JPH0174261U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0174261U JPH0174261U JP1987169404U JP16940487U JPH0174261U JP H0174261 U JPH0174261 U JP H0174261U JP 1987169404 U JP1987169404 U JP 1987169404U JP 16940487 U JP16940487 U JP 16940487U JP H0174261 U JPH0174261 U JP H0174261U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- counter electrode
- grid
- evaporation source
- potential
- filament
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
図面はこの考案の一実施例を示す概略正面図で
ある。 １……真空槽、５……対向電極、６……グリツ
ド、７……フイラメント、８……蒸発源、１３…
…基板、１４……電源手段、１８……運動機構。
ある。 １……真空槽、５……対向電極、６……グリツ
ド、７……フイラメント、８……蒸発源、１３…
…基板、１４……電源手段、１８……運動機構。
Claims (1)
- 活性ガス又は不活性ガス或いは活性ガスと不活
性ガスとの混合ガスが導入される真空槽と、この
真空槽内において蒸発物質を蒸発させる蒸発源と
、前記真空槽内に配設されて前記蒸発源に対向す
る状態で薄膜形成用の基板を保持する対向電極と
、前記蒸発源と対向電極との間に配置されて前記
蒸発物質が通過する隙間を有するグリツドと、こ
のグリツドと前記蒸発源との間に配置させた熱電
子発生用のフイラメントと、これらのグリツドと
対向電極とフイラメントとを前記対向電極の電位
に対してグリツドの電位が正電位となるよう所定
の電位関係とさせる電源手段と、前記グリツドを
前記対向電極に対して所定の軌道で運動させる運
動機構とからなることを特徴とする薄膜形成装置
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987169404U JPH0174261U (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | |
| US07/228,451 US4960072A (en) | 1987-08-05 | 1988-08-05 | Apparatus for forming a thin film |
| US07/597,331 US5112466A (en) | 1987-08-05 | 1990-09-14 | Apparatus for forming a thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987169404U JPH0174261U (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0174261U true JPH0174261U (ja) | 1989-05-19 |
Family
ID=31459430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987169404U Pending JPH0174261U (ja) | 1987-08-05 | 1987-11-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0174261U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09209131A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-12 | Ricoh Co Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1987
- 1987-11-05 JP JP1987169404U patent/JPH0174261U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09209131A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-12 | Ricoh Co Ltd | 薄膜形成装置 |
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