JPH0196398A - ステンレス冷延鋼帯の中性塩電解脱スケール方法 - Google Patents
ステンレス冷延鋼帯の中性塩電解脱スケール方法Info
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- JPH0196398A JPH0196398A JP25233587A JP25233587A JPH0196398A JP H0196398 A JPH0196398 A JP H0196398A JP 25233587 A JP25233587 A JP 25233587A JP 25233587 A JP25233587 A JP 25233587A JP H0196398 A JPH0196398 A JP H0196398A
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はステンレス冷延鋼帯表面の酸化スケールを連続
的に除去するための効率のよい脱スケール方法に関する
ものである。
的に除去するための効率のよい脱スケール方法に関する
ものである。
一般にステンレス冷延鋼帯は酸化性雰囲気で焼鈍や焼入
れなどの熱処理を行うと銅帯表面に酸化スケールが形成
されるため酸化スケールを除去するための脱スケール処
理が行われる。
れなどの熱処理を行うと銅帯表面に酸化スケールが形成
されるため酸化スケールを除去するための脱スケール処
理が行われる。
脱スケール処理にはl&酸、塩酸、硝弗酸(硝酸と弗酸
の混合酸)などを用いた酸洗が一般に用いられているが
、ステンレス冷延鋼帯に形成される酸化スケールは緻密
で強固であるので完全に脱スケールするのは仲々困難で
ある。これに対し、酸洗を容易にするための前処理法と
して、溶融アルカリ1′!1への浸漬処理(ソルト処理
)あるいは特公昭38−12162に示される中性塩水
溶液中での電解処理などが開発され実用化されている。
の混合酸)などを用いた酸洗が一般に用いられているが
、ステンレス冷延鋼帯に形成される酸化スケールは緻密
で強固であるので完全に脱スケールするのは仲々困難で
ある。これに対し、酸洗を容易にするための前処理法と
して、溶融アルカリ1′!1への浸漬処理(ソルト処理
)あるいは特公昭38−12162に示される中性塩水
溶液中での電解処理などが開発され実用化されている。
中性塩水溶液中での電解処理はンルト処理に比べ美麗な
表面性状を得やすいこと、溶液が中性のため作業環境が
優れていることなどの長所がある。しかしながら、脱ス
ケール使方が優れているソルト処理と同等の効果を得る
ためには、゛電解に多ム;sの電気エネルギーを必要と
すること、また長時間の電解を要することから長大な電
解槽を必要とすることなどの欠点がある。
表面性状を得やすいこと、溶液が中性のため作業環境が
優れていることなどの長所がある。しかしながら、脱ス
ケール使方が優れているソルト処理と同等の効果を得る
ためには、゛電解に多ム;sの電気エネルギーを必要と
すること、また長時間の電解を要することから長大な電
解槽を必要とすることなどの欠点がある。
本発明は中性塩水溶液中での電解処理について、その長
所を損なうことなく、脱スケール効率を一部げて所要電
気エネルギーを減少させ、かつ電解時間を短縮させるこ
とを目的になされたものである。
所を損なうことなく、脱スケール効率を一部げて所要電
気エネルギーを減少させ、かつ電解時間を短縮させるこ
とを目的になされたものである。
一般に第2図の模式図に示すように、ステンレス冷延鋼
帯の中性塩水溶液4中における電解は、ステンレス鋼帯
3を上下から挟む形で陽電極1と陰電極2とを電解槽5
内に鋼イ1F進行方向に配列し1両極間に直流電圧を付
加する間接電解方式が採用されている。ステンレス鋼帯
は陰電極間を通過する際、銅帯表面ではアノード反応が
生じ、陽電極間を通過する際、銅帯表面ではカソード反
応が生じ、この両者の反応を交互に受けながら、脱スケ
ール処理がなされている。
帯の中性塩水溶液4中における電解は、ステンレス鋼帯
3を上下から挟む形で陽電極1と陰電極2とを電解槽5
内に鋼イ1F進行方向に配列し1両極間に直流電圧を付
加する間接電解方式が採用されている。ステンレス鋼帯
は陰電極間を通過する際、銅帯表面ではアノード反応が
生じ、陽電極間を通過する際、銅帯表面ではカソード反
応が生じ、この両者の反応を交互に受けながら、脱スケ
ール処理がなされている。
7ノ一ド反応では酸化スケールを構成している主な金属
元素であるCrおよびFeがそれぞれ6価のCrイオン
と3価のFeイオンに酸化され溶液中に溶出することに
より脱スケールが進行する。
元素であるCrおよびFeがそれぞれ6価のCrイオン
と3価のFeイオンに酸化され溶液中に溶出することに
より脱スケールが進行する。
一方、カソード反応は間接電解方式のために必然的に生
じるものであるが、従来は水素ガスの発生反応のみが生
じ、水素ガス気泡による酸化スケール除去作用が僅かな
がら期待できるものの。
じるものであるが、従来は水素ガスの発生反応のみが生
じ、水素ガス気泡による酸化スケール除去作用が僅かな
がら期待できるものの。
脱スケールには殆ど寄与しないものと考えられていた。
本発明者らは工業的に中性塩水溶液中での電解を行った
場合のカソード反応に着目し、その反応挙動を詳細に調
査研究した結果、従来実施している電解処理条件のもと
ではカソード反応が脱スケールを大きく阻害していると
いう重大な発見をなすに至った。
場合のカソード反応に着目し、その反応挙動を詳細に調
査研究した結果、従来実施している電解処理条件のもと
ではカソード反応が脱スケールを大きく阻害していると
いう重大な発見をなすに至った。
すなわち工業的に脱スケール処理を行っている中性塩水
溶液中にはアノード反応で溶出したCr、Feなとの金
属イオンが含まれており、このような溶液中におけるカ
ソード反応では水素ガス発生反応以外にCr、Feなと
の金属イオンが還元され、銅帯表面に析出し、スケール
状の物質(Cr、Feなどの酸化物あるいは水利酸化物
と思われる)が付着する反応が生じていることを見い出
した。
溶液中にはアノード反応で溶出したCr、Feなとの金
属イオンが含まれており、このような溶液中におけるカ
ソード反応では水素ガス発生反応以外にCr、Feなと
の金属イオンが還元され、銅帯表面に析出し、スケール
状の物質(Cr、Feなどの酸化物あるいは水利酸化物
と思われる)が付着する反応が生じていることを見い出
した。
従って、従来の方法ではアノード反応における脱スケー
ル反応と、カソード反応におけるスケール状の物質の析
出付着反応が交互に生じているため、脱スケールに要す
る電気エネルギーが多大となり、かつ電解時間も長時間
を要していたと言える。
ル反応と、カソード反応におけるスケール状の物質の析
出付着反応が交互に生じているため、脱スケールに要す
る電気エネルギーが多大となり、かつ電解時間も長時間
を要していたと言える。
また、カソード反応におけるCr、Feなとの金属イオ
ンの還元析出はそのほどんどがCrイオンによって生じ
ていることも明らかとなった。
ンの還元析出はそのほどんどがCrイオンによって生じ
ていることも明らかとなった。
そこで本発明者らはカソード反応における脱スケール阻
害反応を軽減させる方法について研究した結果、特定の
電解順序と中性塩水溶液中の6価のCrイオン量の限定
および中性塩水溶液のpH値の限定とを組合わせること
により、カソード反応における脱スケール阻害反応を大
幅に軽減させ得ることを見い出した。
害反応を軽減させる方法について研究した結果、特定の
電解順序と中性塩水溶液中の6価のCrイオン量の限定
および中性塩水溶液のpH値の限定とを組合わせること
により、カソード反応における脱スケール阻害反応を大
幅に軽減させ得ることを見い出した。
本発明は前述の新たに得られた知見に基づいて構成され
たものである。
たものである。
即ち、中性塩水溶液中での間接電解によりステンレス冷
延鋼帯の脱スケール処理を行うに当り、最初に銅帯表面
にカソード反応のみを1回または複数回生じさせ1次い
で銅帯表面に7ノ一ド反応のみを1回または複数回生じ
させる電解順序をとり、かつ中性塩水溶液中の6価Cr
イオン濃度を8g/文以下とし、中性塩水溶液のpH&
jを2以七6以下とすることを特徴とするステンレス冷
延鋼帯の脱スケール方法である。
延鋼帯の脱スケール処理を行うに当り、最初に銅帯表面
にカソード反応のみを1回または複数回生じさせ1次い
で銅帯表面に7ノ一ド反応のみを1回または複数回生じ
させる電解順序をとり、かつ中性塩水溶液中の6価Cr
イオン濃度を8g/文以下とし、中性塩水溶液のpH&
jを2以七6以下とすることを特徴とするステンレス冷
延鋼帯の脱スケール方法である。
電解順序を本発明のようにした理由は。
■ 表面が緻密な酸化スケールで覆われた状ff、でカ
ソード反応を受け、Crを主体とした金属イオンが還元
され、酸化スケールの上にスケール状の物質が析出付着
した場合は1次のアノード反応で比較的容易に酸化スケ
ールと共に除去される。
ソード反応を受け、Crを主体とした金属イオンが還元
され、酸化スケールの上にスケール状の物質が析出付着
した場合は1次のアノード反応で比較的容易に酸化スケ
ールと共に除去される。
■ アノード反応を受けて酸化スケールがかなり除去さ
れ、酸化スケール下の地鉄の一部が露出した状態でカソ
ード反応を受は地鉄表面にスケール状の物質が析出付若
した場合は次のアノード反応で除去が非常に困難になる
。
れ、酸化スケール下の地鉄の一部が露出した状態でカソ
ード反応を受は地鉄表面にスケール状の物質が析出付若
した場合は次のアノード反応で除去が非常に困難になる
。
という新しい知見によるものである。
すなわち−旦アノード反応を受けた後にはカソード反応
を受けさせないことが本発明の重要なポイントである0
本発明の電解順序を実現する電極配列の一例を模式的に
第1図に示す。
を受けさせないことが本発明の重要なポイントである0
本発明の電解順序を実現する電極配列の一例を模式的に
第1図に示す。
陰電極2および陽電極1の寸法、本数は本発明では特に
限定しない。それらは脱スケール設備の生産規模、対象
鋼種、通板速度、電解回路抵抗などを考慮して適切に設
定すれば良い、要は酸化スケールの付いたステンレス鋼
帯3に対し、電解槽5内でまずカソード反応を生じさせ
1次いでアノード反応を生じさせ、アノード反応の後に
はカソード反応を生じさせないことが重要である。
限定しない。それらは脱スケール設備の生産規模、対象
鋼種、通板速度、電解回路抵抗などを考慮して適切に設
定すれば良い、要は酸化スケールの付いたステンレス鋼
帯3に対し、電解槽5内でまずカソード反応を生じさせ
1次いでアノード反応を生じさせ、アノード反応の後に
はカソード反応を生じさせないことが重要である。
中性塩水溶液4中の6価のCrイオン濃度を8g/l以
下に限定したのは8g/lを越えると本発明の電解順序
を採用してもカソード反応におけるスケール状物質の析
出が過大となること、およびアノード反応における脱ス
ケール反応が抑制されることにより、第3図に示すごと
く、脱スケール能力が大幅に低下するためである。
下に限定したのは8g/lを越えると本発明の電解順序
を採用してもカソード反応におけるスケール状物質の析
出が過大となること、およびアノード反応における脱ス
ケール反応が抑制されることにより、第3図に示すごと
く、脱スケール能力が大幅に低下するためである。
第3図は後述の実施例第2表のN’o、7の条件の内、
6価Crイオン濃度を変化させた場合の脱スケール状況
を示したものである。縦軸の脱スケール指数1.2,3
.4はそれぞれスケール残り大、スケール残り中、スケ
ール残り小、完全に脱スケールを表わす指数である。
6価Crイオン濃度を変化させた場合の脱スケール状況
を示したものである。縦軸の脱スケール指数1.2,3
.4はそれぞれスケール残り大、スケール残り中、スケ
ール残り小、完全に脱スケールを表わす指数である。
中性塩水溶液中のCr以外のFe、’Ni、Mn笠の金
属イオン濃度も低いに越したことはないが、溶解績も少
ないため、6価Crイオンに比べ影響は軽微であるので
特に限定はしない。
属イオン濃度も低いに越したことはないが、溶解績も少
ないため、6価Crイオンに比べ影響は軽微であるので
特に限定はしない。
中性塩水溶液のPH値上限を6としたのは6を越えると
6価Cr6+イオン濃度が8g/文を越えた場合と同様
な理由で第4図に示すように脱スケール能力が大幅に低
下するためである。
6価Cr6+イオン濃度が8g/文を越えた場合と同様
な理由で第4図に示すように脱スケール能力が大幅に低
下するためである。
第4図は後述の実施例第2表のN007の条件の内、溶
液のpH値を変化させた場合の脱スケール状況を示した
ものである。またPH値の下限を2としたのは2以下に
なると特にフェライト系およびマルテンサイト系のステ
ンレス表面の平滑度が悪くなり脱スケール後の表面の美
麗さが失われるためである。
液のpH値を変化させた場合の脱スケール状況を示した
ものである。またPH値の下限を2としたのは2以下に
なると特にフェライト系およびマルテンサイト系のステ
ンレス表面の平滑度が悪くなり脱スケール後の表面の美
麗さが失われるためである。
溶液中の6価Crイオン濃度を本発明の上限値以下に調
節する方法は自由であるが、例えば脱スケール処理量の
増加により6価Crイオン量の高くなった溶液の一部を
排出して新液を投入する方法や、還元剤を投入して3価
Crイオンに還元し沈殿物を除去する方法などを適用す
ることができる。なお従来の中性塩水溶液中での電解に
おいては溶液中の6価のCrイオン量の影響が知られて
いなかったため、公知の値はないが、本発明者らが測定
した所、定常状態ではほぼl Og/1以上の値を示し
ていた。
節する方法は自由であるが、例えば脱スケール処理量の
増加により6価Crイオン量の高くなった溶液の一部を
排出して新液を投入する方法や、還元剤を投入して3価
Crイオンに還元し沈殿物を除去する方法などを適用す
ることができる。なお従来の中性塩水溶液中での電解に
おいては溶液中の6価のCrイオン量の影響が知られて
いなかったため、公知の値はないが、本発明者らが測定
した所、定常状態ではほぼl Og/1以上の値を示し
ていた。
また溶液のpH値の調節は硫酸または水酸化ナトリウム
を用いて行うのが好ましい。
を用いて行うのが好ましい。
中性塩水溶液中での電解処理において、上記の電解順序
、水溶液中の6価Crイオン濃度、溶液のpH値の限定
により、カソード反応における脱スケール抑制作用を大
幅に軽減させ、アノード反応における脱スケール反応を
促進させる効果が発揮され、脱スケールス敵力が大きく
向、ヒする。
、水溶液中の6価Crイオン濃度、溶液のpH値の限定
により、カソード反応における脱スケール抑制作用を大
幅に軽減させ、アノード反応における脱スケール反応を
促進させる効果が発揮され、脱スケールス敵力が大きく
向、ヒする。
中性塩の種類、中性塩水溶液の濃度と温度、電流密度な
どの他の諸条件は従来の条件が本発明にも適用される。
どの他の諸条件は従来の条件が本発明にも適用される。
中性塩は硫酸、硝酸、塩酸などのNa塩、K塩を単独ま
たは複合して使用することができるが、経済性、表面仕
上りの点から硫酸ナトリウムの使用が適している。中性
n工水溶液の濃度と温度はそれぞれ100〜300 g
/見、70790℃が適正である。
たは複合して使用することができるが、経済性、表面仕
上りの点から硫酸ナトリウムの使用が適している。中性
n工水溶液の濃度と温度はそれぞれ100〜300 g
/見、70790℃が適正である。
電流密度はアノード反応電流密度、カソード反応電流密
度ともに2〜15A/drn’が適正である。
度ともに2〜15A/drn’が適正である。
比較的脱スケール性の良いステンレス鋼の場合は、中性
塩水溶液中での電解だけで脱スケールが町1七であるが
、不十分な場合は引続いて酸洗処理を行うことにより完
全に脱スケールすることが可能となる。
塩水溶液中での電解だけで脱スケールが町1七であるが
、不十分な場合は引続いて酸洗処理を行うことにより完
全に脱スケールすることが可能となる。
中性塩水溶液中の電解処理後の酸洗は従来と同様の処理
、すなわちフェライト系、マルテンサイト系のステンレ
スに対しては主として硝#浸漬または硝酸電解が適用さ
れ、オーステナイト系ステンレスに対しては主として硝
弗酸浸漬が適用される。
、すなわちフェライト系、マルテンサイト系のステンレ
スに対しては主として硝#浸漬または硝酸電解が適用さ
れ、オーステナイト系ステンレスに対しては主として硝
弗酸浸漬が適用される。
酸化性雰囲気で焼鈍を行った板厚0.8 m mの5U
S410,5US430およびSUS 304について
、種々の条件の中性塩水溶液中の電解とそれに引続いた
酸洗処理を脱スケール実験装置を用いて行い、脱スケー
ル状況の観察を行った。
S410,5US430およびSUS 304について
、種々の条件の中性塩水溶液中の電解とそれに引続いた
酸洗処理を脱スケール実験装置を用いて行い、脱スケー
ル状況の観察を行った。
なお、5US410については酸洗処理を省略した場合
も調査した。
も調査した。
中性塩水溶液中での電解順序は、従来例については第2
図の電極配列とし、実施例および比較例については第1
図の電極配列を想定してそれぞれ実施した。カソード反
応電流密度は全て12A/drr!′、アノード反応電
流密度は全て6A/drn’−定とした。
図の電極配列とし、実施例および比較例については第1
図の電極配列を想定してそれぞれ実施した。カソード反
応電流密度は全て12A/drr!′、アノード反応電
流密度は全て6A/drn’−定とした。
中性塩水溶液としてはNa2SO4の水溶液を使用し、
中性塩の濃度は約200 g/1.溶液温度は85°C
一定とし、pHの調整にはH2SO4およびNaOHを
使用した。
中性塩の濃度は約200 g/1.溶液温度は85°C
一定とし、pHの調整にはH2SO4およびNaOHを
使用した。
実施例−1
SUS410について得られた結果を第1表に示す。
第2図の電極配列を用いた従来のNo、1は電解時間総
合計36秒、電気量144クーロン/dゴの中性塩水溶
液電解と硝酸侵情処理で脱スケールがuf能であったΦ それに対し本発明の電解順序で6価Crイオン濃度と溶
液のpH値を本発IJ1の範囲内にある実施例のN00
3は電解時間総合計12秒、電気量48クーロン/dm
’の中性塩水溶液電解のみで酸洗を必要とすることもな
く脱スケールが可能であった。
合計36秒、電気量144クーロン/dゴの中性塩水溶
液電解と硝酸侵情処理で脱スケールがuf能であったΦ それに対し本発明の電解順序で6価Crイオン濃度と溶
液のpH値を本発IJ1の範囲内にある実施例のN00
3は電解時間総合計12秒、電気量48クーロン/dm
’の中性塩水溶液電解のみで酸洗を必要とすることもな
く脱スケールが可能であった。
また本発明法と同一の電解時間総合計と電気量の条件で
上記従来法で処理したNo、2 (比較例)はかなりの
スケール残りが発生した。
上記従来法で処理したNo、2 (比較例)はかなりの
スケール残りが発生した。
実施例−2
SUS430について得られた結果を第2表に示す。
従来例のNo、4は電解時間総合計43.2秒、電気量
172.8クーロン、/ d rrr’の中性塩水溶液
電解と硝酸浸漬処理で脱スケールが可能であった。
172.8クーロン、/ d rrr’の中性塩水溶液
電解と硝酸浸漬処理で脱スケールが可能であった。
それに対し実施例の電解順序で6価のCrイオン濃度と
溶液のpH値を本発明の範囲内で種々変化させた実施例
No、6、No、7、N008は電解時間総合計16.
8秒以内、電気量67.2ク一ロン/dm’以内の中性
塩水溶液電解と硝酸浸漬処理で脱スケールが可能であっ
た。
溶液のpH値を本発明の範囲内で種々変化させた実施例
No、6、No、7、N008は電解時間総合計16.
8秒以内、電気量67.2ク一ロン/dm’以内の中性
塩水溶液電解と硝酸浸漬処理で脱スケールが可能であっ
た。
一方、実施例N016と同一の電解時間総合計と電気量
の条件で従来法で処理した比較例N065はかなりのス
ケール残りが発生した。
の条件で従来法で処理した比較例N065はかなりのス
ケール残りが発生した。
また溶液のpH値が本発明の下限を下回った比較例N0
99はスケール残りは発生しなかったが脱スケール後の
表面光沢が本発明法、従来法に比べて劣っていた・ 実施例−3 SUS 304について得られた結果を第3表に示す。
99はスケール残りは発生しなかったが脱スケール後の
表面光沢が本発明法、従来法に比べて劣っていた・ 実施例−3 SUS 304について得られた結果を第3表に示す。
従来例のNo、10は電解時間総合計28.8秒、電気
量11.5−2クーロン/drr?の中性塩水溶液電解
と硝弗酸浸漬で脱スケールが可能であった。
量11.5−2クーロン/drr?の中性塩水溶液電解
と硝弗酸浸漬で脱スケールが可能であった。
それに対し本発明の電解順序で6価のCrイオン濃度と
溶液のpH値を本発明の範囲内とした実施例No、12
は電解時間総合計12秒、電気量48クーロン/dm′
の中性塩水溶液電解と硝弗酸浸漬で脱スケールが可能で
あった。
溶液のpH値を本発明の範囲内とした実施例No、12
は電解時間総合計12秒、電気量48クーロン/dm′
の中性塩水溶液電解と硝弗酸浸漬で脱スケールが可能で
あった。
また本発明と同一の電解総時間と電気量の条件で従来法
で処理した比較例No、11はスケール残りが発生した
。
で処理した比較例No、11はスケール残りが発生した
。
本発明のスレンレス冷延鋼帯の脱スケール方法を適用す
ることにより、従来よりも脱スケール処理(H+j間の
大幅な′J8Ci縮による生産性の大幅な陶土と使用電
気エネルギーの大幅な低減による経済効果を得ることが
可能となる。
ることにより、従来よりも脱スケール処理(H+j間の
大幅な′J8Ci縮による生産性の大幅な陶土と使用電
気エネルギーの大幅な低減による経済効果を得ることが
可能となる。
また本発明の脱スケール方法はフェライト系。
マルテンサイト系、オーステナイト系、2相系のいずれ
のステンレス鋼にも適用することができるという汎用性
も備えている。
のステンレス鋼にも適用することができるという汎用性
も備えている。
第1図は本発明の中性塩水溶液電解方法を具現する装置
の例を模式的に示した図、第2図は従来の中性塩水溶液
電解処理装置の代表的な例を模式的に示した図、第3図
は本発明の電解順序を使用して脱スケールを行った場合
の中性塩水溶液中の6価のCrイオン濃度の影響を示し
たグラフであり、第4図は中性塩水溶液のpH値の影響
を示したグラフである。 l・・・陽電極 2・・・陰電極 3・・・ステンレス冷延鋼帯 4・・・中性塩水溶液 5・・・電解槽
の例を模式的に示した図、第2図は従来の中性塩水溶液
電解処理装置の代表的な例を模式的に示した図、第3図
は本発明の電解順序を使用して脱スケールを行った場合
の中性塩水溶液中の6価のCrイオン濃度の影響を示し
たグラフであり、第4図は中性塩水溶液のpH値の影響
を示したグラフである。 l・・・陽電極 2・・・陰電極 3・・・ステンレス冷延鋼帯 4・・・中性塩水溶液 5・・・電解槽
Claims (1)
- 1 中性塩水溶液中での間接電解によりステンレス冷延
鋼帯を脱スケールするに当り、該電解における鋼帯表面
の反応を最初にカソード反応、次いでアノード反応で終
結させるとともに、該中性塩水溶液の6価Crイオン濃
度を8g/l以下、pH値を2〜6とすることを特徴と
するステンレス冷延鋼帯の脱スケール方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25233587A JPH0196398A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | ステンレス冷延鋼帯の中性塩電解脱スケール方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25233587A JPH0196398A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | ステンレス冷延鋼帯の中性塩電解脱スケール方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196398A true JPH0196398A (ja) | 1989-04-14 |
| JPH0534438B2 JPH0534438B2 (ja) | 1993-05-24 |
Family
ID=17235836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25233587A Granted JPH0196398A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | ステンレス冷延鋼帯の中性塩電解脱スケール方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0196398A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1079846C (zh) * | 1994-07-28 | 2002-02-27 | 株式会社日立制作所 | 不锈钢的中性盐电解液的处理方法 |
| KR20180070136A (ko) * | 2016-12-16 | 2018-06-26 | 주식회사 포스코 | 고망간 린 듀플렉스 강의 산세 방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5347336A (en) * | 1976-10-12 | 1978-04-27 | Kogyo Gijutsuin | Method descaling band steel by electrolysis |
| JPS5710200A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-19 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Voice synthesizer |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP25233587A patent/JPH0196398A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5347336A (en) * | 1976-10-12 | 1978-04-27 | Kogyo Gijutsuin | Method descaling band steel by electrolysis |
| JPS5710200A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-19 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Voice synthesizer |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1079846C (zh) * | 1994-07-28 | 2002-02-27 | 株式会社日立制作所 | 不锈钢的中性盐电解液的处理方法 |
| KR20180070136A (ko) * | 2016-12-16 | 2018-06-26 | 주식회사 포스코 | 고망간 린 듀플렉스 강의 산세 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0534438B2 (ja) | 1993-05-24 |
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