JPH0197459A - 人工温泉装置 - Google Patents

人工温泉装置

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JPH0197459A
JPH0197459A JP25576787A JP25576787A JPH0197459A JP H0197459 A JPH0197459 A JP H0197459A JP 25576787 A JP25576787 A JP 25576787A JP 25576787 A JP25576787 A JP 25576787A JP H0197459 A JPH0197459 A JP H0197459A
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JP
Japan
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water
bath water
far
bathtub
bath
Prior art date
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Pending
Application number
JP25576787A
Other languages
English (en)
Inventor
Mikiharu Furukawa
古川 幹春
Toshikazu Kaneko
俊和 金子
Hidenao Tsukuni
津国 秀枕
Manabu Ajiki
阿食 学
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanadevia Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp, Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP25576787A priority Critical patent/JPH0197459A/ja
Publication of JPH0197459A publication Critical patent/JPH0197459A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28DHEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
    • F28D7/00Heat-exchange apparatus having stationary tubular conduit assemblies for both heat-exchange media, the media being in contact with different sides of a conduit wall
    • F28D7/16Heat-exchange apparatus having stationary tubular conduit assemblies for both heat-exchange media, the media being in contact with different sides of a conduit wall the conduits being arranged in parallel spaced relation

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bathtub Accessories (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Devices For Medical Bathing And Washing (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は人工温泉装置に関する。
従来の技術 一般に、人々は身体の汚れを洗い、清潔さを保つために
風呂を利用しており、また温泉は古来より医療効果を目
的として湯治療法などに利用されている。そして、従来
、家庭においては浴湯の清潔さを保つために、浴水の取
替えおよび浴槽の掃除を毎日行なっている。また特に、
公衆浴場においては循環する浴湯を塩素減菌法により減
菌している。
発明が解決しようとする問題点 しかし、温泉湯は湯元のある温泉湯まで行かなければ入
浴することが出来ず、家庭風呂あるいは公衆浴場などに
おいて温泉のもつ医療効果を得ることが出来なかった。
また、塩素減菌方法などによる浴湯の減菌はトリハトロ
メタンなどの発ガン性物質の発生を伴う問題があった。
本発明は上記問題点を解決するもので、発ガン性物質の
発生を伴うことなく浴湯の減菌を行ない、このことによ
って浴水の毎日の取替えを不要となし、しかも家庭風呂
等において温泉の効用を浴することが出来る人工温泉装
置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため、本発明は、浴槽に連通して
設けられる浴湯の循環路に、内部を通過する浴湯に紫外
線を照射する紫外線減菌装置と、内部に活性石を充填さ
れた活性石充填槽と、内部を通過する浴湯に遠赤外線を
照射する遠赤外線熱交換装置とを介在させた構成とした
ものである。
作用 上記構成において、浴槽内の浴湯は循環路に流入した後
に、紫外線減菌装置、活性石充填槽、遠赤外線熱交換装
置を通り浴槽に戻る。そして、この間に紫外線減菌装置
において浴湯は、紫外線を照射されて紫外線の殺菌効果
により減菌される。
また、活性石充填槽において浴湯は、接触する活性石か
ら微量の鉱物成分を補給されるとともに汚染物質のイオ
ン吸着を受けてミネラルを含んだ温泉質となる。さらに
、遠赤外線熱交換装置において浴湯は、遠赤外線の照射
を受けて昇温されるとともに、遠赤外線電磁波により水
の分子振動を引き起こされて肌を刺激しない湯質とされ
る。
実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。第
1図において、補給水タンク1には温湯2を供給するた
めの給湯管3が開口しており、この給湯管3の基端は給
湯装置(図示せず)に連通されている。また、補給水タ
ンク1の下部に一端を連通された補給水管4は他端を複
数の分岐管5に形成されており、各分岐管5は複数の浴
槽6にそれぞれ給水可能な位置に開口している。また、
各分岐管5には第1の電磁弁7が介在されており、この
第1の電磁弁7は各浴槽6に設けた水位計8に電気的に
接続されている。そして、循環路を形成する主管9は、
一端側を複数に分岐されてそれぞれの浴槽6の底部に形
成された排水口10に連通されており、他端側を複数に
分岐されてそれぞれの浴槽6の給水口部11に連結され
ている。この給水口部11は第2の電磁弁12を介在さ
れて浴槽6の側部に開口している。また、主管9の途中
には、浴湯13中に混入された毛髪等の大きなゴミを除
去するヘヤーキャッチャ−14と、循環ポンプ15と、
浴湯13からミクロン単位(濁度1.5°以下)の不純
物を除去する濾過装置16と、内部を通過する浴湯13
に紫外線を照射する紫外線減菌装置17と、内部に活性
石(麦飯石)を充填された活性石充填槽18と、内部を
通過する浴湯13に遠赤外線を照射する遠赤外線温水熱
交換装置19とが介在されて温泉ユニットXを形成して
いる。また、紫外線減菌装置17は紫外線を照射する紫
外線ランプの回りに浴湯流路20と空気流路21とを形
成されており、空気流路21は給水口部11の浴槽6と
第2の電磁弁12との間に連通されている。そして、第
2図〜第3図に示すように遠赤外線温水熱交換装置19
は、内部に温水22を流通されるシェル23と、このシ
ェル23内に挿通されて内部に浴湯13を流通される複
数のセラミックチューブ24とを有しており、このセラ
ミックチューブ24は両端をそれぞれ固定チューブシー
ト25と移動チューブシート26に保持されて複数のセ
ラミックチューブ24が一体のものとされている。すな
わち、セラミックチューブ24は両端部のそれぞれを固
定チューブシート25と移動チューブシート26に形成
された保持穴27に挿入されており、この保持穴27の
底部には貫通孔28が形成されている。そして、固定チ
ューブシート25と移動チューブシート26は、たがい
の対応する貫通孔28に挿通されるステイボルト29と
、とのステイボルト29に螺合するナツト30によって
固定されている。
このセラミックチューブ24は加熱によって遠赤外線を
輻射するセラミック材で形成されており、セラミック材
としては黒色系ジルコニア系セラミックスが用いられて
いる。また、保持穴27の内周面にはセラミックチュー
ブ24とあ間隙を止水するOリング31が配置されてお
り、移動チューブシート26の外周にはシェル23の内
周面との間隙を止水するリングパツキン32が配置され
ている。そして、シェル23の両端はそれぞれキャップ
部33a、 33bで覆おれており、浴湯13の流入側
となるキャップ部33aには多数の穴34を有するバッ
フルプレート35が設けられている。また、浴湯13の
流出側となるキャップ部33bのキャップフランジ部3
6とシェル23のジェルフランジ部37とで固定チュー
ブシート25の周縁部を挟持している。また、シェル2
3には温水22の流入部38i流出部39が形成されて
おり、第1図に示すようにこの流入部38と流出部39
は温水ボイラ(図示せず)の循環木管40に連通されて
いる。そして、流入部38と循環水管40との間に介装
された三方弁41は、ヘヤーキャッチャ−14の下流側
に設けた温度サーモ42と電気的に接続されている。そ
して、循環ポンプ15の起動および停止を制御するポン
プスターターの配置されるコントロールパネル43には
、温度サーモ42の温度コントローラーと水位計8のレ
ベルコントローラーとが配置されている。
以下、上記構成における作用について説明する。
まず、浴槽6内には補給水タンク1より補給水管4およ
び分岐管5を通って温湯2が供給され、水位計8が所定
水位を検知した時点で第1の電磁弁7が閉じられる。そ
して、この後は、浴槽6の水位の変動に応じて第1の電
磁弁7が開閉され、浴槽6の浴湯13は常に所定水位に
保たれる。次に、循環ポンプ15によって循環される浴
湯13は、浴槽6の排水口10から主管9内に流入し、
温泉ユニットXを通って給水口部11から浴槽6に戻さ
れる。
そして、この温泉ユニットX内を通過する浴湯13は、
ヘヤーキャッチャ−14において毛髪等の大きなゴミを
除却され、循環ポンプI5の揚力を受けながら濾過装置
16に流入してミクロン単位の不純物を除却される。そ
して、濾過装置16を通った浴湯13は紫外線減菌装置
17に流入し、紫外線を照射されて紫外線により減菌と
脱臭と有機質の分解とを行なわれる。また、紫外線減菌
装置17の空気流路21を通過する空気中の酸素は紫外
線を受けてオゾンに変わり、このオゾンが給水口部11
で浴湯13に混合されることにより、オゾンと紫外線と
の相乗効果により減菌作用が増大される。一方、紫外線
減菌装置17を通過した浴湯13は、活性石充填槽I8
において活性石(麦飯石)に接触し、微量の鉱物成分を
補給されるとともに汚染物質のイオン吸着を受けてミネ
ラルを含んだ温泉質となる。そして、温泉質となった浴
湯13は遠赤外線温水熱交換装置19にキャップ部33
aから流し、セラミックチューブ24を通ってキャップ
部33bから遠赤外線温水熱交換装置19の外に流れ出
る。この間、シェル23内に供給される温水22によっ
て加熱されるセラミックチューブ24から遠赤外線が生
じ、この遠赤外線がセラミックチューブ24内を流通す
る浴湯13に照射される。そして、遠赤外線を照射され
た浴湯13は、昇温されるとともに遠赤外線電磁波によ
る水の分子振動を引き起こされて肌を刺激しない湯質と
される。また、セラミックチューブ24が温水22の加
熱により膨張しても移動チューブシート26が出退する
ことにより破損が防止される。そして、シェル23に供
給される温水22は三方弁41の開閉により供給を制御
され、三方弁41は温度サーモ42で検出する温度に基
づいて開閉される。そして、遠赤外線温水熱交換装置1
9を通った浴湯13は給水口部11から浴槽6に流入す
る。この時、紫外線減菌装置17より供給されるオゾン
と適量の空気も同時に吐出することによりジェット水流
と泡によるアワマツサージが行なわれる。したがって、
湯温調整、浴槽内の水位調整、温度調整等をコントロー
ルパネル43にて行ないながら強制的にサイクル運転を
することにより、24時間、365日いつでもさら湯、
しかもまろやかな肌ざわりをもった湯質の浴湯13が供
給されることとなる。
発明の効果 以上述べたごとく本発明によれば、紫外線により浴湯の
減菌を行ない、活性石により浴湯に鉱物成分を補給する
とともに汚染物質のイオン吸着を行ない、遠赤外線によ
り浴湯を昇温させるとともに遠赤外線電磁波により水の
分子振動を引き起こして浴湯をまろやかな肌ざわりの湯
質とすることにより、快適な温泉気分を家庭においても
味わうことが出来る。
【図面の簡単な説明】
ある。 6・・・浴槽、9・・・主管、13・・・浴湯、14・
・・ヘヤーキャッチャ−115・・・循環ポンプ、16
・・・濾過装置、17・・・紫外線減菌装置、18・・
・活性石充填槽、19・・・遠赤外線温水熱交換装置、
22・・・温水、23・・・シェル、24・・・セラミ
ックチューブ、25・・・固定チューブシート、26・
・・移動チューブシート。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、浴槽に連通して設けられる浴湯の循環路の途中に、
    内部を通過する浴湯に紫外線を照射する紫外線減菌装置
    と、内部に活性石を充填された活性石充填槽と、内部を
    通過する浴湯に遠赤外線を照射する遠赤外線熱交換装置
    とを介在させて構成したことを特徴とする人工温泉装置
JP25576787A 1987-10-09 1987-10-09 人工温泉装置 Pending JPH0197459A (ja)

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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03184547A (ja) * 1989-12-13 1991-08-12 Koji Suzuki 温泉場から直接運ばれた純粋な源泉をスパハウスのお風呂に汲み入れ、前記源泉の純度と新鮮さを保つ方法と装置
US5545335A (en) * 1994-09-26 1996-08-13 Adrian P. Sween Water purifier
WO2009027779A3 (en) * 2007-08-03 2009-04-23 Soler Ind Sanitary apparatus
US7708941B2 (en) * 2004-12-23 2010-05-04 Millisecond Technologies Corp. Liquid product pressure treatment method and device
US7838281B2 (en) 2007-01-12 2010-11-23 Soothing Sulfur Spas, Llc Sulfide bath
CN102583858A (zh) * 2012-01-19 2012-07-18 滕书东 即热式电磁净水温泉机
JP2013508138A (ja) * 2009-10-22 2013-03-07 ソプ シム,ジョン 紫外線照射死角領域を除去した紫外線を利用した殺菌浄化装置
JP2016080347A (ja) * 2014-10-14 2016-05-16 ネプチューン−ベンソン,エルエルシー マルチセグメント型管板
US10194680B2 (en) 2013-03-13 2019-02-05 Millisecond Technologies Corp. Sterilization reactor and method patent application
CN111825257A (zh) * 2020-08-21 2020-10-27 喜德县特色产业保护协会 一种人工温泉系统
CN112050667A (zh) * 2020-09-16 2020-12-08 肖美占 一种自适应高效换热器换热方法
CN112050668A (zh) * 2020-09-16 2020-12-08 肖美占 一种自适应高效换热器
US11096406B2 (en) 2015-04-24 2021-08-24 Millisecond Technologies Corp. Killing microbes with pressure drop and heat
US12514940B2 (en) 2018-07-27 2026-01-06 Millisecond Technologies Corp. Device and method for deactivating pathogens in blood plasma, blood product and biological product

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03184547A (ja) * 1989-12-13 1991-08-12 Koji Suzuki 温泉場から直接運ばれた純粋な源泉をスパハウスのお風呂に汲み入れ、前記源泉の純度と新鮮さを保つ方法と装置
US5545335A (en) * 1994-09-26 1996-08-13 Adrian P. Sween Water purifier
US8449820B2 (en) * 2004-12-23 2013-05-28 Millisecond Technologies Corp. Liquid product pressure treatment method and device
US7708941B2 (en) * 2004-12-23 2010-05-04 Millisecond Technologies Corp. Liquid product pressure treatment method and device
US7838281B2 (en) 2007-01-12 2010-11-23 Soothing Sulfur Spas, Llc Sulfide bath
WO2009027779A3 (en) * 2007-08-03 2009-04-23 Soler Ind Sanitary apparatus
US9006682B2 (en) 2009-10-22 2015-04-14 Jong Seop Shim Microbicidal purification device employing ultraviolet light from which ultraviolet-light-irradiation dead areas have been eliminated
JP2013508138A (ja) * 2009-10-22 2013-03-07 ソプ シム,ジョン 紫外線照射死角領域を除去した紫外線を利用した殺菌浄化装置
CN102583858A (zh) * 2012-01-19 2012-07-18 滕书东 即热式电磁净水温泉机
US10194680B2 (en) 2013-03-13 2019-02-05 Millisecond Technologies Corp. Sterilization reactor and method patent application
US11064718B2 (en) 2013-03-13 2021-07-20 Millisecond Technologies Corp. Sterilization reactor
JP2016080347A (ja) * 2014-10-14 2016-05-16 ネプチューン−ベンソン,エルエルシー マルチセグメント型管板
US11096406B2 (en) 2015-04-24 2021-08-24 Millisecond Technologies Corp. Killing microbes with pressure drop and heat
US12514940B2 (en) 2018-07-27 2026-01-06 Millisecond Technologies Corp. Device and method for deactivating pathogens in blood plasma, blood product and biological product
CN111825257A (zh) * 2020-08-21 2020-10-27 喜德县特色产业保护协会 一种人工温泉系统
CN112050667A (zh) * 2020-09-16 2020-12-08 肖美占 一种自适应高效换热器换热方法
CN112050668A (zh) * 2020-09-16 2020-12-08 肖美占 一种自适应高效换热器

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