JPH0183330U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0183330U JPH0183330U JP1987177620U JP17762087U JPH0183330U JP H0183330 U JPH0183330 U JP H0183330U JP 1987177620 U JP1987177620 U JP 1987177620U JP 17762087 U JP17762087 U JP 17762087U JP H0183330 U JPH0183330 U JP H0183330U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resist
- lift
- adhesion layer
- adhered
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
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- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
Description
第１図は、本考案に係るリフトオフ装置の側断
面概略図、第２図ａ，ｂ，ｃは、基板上に被着層
をパターン形成する過程を説明する側断面概略図
、第３図ａ，ｂは、従来例を示す概略図である。 １…リフトオフ装置、２…基板、３…支持台、
４…超音波振動子、７…レジスト、８，９…被着
層、１０…レジスト溶解液。
面概略図、第２図ａ，ｂ，ｃは、基板上に被着層
をパターン形成する過程を説明する側断面概略図
、第３図ａ，ｂは、従来例を示す概略図である。 １…リフトオフ装置、２…基板、３…支持台、
４…超音波振動子、７…レジスト、８，９…被着
層、１０…レジスト溶解液。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) レジストをパターン形成して被着層を被着
させた基板に対し、レジスト溶解液を用いて前記
レジストを除去することにより該レジスト上の被
着層を除去して、前記基板上の被着層をパターン
形成するリフトオフ装置において、 前記基板を略水平な状態で載置させる支持台に
、前記基板に振動を与える手段を固設して成るこ
とを特徴とするリフトオフ装置。 (2) 前記振動を与える手段として、超音波振動
子を用いることを特徴とする実用新案登録請求の
範囲第１項記載のリフトオフ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987177620U JPH0183330U (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987177620U JPH0183330U (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0183330U true JPH0183330U (ja) | 1989-06-02 |
Family
ID=31469279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987177620U Pending JPH0183330U (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0183330U (ja) |
-
1987
- 1987-11-24 JP JP1987177620U patent/JPH0183330U/ja active Pending