JPH0472548U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１Ａ図は、本考案の平面型・カソードの配置
を示す概略図、第１Ｂ図は、本考案の円筒型・カ
ソードの配置を示す概略図、第２図は、本考案の
円筒型・カソードを用いた電子ビーム源の構成図
、第３図は、各種放電ガスによる放電開始電圧と
ガス圧×電極間距離の関係を示す図、第４図は、
従来のカソードの正面断面図、第５図は、従来の
ドライエツチング装置の構成図である。 符号の説明、１０，２０，５０……筒状密封容
器、１１，２３，２３′，２３″，６３，６３′
，６３″，６３″′……貫通孔、１２，２４，５
８……第１の中間電極、１３，３０，６０……カ
ソード室、１４，１４′……ホウ化ランタン・フ
イラメント、１５，１５′……加熱電源、１６，
１６′……絶縁フランジ、１７……イオン流、１
８，３２，４０……放電ガス導入孔、２１，５１
……カソード、２２，５４……ホルダ、２５，５
２……アノード、２６，５３……電子ビーム加速
電極、２７，５５……放電領域、２８，５６……
電子ビーム加速領域、２９，５７……被処理領域
、３１，６２……アノード室、３３，６５……被
処理ガス導入孔、３４，３４′，６４，６４′，
６４″……排気孔、５９……第２の中間電極、６
１……中間室、４１……補助カソード、４２……
主カソード、４３……絶縁支持部材、４４……円
筒状部材。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 貫通孔２３を有する中間電極２４と、貫通孔
   ２３′を有するアノード２５と、貫通孔２３″を
   有する電子ビーム加速電極２６とをこれらの貫通
   孔を揃えて包囲体内に配置し、この包囲体の閉じ
   た上流端と前記の中間電極２４とによりカソード
   室３０を形成し、このカソード室３０は外部の加
   熱電源を備えたカソード２１を含み、そして放電
   用ガスを導入する導入孔３２を有し、前記の中間
   電極２４と前記のアノード２５とによりアノード
   室３１を形成し、そして前記のアノード２５と前
   記の電子ビーム加速電極２６とにより加速領域２
   ８を形成し、この領域は排気孔３４を有し、前記
   のカソード２１は前記の貫通孔が整列した線から
   それの熱電子放射面を離して配置されていること
   を特徴とするプラズマ発生用電子ビーム源。 ２ カソードはホウ化ランタン・フイラメントか
   ら成る平面型カソードである請求項１に記載のプ
   ラズマ発生用電子ビーム源。 ３ カソードはホウ化ランタン・フイラメントか
   ら成る円筒型カソードであり、それの円筒中心を
   貫通孔が整列した線に揃えて配置されている請求
   項１に記載のプラズマ発生用電子ビーム源。