JPH0194547A - 光学式情報記憶カード - Google Patents
光学式情報記憶カードInfo
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- JPH0194547A JPH0194547A JP63206504A JP20650488A JPH0194547A JP H0194547 A JPH0194547 A JP H0194547A JP 63206504 A JP63206504 A JP 63206504A JP 20650488 A JP20650488 A JP 20650488A JP H0194547 A JPH0194547 A JP H0194547A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/00557—Erasing involving phase-change media
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、−殻内には光学式情報記憶カードに関し、特
に、機械読取可能コードによりエンコードされた、また
エンコードされうる、一体向に形成された光学式媒体を
有する札入れ大の光学式情報記憶カードに関する。
に、機械読取可能コードによりエンコードされた、また
エンコードされうる、一体向に形成された光学式媒体を
有する札入れ大の光学式情報記憶カードに関する。
［従来の技術］
現在の情報社会においては、情報を、高速度、低コスト
、信頼性をもって、また記憶の経済性のために高密度で
、記憶せしめ、かつまた、もちろん検索することが必要
である。この必要性は、大容量のデータ記憶特性を有し
、札入れに入れて携帯しうる銀行用、医療用記録カード
などの情報記憶カードによっである程度満たされること
が期待される。
、信頼性をもって、また記憶の経済性のために高密度で
、記憶せしめ、かつまた、もちろん検索することが必要
である。この必要性は、大容量のデータ記憶特性を有し
、札入れに入れて携帯しうる銀行用、医療用記録カード
などの情報記憶カードによっである程度満たされること
が期待される。
さらに、これらのカードの発行後、カードに情報を書込
みうろことが望ましい。これらの特徴は、これらのカー
ドの多用途性を大いに増大せしめ゛る。
みうろことが望ましい。これらの特徴は、これらのカー
ドの多用途性を大いに増大せしめ゛る。
さらに、これらのカードは、簡単かつ敏速に読取りおよ
び／または書込みが行なわれつるように構成されること
が望ましい。
び／または書込みが行なわれつるように構成されること
が望ましい。
光学式記録技術の比較的最近の進歩により、光学式にエ
ンコードされた、かつ／または、エンコードされうる媒
体は、さまざまな場面に使用されているが、そのわけは
、それらが例えば同程度の大きさの磁気媒体よりも、か
なり大量の情報を記憶しうるからである。このような記
憶容置は、医療用の記憶すなわち記録カードにおけるよ
うに、ディジタルイメージ記憶が予想される場合に好適
である。
ンコードされた、かつ／または、エンコードされうる媒
体は、さまざまな場面に使用されているが、そのわけは
、それらが例えば同程度の大きさの磁気媒体よりも、か
なり大量の情報を記憶しうるからである。このような記
憶容置は、医療用の記憶すなわち記録カードにおけるよ
うに、ディジタルイメージ記憶が予想される場合に好適
である。
すでに、さまざまな種類の光学式記録媒体および光学式
記憶カードが存在する。これらの媒体およびカードの代
表例は米国特許箱３，６４７．２７５号、第３．８５８
．０３２号、第３．８９４゜７５６号、第４，００７，
４６２号、第４，０２３．１８５号、第４．０６６．８
７３号、第４゜１５０．７８１号、第４．２３０．９３
９号、第４．２９８．９７５号、第４．３６０．７２８
号、第４．５００，７７７号、第４，５０３．１３５号
、第４．５０８．８１１号、第４．５１０．２３２号、
第４，５４２，２８８号、第４．５４３゜２２５号、第
４．５４４．１８１号、第４，６１６．２３７号、第４
．６６３．５１８号、および日本国特許筒６１−１９０
７２１号に開示されている。
記憶カードが存在する。これらの媒体およびカードの代
表例は米国特許箱３，６４７．２７５号、第３．８５８
．０３２号、第３．８９４゜７５６号、第４，００７，
４６２号、第４，０２３．１８５号、第４．０６６．８
７３号、第４゜１５０．７８１号、第４．２３０．９３
９号、第４．２９８．９７５号、第４．３６０．７２８
号、第４．５００，７７７号、第４，５０３．１３５号
、第４．５０８．８１１号、第４．５１０．２３２号、
第４，５４２，２８８号、第４．５４３゜２２５号、第
４．５４４．１８１号、第４，６１６．２３７号、第４
．６６３．５１８号、および日本国特許筒６１−１９０
７２１号に開示されている。
［発明の要約と目的］
本発明においては、改良された光学式情報記憶カードが
提供される。図示されている１実施例に“ おいては、
長方形の情報記憶カードは基板の少なくとも一方の面に
、機械読取可能表面をなす表面リリーフ構造を有する。
提供される。図示されている１実施例に“ おいては、
長方形の情報記憶カードは基板の少なくとも一方の面に
、機械読取可能表面をなす表面リリーフ構造を有する。
この情報表面上には保護層が重ねられている。基板およ
び保護層は、情報表面の光学式読取りに使用しろる選択
された範囲の電磁放射を透過せしめる。この情報表面は
、ほぼ同心的な、かつ／または螺線的なフォーマットを
なして配置され、それによって、情報表面はカードが軸
の回りに回転せしめられる時に読取られうるようになっ
ている。この実施例においては、表面リリーフ構造はエ
ンボシングされたシート材によって形成される。
び保護層は、情報表面の光学式読取りに使用しろる選択
された範囲の電磁放射を透過せしめる。この情報表面は
、ほぼ同心的な、かつ／または螺線的なフォーマットを
なして配置され、それによって、情報表面はカードが軸
の回りに回転せしめられる時に読取られうるようになっ
ている。この実施例においては、表面リリーフ構造はエ
ンボシングされたシート材によって形成される。
もう１つの図示されている実施例においては、情報表面
に接して反射層が配設されている。この反射層はもちろ
ん、読取りに用いられる選択された範囲の電磁放射の少
なくともあるものを反射する。この光学式情報カードは
、基板または保ｉ！層が、使用される選択された範囲の
電磁放射を透過させさえすれば、基板または保護層を通
しての反射によって読取られる。
に接して反射層が配設されている。この反射層はもちろ
ん、読取りに用いられる選択された範囲の電磁放射の少
なくともあるものを反射する。この光学式情報カードは
、基板または保ｉ！層が、使用される選択された範囲の
電磁放射を透過させさえすれば、基板または保護層を通
しての反射によって読取られる。
前述のカードの、もう１つの図示されている実施例にお
いては、基板は、少なくとも一方の表面に、少なくとも
選択されたスペクトル波長帯の入射書込電磁放射を強く
吸収し、その放射による所定パターンの物理的ひずみに
より書込みが行なわれるようになっている、その所定パ
ターンを有する光学式書込可能組織の表面と、光学式機
械読取りを容易ならしめる光学式に読取可能な表面リリ
ーフ構造の組と、を有する。保護層が、前記組織層およ
び光学式に読取可能な表面構造の上に重ねられる。基板
および保ａｍの双方は、表面リリーフ構造および書込可
能表面を光学式に読取るために使用される電磁放射を透
過せしめる。この実施例においては、組織表面上にエア
ギャップが設けられる。
いては、基板は、少なくとも一方の表面に、少なくとも
選択されたスペクトル波長帯の入射書込電磁放射を強く
吸収し、その放射による所定パターンの物理的ひずみに
より書込みが行なわれるようになっている、その所定パ
ターンを有する光学式書込可能組織の表面と、光学式機
械読取りを容易ならしめる光学式に読取可能な表面リリ
ーフ構造の組と、を有する。保護層が、前記組織層およ
び光学式に読取可能な表面構造の上に重ねられる。基板
および保ａｍの双方は、表面リリーフ構造および書込可
能表面を光学式に読取るために使用される電磁放射を透
過せしめる。この実施例においては、組織表面上にエア
ギャップが設けられる。
最後に述べた種類のカードの、もう１つの図示されてい
る実施例においては、書込可能組織表面および表面リリ
ーフ構造の双方に対し反射層が重ねて配設される。この
反射層は、読取放射を受けた時、反射モードで読取られ
うる材料で作られている。また、上部に反射層を有する
組織層上には、ギャップが設けられている。この光学式
情報カードは、基板および保護層が、使用される選択さ
れた範囲の電磁放射を透過させさえすれば、基板または
保護層を通しての反射によって読取られつる。
る実施例においては、書込可能組織表面および表面リリ
ーフ構造の双方に対し反射層が重ねて配設される。この
反射層は、読取放射を受けた時、反射モードで読取られ
うる材料で作られている。また、上部に反射層を有する
組織層上には、ギャップが設けられている。この光学式
情報カードは、基板および保護層が、使用される選択さ
れた範囲の電磁放射を透過させさえすれば、基板または
保護層を通しての反射によって読取られつる。
もう１つの図示されている実施例においては、情報表面
上に反射層を有し、また光学式書込可能基板の被覆をも
有する、最後に述べた形式の光学式カードが提供される
。この光学式書込可能基板は、異なる選択されたスペク
トル波長範囲内にある入射放射エネルギに応答して、ス
ペクトル吸収特性に視覚的に識別しうる変化を生じる第
１色像形成化合物を含むので、カード所持者のカラー画
像、カラーテキスト、および機械読取可能ディジタルコ
ードを、同じ記録装置によって記録することができる。
上に反射層を有し、また光学式書込可能基板の被覆をも
有する、最後に述べた形式の光学式カードが提供される
。この光学式書込可能基板は、異なる選択されたスペク
トル波長範囲内にある入射放射エネルギに応答して、ス
ペクトル吸収特性に視覚的に識別しうる変化を生じる第
１色像形成化合物を含むので、カード所持者のカラー画
像、カラーテキスト、および機械読取可能ディジタルコ
ードを、同じ記録装置によって記録することができる。
この形式のカードのもう１つの実施例においては、反射
層が省略され、カードは透過光によって読取られる。
層が省略され、カードは透過光によって読取られる。
もう１つの図示されている実施例においては、カードの
上述の種類の情報表面は、光学式書込可能基板によって
被覆されている。この基板は、位相変化光学式書込可能
材料から作られ、選択された電磁エネルギを受けるとこ
の材料は、光学式読取モードにおいて読取られつるよう
にそのスペクトル吸収特性を変える。この書込可能基板
上には、保護層が重ねられる。もし、反射層がこの情報
表面に接して配設されていれば、情報表面は、基板また
は保護層を通しての反射モードによって読取られつる。
上述の種類の情報表面は、光学式書込可能基板によって
被覆されている。この基板は、位相変化光学式書込可能
材料から作られ、選択された電磁エネルギを受けるとこ
の材料は、光学式読取モードにおいて読取られつるよう
にそのスペクトル吸収特性を変える。この書込可能基板
上には、保護層が重ねられる。もし、反射層がこの情報
表面に接して配設されていれば、情報表面は、基板また
は保護層を通しての反射モードによって読取られつる。
もう１つの実施例における上述の形式の消去可能光学式
カードは、第１基板の少なくとも１表面上に光学式機械
読取可能な情報表面となる表面構造を有する。この情報
表面を読取るのに用いられる少なくともある選択された
範囲の読取電磁スペクトル波長を反射するための反射層
が、この情報表面に重ねて配置される。この反射層上に
は第２基板が配置される。この第２基板は、機械読取可
能情報を光学式にそこへ書込み、また光学式にそこから
消去しうる材料で作られている。この第２基板は、前記
選択された読取波長範囲に対して透”過性を有し、この
第２基板上には保護層が重ねて配置される。最後に）ホ
べた形式のカードに類似したもう１つの実施例において
は、反射層が省略され、カードは透過モードで読取られ
る。
カードは、第１基板の少なくとも１表面上に光学式機械
読取可能な情報表面となる表面構造を有する。この情報
表面を読取るのに用いられる少なくともある選択された
範囲の読取電磁スペクトル波長を反射するための反射層
が、この情報表面に重ねて配置される。この反射層上に
は第２基板が配置される。この第２基板は、機械読取可
能情報を光学式にそこへ書込み、また光学式にそこから
消去しうる材料で作られている。この第２基板は、前記
選択された読取波長範囲に対して透”過性を有し、この
第２基板上には保護層が重ねて配置される。最後に）ホ
べた形式のカードに類似したもう１つの実施例において
は、反射層が省略され、カードは透過モードで読取られ
る。
もう１つの実施例においては、両面に情報表面を有する
核となる基板が用いられる。これらの表面は、それぞれ
の反射コーティングによって被覆され、さらにそれぞれ
の光学式書込可能表面により被覆される。これらの光学
式書込可能表面は、適宜の保護層によって被覆される。
核となる基板が用いられる。これらの表面は、それぞれ
の反射コーティングによって被覆され、さらにそれぞれ
の光学式書込可能表面により被覆される。これらの光学
式書込可能表面は、適宜の保護層によって被覆される。
従って、本発明の主たる諸目的は、機械読取可能情報表
面をなす表面リリーフ構造を有する光学式情報カードを
提供すること、カードを回転軸の回りに回転させること
によって読取りうる、エンボシングされた機械読取可能
情報表面を有する光学式情報カードを提供すること、透
過モードまたは反射モードで読取りうる上述の形式のカ
ードを提供すること、光学式機械読取可能情報表面をエ
ンボシングされた層と、該情報表面を被覆する光学式書
込可能層とを有する光学式情報カードを提供すること、
光学式機械読取可能情報表面をエンボシングされた層と
、機械読取可能情報を光学式にエンコードされうるエン
ボシングされた組織表面とを有する光学式情報カードを
提供すること、エンボシングされた機械読取可能情報表
面上に重ねられた、または該表面に隣接した光学式書込
可能基板をさらに含み、該書込可能基板が、カード所持
者のカラー画像、カラーテキスト、および光学式にエン
コードされた機械読取可能データを光学的に書込まれう
るようになっている、上述の形式の情報カードを提供す
ること、機械読取可能情報表面をなす表面リリーフ構造
をもった第１基板を有し、かつこれに接して、書込用電
磁エネルギを受けた時相変化を起こして光学式に書込ま
れうる相変化光学式用込可能材料で作られた光学式書込
可能基板を有する形式の情報カードを提供すること、情
報表面に接した反射層を有し、第１基板および書込可能
基板の保護層のいずれか、または双方が反射モードでの
読取りを可能にしている、最後に述べた形式の情報カー
ドを提供すること、および、光学式書込可能基板の代わ
りに、光学式にエンコードされたデータを光学式に書込
み、読取り、また消去することのできる、光学式書込可
能および消去可能な基板を備えた情報カードを提供する
こと、である。
面をなす表面リリーフ構造を有する光学式情報カードを
提供すること、カードを回転軸の回りに回転させること
によって読取りうる、エンボシングされた機械読取可能
情報表面を有する光学式情報カードを提供すること、透
過モードまたは反射モードで読取りうる上述の形式のカ
ードを提供すること、光学式機械読取可能情報表面をエ
ンボシングされた層と、該情報表面を被覆する光学式書
込可能層とを有する光学式情報カードを提供すること、
光学式機械読取可能情報表面をエンボシングされた層と
、機械読取可能情報を光学式にエンコードされうるエン
ボシングされた組織表面とを有する光学式情報カードを
提供すること、エンボシングされた機械読取可能情報表
面上に重ねられた、または該表面に隣接した光学式書込
可能基板をさらに含み、該書込可能基板が、カード所持
者のカラー画像、カラーテキスト、および光学式にエン
コードされた機械読取可能データを光学的に書込まれう
るようになっている、上述の形式の情報カードを提供す
ること、機械読取可能情報表面をなす表面リリーフ構造
をもった第１基板を有し、かつこれに接して、書込用電
磁エネルギを受けた時相変化を起こして光学式に書込ま
れうる相変化光学式用込可能材料で作られた光学式書込
可能基板を有する形式の情報カードを提供すること、情
報表面に接した反射層を有し、第１基板および書込可能
基板の保護層のいずれか、または双方が反射モードでの
読取りを可能にしている、最後に述べた形式の情報カー
ドを提供すること、および、光学式書込可能基板の代わ
りに、光学式にエンコードされたデータを光学式に書込
み、読取り、また消去することのできる、光学式書込可
能および消去可能な基板を備えた情報カードを提供する
こと、である。
以上の、およびその他の、諸目的、諸特徴、および本発
明自体は、添付図面を参照しつつ行なわれる以下の説明
において明らかにされる。添付図面においては、いくつ
かの図を通じて、同一構造は同一参照番号によって指示
されている。
明自体は、添付図面を参照しつつ行なわれる以下の説明
において明らかにされる。添付図面においては、いくつ
かの図を通じて、同一構造は同一参照番号によって指示
されている。
し実施例］
第１図から第１０図までには、本発明の原理に基づいて
作られた、光学式情報記憶カードのいくつかの実施例が
示されている。それぞれのカードは、好ましくは、例え
ば、ほぼ長さ８５４Ｉｌ１１１幅５４履の、たいていの
札入れの大きさをもつ形式のものとする。このような寸
法の長方形カードは、札入れに便利なだけでなく、自動
金銭出納機などにも便利であることがわかっている。も
ちろん本発明は、予想されるあらゆる種類の光学式記憶
カードに対する他の適宜の寸法（例えば８２＃ｌＸ５９
ｔｎｓ ）および形状を許容する。
作られた、光学式情報記憶カードのいくつかの実施例が
示されている。それぞれのカードは、好ましくは、例え
ば、ほぼ長さ８５４Ｉｌ１１１幅５４履の、たいていの
札入れの大きさをもつ形式のものとする。このような寸
法の長方形カードは、札入れに便利なだけでなく、自動
金銭出納機などにも便利であることがわかっている。も
ちろん本発明は、予想されるあらゆる種類の光学式記憶
カードに対する他の適宜の寸法（例えば８２＃ｌＸ５９
ｔｎｓ ）および形状を許容する。
第１図に示されているように、本発明のカード１０は、
適宜の光学式読取装置（図示されていない）によって光
学式に読取られつる機械読取可能なデータトラック（図
示されていない）の環状帯域へを有する。ある実施例に
おいては、環状帯域Ａはまた、カード１ｏの発行後、デ
ィジタルまたはアナログの機械読取可能情報によりエン
コードされうる。ある実施例は単一の環状帯域に関して
説明されているが、本発明は、カードの一面のみでなく
、伯の面に使用をも予想している。
適宜の光学式読取装置（図示されていない）によって光
学式に読取られつる機械読取可能なデータトラック（図
示されていない）の環状帯域へを有する。ある実施例に
おいては、環状帯域Ａはまた、カード１ｏの発行後、デ
ィジタルまたはアナログの機械読取可能情報によりエン
コードされうる。ある実施例は単一の環状帯域に関して
説明されているが、本発明は、カードの一面のみでなく
、伯の面に使用をも予想している。
第２図には、透過読取モード用の本発明の１実施例であ
る、単一層カード構造の拡大部分断面図が示されている
。このカード１０は、 約０．０１２７ｍ（１／２ミル）から１．２７ｆｌ（５
０ミル）までの範囲内の厚さを有する基板１２を含むが
、札入れ大のクレジットカード全体の厚さとしては約０
．７６２ｍ＋（３０ミル）が好適である。しかし、この
実施例においては、基板１２の厚さは約０．３８１１１
＋＋Ｉ＋（１５ミル）である。
る、単一層カード構造の拡大部分断面図が示されている
。このカード１０は、 約０．０１２７ｍ（１／２ミル）から１．２７ｆｌ（５
０ミル）までの範囲内の厚さを有する基板１２を含むが
、札入れ大のクレジットカード全体の厚さとしては約０
．７６２ｍ＋（３０ミル）が好適である。しかし、この
実施例においては、基板１２の厚さは約０．３８１１１
＋＋Ｉ＋（１５ミル）である。
基板１２はエンボシングされた情報を読取るのに使用さ
れる範囲の電磁エネルギに対し透明な材料で作られる。
れる範囲の電磁エネルギに対し透明な材料で作られる。
基板１２は、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃによっ
て製造されているポリ炭酸エステルであるＬＥＸＡＩＩ
のような、透明で均質なポリ炭酸エステル材で作られる
。この場合、ポリ炭酸エステル基板１２は、エンボシン
グ可能で、可視領域の電磁放射に対し透明である。光学
式読取りは、適宜の出力を有する通常のレーザによって
行なわれうる。
て製造されているポリ炭酸エステルであるＬＥＸＡＩＩ
のような、透明で均質なポリ炭酸エステル材で作られる
。この場合、ポリ炭酸エステル基板１２は、エンボシン
グ可能で、可視領域の電磁放射に対し透明である。光学
式読取りは、適宜の出力を有する通常のレーザによって
行なわれうる。
しかし、基板１２は可視光に対して透明である必要はな
く、例えば近赤外領域内にある不可視領域内の放射に対
して透明であってもよい。
く、例えば近赤外領域内にある不可視領域内の放射に対
して透明であってもよい。
ポリエチレンテレフタラートのようなポリエステルなど
、他のエンボシング可能な材料を使用することもできる
。これら他のエンボシング可能な材料としては、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ビニル、アクリリック、アセ
チルブチルセルロース、ポリエステル、アルミニウムな
どの薄い金属、および、電子ビームおよび紫外線により
硬化しうる重合体およびエポキシ形重合体がある。以上
にあげたエンボシング可能な材料は、いかなる意味にお
いても本発明の範囲を限定するものではない。
、他のエンボシング可能な材料を使用することもできる
。これら他のエンボシング可能な材料としては、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ビニル、アクリリック、アセ
チルブチルセルロース、ポリエステル、アルミニウムな
どの薄い金属、および、電子ビームおよび紫外線により
硬化しうる重合体およびエポキシ形重合体がある。以上
にあげたエンボシング可能な材料は、いかなる意味にお
いても本発明の範囲を限定するものではない。
基板１２の表面には、はざまを設けた形に図示されてい
る、グループまたはビット１４の形式の、さまざまな表
面リリーフ形成部がエンボシングされている。グループ
またはビット１４は、機械読取可能なディジタル情報表
面１６を与える形式のもので、この表面は、これらのグ
ループまたはビット１４と基板１２の周囲の表面との間
の光の相または透過の変化を読取るレーザ形光学装置に
よって光学式に読取られうる。実例を示すと、グループ
またはビット１４の深さは約０．０５μｍから０．１５
μｍまでの範囲内にありうる。しかし、好ましくは、０
．１０μｍの平均の深さを有するグループまたはビット
１４を使用する。ビットの長さは約０．６μｍから１０
μｍまで、幅は約０．４μｍから１．５μｍまでである
のが普通である。もちろん、ビットの代わりに光学式読
取りに適する表面隆起を用いることもできる。
る、グループまたはビット１４の形式の、さまざまな表
面リリーフ形成部がエンボシングされている。グループ
またはビット１４は、機械読取可能なディジタル情報表
面１６を与える形式のもので、この表面は、これらのグ
ループまたはビット１４と基板１２の周囲の表面との間
の光の相または透過の変化を読取るレーザ形光学装置に
よって光学式に読取られうる。実例を示すと、グループ
またはビット１４の深さは約０．０５μｍから０．１５
μｍまでの範囲内にありうる。しかし、好ましくは、０
．１０μｍの平均の深さを有するグループまたはビット
１４を使用する。ビットの長さは約０．６μｍから１０
μｍまで、幅は約０．４μｍから１．５μｍまでである
のが普通である。もちろん、ビットの代わりに光学式読
取りに適する表面隆起を用いることもできる。
このような情報表面１６のエンボシングは、エンボシン
グされる情報表面１６と逆のリリーフ構造パターンを有
する種ダイスにより基板１２を、それがウェアの一部で
ある時に、エンボシングすることによって行なわれる。
グされる情報表面１６と逆のリリーフ構造パターンを有
する種ダイスにより基板１２を、それがウェアの一部で
ある時に、エンボシングすることによって行なわれる。
エンボシング技術の詳細は、本来本発明の一部をなすも
のではない。
のではない。
しかし、基板１２の情報表面１６の形成に使用できるウ
エブエンボシング技術を開示している米国特許箱４．５
４３．２２５号を参考文献としてあげておく。本発明は
、射出成形または流し込などの、そのような凹部を形成
するための他のウエブエンボシング技術または他の公知
技術をも予想している。情報表面１６は、物理的にカー
ド構造と一体をなしていることに注意すべきである。こ
れは、製造経費の低減を含め、かなりの利点となる。
エブエンボシング技術を開示している米国特許箱４．５
４３．２２５号を参考文献としてあげておく。本発明は
、射出成形または流し込などの、そのような凹部を形成
するための他のウエブエンボシング技術または他の公知
技術をも予想している。情報表面１６は、物理的にカー
ド構造と一体をなしていることに注意すべきである。こ
れは、製造経費の低減を含め、かなりの利点となる。
本実施例は、１材料基板１２を用いている。しかし、本
発明では、基板１２はいくつかの層から作られうるちの
と考える。第２Ａ図に示されている基板１２′は、厚さ
０．０７６２ｍ（３ミル）のポリエステルｌｍ１２’ａ
と、この表面上に重ねられた厚さ約０．０１２７Ｍ（０
，５ミル）のアセチルブチルセルロース（ＣＡＢ）のエ
ンボシング可能層１２’ｂと、を有する。このようにし
て、全体の厚さは約０．０８８９票（３，５ミル）にな
る。ポリエステル層１２′ａは、札入れ大のカードが必
要とする機械的強度と柔軟性とを与え、エンボシング可
能Ｐｉ１２’ｂは情報層をなす。もし所望ならば、この
ような多層構造において、ポリエステル１１１２’ａと
アセチルブチルセルロース層１２′ ｂとの間に適宜の
下塗り層（図示されていない）を設けることもできる。
発明では、基板１２はいくつかの層から作られうるちの
と考える。第２Ａ図に示されている基板１２′は、厚さ
０．０７６２ｍ（３ミル）のポリエステルｌｍ１２’ａ
と、この表面上に重ねられた厚さ約０．０１２７Ｍ（０
，５ミル）のアセチルブチルセルロース（ＣＡＢ）のエ
ンボシング可能層１２’ｂと、を有する。このようにし
て、全体の厚さは約０．０８８９票（３，５ミル）にな
る。ポリエステル層１２′ａは、札入れ大のカードが必
要とする機械的強度と柔軟性とを与え、エンボシング可
能Ｐｉ１２’ｂは情報層をなす。もし所望ならば、この
ような多層構造において、ポリエステル１１１２’ａと
アセチルブチルセルロース層１２′ ｂとの間に適宜の
下塗り層（図示されていない）を設けることもできる。
第２図の実施例を再び参照する。この実施例においては
、エンボシングされたディジタル情報表面１６を用いて
いるが、この表面はアナログ情報をエンボシングされる
ことも可能である。この実施例においては、機械読取可
能な情報表面１６は、情報データトラック（図示されて
いない）が円形状および／または螺線状に配置されるよ
うにエンボシングされる。従って、光学式カード１０は
、カード平面を通して延長する基準回転軸の回りに回転
せしめられている時に、読取られうる。データトラック
をこのように配置する利点は、権利者を同じくする同時
係属出願である１９８７年５月１５日出願の、ｒＨＥＴ
ＨＯＤ ＡＮＤ ＡＰＰＡＲＡＴｔｌＳ ＦＯＲＦＥＥ
ＤＩＮＧ ＣＡＲＤＪと題する特許出願第０５０．０３
９号に開示されている比較的経済的な光学式カード読取
装置を用いうろことである。
、エンボシングされたディジタル情報表面１６を用いて
いるが、この表面はアナログ情報をエンボシングされる
ことも可能である。この実施例においては、機械読取可
能な情報表面１６は、情報データトラック（図示されて
いない）が円形状および／または螺線状に配置されるよ
うにエンボシングされる。従って、光学式カード１０は
、カード平面を通して延長する基準回転軸の回りに回転
せしめられている時に、読取られうる。データトラック
をこのように配置する利点は、権利者を同じくする同時
係属出願である１９８７年５月１５日出願の、ｒＨＥＴ
ＨＯＤ ＡＮＤ ＡＰＰＡＲＡＴｔｌＳ ＦＯＲＦＥＥ
ＤＩＮＧ ＣＡＲＤＪと題する特許出願第０５０．０３
９号に開示されている比較的経済的な光学式カード読取
装置を用いうろことである。
ディジタル情報表面１６上には、保護層１８が重ねられ
ている。この実施例においては、例えば透明なポリ炭酸
エステルの比較的厚いシートが、光学式情報カード１０
に強度および保護を加えるために用いられる。ポリ炭酸
エステルの保護層１８は、約０．３８１＃ｍ（１５ミル
）の厚さを有しうる。この厚さのポリ炭酸エステルは、
カードの通常の使用において十分に耐久性を有し、摩耗
に対する抵抗性を有する限り、適切であることがわかっ
た。本発明においては、このような層１８に用いうる、
いくつか別の材料も考えられる。Ｉ！！１８としてポリ
炭酸エステルが用いられるほか、ポリエチレンテレフタ
ラートなどの他のポリエステルも使用でき、また、ポリ
塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルな
どのアクリル樹脂、およびその他の適宜の材料も使用で
きる。
ている。この実施例においては、例えば透明なポリ炭酸
エステルの比較的厚いシートが、光学式情報カード１０
に強度および保護を加えるために用いられる。ポリ炭酸
エステルの保護層１８は、約０．３８１＃ｍ（１５ミル
）の厚さを有しうる。この厚さのポリ炭酸エステルは、
カードの通常の使用において十分に耐久性を有し、摩耗
に対する抵抗性を有する限り、適切であることがわかっ
た。本発明においては、このような層１８に用いうる、
いくつか別の材料も考えられる。Ｉ！！１８としてポリ
炭酸エステルが用いられるほか、ポリエチレンテレフタ
ラートなどの他のポリエステルも使用でき、また、ポリ
塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルな
どのアクリル樹脂、およびその他の適宜の材料も使用で
きる。
すでに述べたように、予定されている札入れ大の光学式
カードの厚さは約０．７６２ｍ＋（３０ミル）である。
カードの厚さは約０．７６２ｍ＋（３０ミル）である。
従って、基板１２と層１８との厚さは変化しうる。例え
ば第２Ａ図に関していうと、ポリ炭酸エステルの保護層
（図示されていない）の厚さは、約０．６８６ｓ（２７
ミル）でありうる。あるいは、層１８の厚さを約０．０
８８９ｍ（３，５ミル）とし、基板１２の厚さを約０．
６８６ＮＲ（２７ミル）とすることもできる。
ば第２Ａ図に関していうと、ポリ炭酸エステルの保護層
（図示されていない）の厚さは、約０．６８６ｓ（２７
ミル）でありうる。あるいは、層１８の厚さを約０．０
８８９ｍ（３，５ミル）とし、基板１２の厚さを約０．
６８６ＮＲ（２７ミル）とすることもできる。
層１８として薄いラッカーまたは薄い紫外線保護層が用
いられる場合は、それに応じて担持基板１２の厚さが、
カード１０の必要とする強度および耐久性を与えるため
に、前述の０．１２７ｓ（５ミル）より厚くされなくて
はならない。厚さは多くの因子の関数であることを理解
すべきである。
いられる場合は、それに応じて担持基板１２の厚さが、
カード１０の必要とする強度および耐久性を与えるため
に、前述の０．１２７ｓ（５ミル）より厚くされなくて
はならない。厚さは多くの因子の関数であることを理解
すべきである。
層１８と基板１２どの厚さの組合せがどのようなもので
あったとしても、それらの和は、多くの札入れ大のクレ
ジットカードなどに用いられている好適な厚さに等しく
されるべきである。
あったとしても、それらの和は、多くの札入れ大のクレ
ジットカードなどに用いられている好適な厚さに等しく
されるべきである。
もちろん、本実施例のカード１０は透過によって読取ら
れるので、これらの他の材料も読取りに使用されるレー
ザに対し光学的に透明でなくてはならない。層１８は、
Ｈｏｒｔｏｎ−Ｔｈｉｏｋｏｌから発売されているＬａ
ｎ＋ａ Ｉのような、通常の光学接着剤の層（図示され
ていない）によって、基板１２に接着される。このよう
な接着剤を塗布する技術は公知であり、層１８は基板１
２に対し通常の工程を用いて接着される。
れるので、これらの他の材料も読取りに使用されるレー
ザに対し光学的に透明でなくてはならない。層１８は、
Ｈｏｒｔｏｎ−Ｔｈｉｏｋｏｌから発売されているＬａ
ｎ＋ａ Ｉのような、通常の光学接着剤の層（図示され
ていない）によって、基板１２に接着される。このよう
な接着剤を塗布する技術は公知であり、層１８は基板１
２に対し通常の工程を用いて接着される。
基板１２および層１８の双方がポリ炭酸エステルから作
られている場合には、それらは同じ屈折率を有する。従
って、第２図に示されているように、層１８は、凹部す
なわちグループまたはビット１４上にエアギャップ１９
が形成されるように基板１２に接せしめられ、それによ
って光学式読取装置は情報表面１６を透過読取モードで
読取りうるようになる。もし、基板と層１８とが十分具
なる屈折率を有するならば、透過モードにおいてエアギ
ャップ１９は必要とされない。もちろんギャップは、空
気の代わりに、好ましくは基板および保護層と十分具な
る屈折率をもったガス材によって満たされていてもよい
。
られている場合には、それらは同じ屈折率を有する。従
って、第２図に示されているように、層１８は、凹部す
なわちグループまたはビット１４上にエアギャップ１９
が形成されるように基板１２に接せしめられ、それによ
って光学式読取装置は情報表面１６を透過読取モードで
読取りうるようになる。もし、基板と層１８とが十分具
なる屈折率を有するならば、透過モードにおいてエアギ
ャップ１９は必要とされない。もちろんギャップは、空
気の代わりに、好ましくは基板および保護層と十分具な
る屈折率をもったガス材によって満たされていてもよい
。
次に、第３図には、本発明の光学式情報カード２ｏのも
う１つの実施例が示されている。前の実施例とは異なり
、このカード２０は反射モードによって読取られうる。
う１つの実施例が示されている。前の実施例とは異なり
、このカード２０は反射モードによって読取られうる。
この目的のために、グループまたはビット２５と周囲の
表面領域とによって画定されるエンボシングされた情報
表面２４に重ねて反射層２２が配設される。もちろん、
反射層２２によって、情報表面２４は、光学式読取ヘッ
ド（図示されていない）から出て反射された読取レーザ
ビームにより読取られるようになる。
表面領域とによって画定されるエンボシングされた情報
表面２４に重ねて反射層２２が配設される。もちろん、
反射層２２によって、情報表面２４は、光学式読取ヘッ
ド（図示されていない）から出て反射された読取レーザ
ビームにより読取られるようになる。
情報表面２４、基板２６、および保護層２８は、同じ特
性を有する同じ材料のもので、第２図に示されている実
施例の対応する層に関連して前述したようにして作られ
る。もちろん、これらの材料およびその特性も、前述の
考察に従って変化せしめられうる。カード２０は反射モ
ードによって読取られるので、鏡状反射材料を使用する
ことができる。この実施例においては、反射層２２は情
報表面２４に接して配置される。もちろん、万一ド２０
Ｇ、ｔ Ｍ取放射に対して不透明でないカードのいず
れの側からも反射モードで読取られうる。エンボシング
は、情報表面２４の金属被覆の前または後に行なわれる
。
性を有する同じ材料のもので、第２図に示されている実
施例の対応する層に関連して前述したようにして作られ
る。もちろん、これらの材料およびその特性も、前述の
考察に従って変化せしめられうる。カード２０は反射モ
ードによって読取られるので、鏡状反射材料を使用する
ことができる。この実施例においては、反射層２２は情
報表面２４に接して配置される。もちろん、万一ド２０
Ｇ、ｔ Ｍ取放射に対して不透明でないカードのいず
れの側からも反射モードで読取られうる。エンボシング
は、情報表面２４の金属被覆の前または後に行なわれる
。
本実施例においては、カード２０は基板２６または保護
層２８のいずれを通しても反射モードで読取られる。反
射層２２は、さまざまな公知の方法、例えば前に略述し
たエンボシング工程の後の溶剤法／または真空蒸着、に
よって付着せしめられる。１実施例においては、反射層
２２はアルミニウムの金属被覆で、通常の真空蒸着技術
によって付着せしめられるが、この技術は本発明の一部
をなすものではない。反射層２２の厚さは、読取モード
において前述の反射機能を与えうるちのでなくてはなら
ない。限定的な意味をもつわけではないが、例をあげる
と、反射層２２の厚さは約１００ｒａから数百ｎｍまで
の範囲にあればよい。この実施例においては、この厚さ
は６０ｎｍである。アルミニウム以外の材料も、もらろ
ん、情報表面２４の反射率の変化を光学的に読取りうる
ように、読取レーザビームの全部または一部を反射する
ために使用できる。例をあげると、他の材料としては、
これらに限られるわけではないが、反射率の近い銅、金
、適宜の合金、染料、などがある。もし、保護層２８が
ラッカーの薄い層である場合は、それはもちろん通常の
コーティング工程によって塗布される。もし、保１［が
本実施例の場合のようにもつと厚ければ、それは第２図
に関連して前述した種類の接着剤によって情報表面に接
着される。
層２８のいずれを通しても反射モードで読取られる。反
射層２２は、さまざまな公知の方法、例えば前に略述し
たエンボシング工程の後の溶剤法／または真空蒸着、に
よって付着せしめられる。１実施例においては、反射層
２２はアルミニウムの金属被覆で、通常の真空蒸着技術
によって付着せしめられるが、この技術は本発明の一部
をなすものではない。反射層２２の厚さは、読取モード
において前述の反射機能を与えうるちのでなくてはなら
ない。限定的な意味をもつわけではないが、例をあげる
と、反射層２２の厚さは約１００ｒａから数百ｎｍまで
の範囲にあればよい。この実施例においては、この厚さ
は６０ｎｍである。アルミニウム以外の材料も、もらろ
ん、情報表面２４の反射率の変化を光学的に読取りうる
ように、読取レーザビームの全部または一部を反射する
ために使用できる。例をあげると、他の材料としては、
これらに限られるわけではないが、反射率の近い銅、金
、適宜の合金、染料、などがある。もし、保護層２８が
ラッカーの薄い層である場合は、それはもちろん通常の
コーティング工程によって塗布される。もし、保１［が
本実施例の場合のようにもつと厚ければ、それは第２図
に関連して前述した種類の接着剤によって情報表面に接
着される。
また、カード２ｏは反射モードによって読取られるので
、エアギャップは必要とされない。従って、保護層２８
は、通常の成層工程などによって、反射層２２と密に連
続した係合状態にされる。
、エアギャップは必要とされない。従って、保護層２８
は、通常の成層工程などによって、反射層２２と密に連
続した係合状態にされる。
第４図には、本発明のもう１つの実施例が示されている
。この実施例のカード３０は、カードの発行後光学式に
書込み可能な形式のものである。
。この実施例のカード３０は、カードの発行後光学式に
書込み可能な形式のものである。
カード３ｏはエンボシングされた情報基板３２を有し、
この基板は、ポリ炭酸エステルまたはポリエチレンテレ
フタラート、あるいは米国特許筒４゜３６６．２３５号
に記載されている種類の材料などのような、感熱材から
作られる。このプラスチックは、本技術分野において公
知のように、エンボシングの前に、熱、圧力、溶剤、ま
たはこれらのある組合せによって軟化されなくてはなら
ない。
この基板は、ポリ炭酸エステルまたはポリエチレンテレ
フタラート、あるいは米国特許筒４゜３６６．２３５号
に記載されている種類の材料などのような、感熱材から
作られる。このプラスチックは、本技術分野において公
知のように、エンボシングの前に、熱、圧力、溶剤、ま
たはこれらのある組合せによって軟化されなくてはなら
ない。
本実施例においては、基板３２はポリ炭酸エステルから
作られ、第１実施例における基板と同範囲の厚さ（例え
ば０．０７６２ＨＲ（３ミル）から１．２７＃＋ａ＋（
５０ミル）まで）を有する。ポリ炭酸エステルは、使用
される読取および書込レーザエネルギに対し透過性を有
する。情報基板３２は、その選択された部分上に、エン
ボシングされた読取専用パターンと、エンボシングされ
た光学式１回書込形組織パターンとを有する。組織パタ
ーンとは、規則的配置または不規則的配置を有するエン
ボシングされたフィラメントまたは空洞パターンの微小
構造アレイが形成されていることを意味する。本出願に
おいては、所定の組織パターンは規則的および不規則的
パターンの双方を含む。組織パターンは、例えば所定の
波長および強度のレーザエネルギを受けると、そのパタ
ーンに物理的変形または構造的弛緩を生じ、変化した構
造が透過モードまたは反射モードによって光学式に読取
られうるようになる。従って、単一のエンボシング工程
により、カード３０をしてエンコードされた後に光学式
に書込可能ならしめる、多能の情報基板すなわち情報層
が経済的に得られる。この目的のために、情報基板３２
の選択された領域は、図にはざまを設けた形状に示され
ているエンコードされた表面リリーフ構造すなわち情報
グループまたはビット３４をエンボシングされる。エン
ボシングされた情報ビット３４は、例えば所定帯域の電
磁放射スペクトル波長を用いるレーザヘッドによって読
取られる、機械読取専用の形式で用いられる。表面リリ
ーフ構造３４は、好ましくは、ほぼ同心状および／また
は螺線状の形式を有し、カード３０が回転せしめられる
時に読取られるものとする。
作られ、第１実施例における基板と同範囲の厚さ（例え
ば０．０７６２ＨＲ（３ミル）から１．２７＃＋ａ＋（
５０ミル）まで）を有する。ポリ炭酸エステルは、使用
される読取および書込レーザエネルギに対し透過性を有
する。情報基板３２は、その選択された部分上に、エン
ボシングされた読取専用パターンと、エンボシングされ
た光学式１回書込形組織パターンとを有する。組織パタ
ーンとは、規則的配置または不規則的配置を有するエン
ボシングされたフィラメントまたは空洞パターンの微小
構造アレイが形成されていることを意味する。本出願に
おいては、所定の組織パターンは規則的および不規則的
パターンの双方を含む。組織パターンは、例えば所定の
波長および強度のレーザエネルギを受けると、そのパタ
ーンに物理的変形または構造的弛緩を生じ、変化した構
造が透過モードまたは反射モードによって光学式に読取
られうるようになる。従って、単一のエンボシング工程
により、カード３０をしてエンコードされた後に光学式
に書込可能ならしめる、多能の情報基板すなわち情報層
が経済的に得られる。この目的のために、情報基板３２
の選択された領域は、図にはざまを設けた形状に示され
ているエンコードされた表面リリーフ構造すなわち情報
グループまたはビット３４をエンボシングされる。エン
ボシングされた情報ビット３４は、例えば所定帯域の電
磁放射スペクトル波長を用いるレーザヘッドによって読
取られる、機械読取専用の形式で用いられる。表面リリ
ーフ構造３４は、好ましくは、ほぼ同心状および／また
は螺線状の形式を有し、カード３０が回転せしめられる
時に読取られるものとする。
図の３８に示されているエンボシングされた光学式書込
可能組織表面は、情報基板３２の他の選択された領域に
備えられ、これも環状フォーマットをなして配置されて
いる。組織表面３８は、所定パターンのエンボシングさ
れた同心状および／または螺線状のグループを含む。本
発明においては、読取専用情報ビット３４とグループを
有する書込可能組織表面３８とが相異なるフォーマット
で配置される。例えば、カードには読取専用情報ビット
を含む、磁気ディスク上のセクタのようなセクタが配設
されうる。これらのセクタの間の領域はほぼフォーマッ
トされて書込可能組織表面を含みうる。また、あらかじ
めフォーマットされた、またはあらかじめグループを形
成された螺線状トラック３５が基板３２内に、組織表面
３８を含みうる表リリーフ構造として配設され、トラッ
ク３５の周囲領域が平坦な無組織表面であるようにもで
きる。あるいは、組織表面３８をトラック３５に隣接し
て配置することもできる。
可能組織表面は、情報基板３２の他の選択された領域に
備えられ、これも環状フォーマットをなして配置されて
いる。組織表面３８は、所定パターンのエンボシングさ
れた同心状および／または螺線状のグループを含む。本
発明においては、読取専用情報ビット３４とグループを
有する書込可能組織表面３８とが相異なるフォーマット
で配置される。例えば、カードには読取専用情報ビット
を含む、磁気ディスク上のセクタのようなセクタが配設
されうる。これらのセクタの間の領域はほぼフォーマッ
トされて書込可能組織表面を含みうる。また、あらかじ
めフォーマットされた、またはあらかじめグループを形
成された螺線状トラック３５が基板３２内に、組織表面
３８を含みうる表リリーフ構造として配設され、トラッ
ク３５の周囲領域が平坦な無組織表面であるようにもで
きる。あるいは、組織表面３８をトラック３５に隣接し
て配置することもできる。
組織表面が使用される時には、それらの表面は、組織表
面３８が入射書込放射を受けた時、構造的変形を起こし
うるようにエアギャップ３６を備えていなくてはならな
い。
面３８が入射書込放射を受けた時、構造的変形を起こし
うるようにエアギャップ３６を備えていなくてはならな
い。
また、第４図に示されているように、複数の広いみぞ３
９（１つのみ図示されている）を設け、そのそれぞれが
組織表面３８′を有する小さいグループ３４′を含むよ
うにすることができる。表面３８′は前述のようにして
形成されうる。組織表面の代わりに、他の書込可能な放
射に感じる材料をグループ３４′内またはその外部部分
上に配置することもできる。例をあげると、それぞれの
溝３９の深さは、約０．５μ風から２０μ卯までの程度
、幅は約２μｍから１００μｍまでの範囲にある。グル
ープ３４′の深さは、０．０５μ瓦から０．１５μｍの
程度である。もちろん、ここに述べた形式の書込可能媒
体上にはエアギャップ３６が設けられる。
９（１つのみ図示されている）を設け、そのそれぞれが
組織表面３８′を有する小さいグループ３４′を含むよ
うにすることができる。表面３８′は前述のようにして
形成されうる。組織表面の代わりに、他の書込可能な放
射に感じる材料をグループ３４′内またはその外部部分
上に配置することもできる。例をあげると、それぞれの
溝３９の深さは、約０．５μ風から２０μ卯までの程度
、幅は約２μｍから１００μｍまでの範囲にある。グル
ープ３４′の深さは、０．０５μ瓦から０．１５μｍの
程度である。もちろん、ここに述べた形式の書込可能媒
体上にはエアギャップ３６が設けられる。
エンボシングされた書込可能層を作るのに用いられる組
織表面の詳細は、本来本発明の内容をなすものではない
。最後にあげた特許に詳述されて゛いるような、また、
５ｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｍａ（ｌｉｎ。
織表面の詳細は、本来本発明の内容をなすものではない
。最後にあげた特許に詳述されて゛いるような、また、
５ｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｍａ（ｌｉｎ。
５ｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙから刊
行されたＪｏｕｒｎａｌｏｆ Ｉｍａｏｉｎｏ ５ｃｉ
ｅｎｃｅ、 Ｖｏｌ、３１ 、Ｎｏ、 ３、Ｈａｙ ／
Ｊｕｎｅ１９８７に所載の−、Ｄｅｎｎｉｓ ５ｌａｆ
ｅｒおよびＪａｍｅｓ Ｊ、Ｃｏｗａｎによる論文に記
載されているような、組織表面が使用されうる。
行されたＪｏｕｒｎａｌｏｆ Ｉｍａｏｉｎｏ ５ｃｉ
ｅｎｃｅ、 Ｖｏｌ、３１ 、Ｎｏ、 ３、Ｈａｙ ／
Ｊｕｎｅ１９８７に所載の−、Ｄｅｎｎｉｓ ５ｌａｆ
ｅｒおよびＪａｍｅｓ Ｊ、Ｃｏｗａｎによる論文に記
載されているような、組織表面が使用されうる。
° 本発明においてはまた、ある場合には、組織表面３
８上に重なる層（図示されていない）を設けて、組織表
面に対する書込みに用いられるレーザのエネルギ効率を
増大せしめることが考慮される。
８上に重なる層（図示されていない）を設けて、組織表
面に対する書込みに用いられるレーザのエネルギ効率を
増大せしめることが考慮される。
組織表面３８は、スペクトル波長の所定帯域内にある入
射書込電磁放射を強く吸収する。。本実施例においては
、組織表面３８がレーザ書込ビームの放射を吸収すると
、感熱性のポリ炭酸エステルに観測しうる物理的変化を
生じるので、それらの領域を局部的に熱せられなかった
他領域から識別することができる。本実施例においては
、光学式に書込まれた表面３８は、カードに光学式読取
ビームを当てることによって、反射モードで読取られる
。読取りは、あまり吸収されない出力および／または波
長を用い、組織表面の反射率の変化を観測することによ
って行なわれる。このようにすれば、情報基板３２上に
意図しない書込みは生じない。もし、反射による読取り
が所望ならば、反射性の金属層３７を読取専用ビット３
４上に配置する。
射書込電磁放射を強く吸収する。。本実施例においては
、組織表面３８がレーザ書込ビームの放射を吸収すると
、感熱性のポリ炭酸エステルに観測しうる物理的変化を
生じるので、それらの領域を局部的に熱せられなかった
他領域から識別することができる。本実施例においては
、光学式に書込まれた表面３８は、カードに光学式読取
ビームを当てることによって、反射モードで読取られる
。読取りは、あまり吸収されない出力および／または波
長を用い、組織表面の反射率の変化を観測することによ
って行なわれる。このようにすれば、情報基板３２上に
意図しない書込みは生じない。もし、反射による読取り
が所望ならば、反射性の金属層３７を読取専用ビット３
４上に配置する。
本発明においては、組織表面３８は透過によっても読取
られうる。もし、カード３０を透過モードによって読取
るものとすると、反射コーティング３７を情報ビット３
４上に配置する必田はなくなる。もし、ポリ炭酸エステ
ルを保護層４０として用いるものとすると、エアギャッ
プ（図示されていない）がグループすなわちビット３４
またはトラック３４上に設けられることになる。
られうる。もし、カード３０を透過モードによって読取
るものとすると、反射コーティング３７を情報ビット３
４上に配置する必田はなくなる。もし、ポリ炭酸エステ
ルを保護層４０として用いるものとすると、エアギャッ
プ（図示されていない）がグループすなわちビット３４
またはトラック３４上に設けられることになる。
情報基板３２上には、保護層４ｏが重ねられる。
層４ｏは、使用される読取および／または書込レーザビ
ームのスペクトル範囲に対して透過性を有するポリ炭酸
エステルから作られ、厚さは約０．６８６ｍ（２７ミル
）である。エアギャップの外、ポリ炭酸エステルと異な
る屈折率を有する他の好ましくはガス状の材料を用いる
こともできる。また、ポリ炭酸エステルの外、第２図お
よび第３図の実施例に関連して前述した他の適宜の材料
も使用できる。保護層４０を情報基板３２に接合するた
めに使用できる光学接着剤の種類も、第２図および第３
図の実施例に関連して前述したものと同様であるが、あ
るいは前述された接着懇能と光学的機能とを有するよう
に選択された他のものであってもよい。
ームのスペクトル範囲に対して透過性を有するポリ炭酸
エステルから作られ、厚さは約０．６８６ｍ（２７ミル
）である。エアギャップの外、ポリ炭酸エステルと異な
る屈折率を有する他の好ましくはガス状の材料を用いる
こともできる。また、ポリ炭酸エステルの外、第２図お
よび第３図の実施例に関連して前述した他の適宜の材料
も使用できる。保護層４０を情報基板３２に接合するた
めに使用できる光学接着剤の種類も、第２図および第３
図の実施例に関連して前述したものと同様であるが、あ
るいは前述された接着懇能と光学的機能とを有するよう
に選択された他のものであってもよい。
図示されてはいないが、本発明においては、１回害込形
のエンボシングされた情報表面３８はまた、読取専用の
エンボシングされたビットの上、または下に重ねてもよ
い。換言すれば、エンボシングビット３４は別個の基板
に前述のようにして形成され、組織パターン３８および
ギャップ３６は他の基板に前述のようにして形成されて
、これがエンボシングピット３４の上、または下に重ね
て配置される。もちろん、双方の基板は、使用される読
取および書込電磁放射の選択されたスペクトル波長範囲
に対して透過性をもたなくてはならない。もし、エンボ
シングビット３４を反射モードで読取りたければ、反射
層（図示されていない）をこれに関連せしめ、エンボシ
ングピットを組織表面３８の下に配置する。
のエンボシングされた情報表面３８はまた、読取専用の
エンボシングされたビットの上、または下に重ねてもよ
い。換言すれば、エンボシングビット３４は別個の基板
に前述のようにして形成され、組織パターン３８および
ギャップ３６は他の基板に前述のようにして形成されて
、これがエンボシングピット３４の上、または下に重ね
て配置される。もちろん、双方の基板は、使用される読
取および書込電磁放射の選択されたスペクトル波長範囲
に対して透過性をもたなくてはならない。もし、エンボ
シングビット３４を反射モードで読取りたければ、反射
層（図示されていない）をこれに関連せしめ、エンボシ
ングピットを組織表面３８の下に配置する。
第５図に示されている光学式情報カード５ｏのもう１つ
の実施例は、エンボシングされた情報のみでなく、光学
的に、好ましくはレーザによって、書込可能な、すなわ
ち１回書込可能な基板５２をも有する。書込可能基板５
２の使用によって、最後に述べた実施例の組織表面は用
いる必要がなくなる。そのわけは、それが余分なものに
なるからである。
の実施例は、エンボシングされた情報のみでなく、光学
的に、好ましくはレーザによって、書込可能な、すなわ
ち１回書込可能な基板５２をも有する。書込可能基板５
２の使用によって、最後に述べた実施例の組織表面は用
いる必要がなくなる。そのわけは、それが余分なものに
なるからである。
書込可能基板５２は、基板５６のエンボシングされた情
報リリーフ表面上に重ねられた金属被覆反射層５４に対
し、直接的な（通常の）コーティング技術によって、ま
たは通常の光学接着剤によって適宜に接着される。反射
層５４およびエンボシングされた情報基板５６は、第３
図の実施例において述べた、反射層２２および基板２６
のそれぞれと同じ材料で作られ、かつ同じ厚さの範囲内
にある。従って、本実施例の特徴についてはその実施例
を参照されたい。
報リリーフ表面上に重ねられた金属被覆反射層５４に対
し、直接的な（通常の）コーティング技術によって、ま
たは通常の光学接着剤によって適宜に接着される。反射
層５４およびエンボシングされた情報基板５６は、第３
図の実施例において述べた、反射層２２および基板２６
のそれぞれと同じ材料で作られ、かつ同じ厚さの範囲内
にある。従って、本実施例の特徴についてはその実施例
を参照されたい。
本実施例においては、レーザ書込可能基板５２は、カラ
ー画像、カラーテキスト、および機械読取可能ディジタ
ルコードによりエンコード可能な単一媒体から作られる
。この基板は、第１、第２、および第３のカラー像形成
化合物または層（図示さ−れていない）を含み、これら
は、そのスペクトル吸収特性に視覚的に認めつる変化を
与えるためのそれぞれ相異なる選択されたスペクトル波
長範囲内の入射電磁放射に応答、すなわち感度を示す。
ー画像、カラーテキスト、および機械読取可能ディジタ
ルコードによりエンコード可能な単一媒体から作られる
。この基板は、第１、第２、および第３のカラー像形成
化合物または層（図示さ−れていない）を含み、これら
は、そのスペクトル吸収特性に視覚的に認めつる変化を
与えるためのそれぞれ相異なる選択されたスペクトル波
長範囲内の入射電磁放射に応答、すなわち感度を示す。
基板５２は、権利者を同じくする１９８７年５月５日公
告の米国特許第４．６６３．５１８号に記載されている
種類の材料から構成される。本質的に、１回ｌ込形基板
５２は、この特許に説明されているように、カラー像形
成層のそれぞれの相異なる選択されたスペクトル波長範
囲内のスペクトル波長を有する複合レーザ光で走査する
のと同時に、この複合レーザビームのそれぞれの部分の
強度を変調することによって、像形成層の任意の１つを
選択的に露光せしめ、それによって例えば第１カラー像
形成層内に視覚的に認めうるカラー像を生せしめること
により、プリントされる。詳しくいうと、３つのカラー
像形成層は、放射に感じる像形成染料化合物である。好
ましくは、それらはそれぞれ、通常の写真工程において
完全な自然色を与えるのに用いられる、減色法の色であ
る黄、シアン、およびマゼンタを与えるように選択され
る。あるいは、これらの像形成層は、加色法における所
望の原色から構成することもできる。感熱染料化合物の
例は、最後にあげた特許に記載されている。
告の米国特許第４．６６３．５１８号に記載されている
種類の材料から構成される。本質的に、１回ｌ込形基板
５２は、この特許に説明されているように、カラー像形
成層のそれぞれの相異なる選択されたスペクトル波長範
囲内のスペクトル波長を有する複合レーザ光で走査する
のと同時に、この複合レーザビームのそれぞれの部分の
強度を変調することによって、像形成層の任意の１つを
選択的に露光せしめ、それによって例えば第１カラー像
形成層内に視覚的に認めうるカラー像を生せしめること
により、プリントされる。詳しくいうと、３つのカラー
像形成層は、放射に感じる像形成染料化合物である。好
ましくは、それらはそれぞれ、通常の写真工程において
完全な自然色を与えるのに用いられる、減色法の色であ
る黄、シアン、およびマゼンタを与えるように選択され
る。あるいは、これらの像形成層は、加色法における所
望の原色から構成することもできる。感熱染料化合物の
例は、最後にあげた特許に記載されている。
感熱染料化合物は最初は無色で、黄、マゼンタ、および
シアンの各色光のような、可視波長領域内の相異なる所
定波長の放射を吸収しうる。それぞれの感熱化合物によ
り吸収された光は熱に変換され、この熱が染料化合物を
無色からそれぞれの黄、マゼンタ、シアンの諸層へ変換
させる不可逆的単分子分解反応を開始せしめる。３色像
形成層として同様に使用しうる他の感熱有機染料は、最
初着色されていて、吸収した光を熱に変換し、この熱が
染料化合物を無色になるように漂白するための不可逆的
単分子分解反応を開始する。
シアンの各色光のような、可視波長領域内の相異なる所
定波長の放射を吸収しうる。それぞれの感熱化合物によ
り吸収された光は熱に変換され、この熱が染料化合物を
無色からそれぞれの黄、マゼンタ、シアンの諸層へ変換
させる不可逆的単分子分解反応を開始せしめる。３色像
形成層として同様に使用しうる他の感熱有機染料は、最
初着色されていて、吸収した光を熱に変換し、この熱が
染料化合物を無色になるように漂白するための不可逆的
単分子分解反応を開始する。
光学式にエンコードされたディジタルデータは、米国特
許第４，６６３．５１８＠の教示に従って読出される。
許第４，６６３．５１８＠の教示に従って読出される。
１同書込形基根５２は、好ましくは保護される。
保護を行なう１方法は、それを上記特許に説明されてい
るようにして保護する方法である。ポリ炭酸エステルの
保護層６０を基板５２に接合するのには、適宜の接着層
５８を用いることができる。
るようにして保護する方法である。ポリ炭酸エステルの
保護層６０を基板５２に接合するのには、適宜の接着層
５８を用いることができる。
保護層６ｏの厚さは、他の諸層と組合せた時、カード５
０の全体の厚さがクレジットおよび身分証明カードとし
ての満足すべき厚さになるようにする。読取専用情報表
面５７は、基板５２上の書込みには無関係に、染料化合
物が基板５２および保護層６０を通して吸収する放射波
長とは異なった適切なスペクトル波長を有するレーザビ
ームによって反射モードで適宜に読取られうる。１同書
込形基板５２および情報表面５７の有する情報は、好ま
しくはほぼ同心状および／または螺線状フォーマットで
配置されているものとする。このようにすると、読取り
および書込み中にカードを回転させることができる。情
報表面５７の光学式読取は、１同書込形基板５２内のデ
ィジタル情報を透過しうるスペクトル波長を用いること
によって行なわれる。もちろん、もし基板５６が読取り
に使用される電磁スペクトル波長領域を透過させる場合
は、カードは基板５６を通しての反射モードでも読取ら
れうる。後者の波長領域は、基板５２を通しての読取り
に用いられる波長領域と同じである必要はない。もし、
情報基板５６および１同書込形基板５２が透過モードで
読取られる場合は、基板５６は基板５２を読取るために
使用されるスペクトル波長を透過せしめ、逆にこの基板
は情報表面５７を読取るために使用されるスペクトル波
長を透過せしめなくてはならない。容易にわかるように
、反射層５４の必要はない。また、基板５６にはプレト
ラックグループ５７′を形成しておいて、その中に、す
なわちそれに接して、基板５２を配置することができる
。
０の全体の厚さがクレジットおよび身分証明カードとし
ての満足すべき厚さになるようにする。読取専用情報表
面５７は、基板５２上の書込みには無関係に、染料化合
物が基板５２および保護層６０を通して吸収する放射波
長とは異なった適切なスペクトル波長を有するレーザビ
ームによって反射モードで適宜に読取られうる。１同書
込形基板５２および情報表面５７の有する情報は、好ま
しくはほぼ同心状および／または螺線状フォーマットで
配置されているものとする。このようにすると、読取り
および書込み中にカードを回転させることができる。情
報表面５７の光学式読取は、１同書込形基板５２内のデ
ィジタル情報を透過しうるスペクトル波長を用いること
によって行なわれる。もちろん、もし基板５６が読取り
に使用される電磁スペクトル波長領域を透過させる場合
は、カードは基板５６を通しての反射モードでも読取ら
れうる。後者の波長領域は、基板５２を通しての読取り
に用いられる波長領域と同じである必要はない。もし、
情報基板５６および１同書込形基板５２が透過モードで
読取られる場合は、基板５６は基板５２を読取るために
使用されるスペクトル波長を透過せしめ、逆にこの基板
は情報表面５７を読取るために使用されるスペクトル波
長を透過せしめなくてはならない。容易にわかるように
、反射層５４の必要はない。また、基板５６にはプレト
ラックグループ５７′を形成しておいて、その中に、す
なわちそれに接して、基板５２を配置することができる
。
次に、第６図には、本発明のさらにもう１つの実施例で
ある光学式カード７０が示されている。
ある光学式カード７０が示されている。
カード７ｏが第５図に示されているカードと異なる点は
、１回也込形基板５２の代わりに消去可能光学式基板７
２が使用されている点である。本実施例においては、エ
ンボシングされた情報表面７６を有する基板７４と、金
属被覆反射層７８とは、第３図および第５図におけるこ
れらそれぞれの相当物に関して前述した材料および厚さ
と同じ材料および厚さで作られる。もちろん、本発明の
教示に適合する限り、他の材料および厚さを使用するこ
ともできる。本実施例の光学式消去可能基板７２は、こ
のような基板を読取るのに使用しうる電磁スペクトル波
長領域に対し反射性を有する。
、１回也込形基板５２の代わりに消去可能光学式基板７
２が使用されている点である。本実施例においては、エ
ンボシングされた情報表面７６を有する基板７４と、金
属被覆反射層７８とは、第３図および第５図におけるこ
れらそれぞれの相当物に関して前述した材料および厚さ
と同じ材料および厚さで作られる。もちろん、本発明の
教示に適合する限り、他の材料および厚さを使用するこ
ともできる。本実施例の光学式消去可能基板７２は、こ
のような基板を読取るのに使用しうる電磁スペクトル波
長領域に対し反射性を有する。
本実施例の消去可能基板７２は、エンボシングされた情
報表面７６を読取るために使用しうる電磁放射領域に対
する反射性を有するので、表面７６は消去可能基板７２
に隣接して配置される。
報表面７６を読取るために使用しうる電磁放射領域に対
する反射性を有するので、表面７６は消去可能基板７２
に隣接して配置される。
消去可能光学式基板７２は、任意の公知の光学式記録媒
体、例えば、磁気光学式、相変化式、および染料重合体
式記録媒体から作られつる。本実施例においては、任意
の適宜のテルルを基彎とする薄膜などの、相変化記録層
が用いられる。特に、この材料は、Ｅｎｅｒｇｙ Ｃｏ
ｎｖｅｒｓｉｏｎ Ｄｅｖｉｃｅｓを権利者とする米国
特許第３，５３０．４４１号に記載されているように、
テルルとゲルマニウムとを原子百分率で約テルル８５％
、ゲルマニウム１５％の割合で含み、さらにいくらかの
酸素および／またはイオウを含む。本発明の教示に適合
すれば、他の適宜の材料を使用することもできる。この
ような材料の厚さも、最後にあげた特許の教示に適合す
るものであればよい。基板７２の利用において、それは
選択的に異なった出力を有するレーザによって加熱され
、結晶質状態から非結晶質すなわち無定形状態へ連続的
に転換される。このような実施例において、非結晶化さ
れた領域は反射性をもたない。
体、例えば、磁気光学式、相変化式、および染料重合体
式記録媒体から作られつる。本実施例においては、任意
の適宜のテルルを基彎とする薄膜などの、相変化記録層
が用いられる。特に、この材料は、Ｅｎｅｒｇｙ Ｃｏ
ｎｖｅｒｓｉｏｎ Ｄｅｖｉｃｅｓを権利者とする米国
特許第３，５３０．４４１号に記載されているように、
テルルとゲルマニウムとを原子百分率で約テルル８５％
、ゲルマニウム１５％の割合で含み、さらにいくらかの
酸素および／またはイオウを含む。本発明の教示に適合
すれば、他の適宜の材料を使用することもできる。この
ような材料の厚さも、最後にあげた特許の教示に適合す
るものであればよい。基板７２の利用において、それは
選択的に異なった出力を有するレーザによって加熱され
、結晶質状態から非結晶質すなわち無定形状態へ連続的
に転換される。このような実施例において、非結晶化さ
れた領域は反射性をもたない。
データを記録するためには、テルルを基材とする基板す
なわち薄膜７２を、選択されたスペクト−ル波長領域の
高出力レーザにより急速に加熱する。
なわち薄膜７２を、選択されたスペクト−ル波長領域の
高出力レーザにより急速に加熱する。
冷却後、その箇所は非反射性の無定形状態に留まる。記
録されたデータを読取るためには、光学式ヘッドの低出
力レーザビームをカードに当て、光学式ヘッド内の検出
器へ反射させる。もし、ビームが無定形箇所に当たれば
、反射光は少なくなる。
録されたデータを読取るためには、光学式ヘッドの低出
力レーザビームをカードに当て、光学式ヘッド内の検出
器へ反射させる。もし、ビームが無定形箇所に当たれば
、反射光は少なくなる。
ビームが結晶質領域に入射した時は、光は多く反射され
る。データを消去するためには、書込レーザよりも広い
物理的領域上に広がるように、書込出力より低い適宜の
出力を有する拡散ビームで媒体を加熱する。テルルを基
材とする薄膜は、ゆっくり加熱された時に再結晶する性
質を有する。従って、それは再び書込可能となる。以上
の説明はテルルを基材とする薄膜に関するものであった
が、本発明においては、伯種類の消去可能な光学式媒体
も考えられる。好ましくは、エンボシングされた情報表
面７６および消去可能基板７２は、カード７０が少なく
とも基準回転軸の回りに回転せしめられている時に、カ
ードが読取られ、かつ／または、書込まれ、かつ／また
は消去されうるように、ほぼ同心状および／または螺線
状フォーマットをもつ配置を与えられる。本実施例にお
いては、基板７２は、基板７４の表面リリーフ構造とし
て形成された同心状および／または螺線状プレトラック
グループ７７内にありうる。
る。データを消去するためには、書込レーザよりも広い
物理的領域上に広がるように、書込出力より低い適宜の
出力を有する拡散ビームで媒体を加熱する。テルルを基
材とする薄膜は、ゆっくり加熱された時に再結晶する性
質を有する。従って、それは再び書込可能となる。以上
の説明はテルルを基材とする薄膜に関するものであった
が、本発明においては、伯種類の消去可能な光学式媒体
も考えられる。好ましくは、エンボシングされた情報表
面７６および消去可能基板７２は、カード７０が少なく
とも基準回転軸の回りに回転せしめられている時に、カ
ードが読取られ、かつ／または、書込まれ、かつ／また
は消去されうるように、ほぼ同心状および／または螺線
状フォーマットをもつ配置を与えられる。本実施例にお
いては、基板７２は、基板７４の表面リリーフ構造とし
て形成された同心状および／または螺線状プレトラック
グループ７７内にありうる。
例えばポリ炭酸エステルから作られた適宜の保護層８ｏ
は、他の開基板上に成層されうる。もちろん、適宜の光
学接着剤で、保護層８０を基板７２および反射層７８に
接合する。保１層８０の厚さは、他材料と組合せた場合
に、カード７ｏに対して札入れ大カードに適する厚さを
与えるべきものとする。
は、他の開基板上に成層されうる。もちろん、適宜の光
学接着剤で、保護層８０を基板７２および反射層７８に
接合する。保１層８０の厚さは、他材料と組合せた場合
に、カード７ｏに対して札入れ大カードに適する厚さを
与えるべきものとする。
もちろん、消去可能基板７２は、透過モードで読取られ
うるような材料でも作られる。これらの光学的に消去可
能な材料の例は、最後にあげた特許に記載されている。
うるような材料でも作られる。これらの光学的に消去可
能な材料の例は、最後にあげた特許に記載されている。
もし、基板７２を透過モードで読取ろうとする場合は（
第７図参照）、エンボシングされた情報表面７６′を有
する基板７４′の上に基板７２を重ねることができる。
第７図参照）、エンボシングされた情報表面７６′を有
する基板７４′の上に基板７２を重ねることができる。
透過モードにおいては、金属被覆反射表面の必要はない
。また、この基板は、選択されたスペクトル波長領域に
より透過モードで読取られる場合は、エンボシングされ
た情報表面７６′の下に配置することもできる。
。また、この基板は、選択されたスペクトル波長領域に
より透過モードで読取られる場合は、エンボシングされ
た情報表面７６′の下に配置することもできる。
次に、本発明の２つの別の実施例を示す第８図および第
９図を参照する。これらの実施例は、１同書込形光学式
カード８２．８２’ に関するものである。これらのカ
ード８２．８２’ は、１回書込形の光学式エンコード
可能材料が用いられている理由で、本質的に第４図およ
び第５図に示されている実施例と異なる。本実施例にお
いては、１同書込形材料８４．８４’ は、米国特許第
４．０６６．４６０号に記載されている種類のテルルを
基材とする材料のような、相変化材料である。この特許
には、好ましくは臭素および塩素から成るグループの４
ハロゲン化テルルの使用が記載されている。これらの材
料は、乾燥状態において像形成エネルギを受けると化学
変化を起こして異なる化学的特性をもった材料、すなわ
ち最初の材料特性とは異なった少なくとも１つの検出可
能特性をもった化合物を生じる。１同書込形基板の厚さ
、およびその作り方について、最後にあげた特許に記載
がある。
９図を参照する。これらの実施例は、１同書込形光学式
カード８２．８２’ に関するものである。これらのカ
ード８２．８２’ は、１回書込形の光学式エンコード
可能材料が用いられている理由で、本質的に第４図およ
び第５図に示されている実施例と異なる。本実施例にお
いては、１同書込形材料８４．８４’ は、米国特許第
４．０６６．４６０号に記載されている種類のテルルを
基材とする材料のような、相変化材料である。この特許
には、好ましくは臭素および塩素から成るグループの４
ハロゲン化テルルの使用が記載されている。これらの材
料は、乾燥状態において像形成エネルギを受けると化学
変化を起こして異なる化学的特性をもった材料、すなわ
ち最初の材料特性とは異なった少なくとも１つの検出可
能特性をもった化合物を生じる。１同書込形基板の厚さ
、およびその作り方について、最後にあげた特許に記載
がある。
第８図に示されている実施例においては、書込可能基板
８４は適宜、金属被覆反射層８６に接着される。層８６
は前もってトラック形成された螺線状および／または同
心状グループ８９を有するエンボシングされた情報リリ
ーフ表面８８上に重ねられている。基板８４およびリリ
ーフ表面は、回転による読取りを容易ならしめるために
同心状および／または螺線状フォーマットをなして、基
板９０上に通常の真空または化学的コーティング技術に
より、または通常の光学接着剤（図示されていない）に
よって配置される。保護ｍ９２は書込可能基板８４を被
覆し、これに対して光学接着剤９１により固定される。
８４は適宜、金属被覆反射層８６に接着される。層８６
は前もってトラック形成された螺線状および／または同
心状グループ８９を有するエンボシングされた情報リリ
ーフ表面８８上に重ねられている。基板８４およびリリ
ーフ表面は、回転による読取りを容易ならしめるために
同心状および／または螺線状フォーマットをなして、基
板９０上に通常の真空または化学的コーティング技術に
より、または通常の光学接着剤（図示されていない）に
よって配置される。保護ｍ９２は書込可能基板８４を被
覆し、これに対して光学接着剤９１により固定される。
反射層８６、エンボシングされた情報表面８８、および
保護層９２は、第３図の実施例に関して前述されたこれ
らに対応する諸層と同じ材料で作られ、また同じ範囲の
厚さを有する。従って、本実施例におけるこれらの゛
諸構造の特徴については、その実施例を参照されたい。
保護層９２は、第３図の実施例に関して前述されたこれ
らに対応する諸層と同じ材料で作られ、また同じ範囲の
厚さを有する。従って、本実施例におけるこれらの゛
諸構造の特徴については、その実施例を参照されたい。
カード８２は、読取放射に対し透明な基板９ｏと保護層
９２の何れか一方または両方を介して反射モードで読み
とられる。
９２の何れか一方または両方を介して反射モードで読み
とられる。
第９図の実施例は、第８図の実施例に類似しているが、
反射層８６が省かれている。従って、カード８２′は透
過モードで読取られる。本実施例の構造は前の実施例の
構造に類似しているので、その構造はダッシュをつけた
同じ番号によって示されている。
反射層８６が省かれている。従って、カード８２′は透
過モードで読取られる。本実施例の構造は前の実施例の
構造に類似しているので、その構造はダッシュをつけた
同じ番号によって示されている。
次に、第１０図には、本発明の光学式カード１００のも
う１つの実施例が示されている。これはフリップ形カー
ドの一種であって、両表面にエンボシングされた情報リ
リーフ表面１０４．１０４８をもった心基板１０２を有
する、サンドインチ状成層カード構造のものである。そ
れぞれの情報表面１０４．１０４ａは、反射モードで読
取られるようになっている。この目的のために、情報表
面１０４，１０４ａ上には対応する金属被覆層１０６が
備えられている。金属被覆層１０６は、前述した種類の
、もちろん適宜の厚さをもった材料から作られうる。
う１つの実施例が示されている。これはフリップ形カー
ドの一種であって、両表面にエンボシングされた情報リ
リーフ表面１０４．１０４８をもった心基板１０２を有
する、サンドインチ状成層カード構造のものである。そ
れぞれの情報表面１０４．１０４ａは、反射モードで読
取られるようになっている。この目的のために、情報表
面１０４，１０４ａ上には対応する金属被覆層１０６が
備えられている。金属被覆層１０６は、前述した種類の
、もちろん適宜の厚さをもった材料から作られうる。
心基板１０２に帰ると、これは前述の諸実施例において
述べた構造と同様のいくつかの構造をもちうる。本実施
例においては、心基板１０２は、それぞれの情報表面１
０４．１０４ａのグループおよび／またはビットが相互
に干渉しないような、十分な厚さを有する必要がある。
述べた構造と同様のいくつかの構造をもちうる。本実施
例においては、心基板１０２は、それぞれの情報表面１
０４．１０４ａのグループおよび／またはビットが相互
に干渉しないような、十分な厚さを有する必要がある。
それぞれの情報表面１０４，１０４ａは、同じ゛、また
は異なった、書込可能および／または消去可能基板の組
合せを有することができる。本実施例においては、それ
ぞれの情報表面１０４．１０４８は、第８図および第９
図に示されている実施例において述べた１同書込形材料
のような、１同書込形光学式エンコード可能材料１０８
を有する。従って、その構造および厚さの詳細な説明に
ついては、それらの実施例を参照されたい。それぞれの
１同書込形材料１０８を被覆する保護層１１０は、反射
モードでの光学式読取りに使用される前述の材料から作
ることができ、第８図および第９図に関連して前述した
ようにして１同書込形材料１０８に接合することができ
る。もちろん、カード１００の全体的厚さは、単一面式
カードよりもやや厚くなる。
は異なった、書込可能および／または消去可能基板の組
合せを有することができる。本実施例においては、それ
ぞれの情報表面１０４．１０４８は、第８図および第９
図に示されている実施例において述べた１同書込形材料
のような、１同書込形光学式エンコード可能材料１０８
を有する。従って、その構造および厚さの詳細な説明に
ついては、それらの実施例を参照されたい。それぞれの
１同書込形材料１０８を被覆する保護層１１０は、反射
モードでの光学式読取りに使用される前述の材料から作
ることができ、第８図および第９図に関連して前述した
ようにして１同書込形材料１０８に接合することができ
る。もちろん、カード１００の全体的厚さは、単一面式
カードよりもやや厚くなる。
光学式情報カードの以上の実施例は全て、本技術分野に
おいて公知のように追加の諸層（図示されていない）、
例えば、接着を改善するための下塗り層、摩耗防止頂部
被覆層（図示されていない）を有することができ、ある
いは、以上の構造に対して他の補助層、例えば、ホログ
ラム、写真、磁気記録媒体を追加することもできる。も
ちろん、適宜の下塗り層または融和層は、この後者の材
料および層のグループに対しても使用される。それは、
このグループがそれらの層の通常の使用に適合している
からである。
おいて公知のように追加の諸層（図示されていない）、
例えば、接着を改善するための下塗り層、摩耗防止頂部
被覆層（図示されていない）を有することができ、ある
いは、以上の構造に対して他の補助層、例えば、ホログ
ラム、写真、磁気記録媒体を追加することもできる。も
ちろん、適宜の下塗り層または融和層は、この後者の材
料および層のグループに対しても使用される。それは、
このグループがそれらの層の通常の使用に適合している
からである。
また、本発明においては、カードは、両面が前述の諸実
施例の適宜の組合せによって作られた倍密型形のもので
ありうる。例えば、前述の構造のフリップカードには、
それぞれの面が初めの方の実施例において述べた読取専
用構造から作られているカードが含まれる。この場合、
それぞれの反対側の面は接着剤で相互に接合され、それ
ぞれが反射モードで読取られる。あるいは、それぞれの
反対側の面は、前述の書込可能および／または消去可能
構造の任意の１つを含むことができる。そのような場合
には、後者の構造は好ましくは反射モードによって読取
られるようにする。反対側の構造は適宜の接着剤によっ
て相互に接合される。
施例の適宜の組合せによって作られた倍密型形のもので
ありうる。例えば、前述の構造のフリップカードには、
それぞれの面が初めの方の実施例において述べた読取専
用構造から作られているカードが含まれる。この場合、
それぞれの反対側の面は接着剤で相互に接合され、それ
ぞれが反射モードで読取られる。あるいは、それぞれの
反対側の面は、前述の書込可能および／または消去可能
構造の任意の１つを含むことができる。そのような場合
には、後者の構造は好ましくは反射モードによって読取
られるようにする。反対側の構造は適宜の接着剤によっ
て相互に接合される。
本発明の以上に開示した実施例に対しては、付加、削減
、およびその他の改変を行なった本発明の他の実施例が
可能なことは、本技術分野に精通した者にとっては明ら
かなことであり、これらは特許請求の範囲に含まれてい
る。
、およびその他の改変を行なった本発明の他の実施例が
可能なことは、本技術分野に精通した者にとっては明ら
かなことであり、これらは特許請求の範囲に含まれてい
る。
第１図は、本発明の光学式カードの斜視図、第２図は、
本発明の光学式カードの実施例の拡大部分断面図、第２
Ａ図は、本発明の光学式カードのもう１つの実施例の拡
大部分断面図、第３図は、本発明の光学式カードのさら
にもう１つの実施例の拡大部分断面図、第４図は、本発
明の光学式カードのさらにもう１つの実施例の拡大部分
断面図、第５図は、本発明の光学式カードのさらにもう
１つの実施例の拡大部分断面図、第６図は、本発明の光
学式カードのさらにもう１つの実施例の拡大部分断面図
、第７図は、本発明の光学式カードのさらにもう１つの
実施例の拡大部分断面図、第８図は、本発明の光学式カ
ードのさらにもう１つの実施例の拡大部分断面図、第９
図は、本発明の光学式カードのさらにもう１つの実施例
の拡大部分断面図、第１０図は、本発明の光学式カード
のさらにもう１つの実施例の拡大部分断面図である。 符号の説明 １０．２０．３０．５０．７０．７０’ 、８２゜８２
’ 、１００・・・光学式情報カード、１２．１２’
、２６．３２．５６．７４．７４’ 、９０．９０’
・・・基板、 １０２・・・心基板、１２′ ｂ・・・エンボシング可
能層、１４．２５．３４．３４’ 、８９．８９’ ・
・・グループまたはビット、 ３９・・・みぞ、 ５７’ 、７７・・・プレトラックグループ、１６．２
４．５７．７６．７６’ 、８８．８８’ 。 １０４．１０４ａ・・・情報表面、 ２２．３７．５４．７８．８６，１０６・・・金属被覆
反射層、 １９．３６・・・エアギャップ、 ３８．３８’・・・１回書込形組織表面、５２．８４．
８４’ 、１０８・・・１同書込形基板、７２・・・消
去可能書込基板、 １８．２８．４０．６０．８０，９２．９２’ 。 １１０・・・保護層。
本発明の光学式カードの実施例の拡大部分断面図、第２
Ａ図は、本発明の光学式カードのもう１つの実施例の拡
大部分断面図、第３図は、本発明の光学式カードのさら
にもう１つの実施例の拡大部分断面図、第４図は、本発
明の光学式カードのさらにもう１つの実施例の拡大部分
断面図、第５図は、本発明の光学式カードのさらにもう
１つの実施例の拡大部分断面図、第６図は、本発明の光
学式カードのさらにもう１つの実施例の拡大部分断面図
、第７図は、本発明の光学式カードのさらにもう１つの
実施例の拡大部分断面図、第８図は、本発明の光学式カ
ードのさらにもう１つの実施例の拡大部分断面図、第９
図は、本発明の光学式カードのさらにもう１つの実施例
の拡大部分断面図、第１０図は、本発明の光学式カード
のさらにもう１つの実施例の拡大部分断面図である。 符号の説明 １０．２０．３０．５０．７０．７０’ 、８２゜８２
’ 、１００・・・光学式情報カード、１２．１２’
、２６．３２．５６．７４．７４’ 、９０．９０’
・・・基板、 １０２・・・心基板、１２′ ｂ・・・エンボシング可
能層、１４．２５．３４．３４’ 、８９．８９’ ・
・・グループまたはビット、 ３９・・・みぞ、 ５７’ 、７７・・・プレトラックグループ、１６．２
４．５７．７６．７６’ 、８８．８８’ 。 １０４．１０４ａ・・・情報表面、 ２２．３７．５４．７８．８６，１０６・・・金属被覆
反射層、 １９．３６・・・エアギャップ、 ３８．３８’・・・１回書込形組織表面、５２．８４．
８４’ 、１０８・・・１同書込形基板、７２・・・消
去可能書込基板、 １８．２８．４０．６０．８０，９２．９２’ 。 １１０・・・保護層。
Claims (61)
- （１）少なくとも一方の面に光学式に機械読取可能な情
報表面をなす表面リリーフ構造を有する基板と、 該情報表面に接して重ねられている保護層と、を含み、 前記基板および前記保護層が前記情報表面を光学式に読
取るのに使用されうる選択された範囲の電磁放射に対し
て透過性を有し、 前記情報表面がほぼ螺線状および／または同心状フォー
マットを有することによつて、前記カードが少なくとも
１つの軸の回りに回転せしめられるときに該情報表面が
読取られうるようになつている、 長方形状の光学式情報記憶カード。 - （２）請求項１において、前記基板の前記情報表面が、
該情報表面をなすようにエンボシングされたなんらかの
シート材を含む、光学式情報記憶カード。 - （３）請求項２において、前記エンボシングされる材料
が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース、ポ
リエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル、ア
クリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から選択
される、光学式情報記憶カード。 - （４）請求項１において、前記基板および前記層が柔軟
で耐久性のある材料から形成されている、光学式情報記
憶カード。 - （５）請求項４において、前記基板および前記保護層が
実質的に同じ屈折率を有しており、該基板と該保護層と
の間の前記情報表面の凹部上にギャップが形成されてお
り、該キャップが該基板および該保護層と異なつた屈折
率をもつた材料を有している、光学式情報記憶カード。 - （６）少なくとも一方の表面に機械読取可能な情報表面
をなす表面リリーフ構造を有する基板と、該情報表面が
反射モードで光学式に読取られうるように、少なくとも
ある選択された範囲の電磁放射を反射する材料で作られ
、該情報表面に接して配置された反射層と、該情報表面
および該反射層に重ねられた保護層と、を有し、 前記基板および該保護層の少なくとも一方が前記情報表
面の光学式読取りに使用される前記選択された範囲の放
射に対して透過性を有し、該情報表面がほぼ螺線状およ
び／または同心状フォーマットを有することによつて前
記カードが少なくとも１つの軸の回りに回転せしめられ
る時該情報表面が光学式に読取られうるようになつてい
る、光学式情報記憶カード。 - （７）請求項６において、前記基板の前記情報表面が、
該情報表面をなすようにエンボシングされたなんらかの
シート材を含む、 光学式情報記憶カード。 - （８）請求項７において、前記エンボシングされる材料
が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース、ポ
リエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル、ア
クリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から選択
される、光学式情報記憶カード。 - （９）請求項６において、前記反射層が少なくとも金属
性材料から作られている、光学式情報記憶カード。 - （１０）請求項９において、前記基板および前記諸層が
柔軟で耐久性をもつ材料から形成されている、光学式情
報記憶カード。 - （１１）少なくとも一方の表面に、少なくとも所定波長
帯域の入射書込電磁放射を強く吸収する所定パターンを
有する光学式に書込可能な組織表面であつて、該放射に
よる該所定パターンの物理的ひずみにより書込みが行な
われうるようになつている該組織表面と、少なくとも光
学式に読取可能な表面リリーフ構造の組であつて、その
光学的機械読取りを容易ならしめている該表面リリーフ
構造の組と、を有する基板と、 前記光学式に読取可能な表面リリーフ構造上に重ねられ
た保護層であつて、前記組織表面上のギャップを被覆し
ている該保護層と、を有し、前記基板および該保護層の
双方が前記リリーフ構造および前記書込可能表面を光学
式に読取るために使用される電磁放射に対して透過性を
有する、長方形状の光学式情報記憶カード。 - （１２）請求項１１において、前記組織表面および前記
リリーフ構造を有する前記基板が、前記書込可能および
読取可能表面をエンボシングによつて形成されたシート
材により画定されている、光学式情報記憶カード。 - （１３）請求項１１において、前記基板および前記層が
柔軟で耐久性をもつ材料から形成されている、光学式情
報記憶カード。 - （１４）請求項１２において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （１５）請求項１１において、前記エンボシングされた
書込可能および／または読取可能表面が、ほぼ同心状お
よび／または螺線状フォーマットをなして配置されてい
る、光学式情報記憶カード。 - （１６）請求項１５において、前記書込可能表面が、前
記表面リリーフ構造によつて形成された凹部内に形成さ
れている、光学式情報記憶カード。 - （１７）札入れに入れて携帯しうる長方形状の光学式情
報記憶カードであつて、 少なくとも一方の表面に、少なくとも所定スペクトル波
長帯域の入射書込電磁放射を強く吸収する所定パターン
を有する光学式に書込可能な組織表面であつて、該放射
による該所定パターンの物理的ひずみにより書込みが行
なわれうるようになつている該組織表面と、少なくとも
光学式に読取可能な表面リリーフ構造の組であつて、そ
の光学的機械読取りを容易ならしめている該表面リリー
フ構造の組と、を有する基板と、 該リリーフ構造上に重ねられた第１層であつて、前記所
定波長帯域の読取放射を反射する材料から作られている
該第１層と、 該第１層の上に重ねられた保護層であつて、前記組織表
面上のギャップを被覆している該保護層と、を有し、 前記基板および該保護層の少なくとも一方が、前記書込
可能および読取可能表面を光学式に読取るために用いら
れる電磁エネルギに対し透過性を有する、 光学式情報記憶カード。 - （１８）請求項１７において、前記組織表面および前記
リリーフ構造を有する前記基板が、前記書込可能および
読取可能表面をエンボシングによつて形成されうるシー
ト材により画定されている、光学式情報記憶カード。 - （１９）請求項１８において、前記基板および前記諸層
が柔軟で耐久性をもつ材料から形成されている、光学式
情報記憶カード。 - （２０）請求項１８において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （２１）請求項１７において、前記エンボシングされた
書込可能表面および／または前記リリーフ構造が、ほぼ
同心状および／または螺線状フォーマットをなして配置
されている、光学式情報記憶カード。 - （２２）請求項１７において、前記書込可能表面が、前
記表面リリーフ構造によつて形成された凹部内に形成さ
れている、光学式情報記憶カード。 - （２３）少なくとも一方の表面に、表面リリーフ構造で
あつてそのあるものが機械読取可能情報表面をなしてい
る該表面リリーフ構造を有する第１基板と、 該情報表面が選択された範囲の電磁スペクトル波長によ
り反射モードで光学式に読取られうるように該情報表面
を被覆する反射層と、 該反射層上に重ねて配置された光学式に書込可能な第２
基板であつて、該反射層上に重ねて配置され選択された
スペクトル波長範囲内にある入射放射エネルギに応答し
てスペクトル吸収特性に視覚的に識別しうる変化を生じ
る少なくとも第１放射感応染料を含むカラー像形成化合
物を含有しており、該像形成化合物が前記選択された範
囲内の放射エネルギを選択的に当てられることによつて
視覚的に識別しうるカラー像を生じ、かつ／または、非
視覚的に理解可能な機械読取可能コードを生じるように
なつている、前記第２基板と、該第２基板上に重ねて配
置された保護層と、を有し、 少なくとも前記第２基板が、少なくとも前記選択された
範囲のスペクトル波長に対して透過性を有することによ
つて、前記情報表面上に重ねられた前記反射層が反射モ
ードで読取られうるようになつている、 長方形状の光学式情報記憶カード。 - （２４）請求項２３において、前記化合物が、前記情報
表面に対し実質的に同じ広がりを有して重ねられた層内
に配置されており、該情報表面および該化合物がほぼ同
心状および／または螺線状フォーマットをなして配置さ
れている、光学式情報記憶カード。 - （２５）請求項２４において、前記化合物が、前記リリ
ーフ構造によつて形成された凹部内に配置されている、
光学式情報記憶カード。 - （２６）請求項２４において、前記第１基板が、エンボ
シング可能なシート材をエンボシングすることによつて
形成された前記情報表面を有する、光学式情報記憶カー
ド。 - （２７）請求項２６において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （２８）請求項２７において、前記諸基板および前記諸
層が柔軟で耐久性を有する材料から作られている、光学
式情報記憶カード。 - （２９）札入れに入れて携帯しうる長方形状の光学式情
報記憶カードであつて、 少なくとも一方の表面に、表面リリーフ構造であつてそ
のあるものが機械読取可能情報表面をなしている該表面
リリーフ構造を有する第１基板と、該第１基板上に重ね
て配置された光学式に書込可能な第２基板であつて、該
第１基板上に重ねて配置され選択されたスペクトル波長
範囲内にある入射放射エネルギに応答してスペクトル吸
収特性に視覚的に識別しうる変化を生じる放射感応染料
を含むカラー像形成化合物を含有しており、該像形成化
合物が前記選択された範囲内の放射エネルギを選択的に
当てられることによつて視覚的に識別しうるカラー像を
生じ、かつ／または、非視覚的に理解可能な機械読取可
能コードを生じるようになつている、前記第２基板と、 該第２基板上に重ねて配置された保護層と、を有し、 該保護層および前記第１基板が少なくとも前記選択され
たスペクトル波長範囲に対して透過性を有することによ
り前記情報表面が該選択された波長範囲内の波長によつ
て透過モードで読取られうるようになつている、 光学式情報記憶カード。 - （３０）請求項２９において、前記化合物が、前記情報
表面に対して実質的に同じ広がりをもつて重ねられ、か
つほぼ同心状および／または螺線状フォーマットをなし
て配置されている、光学式情報記憶カード。 - （３１）請求項３０において、前記化合物が、前記表面
リリーフ構造によつて形成された凹部内に配置されてい
る、光学式情報記憶カード。 - （３２）請求項３０において、前記第１基板が、エンボ
シング可能なシート材をエンボシングすることによつて
形成された前記情報表面を有する、光学式情報記憶カー
ド。 - （３３）請求項３２において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （３４）請求項３３において、前記諸基板および前記層
が柔軟で耐久性を有する材料から作られている、光学式
情報記憶カード。 - （３５）札入れに入れて携帯しうる光学式情報記憶カー
ドであつて、 少なくとも一方の表面に、表面リリーフ構造であつてそ
のあるものが光学式機械読取可能情報表面をなしている
該表面リリーフ構造を有する第１基板と、 該情報表面の読取りに使用される少なくともある選択さ
れた範囲の読取電磁スペクトル波長を反射するように該
情報表面に重ねて配置された反射層と、 該反射層に少なくとも隣接して配置された第２基板であ
つて、機械読取可能情報を光学式に書込まれうると共に
光学式に消去されうるような材料から作られ、かつ前記
選択された範囲の読取波長に対し透過性を有する、前記
第２基板と、 該第２基板上に重ねて配置された保護層と、を有する光
学式情報記憶カード。 - （３６）請求項３５において、前記情報表面および前記
第２基板が、ほぼ同心状および／または螺線状フォーマ
ットをなして配置されていることにより、前記カードが
回転せしめられる時それらが光学式に読取られうるよう
になつている、光学式情報記憶カード。 - （３７）請求項３６において、前記第２基板が、前記表
面リリーフ構造によつて形成された凹部内に配置されて
いる、光学式情報記憶カード。 - （３８）請求項３７において、前記表面リリーフ構造が
エンボシング可能シート材にエンボシングされている、
光学式情報記憶カード。 - （３９）請求項３８において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリ、エステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニ
ル、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、か
ら選択される、光学式情報記憶カード。 - （４０）請求項３９において、前記諸基板および前記層
が柔軟で耐久性を有する材料から作られている、光学式
情報記憶カード。 - （４１）札入れに入れて携帯しうる光学式情報記憶カー
ドであつて、 少なくとも一方の表面に、表面リリーフ構造であつてそ
のあるものが光学式機械読取可能情報表面をなしている
該表面リリーフ構造を有する第１基板であつて、該情報
表面を読取るために使用される選択された範囲の読取電
磁スペクトル波長に対し透過性を有する該第１基板と、 前記情報表面に少なくとも隣接して配置された第２基板
であつて、機械読取可能情報を光学式に書込まれうると
共に光学式に消去されうるような材料から作られ、かつ
前記選択された範囲の読取スペクトル波長に対し透過性
を有する、前記第２基板と、 該第２基板上に重ねて配置され、前記選択された範囲の
スペクトル波長に対して透過性を有する、保護層と、を
有する、光学式情報記憶カード。 - （４２）請求項４１において、前記情報表面および前記
第２基板が、ほぼ同心状および／または螺線状フォーマ
ットをなして配置されていることにより、前記カードが
回転せしめられる時それらが光学式に読取られうるよう
になつている、光学式情報記憶カード。 - （４３）請求項４２において、前記第２基板が、前記表
面リリーフ構造によつて形成された凹部内に配置されて
いる、光学式情報記憶カード。 - （４４）請求項４１において、前記第１基板が前記表面
構造をエンボシングされたエンボシング可能シート材を
含む、光学式情報記憶カード。 - （４５）請求項４４において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、ポリエステル、アセチルブ
チルセルロース、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （４６）請求項４５において、前記諸基板および前記層
が柔軟で耐久性を有する、光学式情報記憶カード。 - （４７）長方形状の光学式情報記憶カードであつて、少
なくとも一方の表面に、表面リリーフ構造であつてその
あるものが光学式機械読取可能情報表面をなしている該
表面リリーフ構造を有する第１基板と、 該情報表面が選択された範囲の電磁スペクトル波長によ
り反射モードで光学式に読取られうるように該情報表面
を被覆する反射層と、 該反射層に接して配置された光学式に書込可能な第２基
板であつて、選択されたスペクトル波長範囲内にある入
射放射エネルギに応答してスペクトル吸収特性に視覚的
に識別しうる変化を生じる該第２基板と、 少なくとも該第２基板上に重ねて配置された保護層と、
を有し、 少なくとも該第２基板が、少なくとも前記選択された範
囲のスペクトル波長に対して透過性を有することによつ
て、前記情報表面上に重ねられた前記反射層が反射モー
ドで読取られうるようになつている、 光学式情報記憶カード。 - （４８）請求項４７において、前記第２基板が、前記情
報表面に対して実質的に同じ広がりをもつて重ねられ、
かつほぼ同心状および／または螺線状フォーマットをな
して配置された相変化材料である、光学式情報記憶カー
ド。 - （４９）請求項４８において、前記相変化材料が、前記
表面リリーフ構造によつて形成された凹部内に配置され
ている、光学式情報記憶カード。 - （５０）請求項４８において、前記相変化材料がテルル
を基材とする１回書込形媒体である、光学式情報記憶カ
ード。 - （５１）請求項４７において、前記第１基板がエンボシ
ング可能なシート材であり、前記情報表面がエンボシン
グによつて形成されている、光学式情報記憶カード。 - （５２）請求項５１において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （５３）請求項５２において、前記諸基板および前記諸
層が柔軟で耐久性を有する材料から作られている、光学
式情報記憶カード。 - （５４）長方形状の光学式情報記憶カードであつて、少
なくとも一方の表面に、表面リリーフ構造であつてその
あるものが機械読取可能情報表面をなしている該表面リ
リーフ構造を有する第１基板と、該第１基板層に接して
配置された光学式に書込み可能な第２基板であつて、選
択されたスペクトル波長範囲内にある入射放射エネルギ
に応答してスペクトル吸収特性に視覚的に識別しうる変
化を生じる該第２基板と、 該第２基板上に重ねて配置された保護層と、を有し、 前記第１および第２基板が少なくとも前記選択されたス
ペクトル波長範囲に対して透過性を有することによつて
、前記情報表面が透過モードで読取られうるようになつ
ている、 光学式情報記憶カード。 - （５５）請求項５４において、前記第２基板が、前記情
報表面に対して実質的に同じ広がりをもつて重ねられ、
かつほぼ同心状および／または螺線状フォーマットをな
して配置された相変化材料である、光学式情報記憶カー
ド。 - （５６）請求項５５において、前記相変化材料が、前記
表面リリーフ構造によつて形成された凹部内に配置され
ている、光学式情報記憶カード。 - （５７）請求項５５において、前記相変化材料がテルル
を基材とする１回書込形媒体である、光学式情報記憶カ
ード。 - （５８）請求項５４において、前記第１基板がエンボシ
ング可能なシート材であり、前記情報表面がエンボシン
グによつて形成されている、光学式情報記憶カード。 - （５９）請求項５８において、前記エンボシングされる
材料が、ポリ炭酸エステル、アセチルブチルセルロース
、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート、ビニル
、アクリリック、ポリスチレン、または薄い金属、から
選択される、光学式情報記憶カード。 - （６０）請求項５９において、前記諸基板および前記層
が柔軟で耐久性を有する材料からつくられている、光学
式情報記憶カード。 - （６１）両表面に表面リリーフ構造であつてそのあるも
のが機械読取可能情報表面をなしている該表面リリーフ
構造を有する心基板と、 該表面リリーフ構造上に重ねて配置された反射層と、 １対の第２基板であつてそれぞれが光学式に書込可能で
あり且つそれぞれの該反射層上に重ねて配置されていて
、選択されたスペクトル波長範囲内にある入射放射エネ
ルギに応答してスペクトル吸収特性に視覚的に識別しう
る変化を生じるようになつている前記第２基板と、 それぞれの該第２基板に重ねて配置された保護層と、を
有し、 該第２基板が少なくとも前記選択されたスペクトル波長
範囲に対して透過性を有することにより前記情報表面が
反射モードで読取られうるようになつている、 長方形状の光学式情報記憶カード。
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