用は抗血小板作
用、抗潰瘍作用、抗アレルギー作用、血圧調節作
用、炎症促進作用、免疫調節作用、骨代謝調節作
用等々と幅広い生理的役割を有している(例えば
鹿取、山本、佐藤ら“プロスタグランジン”
(1978)講談社サイエンテイフイツク出版参照)。
要な生理的な役割を有し、その作用は抗血小板作
用、抗潰瘍作用、抗アレルギー作用、血圧調節作
用、炎症促進作用、免疫調節作用、骨代謝調節作
用等々と幅広い生理的役割を有している(例えば
鹿取、山本、佐藤ら“プロスタグランジン”
(1978)講談社サイエンテイフイツク出版参照)。
そこで、このプロスタグランジン類を哺乳動物
の種々の病気に対処するために医薬品として利用
する試みがなされ、例えばプロスタグランジン
F2α、プロスタグランジンF2の天然プロスタグラ
ンジンが陣痛促進剤として使用されている。とこ
ろが天然プロスタグランジンは生体内で速やかに
代射されて不活化されてしまうため、必ずしも適
当な医薬品とはいえない。また、その生物学的作
用は上述の如く広範囲にわたり、薬剤としては特
異性を有していない等などの欠点を有している。
の種々の病気に対処するために医薬品として利用
する試みがなされ、例えばプロスタグランジン
F2α、プロスタグランジンF2の天然プロスタグラ
ンジンが陣痛促進剤として使用されている。とこ
ろが天然プロスタグランジンは生体内で速やかに
代射されて不活化されてしまうため、必ずしも適
当な医薬品とはいえない。また、その生物学的作
用は上述の如く広範囲にわたり、薬剤としては特
異性を有していない等などの欠点を有している。
また、これらのプロスタグランジンは複雑な化
学的方法及び生化学的方法で製造することが出来
るが、かかる方法は製造費が高く、結果として入
手が困難であるという欠点も有している。この
為、生理活性の選択性の高い、しかも容易に入手
出来るプロスタグランジン類が検討されている
(例えばエス・エム・ロパーツ(S.M.Roberta)
らケミカル・バイオケミストリー・エス・フアー
マコロジー(Chem.Biochem.S.Pharmacol
Actirity of Prestanoids、Pargumon Press
Ltd、U.K.(1〜79)参照)。これらの中で従来か
ら知られているプロスタグランジン類の中には
C20のプロスタン酸骨格に適当な置換基を導入し
たり、プロスタン酸骨格構成炭素原子をヘテロ原
子で置換した誘導体が知られている。また特異な
プロスタグランジン類としてプロスタン酸骨格構
成炭素原子を省略したセコプロスタグランジン類
が数少ないが知られている(例えばイー・ジエ
ー・クラゴル・ジユニア(E.J.Cragol Jr)ら、
ジヤーナル・オブ・メデイシナル・ケミストリー
(J.Med.Chem.)、20、35(1977)参照)。このセコ
プロスタグランジン類は1型PG類であり、2型
PG類は知られていない。また、2型セコプロス
タグランジン類を製造する方法も知られていな
い。そこで本発明者らはかかる点に着目し、鋭意
研究した結果、本発明に到達したものである。
学的方法及び生化学的方法で製造することが出来
るが、かかる方法は製造費が高く、結果として入
手が困難であるという欠点も有している。この
為、生理活性の選択性の高い、しかも容易に入手
出来るプロスタグランジン類が検討されている
(例えばエス・エム・ロパーツ(S.M.Roberta)
らケミカル・バイオケミストリー・エス・フアー
マコロジー(Chem.Biochem.S.Pharmacol
Actirity of Prestanoids、Pargumon Press
Ltd、U.K.(1〜79)参照)。これらの中で従来か
ら知られているプロスタグランジン類の中には
C20のプロスタン酸骨格に適当な置換基を導入し
たり、プロスタン酸骨格構成炭素原子をヘテロ原
子で置換した誘導体が知られている。また特異な
プロスタグランジン類としてプロスタン酸骨格構
成炭素原子を省略したセコプロスタグランジン類
が数少ないが知られている(例えばイー・ジエ
ー・クラゴル・ジユニア(E.J.Cragol Jr)ら、
ジヤーナル・オブ・メデイシナル・ケミストリー
(J.Med.Chem.)、20、35(1977)参照)。このセコ
プロスタグランジン類は1型PG類であり、2型
PG類は知られていない。また、2型セコプロス
タグランジン類を製造する方法も知られていな
い。そこで本発明者らはかかる点に着目し、鋭意
研究した結果、本発明に到達したものである。
すなわた、本発明は下記式〔〕
〔式中、R1、R2、R3は水素原子又は炭素原子数
1〜4のアルキル基を表わし、R4は水素原子、
水酸基又はトリメチルシリル或いはt−ブチルジ
メチルシリルで保護された水酸基を表わし、R5
は炭素原子数10以下のアルキル基を表わし、Z1と
Z2は、そのどちらか一方が −CH2CH=CH(−CH2)−3COOR6を表わし、他方
が水素原子を表わす。但しR6は水素原子、炭素
原子数1〜6のアルキル基又は薬理学的に許容し
うる陽イオンを表わす。但し、R4が水酸基、ま
たは保護された水酸基を表わす場合は、R1、R2、
R3のすべてが同時には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類であり、
これらは以下の方法により製造される。
1〜4のアルキル基を表わし、R4は水素原子、
水酸基又はトリメチルシリル或いはt−ブチルジ
メチルシリルで保護された水酸基を表わし、R5
は炭素原子数10以下のアルキル基を表わし、Z1と
Z2は、そのどちらか一方が −CH2CH=CH(−CH2)−3COOR6を表わし、他方
が水素原子を表わす。但しR6は水素原子、炭素
原子数1〜6のアルキル基又は薬理学的に許容し
うる陽イオンを表わす。但し、R4が水酸基、ま
たは保護された水酸基を表わす場合は、R1、R2、
R3のすべてが同時には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類であり、
これらは以下の方法により製造される。
下記式〔〕
〔式中、R1、R2、R3、R5は上記定義に同じであ
り、R41は水素原子または保護された水酸基を表
わす。但し、R41が保護された水酸基を表わす場
合はR1、R2、R3のすべてが同時には水素原子で
表わさない。〕 で表わされるケトン類を、下記式〔〕 〔式中、Xはハロゲン原子、R61は炭素数1〜6
のアルキル基を表わし、Bは−CH=CH−を表
わす。〕 で表わされるハロゲン化物と塩基存在下に反応せ
しめ、次いで必要に応じて、脱保護、加水分解、
塩生成反応および/または還元反応に付すことに
より前下記式〔〕 で表わされるセコプロスタグランジン類が製造さ
れ、更に、下記式〔〕 〔式中、R1、R2は上記定義に同じである。〕 で表わされるエノン類に下記式〔〕 LiCu(CH−CHCR3R41R5)oL2-o… 〔〕 〔式中、R3、R41、R5は上記定義に同じであり、
Lはフエニルチオ基、1−ペンチニル基、ヨウ素
原子を表わし、nは1または2を表わす。〕 で表わされる有機銅リチウム化合物を反応せし
め、得られる下記式〔〕 〔式中、R1、R2、R3、R41、R5は上記定義に同
じ。〕 で表わされるケトン類を単離した後、あるいは単
離することなしに、下記式〔〕 〔式中、X、B、R61は上記定義に同じ。〕 で表わされるハロゲン化物を反応せしめ、次いで
必要に応じて、脱保護、加水分解、塩生成反応お
よび/または還元反応に付すことにより前記式
〔〕 で表わされるセコプロスタグランジン類が製造さ
れる。
り、R41は水素原子または保護された水酸基を表
わす。但し、R41が保護された水酸基を表わす場
合はR1、R2、R3のすべてが同時には水素原子で
表わさない。〕 で表わされるケトン類を、下記式〔〕 〔式中、Xはハロゲン原子、R61は炭素数1〜6
のアルキル基を表わし、Bは−CH=CH−を表
わす。〕 で表わされるハロゲン化物と塩基存在下に反応せ
しめ、次いで必要に応じて、脱保護、加水分解、
塩生成反応および/または還元反応に付すことに
より前下記式〔〕 で表わされるセコプロスタグランジン類が製造さ
れ、更に、下記式〔〕 〔式中、R1、R2は上記定義に同じである。〕 で表わされるエノン類に下記式〔〕 LiCu(CH−CHCR3R41R5)oL2-o… 〔〕 〔式中、R3、R41、R5は上記定義に同じであり、
Lはフエニルチオ基、1−ペンチニル基、ヨウ素
原子を表わし、nは1または2を表わす。〕 で表わされる有機銅リチウム化合物を反応せし
め、得られる下記式〔〕 〔式中、R1、R2、R3、R41、R5は上記定義に同
じ。〕 で表わされるケトン類を単離した後、あるいは単
離することなしに、下記式〔〕 〔式中、X、B、R61は上記定義に同じ。〕 で表わされるハロゲン化物を反応せしめ、次いで
必要に応じて、脱保護、加水分解、塩生成反応お
よび/または還元反応に付すことにより前記式
〔〕 で表わされるセコプロスタグランジン類が製造さ
れる。
本発明で提供される上記式〔〕で表わされる
化合物をより具体的に説明すれば以下の通りであ
る。Z1とZ2は、そのどちらか一方が −CH2CH=CH(−CH2)−3COOR6を表わし、他方
が水素原子を表わす。R1、R2、R3は水素原子ま
たは炭素原子1〜4のアルキル基を表わす。炭素
数1〜4のアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基ブチル基などが
あげられるがメチル基が特に好ましい。またR4
が水酸基、または保護された水酸基を表わす場合
はR1、R2、R3のすべてが同時に水素原子である
ことはなく、いずれかが必らず炭素数1〜4のア
ルキル基を表わす。R4は水素原子、水酸基、ま
たは保護された水酸基を表わす。水酸基の保護基
としてはt−ブチルジメチルシリル基、トリメチ
ルシリル基などがあげられる。セコプロスタグラ
ンジン類としてはR4が水素原子、水酸基が好ま
しく、反応中間体としてはR4はテトラヒドロピ
ラニルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ
基、α−エトキシエトキシ基、t−ブチルジメチ
ルシロキシ基、トリメチルシロキシ基、トリフエ
ニルシロキシ基が好ましい。R5は炭素数1〜10
のアルキル基を表わす。炭素数1〜10のアルキル
基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ノニル、デシル等のアルキ
ル基があげられる。なかでもペンチル、シクロヘ
キシルが特に好ましい。R6は水素原子、炭素数
1〜6のアルキル基、または薬理学的に許容しう
る陽イオンを表わす。炭素数1〜6のアルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、t−ブチル、シクロヘキシル
などであり、なかでもメチル、エチル基が好まし
くあげられる。また薬理学的に許容しうる陽イオ
ンとしてはリチウム、ナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属類、カルシウム、マグネシウムな
どのアルカリ土類金属類、あるいはアルミニウ
ム、亜鉛、アンモニウム陽イオンなどをあげるこ
とができる。なかでも後述の製造法から支持され
る様にナトリウム、カリウムイオンが特に好まし
いものとしてあげられる。
化合物をより具体的に説明すれば以下の通りであ
る。Z1とZ2は、そのどちらか一方が −CH2CH=CH(−CH2)−3COOR6を表わし、他方
が水素原子を表わす。R1、R2、R3は水素原子ま
たは炭素原子1〜4のアルキル基を表わす。炭素
数1〜4のアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基ブチル基などが
あげられるがメチル基が特に好ましい。またR4
が水酸基、または保護された水酸基を表わす場合
はR1、R2、R3のすべてが同時に水素原子である
ことはなく、いずれかが必らず炭素数1〜4のア
ルキル基を表わす。R4は水素原子、水酸基、ま
たは保護された水酸基を表わす。水酸基の保護基
としてはt−ブチルジメチルシリル基、トリメチ
ルシリル基などがあげられる。セコプロスタグラ
ンジン類としてはR4が水素原子、水酸基が好ま
しく、反応中間体としてはR4はテトラヒドロピ
ラニルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ
基、α−エトキシエトキシ基、t−ブチルジメチ
ルシロキシ基、トリメチルシロキシ基、トリフエ
ニルシロキシ基が好ましい。R5は炭素数1〜10
のアルキル基を表わす。炭素数1〜10のアルキル
基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ノニル、デシル等のアルキ
ル基があげられる。なかでもペンチル、シクロヘ
キシルが特に好ましい。R6は水素原子、炭素数
1〜6のアルキル基、または薬理学的に許容しう
る陽イオンを表わす。炭素数1〜6のアルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、t−ブチル、シクロヘキシル
などであり、なかでもメチル、エチル基が好まし
くあげられる。また薬理学的に許容しうる陽イオ
ンとしてはリチウム、ナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属類、カルシウム、マグネシウムな
どのアルカリ土類金属類、あるいはアルミニウ
ム、亜鉛、アンモニウム陽イオンなどをあげるこ
とができる。なかでも後述の製造法から支持され
る様にナトリウム、カリウムイオンが特に好まし
いものとしてあげられる。
上記式〔〕で表わされるセコプロスタグラン
ジン類は下記式〔−a〕 〔式中、Aはオキソであり、Bは−CH=CH−
を表わし、またR1、R2、R3、R4、R5、R6は上記
定義に同じ。但し、R4が保護されていてもよい
水酸基を表わす場合はR1、R2、R3のすべてが同
時には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類と、下記
式〔−b〕 〔式中、Aはオキソであり、Bは−CH=CH−
を表わし、またR1、R2、R3、R4、R5、R6は上記
定義に同じ。但し、R4は保護されていてもよい
水酸基を表わす場合はR1、R2、R3のすべてが同
時には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類とに分類
される。
ジン類は下記式〔−a〕 〔式中、Aはオキソであり、Bは−CH=CH−
を表わし、またR1、R2、R3、R4、R5、R6は上記
定義に同じ。但し、R4が保護されていてもよい
水酸基を表わす場合はR1、R2、R3のすべてが同
時には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類と、下記
式〔−b〕 〔式中、Aはオキソであり、Bは−CH=CH−
を表わし、またR1、R2、R3、R4、R5、R6は上記
定義に同じ。但し、R4は保護されていてもよい
水酸基を表わす場合はR1、R2、R3のすべてが同
時には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類とに分類
される。
従つて、上記式〔〕で表わされる化合物の好
ましいものを上記式〔−a〕と上記式〔−
b〕の二つの型に分類して具体的に例示すれば次
の通りである。
ましいものを上記式〔−a〕と上記式〔−
b〕の二つの型に分類して具体的に例示すれば次
の通りである。
上記式〔−a〕の型に属する化合物として
は、 (1a) 14(RS)−ヒドロキシ−8−メチル−9−
オキソノナデカ−5−シス−12−トランス−ジ
エン酸 (2a) (1a)の14(S)体 (3a) (1a)の14(R)体 (4a) 14(RS)−ヒドロキシ−11−メチル−9−
オキソノナデカ−5−シス−12−トランス−ジ
エン酸 (5a) (4a)の14(S)体 (6a) (4a)の14(R)体 (7a) 11−エチル−14−ヒドロキシ−9−オキソ
ノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン酸 (8a) 14−ヒドロキシ−9−オキソ−11−プロピ
ルノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン
酸 (9a) 14−ヒドロキシ−14−メチル−9−オキソ
ノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン酸 (10a) 14−エチル−14−ヒドロキシ−9−オキ
ソノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン
酸 (11a) 9,14−ジヒドロキシ−11−メチルノナ
デカ−5−シス−12−トランス−ジエン酸 (12a) (1a)〜(11a)の14−ヒドロキシル基が、t
−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラ
ニル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロ
フラニル基、メトキシメチル基で保護された化
合物 (13a) (1a)(11a)のカルボン酸がメチルエステル、
エチルエステル、t−ブチルエステル、ナトリ
ウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩となつた
化合物 (14a) (1a)〜(11a)の14−ヒドロキシル基がt−
ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロフ
ラニル基、メトキシメチル基で保護され、カル
ボン酸がメチルエステル、エチルエステル、t
−ブチルエステルとなつた化合物 などがあげられ、また上記式〔−b〕の型に属
する化合物としては、 (1b) 12(RS)−ヒドロキシ−8−プロピオニル
ヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジエン
酸 (2b) (1b)の12(S)体 (3b) (1b)の12(R)体 (4b) 8−アセチル−12(RS)−ヒドロキシ−9
−メチルヘプタデカ−5−シス−10−トランス
−ジエン酸 (5b) (4b)の12(S)体 (6b) (4b)の12(R)体 (7b) 8−アセチル−9−エチル−12−ヒドロキ
シヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジエ
ン酸 (8b) 8−アセチル−12−ヒドロキシ−9−プロ
ピルヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジ
エン酸 (9b) 8−アセチル−12−ヒドロキシ−12−メチ
ルヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジエ
ン酸 (10b) 8−アセチル−12−エチル−12−ヒドロ
キシヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジ
エン酸 (11b) 12−ヒドロキシ−8−(1−ヒドロキシエ
チル)−9−メチルヘプタデカ−5−シス−10
−トランス−ジエン酸 (12b) (1b)〜(11b)の12−ヒドロキシル基がt−
ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロフ
ラニル基、メトキシメチル基で保護された化合
物 (13b) (1b)〜(11b)のカルボン酸がメチルエステ
ル、エチルエステル、t−ブチルエステル、ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩とな
つた化合物 (14b) (1b)〜(11b)の12−ヒドロキシル基がt−
ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロフ
ラニル基、メトキシメチル基で保護され、カル
ボン酸がメチルエステル、エチルエステル、t
−ブチルエステルとなつた化合物 などがあげられる。
は、 (1a) 14(RS)−ヒドロキシ−8−メチル−9−
オキソノナデカ−5−シス−12−トランス−ジ
エン酸 (2a) (1a)の14(S)体 (3a) (1a)の14(R)体 (4a) 14(RS)−ヒドロキシ−11−メチル−9−
オキソノナデカ−5−シス−12−トランス−ジ
エン酸 (5a) (4a)の14(S)体 (6a) (4a)の14(R)体 (7a) 11−エチル−14−ヒドロキシ−9−オキソ
ノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン酸 (8a) 14−ヒドロキシ−9−オキソ−11−プロピ
ルノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン
酸 (9a) 14−ヒドロキシ−14−メチル−9−オキソ
ノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン酸 (10a) 14−エチル−14−ヒドロキシ−9−オキ
ソノナデカ−5−シス−12−トランス−ジエン
酸 (11a) 9,14−ジヒドロキシ−11−メチルノナ
デカ−5−シス−12−トランス−ジエン酸 (12a) (1a)〜(11a)の14−ヒドロキシル基が、t
−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラ
ニル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロ
フラニル基、メトキシメチル基で保護された化
合物 (13a) (1a)(11a)のカルボン酸がメチルエステル、
エチルエステル、t−ブチルエステル、ナトリ
ウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩となつた
化合物 (14a) (1a)〜(11a)の14−ヒドロキシル基がt−
ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロフ
ラニル基、メトキシメチル基で保護され、カル
ボン酸がメチルエステル、エチルエステル、t
−ブチルエステルとなつた化合物 などがあげられ、また上記式〔−b〕の型に属
する化合物としては、 (1b) 12(RS)−ヒドロキシ−8−プロピオニル
ヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジエン
酸 (2b) (1b)の12(S)体 (3b) (1b)の12(R)体 (4b) 8−アセチル−12(RS)−ヒドロキシ−9
−メチルヘプタデカ−5−シス−10−トランス
−ジエン酸 (5b) (4b)の12(S)体 (6b) (4b)の12(R)体 (7b) 8−アセチル−9−エチル−12−ヒドロキ
シヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジエ
ン酸 (8b) 8−アセチル−12−ヒドロキシ−9−プロ
ピルヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジ
エン酸 (9b) 8−アセチル−12−ヒドロキシ−12−メチ
ルヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジエ
ン酸 (10b) 8−アセチル−12−エチル−12−ヒドロ
キシヘプタデカ−5−シス−10−トランス−ジ
エン酸 (11b) 12−ヒドロキシ−8−(1−ヒドロキシエ
チル)−9−メチルヘプタデカ−5−シス−10
−トランス−ジエン酸 (12b) (1b)〜(11b)の12−ヒドロキシル基がt−
ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロフ
ラニル基、メトキシメチル基で保護された化合
物 (13b) (1b)〜(11b)のカルボン酸がメチルエステ
ル、エチルエステル、t−ブチルエステル、ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩とな
つた化合物 (14b) (1b)〜(11b)の12−ヒドロキシル基がt−
ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、α−エトキシエチル基、テトラヒドロフ
ラニル基、メトキシメチル基で保護され、カル
ボン酸がメチルエステル、エチルエステル、t
−ブチルエステルとなつた化合物 などがあげられる。
本発明の上記式〔〕、〔−a〕、〔−b〕で
表わされるセコプロスタグランジン類は前述の態
様によつて製造される。
表わされるセコプロスタグランジン類は前述の態
様によつて製造される。
前記式〔〕においてR1、R2、R3は水素原子
または炭素数1〜4のアルキル基を表わすが、後
述するR41が保護された水酸基を表わす場合は
R1、R2、R3がすべて同時に水素原子となること
はない。また、炭素数1〜4のアルキル基として
は前述したものと同様のものが好ましくあげられ
る。R41は水素原子または保護された水酸基を表
わす。水酸基の保護基としては前述したものと同
様のものが好ましくあげられる。R5は前述した
通りである。
または炭素数1〜4のアルキル基を表わすが、後
述するR41が保護された水酸基を表わす場合は
R1、R2、R3がすべて同時に水素原子となること
はない。また、炭素数1〜4のアルキル基として
は前述したものと同様のものが好ましくあげられ
る。R41は水素原子または保護された水酸基を表
わす。水酸基の保護基としては前述したものと同
様のものが好ましくあげられる。R5は前述した
通りである。
また前記式〔〕におけるXはハロゲン原子で
あり、かかるハロゲン原子としてはヨウ素原子、
臭素原子、塩素原子があげられる。Bは前述の通
りであり、R61は炭素数1〜6のアルキル基を表
わす。炭素数1〜6のアルキル基も前述のR6に
対してあげられたものと同じものが好ましくあげ
られる。
あり、かかるハロゲン原子としてはヨウ素原子、
臭素原子、塩素原子があげられる。Bは前述の通
りであり、R61は炭素数1〜6のアルキル基を表
わす。炭素数1〜6のアルキル基も前述のR6に
対してあげられたものと同じものが好ましくあげ
られる。
前記式〔〕で表わされるケトン類を、前記式
〔〕で表わされるハロゲン化物でアルキル化反
応を行なうには、通常、塩基を用いて、それ自体
公知の方法で前記式〔〕のケトン類を塩基と接
触せしめてエノレート陰イオンとし、それに前記
式〔〕のハロゲン化物を反応せしめることによ
つて達成される。ここで用いる塩基としては通常
はリチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムイソプロピルシクロヘキシ
ルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジドもしくは水素化ナトリウム、水素化
カリウムなどが用いられるが、リチウムジイソプ
ロピルアミド、水素化カリウムが特に好ましく用
いられる。媒体としてはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン
などのエーテル類が好ましく用いられる。
〔〕で表わされるハロゲン化物でアルキル化反
応を行なうには、通常、塩基を用いて、それ自体
公知の方法で前記式〔〕のケトン類を塩基と接
触せしめてエノレート陰イオンとし、それに前記
式〔〕のハロゲン化物を反応せしめることによ
つて達成される。ここで用いる塩基としては通常
はリチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロ
ピルアミド、リチウムイソプロピルシクロヘキシ
ルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジドもしくは水素化ナトリウム、水素化
カリウムなどが用いられるが、リチウムジイソプ
ロピルアミド、水素化カリウムが特に好ましく用
いられる。媒体としてはエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン
などのエーテル類が好ましく用いられる。
前記式〔〕で表わされるケトン類を上記塩基
と反応せしめた後にトリエチルボランの如きトリ
アルキルボラン、あるいはトリエタノールアミン
ボレートを加えることにより生ずるエノレートの
反応性を変化せしめた後にハロゲン化物を反応せ
しめる方法も好ましい反応様式として挙げられ
る。
と反応せしめた後にトリエチルボランの如きトリ
アルキルボラン、あるいはトリエタノールアミン
ボレートを加えることにより生ずるエノレートの
反応性を変化せしめた後にハロゲン化物を反応せ
しめる方法も好ましい反応様式として挙げられ
る。
この反応を行うには、上記媒体の他にジメチル
スルホキシドを加えて行つてもよい。ボラン化合
物を用いるアルキル化反応はRathkeらによつて、
ポリアルキル化を抑える方法として提唱された方
法であるが、本発明のアルキル化反応において十
分応用できる(エム・ダブリユー・ラスカ、エ
ー・リンタート・シンスエシイス・コミユニケイ
シヨン(M.W.Rathke、A.Lindert Syn.
Commun.)、8、9(1978)参照)。アルキル化反
応の反応温度は−78℃〜40℃の範囲、好ましくは
−20℃〜20℃の範囲が選ばれる。用いる式〔〕
のハロゲン化物の量は、原料の式〔〕のケトン
に対して化学量論的に用いれば良い。反応の進行
は薄層クロマトグラフイーなどの方法によつて追
跡される。反応時間は選ばれるハロゲン化物の種
類と反応温度によつて異なるが、通常は10分から
3時間以内で完結する。反応生成物は通常の手段
により抽出、洗浄、クロマトグラフイーあるいは
これらの組合せにより製取することが出来る。
スルホキシドを加えて行つてもよい。ボラン化合
物を用いるアルキル化反応はRathkeらによつて、
ポリアルキル化を抑える方法として提唱された方
法であるが、本発明のアルキル化反応において十
分応用できる(エム・ダブリユー・ラスカ、エ
ー・リンタート・シンスエシイス・コミユニケイ
シヨン(M.W.Rathke、A.Lindert Syn.
Commun.)、8、9(1978)参照)。アルキル化反
応の反応温度は−78℃〜40℃の範囲、好ましくは
−20℃〜20℃の範囲が選ばれる。用いる式〔〕
のハロゲン化物の量は、原料の式〔〕のケトン
に対して化学量論的に用いれば良い。反応の進行
は薄層クロマトグラフイーなどの方法によつて追
跡される。反応時間は選ばれるハロゲン化物の種
類と反応温度によつて異なるが、通常は10分から
3時間以内で完結する。反応生成物は通常の手段
により抽出、洗浄、クロマトグラフイーあるいは
これらの組合せにより製取することが出来る。
このようにして、本発明の上記式〔〕で表わ
されるセコプロスタグランジン類において、Aが
酸素原子(オキソ基、C−O)、R4が保護されて
いる水酸基、R6が炭素数1〜6のアルキル基で
あるセコプロスタグランジン類が製造される。
されるセコプロスタグランジン類において、Aが
酸素原子(オキソ基、C−O)、R4が保護されて
いる水酸基、R6が炭素数1〜6のアルキル基で
あるセコプロスタグランジン類が製造される。
かくして得られるセコプロスタグランジン類を
それ自体公知の方法(例えば、イー・ジエー・コ
ーリー(E.J.Corey)ら、ジヤーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエテイー(J.Amer.
Chem.Soc.)、94、6190(1972)参照)で脱保護す
ることによつて、上記式〔〕においてR4が水
酸基であるセコプロスタグランジン類が得られ
る。
それ自体公知の方法(例えば、イー・ジエー・コ
ーリー(E.J.Corey)ら、ジヤーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエテイー(J.Amer.
Chem.Soc.)、94、6190(1972)参照)で脱保護す
ることによつて、上記式〔〕においてR4が水
酸基であるセコプロスタグランジン類が得られ
る。
また、上記式〔〕においてR6が水素原子で
あるセコプロスタグランジン類は、上述した如き
方法で得られるセコプロスタグランジン類(R4
が水酸基、R6が炭素数1〜6のアルキル基)を
加水分解することによつて製造される。加水分解
はアルカリ性水溶液、例えば水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム水溶液中でセコ
プロスタグランジン類を反応させることにより達
成される。上記加水分解反応をスムーズに進行さ
せるためにテトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等のアルコール類を添加しても良い。反応液を
塩酸、硫酸、シユウ酸等の酸で中和し、遊離する
カルボン酸を通常の方法で抽出することにより、
上記式〔〕においてR6が水素原子であるセコ
プロスタグランジン類を製取することが出来る。
あるセコプロスタグランジン類は、上述した如き
方法で得られるセコプロスタグランジン類(R4
が水酸基、R6が炭素数1〜6のアルキル基)を
加水分解することによつて製造される。加水分解
はアルカリ性水溶液、例えば水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム水溶液中でセコ
プロスタグランジン類を反応させることにより達
成される。上記加水分解反応をスムーズに進行さ
せるためにテトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等のアルコール類を添加しても良い。反応液を
塩酸、硫酸、シユウ酸等の酸で中和し、遊離する
カルボン酸を通常の方法で抽出することにより、
上記式〔〕においてR6が水素原子であるセコ
プロスタグランジン類を製取することが出来る。
また、上記式〔〕において、AがH、OH
(炭素原子に結合する水素原子、水酸基を示す。)
であるセコプロスタグランジン類は上記セコプロ
スタグランジン類をそれ自体公知の方法(例えば
エル・エフ・フイーザー(L.F.Fieser)ら、“リ
エージエント フオー オルガニツク シンセシ
ス(Reagenta for Organic Synthesis)”John
Wijey and Sons.Inc.(1967)1049参照)で環元
することによつて得られる。
(炭素原子に結合する水素原子、水酸基を示す。)
であるセコプロスタグランジン類は上記セコプロ
スタグランジン類をそれ自体公知の方法(例えば
エル・エフ・フイーザー(L.F.Fieser)ら、“リ
エージエント フオー オルガニツク シンセシ
ス(Reagenta for Organic Synthesis)”John
Wijey and Sons.Inc.(1967)1049参照)で環元
することによつて得られる。
上述した脱保護、加水分解反応、還元はその順
序を任意に変えて行うことができ、かくすること
によつて種々のセコプロスタグランジン類が得ら
れる。
序を任意に変えて行うことができ、かくすること
によつて種々のセコプロスタグランジン類が得ら
れる。
また上記式〔〕において、R6が薬理学的に
許容しうる陽イオンであるセコプロスタグランジ
ン類は、上記加水分解反応後に得られるもの(カ
ルボン酸)を塩基と反応させることにより達成さ
れる。塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水等
が好ましく用いられる。反応はカルボン酸と塩基
とを化学量論的に混合し、媒体を減圧留去または
媒体が水の場合には凍結乾燥により除去すること
によつて生成物を得ることが出来る。
許容しうる陽イオンであるセコプロスタグランジ
ン類は、上記加水分解反応後に得られるもの(カ
ルボン酸)を塩基と反応させることにより達成さ
れる。塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水等
が好ましく用いられる。反応はカルボン酸と塩基
とを化学量論的に混合し、媒体を減圧留去または
媒体が水の場合には凍結乾燥により除去すること
によつて生成物を得ることが出来る。
また、本発明の製造法で原料として用いられる
上記式〔〕で表わされるケトン類は前記式
〔〕で表わされるエノン類に前記式〔〕で表
わされる有機銅リチウム化合物を反応せしめるこ
とにより得られる。
上記式〔〕で表わされるケトン類は前記式
〔〕で表わされるエノン類に前記式〔〕で表
わされる有機銅リチウム化合物を反応せしめるこ
とにより得られる。
前記式〔〕のエノン類としてはメチルビニル
ケトン、エチルビニルケトン、メチルクロチルケ
トン、3−ヘキセン−2−オン、3−ヘプテン−
2−オン、3−オクテン−2−オンなどがあげら
れる。
ケトン、エチルビニルケトン、メチルクロチルケ
トン、3−ヘキセン−2−オン、3−ヘプテン−
2−オン、3−オクテン−2−オンなどがあげら
れる。
また前記式〔〕で表わされる有機銅リチウム
化合物は例えば特開昭52−83524号公報に記載の
如き方法によつて調製することができる。
化合物は例えば特開昭52−83524号公報に記載の
如き方法によつて調製することができる。
すなわち、1−ペンチンから得られる銅ペンチ
リドの無水ジエチルエーテル溶液を得、これに式 〔式中、R3、R41、R5は上記定義に同じ。〕 で表わされるヨード化合物とt−ブチルリチウム
とから調製される有機リチウム化合物を滴下させ
ることによつて得られる。
リドの無水ジエチルエーテル溶液を得、これに式 〔式中、R3、R41、R5は上記定義に同じ。〕 で表わされるヨード化合物とt−ブチルリチウム
とから調製される有機リチウム化合物を滴下させ
ることによつて得られる。
また、他の方法としては、上記ヨード化合物と
t−ブチルリチウムとから調製される有機リチウ
ム化合物のエーテル溶液にフエニルチオ銅とヘキ
サメチルホスホラストリアミドとから成るエーテ
ル溶液を加えることによつて得られる。また、ヨ
ウ化第1銅のトリブチルホスフイン錯体のエーテ
ル溶液に有機リチウム化合物を加えても得られ
る。かくして得られる有機銅リチウム化合物のエ
ーテル溶液に前記式〔〕のエノン類を加えて、
低温下に撹拌することによつて上記式〔〕で表
わされるケトン類が得られる。反応後に水または
アンモニア性塩化アンモニウム水溶液の如き強電
解質水溶液で処理し、通常の方法によつて単離精
製することができる。
t−ブチルリチウムとから調製される有機リチウ
ム化合物のエーテル溶液にフエニルチオ銅とヘキ
サメチルホスホラストリアミドとから成るエーテ
ル溶液を加えることによつて得られる。また、ヨ
ウ化第1銅のトリブチルホスフイン錯体のエーテ
ル溶液に有機リチウム化合物を加えても得られ
る。かくして得られる有機銅リチウム化合物のエ
ーテル溶液に前記式〔〕のエノン類を加えて、
低温下に撹拌することによつて上記式〔〕で表
わされるケトン類が得られる。反応後に水または
アンモニア性塩化アンモニウム水溶液の如き強電
解質水溶液で処理し、通常の方法によつて単離精
製することができる。
従つて本発明では次の製造法も同様に提供され
る。
る。
すなわち、上記式〔〕で表わされるエノン類
に上記式〔〕で表わされる有機銅リチウム化合
物を反応せしめ、生成した上記式〔〕で表わさ
れるケトン類を単離した後、あるいは単離するこ
となしに次いで上記式〔〕で表わされるハロゲ
ン化物を反応せしめ、次いで必要に応じて、脱保
護、加水分解、還元および/または塩生成反応せ
しめることを特徴とする上記式〔〕で表わされ
るセコプロスタグランジン類の製造法である。
に上記式〔〕で表わされる有機銅リチウム化合
物を反応せしめ、生成した上記式〔〕で表わさ
れるケトン類を単離した後、あるいは単離するこ
となしに次いで上記式〔〕で表わされるハロゲ
ン化物を反応せしめ、次いで必要に応じて、脱保
護、加水分解、還元および/または塩生成反応せ
しめることを特徴とする上記式〔〕で表わされ
るセコプロスタグランジン類の製造法である。
かくして、本発明の上記式〔〕で表わされる
セコプロスタグランジン類において、Aがオキソ
基(=O)、R4が保護された水酸基、R6が炭素数
1〜6のアルキル基であるセコプロスタグランジ
ン類が製造され、かかる化合物を用いて、前述し
たのと同様に脱保護、加水分解、還元、塩生成反
応を行うことによつて、各種のセコプロスタグラ
ンジン類が製造される。
セコプロスタグランジン類において、Aがオキソ
基(=O)、R4が保護された水酸基、R6が炭素数
1〜6のアルキル基であるセコプロスタグランジ
ン類が製造され、かかる化合物を用いて、前述し
たのと同様に脱保護、加水分解、還元、塩生成反
応を行うことによつて、各種のセコプロスタグラ
ンジン類が製造される。
かくして得られた本発明の式〔〕で示される
セコプロスタグランジン類は新規化合物であり、
医薬品として期待される物質である。本発明化合
物はその合成が簡単で、低製造費で製造し得るこ
とが出来、従来のプロスタグランジン様の活性が
期待されるばかりでなく、その化学構造上の特徴
から明らかな如く、不飽和脂肪酸の誘導体ともみ
なすことが出来るという特徴と有している。これ
らの利点の組み合せは、種々の人間および動物の
病気の治療、予防に対して有効な経口、非経口の
医薬品を提供することが期待される。すなわち、
本発明は心臓血管、腎、消化管および生殖系にお
ける適用および脂質代射、炎症、血液凝固、血小
板、皮膚病およびある種の癌の抑制、免疫機能の
制御に適用される可能性のある極めて有用な化合
物を提供する。
セコプロスタグランジン類は新規化合物であり、
医薬品として期待される物質である。本発明化合
物はその合成が簡単で、低製造費で製造し得るこ
とが出来、従来のプロスタグランジン様の活性が
期待されるばかりでなく、その化学構造上の特徴
から明らかな如く、不飽和脂肪酸の誘導体ともみ
なすことが出来るという特徴と有している。これ
らの利点の組み合せは、種々の人間および動物の
病気の治療、予防に対して有効な経口、非経口の
医薬品を提供することが期待される。すなわち、
本発明は心臓血管、腎、消化管および生殖系にお
ける適用および脂質代射、炎症、血液凝固、血小
板、皮膚病およびある種の癌の抑制、免疫機能の
制御に適用される可能性のある極めて有用な化合
物を提供する。
以下に実施例をあげて本発明を説明するが、以
下の諸例は本発明の例示の為にかかげるものであ
り、もとよりこれらに限定されるものではない。
下の諸例は本発明の例示の為にかかげるものであ
り、もとよりこれらに限定されるものではない。
実施例 1(原料合成)
3(S)−t−ブチルジメチルシロキシ−1−ヨ
ード−1−トランス−オクテン1.4gとt−ブチ
ルリチウム(1.9M)4.2mlとから調製したリチウ
ム化合物のエーテル溶液17mlにフエニルチオ銅
665mgとヘキサメチルホスホラストリアミド1.4ml
とからなるエーテル溶液7mlを−70゜で加え、1
時間反応させた。生成した有機銅リチウム化合物
のエーテル溶液にペント−2−エン−4−オン
300mgのエーテル溶液2mlを−50゜で一気に加え
た。徐々に浴温を上げ2時間で−35゜までした。
エーテル100mlを加え、飽和塩化アンモニウム水
で1回洗浄後、アンモニア−塩化アンモニウム系
で4回洗浄した。乾燥(硫酸マグネシウム)後、
減圧留去して得た油状物をカラムクロマトグラフ
イー(シリカゲル30g、シクロヘキサン:酢酸エ
チル95:5)にて精製し、756mgの4−メチル−
7(S)−t−ブチルジメチルシリロキシドデカ−
5−トランス−エン−2−オンを得た。このもの
の物理化学的性状は次の如くであつた。
ード−1−トランス−オクテン1.4gとt−ブチ
ルリチウム(1.9M)4.2mlとから調製したリチウ
ム化合物のエーテル溶液17mlにフエニルチオ銅
665mgとヘキサメチルホスホラストリアミド1.4ml
とからなるエーテル溶液7mlを−70゜で加え、1
時間反応させた。生成した有機銅リチウム化合物
のエーテル溶液にペント−2−エン−4−オン
300mgのエーテル溶液2mlを−50゜で一気に加え
た。徐々に浴温を上げ2時間で−35゜までした。
エーテル100mlを加え、飽和塩化アンモニウム水
で1回洗浄後、アンモニア−塩化アンモニウム系
で4回洗浄した。乾燥(硫酸マグネシウム)後、
減圧留去して得た油状物をカラムクロマトグラフ
イー(シリカゲル30g、シクロヘキサン:酢酸エ
チル95:5)にて精製し、756mgの4−メチル−
7(S)−t−ブチルジメチルシリロキシドデカ−
5−トランス−エン−2−オンを得た。このもの
の物理化学的性状は次の如くであつた。
ir(塗付)
1715cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.95(a、12H)
0.98(3H、d、J−6Hz)
1.05−1.7(8H、m)
2.06(3H、s)
2.16−2.9(3H、m)
3.95(1H、m)
5.40(2H、m)
MS(70eV)
311(M+−15)、269、255、211
実施例 2
水素化カリウム(22.7%油)120mgをペンタン
で洗浄し、それに、4−メチル−7(S)−t−ブ
チルジメチルシリロキシドデカ−5−トランス−
エン−2−オン186mgのテトラヒドロフラン溶液
6mlを加え、室温50分撹拌した。トリエチルボラ
ン(1M溶液)0.86mlを加え、10分反応させた後、
7−プロモ−5−シス−ヘプテン酸メチル150mg
を加え、4時間撹拌した。減圧濃縮した後、エー
テル20ml加え、飽和塩化アンモニウム水、飽和食
塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥減圧留去し
て得た油状物をtlc(シリカゲル、シクロヘキサン
−エーテル8:2)にて精製して、下記の生成物
を得た。
で洗浄し、それに、4−メチル−7(S)−t−ブ
チルジメチルシリロキシドデカ−5−トランス−
エン−2−オン186mgのテトラヒドロフラン溶液
6mlを加え、室温50分撹拌した。トリエチルボラ
ン(1M溶液)0.86mlを加え、10分反応させた後、
7−プロモ−5−シス−ヘプテン酸メチル150mg
を加え、4時間撹拌した。減圧濃縮した後、エー
テル20ml加え、飽和塩化アンモニウム水、飽和食
塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥減圧留去し
て得た油状物をtlc(シリカゲル、シクロヘキサン
−エーテル8:2)にて精製して、下記の生成物
を得た。
8−アセチル−9−メチル−15(S)−t−ブチ
ルジメチルシリロキシヘプタデカ−5−シス−10
−トランス−ジエン酸メチル45mg ir(塗付) 1710、1740cm-1 nmr(CDCl3) 0.86(12H、m) 1.0〜1.7(10H、m) 2.00(3H、s) 1.7〜2.5(8H、m) 3.60(3H、s) 3.70−4.20(1H、m) 5.10〜5.40(4H、m) 14(S)−t−ブチルジメチルシリロキシ−11−
メチル−9−オキソノナデカ−5−シス−12−ト
ランス−ジエン酸メチル13mg ir(塗付) 1710、1740cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.86(12H、m) 0.98(3H、d、J−6Hz) 1.0−1.7(10H、m) 1.7−2.6(11H、m) 3.60(3H、s) 3.95(1H、m) 5.30(2H、m) 実施例 3 8−アセチル−9−メチル−15(S)−t−ブチ
ルジメチルシリロキシヘプタデカ−5,10−シ
ス、トランス−ジエン酸メチル53mgを酢酸(3
ml)テトラヒドロフラン2ml、水2mlに溶解し、
1日撹拌した。減圧留去しptle(シリカゲル、シ
クロヘキサン−エーテル4:6)にて精製し、対
応するヒドロキシル体30mgを得た。
ルジメチルシリロキシヘプタデカ−5−シス−10
−トランス−ジエン酸メチル45mg ir(塗付) 1710、1740cm-1 nmr(CDCl3) 0.86(12H、m) 1.0〜1.7(10H、m) 2.00(3H、s) 1.7〜2.5(8H、m) 3.60(3H、s) 3.70−4.20(1H、m) 5.10〜5.40(4H、m) 14(S)−t−ブチルジメチルシリロキシ−11−
メチル−9−オキソノナデカ−5−シス−12−ト
ランス−ジエン酸メチル13mg ir(塗付) 1710、1740cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.86(12H、m) 0.98(3H、d、J−6Hz) 1.0−1.7(10H、m) 1.7−2.6(11H、m) 3.60(3H、s) 3.95(1H、m) 5.30(2H、m) 実施例 3 8−アセチル−9−メチル−15(S)−t−ブチ
ルジメチルシリロキシヘプタデカ−5,10−シ
ス、トランス−ジエン酸メチル53mgを酢酸(3
ml)テトラヒドロフラン2ml、水2mlに溶解し、
1日撹拌した。減圧留去しptle(シリカゲル、シ
クロヘキサン−エーテル4:6)にて精製し、対
応するヒドロキシル体30mgを得た。
ir(塗付)
3450、1740、1710cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.95(6H、m、2CH3)
1.05−1.7(10H、m)
2.03(3H、s)
1.7−2.5(9H、m)
3.60(3H、s)
3.96(1H、m)
5.30(4H、m)
MS(20eV)
352(M+)、334
実施例 4
実施例3で得た化合物30mgを2NNaOH2mlメタ
ノール0.5mlと1時間撹拌した。10%シユウ酸で
弱酸性にしてからエーテルで抽出し、8−アセチ
ル−12(S)−ヒドロキシ−9−メチルヘプタデカ
−5,10−シス、トランス−ジエン酸28mgを得
た。このもののスペクトルデータは ir(塗付) 3400、1710cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.9(6H、m) 1.06−1.7(10H、m) 1.7−2.5(8H、m) 1.98 2.02(3H、2s、立体異性体) 3.98(1H、m) 5.30(4H、m) 5.55(2H、m) 実施例 5(原料合成) 3(S)−t−ブチルジメチルシロキシ−1−ヨ
ード−1−トランス−オクテン808mgとt−ブチ
ルリチウム(1.9M)4.2mlとから調整したリチウ
ム化合物のエーテル溶液10mlにフエニルチオ銅
380mgとヘキサメチルホスホラストリアミド0.8ml
のエーテル溶液4mlを−70゜で加え1時間反応さ
せた。次にペント−1−エン−3−オン176mgの
エーテル溶液1mlを−50゜で一気に加えた。同温
度で2時間反応させた後実施例1と同様の処理を
して得た油状物をカラムクロマトグラフイー(シ
リカゲル、シクロヘキサン−酢酸エチル95:5)
にて精製し、128mgの8(S)−t−ブチルジメチ
ルシリロキシトリデカ−6−トランス−エン−3
−オンを得た。このもののスペクトルデータは次
の如くであつた。
ノール0.5mlと1時間撹拌した。10%シユウ酸で
弱酸性にしてからエーテルで抽出し、8−アセチ
ル−12(S)−ヒドロキシ−9−メチルヘプタデカ
−5,10−シス、トランス−ジエン酸28mgを得
た。このもののスペクトルデータは ir(塗付) 3400、1710cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.9(6H、m) 1.06−1.7(10H、m) 1.7−2.5(8H、m) 1.98 2.02(3H、2s、立体異性体) 3.98(1H、m) 5.30(4H、m) 5.55(2H、m) 実施例 5(原料合成) 3(S)−t−ブチルジメチルシロキシ−1−ヨ
ード−1−トランス−オクテン808mgとt−ブチ
ルリチウム(1.9M)4.2mlとから調整したリチウ
ム化合物のエーテル溶液10mlにフエニルチオ銅
380mgとヘキサメチルホスホラストリアミド0.8ml
のエーテル溶液4mlを−70゜で加え1時間反応さ
せた。次にペント−1−エン−3−オン176mgの
エーテル溶液1mlを−50゜で一気に加えた。同温
度で2時間反応させた後実施例1と同様の処理を
して得た油状物をカラムクロマトグラフイー(シ
リカゲル、シクロヘキサン−酢酸エチル95:5)
にて精製し、128mgの8(S)−t−ブチルジメチ
ルシリロキシトリデカ−6−トランス−エン−3
−オンを得た。このもののスペクトルデータは次
の如くであつた。
ir(塗付)
1720cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.85(12H、s)
1.06(3H、d、J−7Hz)
1.1−1.7(8H、m)
2.1−2.7(6H、m)
3.95(1H、m)
5.45(2H、m)
実施例 6
ジイソプロピルアミン40mgのテトラヒドロフラ
ン(2ml)溶液にn−BnLi(1.5M)260μを加
え、−70゜で20分間反応させた後に、8(S)−t−
ブチルジメチルシリロキシトリデカ−6−トラン
ス−エン−3−オンを同温度で加えた。10分後反
応混合物を室温にまで上げ、1時間撹拌の後、−
20゜で7−ヨード−ヘプト−5−シス−エン酸メ
チル112mgを加えて20分撹拌した後、室温にて1
時間反応させた。常法により処理し、得られた油
状物をptlc(シリカゲル、シクロヘキサン−酢酸
エチル85:15)で精製し、87mgの12(S)−t−ブ
チルジメチルシリロキシ−8−プロピオニルヘプ
タデカ−5,10−シス、トランス−ジエン酸メチ
ルを得た。このものを酢酸0.5ml、テトラヒドロ
フラン0.2ml、水0.2ml中で1夜室温にて撹拌し、
常法通り処理して得られた油状物をptlc(シリカ
ゲル、シクロヘキサン−酢酸エチル8:2)で精
製して38mgの対応するヒドロキシル体を得た。こ
のもののスペクトルデータは次の如くであつた。
ン(2ml)溶液にn−BnLi(1.5M)260μを加
え、−70゜で20分間反応させた後に、8(S)−t−
ブチルジメチルシリロキシトリデカ−6−トラン
ス−エン−3−オンを同温度で加えた。10分後反
応混合物を室温にまで上げ、1時間撹拌の後、−
20゜で7−ヨード−ヘプト−5−シス−エン酸メ
チル112mgを加えて20分撹拌した後、室温にて1
時間反応させた。常法により処理し、得られた油
状物をptlc(シリカゲル、シクロヘキサン−酢酸
エチル85:15)で精製し、87mgの12(S)−t−ブ
チルジメチルシリロキシ−8−プロピオニルヘプ
タデカ−5,10−シス、トランス−ジエン酸メチ
ルを得た。このものを酢酸0.5ml、テトラヒドロ
フラン0.2ml、水0.2ml中で1夜室温にて撹拌し、
常法通り処理して得られた油状物をptlc(シリカ
ゲル、シクロヘキサン−酢酸エチル8:2)で精
製して38mgの対応するヒドロキシル体を得た。こ
のもののスペクトルデータは次の如くであつた。
ir(塗付)
3450、1735、1705cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.97(3H、t、J−6Hz)
0.93(3H、m)
1.05−2.65(22H、m)
3.60(3H、s)
3.80−4.20(1H、m)
5.30(4H、m)
MS(70eV)
352(M+)、334、303、277、263
実施例 7
実施例6で得られたエステル体38mgをテトラヒ
ドロフラン5ml、1NNaOH0.4ml、水0.5ml中で一
夜室温にて撹拌し、シユウ酸で中和してから酢酸
エチルで抽出し常法により処理して得られた油状
物をptlc(シリカゲル、シクロヘキサン−酢酸エ
チル5:5)で精製して20mgの該カルボン酸を得
た。このもののnmrスペクトル(CDCl3)は、該
エステル体のnmrスペクトルに4.90(2H、m)を
加えたものであつた。
ドロフラン5ml、1NNaOH0.4ml、水0.5ml中で一
夜室温にて撹拌し、シユウ酸で中和してから酢酸
エチルで抽出し常法により処理して得られた油状
物をptlc(シリカゲル、シクロヘキサン−酢酸エ
チル5:5)で精製して20mgの該カルボン酸を得
た。このもののnmrスペクトル(CDCl3)は、該
エステル体のnmrスペクトルに4.90(2H、m)を
加えたものであつた。
ir(塗付)
3400、1710cm-1
実施例 8(原料合成)
15(S)−t−ブチルジメチルシリロキシ−
15′−メチル−1−ヨードオクト−1−トランス
−エン1.60gとt−ブチルリチウム(1.97M)4.3
mlとから調製したビニルリチウムのエーテル溶液
13mlに−78゜でフエニルチオ銅0.70gとn−ブチ
ルホスフイン1.62gとから調製したエーテル溶液
2mlを加え1時間反応させた。次に同温度でメチ
ルビニルケトン325μのエーテル溶液4mlを10
分かけて滴下し、−40゜で1.5時間反応させた後、
実施例1と同様に処理して得た油状物をカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル、シクロヘキサン
−酢酸エチル8:2)にて精製し7−t−ブチル
ジメチルシリロキシ−7′−メチルドデカ−5−ト
ランス−エン−2−オン200mgを得た。このもの
のスペクトルデータは次の如くであつた。
15′−メチル−1−ヨードオクト−1−トランス
−エン1.60gとt−ブチルリチウム(1.97M)4.3
mlとから調製したビニルリチウムのエーテル溶液
13mlに−78゜でフエニルチオ銅0.70gとn−ブチ
ルホスフイン1.62gとから調製したエーテル溶液
2mlを加え1時間反応させた。次に同温度でメチ
ルビニルケトン325μのエーテル溶液4mlを10
分かけて滴下し、−40゜で1.5時間反応させた後、
実施例1と同様に処理して得た油状物をカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル、シクロヘキサン
−酢酸エチル8:2)にて精製し7−t−ブチル
ジメチルシリロキシ−7′−メチルドデカ−5−ト
ランス−エン−2−オン200mgを得た。このもの
のスペクトルデータは次の如くであつた。
ir(塗付)
1710cm-1
nmr(CCl4)δ
0.08(6H、bs)
0.90(12H、bs)
1.23(3H、s)
0.9−1.8(10H、m)
2.03(3H、s)
1.8−2.5(4H、m)
5.5(2H、m)
MS(70eV)
311(M+−1.5)、269
実施例 9
水素化カリウム(23%油懸濁)57mgをペンタン
で洗浄し、7−t−ブチルジメチルシリロキシ−
7′−メチルドデカ−5−トランス−エン−2−オ
ン100mgのテトラヒドロフラン溶液3mlを加え室
温にて20分撹幻し、ついで、トリエチルボラン
(1M溶液)0.4mlを加えて室温にて10分間撹拌し
た後7−プロモヘプト−5−シス−エン酸メチル
88mgを加えた。室温で2時間撹拌した後飽和硫酸
アンモニウム水中に注ぎ、エーテルにて抽出し
た。実施例2と同様に処理して得られた油状物を
ptlc(シリカゲル、シクロヘキサン−エーテル
8:2)で製精し、14−t−ブチルジメチルシ
リロキシ−14′−メチル−9−オキソノナデカ−
5,12−シス、トランス−ジエン酸メチル18mgと
8−アセチル−12−t−ブチルジメチルシリロ
キシ−12′−メチルヘプタデカ−5,10−シス、
トランス−ジエン酸メチル33mgを得た。及び
のスペクトルデータは次の如くであつた。
で洗浄し、7−t−ブチルジメチルシリロキシ−
7′−メチルドデカ−5−トランス−エン−2−オ
ン100mgのテトラヒドロフラン溶液3mlを加え室
温にて20分撹幻し、ついで、トリエチルボラン
(1M溶液)0.4mlを加えて室温にて10分間撹拌し
た後7−プロモヘプト−5−シス−エン酸メチル
88mgを加えた。室温で2時間撹拌した後飽和硫酸
アンモニウム水中に注ぎ、エーテルにて抽出し
た。実施例2と同様に処理して得られた油状物を
ptlc(シリカゲル、シクロヘキサン−エーテル
8:2)で製精し、14−t−ブチルジメチルシ
リロキシ−14′−メチル−9−オキソノナデカ−
5,12−シス、トランス−ジエン酸メチル18mgと
8−アセチル−12−t−ブチルジメチルシリロ
キシ−12′−メチルヘプタデカ−5,10−シス、
トランス−ジエン酸メチル33mgを得た。及び
のスペクトルデータは次の如くであつた。
ir(塗付)
1740、1710cm-1
nmr(CCl4)δ
0.08(6H、bs)
0.90(12H、bs)
1.26(3H、s)
3.62(3H、s)
5.47(4H、m)
MS(70eV)
451(M+−15)、409
ir(塗付)
1740、1710cm-1
nmr(CCl4)
0.08(6H、bs)
0.90(12H、bs)
1.26(3H、s)
2.06(3H、s)
3.64(3H、s)
5.44(4H、m)
MS(70eV)
451(M+−15)、409
実施例 10
14−t−ブチルジメチルシリロキシ−14′−メ
チル−9−オキソノナデカ−5,12−シス、トラ
ンス−ジエン酸メチル37mgを酢酸−テトラヒドロ
フラン−水3:1:1 2ml中で2時間反応させ
て得た粗生成物をptlc(シリカゲル、シクロヘキ
サン−酢酸エチル6:4)で精製して該アルコー
ル体11mgを得た。
チル−9−オキソノナデカ−5,12−シス、トラ
ンス−ジエン酸メチル37mgを酢酸−テトラヒドロ
フラン−水3:1:1 2ml中で2時間反応させ
て得た粗生成物をptlc(シリカゲル、シクロヘキ
サン−酢酸エチル6:4)で精製して該アルコー
ル体11mgを得た。
nmr(CDCl3)δ
0.84(3H、t、J−7Hz)
1.20(3H、s)
3.60(3H、s)
5.0−5.5(4H、m)
実施例 11
8−アセチル−12−t−ブチルジメチルシリロ
キシ−12′−メチルヘプタデカ−5,10−シス、
トランス−ジエン酸メチル66mgを実施例9と同様
に処理してアルコール体13mgを得た。
キシ−12′−メチルヘプタデカ−5,10−シス、
トランス−ジエン酸メチル66mgを実施例9と同様
に処理してアルコール体13mgを得た。
nmr(CDCl3)
0.88(3H、t、J−7Hz)
1.20(3H、s)
2.06(3H、s)
3.62(3H、s)
5.1−5.5(4H、m)
実施例 12
実施例10で得たエステル体を実施例4と同様に
処理し、加水分解して、対応する14−ヒドロキシ
−14′−メチル−9−オキソノナデカ−5,12−
シス、トランス−ジエン酸を得た。
処理し、加水分解して、対応する14−ヒドロキシ
−14′−メチル−9−オキソノナデカ−5,12−
シス、トランス−ジエン酸を得た。
ir(塗付)
3400、1710cm-1
実施例 13
実施例11で得たエステル体を実施例4と同様の
方法で加水分解して、8−アセチル−12−ヒドロ
キシ−12−メチルヘプタデカ−5,10−シス、ト
ランス−ジエン酸を得た。
方法で加水分解して、8−アセチル−12−ヒドロ
キシ−12−メチルヘプタデカ−5,10−シス、ト
ランス−ジエン酸を得た。
ir(塗付)
3400、1710cm-1
実施例 14(原料合成)
1−ヨード−1−トランスオクテン3gとt−
ブチルリチウム(1.97M)13.5mlとから調製した
リチウム化合物のエーテル溶液30mlにフエニルチ
オ銅2.17gとヘキサメチルホスホラストリアミド
4.58mlとからなるエーテル溶液14mlを−70℃で加
え、1時間20分間−70℃でかく拌した。生成した
有機銅リチウム化合物のエーテル溶液を−50℃に
した後、1−ブテン−3−オン1.02mlのエーテル
溶液2mlを一気に加えた。徐々に浴温を上げ1.5
時間で−35℃までした。エーテル100mlを加え飽
和塩化アンモニウム水で1回洗浄後、アンモニア
−塩化アンモニウム系で3回洗浄した。さらに飽
和塩化アンモニウム水で洗浄後硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧留去して得た油状物をカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル150g、n−ヘキ
サン:エーテル85:15)にて精製し、294mgのド
デカ−5−トランス−エン−2−オンを得た。こ
のものの物理化学的性状は次の如くであつた。
ブチルリチウム(1.97M)13.5mlとから調製した
リチウム化合物のエーテル溶液30mlにフエニルチ
オ銅2.17gとヘキサメチルホスホラストリアミド
4.58mlとからなるエーテル溶液14mlを−70℃で加
え、1時間20分間−70℃でかく拌した。生成した
有機銅リチウム化合物のエーテル溶液を−50℃に
した後、1−ブテン−3−オン1.02mlのエーテル
溶液2mlを一気に加えた。徐々に浴温を上げ1.5
時間で−35℃までした。エーテル100mlを加え飽
和塩化アンモニウム水で1回洗浄後、アンモニア
−塩化アンモニウム系で3回洗浄した。さらに飽
和塩化アンモニウム水で洗浄後硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧留去して得た油状物をカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル150g、n−ヘキ
サン:エーテル85:15)にて精製し、294mgのド
デカ−5−トランス−エン−2−オンを得た。こ
のものの物理化学的性状は次の如くであつた。
ir(塗付)
1715cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.86(3H、bt、J−5Hz)
1.05−1.6(8H、broad)
2.10(3H、s)
1.7−2.6(6H、m2.10の3Hsingletを除く)
5.39(2H、m)
実施例 15
水素化カリウム(22.7%油)290mgをベンタン
で洗浄し、それにドデカ−5−トランス−エン−
2−オン250mgのテトラヒドロフラン溶液6mlを
加え室温で15分かく拌した。トリエチルボラン
(1M溶液)1.78mlを加え10分反応させた後7−プ
ロモ−5−シス−ヘプテン酸メチル394mgのテト
ラヒドロフラン溶液3mlを加え4時間かく拌し
た。エーテル50mlを加え飽和塩化アンモニウム水
で洗浄後、洗浄水をさらにエーテル50mlで抽出し
た。合わせたエーテル溶液を飽和塩化アンモニウ
ム水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧留去して得た油状物をtlc(シリカゲ
ル、シクロヘキサン−エーテル8:2)にて精製
して、下記の生成物を得た。
で洗浄し、それにドデカ−5−トランス−エン−
2−オン250mgのテトラヒドロフラン溶液6mlを
加え室温で15分かく拌した。トリエチルボラン
(1M溶液)1.78mlを加え10分反応させた後7−プ
ロモ−5−シス−ヘプテン酸メチル394mgのテト
ラヒドロフラン溶液3mlを加え4時間かく拌し
た。エーテル50mlを加え飽和塩化アンモニウム水
で洗浄後、洗浄水をさらにエーテル50mlで抽出し
た。合わせたエーテル溶液を飽和塩化アンモニウ
ム水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧留去して得た油状物をtlc(シリカゲ
ル、シクロヘキサン−エーテル8:2)にて精製
して、下記の生成物を得た。
8−アセチル−ヘプタデカ−5−シス−10−ト
ランス−ジエン酸メチル93mg ir(塗付) 1710、1740、965cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.86(3H、bt、J=5Hz) 2.08(3H、s) 1.05−2.7(21H、m、2.08の3Hsingletを除
く) 3.64(3H、s) 5.35(4H、m) 9−オキソノナデカ−5−シス−12−トランス
−ジエン酸メチル24mg ir(塗付) 1710、1740、965cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.86(3H、bt、J=5Hz) 1.0−2.7(24H、m) 3.63(3H、s) 5.35(4H、m) 実施例 16 8−アセチル−ヘプタデカ−5−シス−10−ト
ランス−ジエン酸メチル73mgをメタノール4mlに
溶解しそれに2N・水酸化ナトリウム水溶液0.43
mlを加え室温で6時間撹拌後、メタノールを減圧
濃縮した後、水25mlを加えヘキサンで洗浄した。
水層を1N・塩酸水溶液で酸性化した後、エーテ
ルで2回(50ml×2)抽出後、エーテル層を飽和
食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧濃縮して得られた油状物質をtlc(シリカゲル、
n−ヘキサン−エーテル1:1)で精製し、49mg
の8−アセチル−ヘプタデカ−5−シス−10−ト
ランス−ジエン酸49mgを得た。このものの物理化
学的性状は以下の如くであつた。
ランス−ジエン酸メチル93mg ir(塗付) 1710、1740、965cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.86(3H、bt、J=5Hz) 2.08(3H、s) 1.05−2.7(21H、m、2.08の3Hsingletを除
く) 3.64(3H、s) 5.35(4H、m) 9−オキソノナデカ−5−シス−12−トランス
−ジエン酸メチル24mg ir(塗付) 1710、1740、965cm-1 nmr(CDCl3)δ 0.86(3H、bt、J=5Hz) 1.0−2.7(24H、m) 3.63(3H、s) 5.35(4H、m) 実施例 16 8−アセチル−ヘプタデカ−5−シス−10−ト
ランス−ジエン酸メチル73mgをメタノール4mlに
溶解しそれに2N・水酸化ナトリウム水溶液0.43
mlを加え室温で6時間撹拌後、メタノールを減圧
濃縮した後、水25mlを加えヘキサンで洗浄した。
水層を1N・塩酸水溶液で酸性化した後、エーテ
ルで2回(50ml×2)抽出後、エーテル層を飽和
食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧濃縮して得られた油状物質をtlc(シリカゲル、
n−ヘキサン−エーテル1:1)で精製し、49mg
の8−アセチル−ヘプタデカ−5−シス−10−ト
ランス−ジエン酸49mgを得た。このものの物理化
学的性状は以下の如くであつた。
ir(塗付)
3600−2400、1708、965cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.86(3H、bt、J=5Hz)
2.07(3H、s)
1.0−2.7(21H、m、2.07の3Hsingletは除く)
5.04(4H、m)
9.07(1H、broad)
実施例 17
9−オキソ−ノナデカ−5−シス−12−トラン
ス−ジエン酸メチル22mgをメタノール2mlに溶解
し、5N−水酸化ナトリウム水溶液0.07mlを加え、
室温で6時間かく拌後実施例16と同様に後処理す
ると、9−オキソ−ノナデカ−5−シス−12−ト
ランス−ジエン酸19mgが得られた。このものの物
理化学的性状は以下の如くであつた。
ス−ジエン酸メチル22mgをメタノール2mlに溶解
し、5N−水酸化ナトリウム水溶液0.07mlを加え、
室温で6時間かく拌後実施例16と同様に後処理す
ると、9−オキソ−ノナデカ−5−シス−12−ト
ランス−ジエン酸19mgが得られた。このものの物
理化学的性状は以下の如くであつた。
ir(塗付)
3600−2400、1708、965cm-1
nmr(CDCl3)δ
0.86(3H、bt、J=5Hz)
1.0−2.7(24H、m)
5.35(4H、m)
7.55(1H、broad)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式[] 〔式中、R1、R2、R3は水素原子又は炭素原子数
1〜4のアルキル基を表わし、R4は水素原子、
水酸基又はトリメチルシリル或いはt−ブチルジ
メチルシリルで保護された水酸基を表わし、R5
は炭素原子数10以下のアルキル基を表わし、Z1と
Z2は、そのどちらか一方が−CH2CH=CH(−CH2
)−3COOR6を表わし、他方が水素原子を表わす。
但しR6は水素原子、炭素原子数1〜6のアルキ
ル基又は薬理学的に許容しうる陽イオンを表わ
す。但し、R4が水酸基、または保護された水酸
基を表わす場合は、R1、R2、R3のすべてが同時
には水素原子を表わさない。〕 で表わされるセコプロスタグランジン類。 2 R1、R2、R3のいずれかがメチル基である特
許請求の範囲第1項記載のセコプロスタグランジ
ン類。 3 R4が水素原子又は水酸基である特許請求の
範囲第1項または第2項のいずれか1項記載のセ
コプロスタグランジン類。 4 R5がペンチル基である特許請求の範囲第1
項から第3項のいずれか1項記載のセコプロスタ
グランジン類。 5 R6が水素原子である特許請求の範囲第1項
から第4項のいずれか1項記載のセコプロスタグ
ランジン類。 6 R6がメチル基である特許請求の範囲第1項
から第4項のいずれか1項記載のセコプロスタグ
ランジン類。 7 R6がアルカリ金属陽イオンである特許請求
の範囲第1項から第4項のいずれか1項記載のセ
コプロスタグランジン類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10045080A JPS5726640A (en) | 1980-07-24 | 1980-07-24 | Novel secoprostaglandin and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10045080A JPS5726640A (en) | 1980-07-24 | 1980-07-24 | Novel secoprostaglandin and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5726640A JPS5726640A (en) | 1982-02-12 |
| JPH0159256B2 true JPH0159256B2 (ja) | 1989-12-15 |
Family
ID=14274244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10045080A Granted JPS5726640A (en) | 1980-07-24 | 1980-07-24 | Novel secoprostaglandin and its preparation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5726640A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7314109A (ja) * | 1972-10-30 | 1974-05-02 |
-
1980
- 1980-07-24 JP JP10045080A patent/JPS5726640A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5726640A (en) | 1982-02-12 |
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