JPH0198076A - Pattern detecting device - Google Patents
Pattern detecting deviceInfo
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- JPH0198076A JPH0198076A JP62156349A JP15634987A JPH0198076A JP H0198076 A JPH0198076 A JP H0198076A JP 62156349 A JP62156349 A JP 62156349A JP 15634987 A JP15634987 A JP 15634987A JP H0198076 A JPH0198076 A JP H0198076A
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- pattern
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、例えばパッケージングされた集積回路のモー
ルド(以下[モールドICJという。)の如き対象物体
の外観検査に好適なパターン検出装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention is suitable for visual inspection of target objects such as packaged integrated circuit molds (hereinafter referred to as mold ICJ). The present invention relates to a pattern detection device.
(従来の技術)
例えばモールドICのパターンを検出するための装置と
して、従来第10図に示すものが知られている。すなわ
ち、モールドIC50を搬送路30上に設けたストッパ
ーピン31に当接させた状態で停止させ、この停+h状
態のモールドIC50を図示しない@像手段により撮像
してこのモールドIC50のパターンを求め、外観検査
に供するようにしたものである。(Prior Art) For example, a device shown in FIG. 10 is known as a device for detecting a pattern of a molded IC. That is, the molded IC 50 is stopped in a state in which it is in contact with the stopper pin 31 provided on the conveyance path 30, and the molded IC 50 in the stopped +h state is imaged by @imaging means (not shown) to obtain the pattern of the molded IC 50. It is designed to be used for visual inspection.
しかしながら、このような装置では第10図に示すよう
にストッパーピン31に当接したモールドIC50が撮
像手段のスキャン方向(例えば搬送路30の長さ方向)
に対し傾いている場合、撮像手段の視野内からはみ出す
事態が生じ、正確な外観検査を行うことができないとい
う問題がある。However, in such an apparatus, as shown in FIG.
If it is tilted to the opposite direction, it may protrude from the field of view of the imaging means, and there is a problem that accurate appearance inspection cannot be performed.
また、従来装置として第11図に示すように搬送路30
上の特定の位置でモールドIC50の四方から位置決め
板32a、32b、32c、32dをこのモールドIC
50に当接し位置決めをした後、このモールドIC50
を撮像手段により撮像して外観検査を行うようにしたも
のも知られている。In addition, as a conventional device, as shown in FIG.
Place the positioning plates 32a, 32b, 32c, and 32d from all sides of the molded IC 50 at specific positions on the molded IC.
After contacting and positioning 50, this molded IC50
There is also known a device in which the external appearance is inspected by taking an image with an imaging means.
しかし、第11図に示す装置の場合、モールドIC50
の正確な位置決めが可能であるものの、位置決め板32
a乃至32dの構成が複雑、かつ、高価になるという問
題がある。However, in the case of the device shown in FIG.
Although accurate positioning is possible, the positioning plate 32
There is a problem that the configurations of a to 32d are complicated and expensive.
(発明が解決しようとする問題点)
上述したように従来装置では、対象物体の位置ずれ等に
起因して正確なパターンを得ることができず、又は正確
なパターンを得るための構成が複雑、かつ、高価になる
という問題がある。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, with the conventional apparatus, it is not possible to obtain an accurate pattern due to positional deviation of the target object, or the configuration for obtaining an accurate pattern is complicated. Another problem is that it is expensive.
そこで本発明は、対象物体に位置ずれ等が必る場合でも
この対象物体の正確なパターンを簡略、かつ、安価な構
成で得ることができるパターン検出装置を提供すること
を目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, it is an object of the present invention to provide a pattern detection device that can obtain an accurate pattern of a target object with a simple and inexpensive configuration even when the target object is inevitably misaligned. .
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
本発明のパターン検出装置は、対象物体を含む領域の画
像を求める撮像手段と、この撮像手段により得られた眠
像情報を基に対象物体の特徴部分を抽出し、この抽出し
た特徴部分を基に対象物体の検査されるべき領域情報と
これ以外の情報とを分離する画像情報処理手段と、この
画像情報処理手段により求めた前記対象物体の情報を基
に対象物体のパターンを求めるパターン作成手段とを有
するものでおる。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The pattern detection device of the present invention includes an imaging means for obtaining an image of a region including a target object, and an imaging means for determining an image of an object based on sleep image information obtained by the imaging means. an image information processing means for extracting a characteristic part of an object and separating information on a region to be inspected of the target object from other information based on the extracted characteristic part; and pattern creation means for determining a pattern of a target object based on information about the object.
(作 用) 以下に上記構成の装置の作用を説明する。(for production) The operation of the apparatus having the above configuration will be explained below.
撮像手段は、パターンを検出すべき対象物体を含む領域
の画像を画像する。画像情報処理手段は、撮像手段によ
り得られた撮像情報からその特徴部分を抽出し、抽出し
た特徴部分をを基にして、これを対象物体情報の検査さ
れるべき領域情報とこれ以外の情報とに分離する。The imaging means captures an image of a region including the target object whose pattern is to be detected. The image information processing means extracts a characteristic part from the imaging information obtained by the imaging means, and based on the extracted characteristic part, divides this into information on the area to be inspected of the target object information and other information. Separate into
パターン作成手段は、分離した対象物体の情報を基に対
象物体のパターンを求める。The pattern creation means obtains a pattern of the target object based on information about the separated target object.
(実施例) 以下に本発明の詳細な説明する。(Example) The present invention will be explained in detail below.
まず、第7図及び第8図を参照し本発明の詳細な説明を
行う。First, the present invention will be explained in detail with reference to FIGS. 7 and 8.
本発明の基本的原理は、従来装置の如く対象物体を位置
決めしてそのパターンを求めるのではなく、対象物体と
その背景との差若しくは特徴を見出し、これを基に対象
物体のパターンを求めることである。The basic principle of the present invention is to find the difference or feature between the target object and its background and determine the pattern of the target object based on this, rather than positioning the target object and determining its pattern as in conventional devices. It is.
すなわち、第7図に示すように「射影」という方法を用
いる。この「射影」という方法は、ある特定の領域Eに
おける黒レベルrOJ及び白レベル「1」の2値画像を
作成し、この2値画像をX方向若しくはY方向にスキャ
ンして、白レベル「1」の点の数を加算していく方法で
ある。この方法により第7図に示す2値画像から求めた
射影図(ヒストグラム)を第8図(a)に示す。そして
、第8図(a)に示す射影図に対し、あるスライスレベ
ルを設定し、このスライスレベルを境として「O」と「
1」とに分けることにより、第8図(b)に示すように
前記2値画懺の境界点座標を求めることができる。That is, as shown in FIG. 7, a method called "projection" is used. This "projection" method creates a binary image with a black level rOJ and a white level "1" in a specific area E, scans this binary image in the X direction or Y direction, and scans the binary image with a white level "1". This is a method of adding up the number of points. A projection diagram (histogram) obtained from the binary image shown in FIG. 7 using this method is shown in FIG. 8(a). Then, a certain slice level is set for the projection diagram shown in FIG. 8(a), and "O" and "
1'', the boundary point coordinates of the binary image scale can be determined as shown in FIG. 8(b).
このような境界点座標を対象物体の各部の2値画像から
求め、多数の境界点座標から対象物体の輪郭を決定する
ことにより、この対象物体のパターンを求めることがで
きる。By finding such boundary point coordinates from the binary image of each part of the target object and determining the outline of the target object from a large number of boundary point coordinates, the pattern of the target object can be determined.
次に、上記原理に基づく本発明の詳細な説明する。Next, the present invention based on the above principle will be explained in detail.
第1図は本実施例の装置1の構成を示すものであり、こ
の装置1は全体の制御を行う制御部(CPLJ)2と、
この制御部2の制御の基に対象物体を含む特定のエリア
(領域)をR像する視野をもった撮像手段(例えばCO
Dカメラ)3と、制御部2の制御の基に撮像手段で得ら
れた撮像情報を取込み、このR像情報から対象物体情報
とこれ以外の背景情報とに分離された2値化画像情報を
求める画像処理手段4と、制御部2の制御の基に前記2
値化画像情報を取込み、これを基にして既述した原理に
よる対象物体のパターン作成を行うパターン作成手段5
と、制御部2に接続された入力手段(例えばキーボード
)6及び表示手段(例えばCRTデイスプレィ)7とを
有している。FIG. 1 shows the configuration of a device 1 of this embodiment, and this device 1 includes a control unit (CPLJ) 2 that performs overall control;
Based on the control of this control unit 2, an imaging means (for example, a CO
D camera) 3 and the imaging information obtained by the imaging means under the control of the control unit 2, and from this R image information, binarized image information separated into target object information and other background information is obtained. Based on the desired image processing means 4 and the control of the control section 2, the above 2.
Pattern creation means 5 that takes in digitized image information and creates a pattern of the target object based on this based on the principle described above.
, an input means (for example, a keyboard) 6 and a display means (for example, a CRT display) 7 connected to the control section 2.
前記撮像手段3は、第2図(a)に示すように搬送路3
0の一部を構成する長方形状のエリアS1と、このエリ
アS1に隣接する支持台の一部を構成する長方形状のエ
リアS2とからなる全体として長方形状のエリアSoを
視野として保有している。The imaging means 3 is connected to a conveyance path 3 as shown in FIG. 2(a).
0, and a rectangular area S2 adjacent to this area S1, forming a part of the support base. .
前記画像処理手段4は、撮像手段3が撮像したエリアS
oの撮像情報を取込んでこれを2値化処理する2値化処
理部8と、2値化処理部8で求めた2値データから、エ
リアSoの2値化画像を作成する2値化画像作成部9と
を具備している。The image processing means 4 processes the area S imaged by the imaging means 3.
A binarization processing unit 8 takes in the imaging information of area So and processes it into a binary value, and a binarization unit 8 creates a binarized image of area So from the binary data obtained by the binarization processing unit 8. The image forming section 9 includes an image creating section 9.
前記パターン作成手段5は、第9図(a)。The pattern creating means 5 is shown in FIG. 9(a).
(b)、(c)に示す内容の一連の処理を実行するプロ
グラムを予め格納したプログラムメモリ10及びこのプ
ログラムに基づく演算処理を実行する演算処理部11を
具備している。It is equipped with a program memory 10 that stores in advance a program for executing a series of processes shown in (b) and (c), and an arithmetic processing section 11 that executes arithmetic processing based on this program.
尚、後述する射影図から境界点を決定するためのスライ
スレベルは、予めプログラムに設定するか、又は入力部
6からの入力操作により設定する。Note that the slice level for determining boundary points from a projection diagram, which will be described later, is set in advance in a program or by an input operation from the input unit 6.
以下に上記構成の装置の作用を、第2図乃至第6図の各
説明図及び第9図をも参照して説明する。The operation of the apparatus having the above structure will be explained below with reference to each explanatory diagram of FIGS. 2 to 6 and FIG. 9.
尚、前記エリアSoには第2図(a)に示すようにエリ
アS1からエリアS2に亘って対象物体であるモールド
IC50が傾いた状態で存在しているものとする。また
、同図において、51はモールドIC50の両側部に列
設された合計14個のリードである。It is assumed that the molded IC 50, which is the target object, exists in the area So in a tilted state from the area S1 to the area S2, as shown in FIG. 2(a). Further, in the figure, 51 indicates a total of 14 leads arranged in rows on both sides of the molded IC 50.
まず、撮像手段3は、第2図(a)に示す状態のモール
ドIC50を含むエリアSoの画像を撮像し、これを画
像情報に変換する。First, the imaging means 3 takes an image of the area So including the molded IC 50 in the state shown in FIG. 2(a), and converts this into image information.
制御部2は前記画像情報を2値化処理部8に送る。The control section 2 sends the image information to the binarization processing section 8.
2値化処理部8は、取込んだ画像情報をすべて黒レベル
「O」、白レベル「1」の2値の値に変換し、これを制
御部2を介して2値化画像作成部9に送る。このとき、
モールドIC50の略長方形状の本体部分及び14個の
り一部51の部分は白レベル「1」に、エリアS1とエ
リアS2との境界部分は白レベル「1」に、エリアSo
の残余の部分は黒レベルrOJとなるようにそれぞれ2
値化変換を行う。The binarization processing section 8 converts all of the captured image information into binary values of black level "O" and white level "1", and converts this into binary values via the control section 2 to the binarization image creation section 9. send to At this time,
The approximately rectangular main body portion of the molded IC 50 and the 14 glue portions 51 have a white level of “1,” the boundary between areas S1 and S2 has a white level of “1,” and the area So
The remaining parts of
Perform value conversion.
2値化画幽作成部9は、2値化処理部8から送られてき
た各2値化画像データを基に、第2図(a)に示すよう
なエリアSo全体の2値化画像を作成する。The binarized image creation unit 9 creates a binarized image of the entire area So as shown in FIG. 2(a) based on each binarized image data sent from the binarization processing unit 8. create.
この2値化画像の画像情報は制御部2を介して表示部7
に送られ表示に供されると共に、パターン作成手段5に
送られ以下に詳述する処理に供される。The image information of this binarized image is sent to the display unit 7 via the control unit 2.
The data is sent to the pattern generating means 5 and subjected to the processing described in detail below.
すなわち、パターン作成手段5の演算処理部11は、プ
ログラムメモリ10に格納されているプログラムに基づ
いて第2図(a)に示すようなエリアSoの2値化画像
に対しエリアS1からエリアSoに至る射影エリアaを
設定し、この射影エリアaのX方向の射影をとってエリ
アS1とエリアS2との境界に存在する白レベル「1」
の位置を求め、これを搬送路境界とする(ST1)。That is, the arithmetic processing unit 11 of the pattern creation means 5 converts the binarized image of the area So shown in FIG. 2(a) from the area S1 to the area So based on the program stored in the program memory 10. Set a projection area a, and take the projection of this projection area a in the X direction to determine the white level "1" that exists at the boundary between area S1 and area S2.
The position is determined and this is set as the transport path boundary (ST1).
次に、演算処理部11は、搬送路境界の上部にモールド
IC50の一方の側のリード51が存在するものとして
、エリアS2に第2図(a)に示すような射影エリアb
を設定する(ST2 )。Next, the arithmetic processing unit 11 creates a projection area b in area S2 as shown in FIG.
(ST2).
ざらに、演算処理部11は、前記プログラムに基づき射
影エリアbに対してY方向の射影をとる。Roughly speaking, the arithmetic processing unit 11 takes a projection in the Y direction on the projection area b based on the program.
この状態を第3図(a)に、また、射影をとって得られ
る射影図を第3図(b)にそれぞれ示す。This state is shown in FIG. 3(a), and a projection diagram obtained by taking the projection is shown in FIG. 3(b).
そして演算処理部11は、第3図(b)に示す射影図に
対し、一定レベルのスライスレベルを設定し、スライス
レベル以下の部分をカットして第3図(C)に示すよう
な射影エリアbにおける各リード51のX座標及びリー
ド幅よりなる位置決定を行う(ST3)。Then, the arithmetic processing unit 11 sets a constant slice level for the projection diagram shown in FIG. 3(b), cuts the portion below the slice level, and creates a projection area as shown in FIG. 3(C). The position is determined based on the X coordinate and lead width of each lead 51 in b (ST3).
このようにして7個のリード51の位置決定が行われる
と、これを基に各リード51の中心座標(Xl乃至X7
>も決定できるので、演算処理部11は例えば第2図
(b)に示すような中心座標Xs 、X7間で、かつ、
各リード51に重ならない領域に射影エリアC(中心座
標X15+W1又はX? −W2 、但しWl =W2
)を設け(Sr4) 、この射影エリアCに対し第4
図に示すようにX方向の射影をとることにより、既述し
た場合と同様第5図(a)に示すこの射影エリアCの射
影図を求める。そして、この射影図に対して所定のスラ
イスレベルを設定することにより第5図(b)に示すよ
うに射影エリアCのモールドIC50と背景(射影エリ
アbの黒レベルrOJの部分)との境界点を求める。When the positions of the seven leads 51 are determined in this way, the center coordinates (Xl to X7) of each lead 51 are determined based on this.
> can also be determined, so the arithmetic processing unit 11 can determine, for example, between the center coordinates Xs and X7 as shown in FIG. 2(b), and
Projection area C (center coordinates X15+W1 or X?-W2, where Wl = W2
) is provided (Sr4), and the fourth
By taking a projection in the X direction as shown in the figure, a projection diagram of this projection area C shown in FIG. 5(a) is obtained, similar to the case described above. By setting a predetermined slice level for this projection diagram, as shown in FIG. seek.
このような各リード51間に射影を射影エリアbのすべ
てのリード間でとり、こ合計6個の境界点を求めてこれ
らを仮境界点とする(Sr5. SF3)。A projection is taken between all the leads in the projection area b between each lead 51, a total of six boundary points are determined, and these are set as temporary boundary points (Sr5. SF3).
次に演算処理部11は、2値化画像の画質によって各仮
境界点がモールドIC50の真の境界線からはずれた場
合があるので、隣合う仮境界点のY方向の差をすべて求
め、その値をモールドIC50の境界線の傾きとする(
Sr7.5T8)。ざらに、演算処理部11は、ステッ
プ7、ステップ8で求めた各傾きの平均値を求め(Sr
9) 、平均値より大きくずれている仮境界点の値を除
外する(STIO)。Next, since each temporary boundary point may deviate from the true boundary line of the molded IC 50 depending on the image quality of the binarized image, the arithmetic processing unit 11 calculates all the differences in the Y direction between adjacent temporary boundary points and Let the value be the slope of the boundary line of mold IC50 (
Sr7.5T8). Roughly speaking, the arithmetic processing unit 11 calculates the average value of each slope calculated in steps 7 and 8 (Sr
9) Exclude values of temporary boundary points that deviate significantly from the average value (STIO).
次に演算処理部11は、残った仮境界点の値だけを用い
て2度目の平均値を求め(STII)、この2度目の平
均値を真の境界線の傾きとして2度目の平均値に等しい
仮境界点を選び出す(ST12)。Next, the calculation processing unit 11 calculates a second average value using only the values of the remaining temporary boundary points (STII), and uses this second average value as the slope of the true boundary line. Equivalent temporary boundary points are selected (ST12).
演算処理部11は選び出した仮境界点のうち右端の点と
左端の点とを選び出しく5T13)、これら2点の値を
直線を求める式に代入して前記射影エリアbにあけるモ
ールドIC50の真の傾きとY切片を求め第6図に示す
境界線Aを決定する(ST14゜8丁15) 。The arithmetic processing unit 11 selects the rightmost point and the leftmost point from among the selected temporary boundary points (5T13), and substitutes the values of these two points into the equation for calculating a straight line to calculate the true value of the molded IC 50 to be formed in the projection area b. Find the slope and Y-intercept of and determine the boundary line A shown in FIG. 6 (ST14°8-15).
さらに演算51a理部11は、上述した場合と同様な動
作でモールドIC50の各境界線B、C,Dを決定した
後(ST15)、4本の境界線A、B、C。Furthermore, the calculation unit 11 determines the boundaries B, C, and D of the molded IC 50 in the same manner as described above (ST15), and then determines the four boundaries A, B, and C.
Dの値から第6図に示す各交点α、β、γ、δをそれぞ
れ2直線の交点を求める式から求める。From the value of D, each of the intersections α, β, γ, and δ shown in FIG. 6 is determined from the formula for determining the intersection of two straight lines.
これにより、モールドIC50のパターンは交点α、β
、T、δにより囲まれていることが特定され、黒レベル
rOJの背景から切出されたことになり、このモールド
IC50のパターンが外観検査に供されることになる。As a result, the pattern of the molded IC 50 is formed at the intersections α and β.
, T, and δ, and has been cut out from the background of the black level rOJ, and the pattern of this molded IC 50 will be subjected to visual inspection.
本発明は上述した実施例に限定されるものではなくその
要旨の範囲内で種々の変形が可能である。The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications can be made within the scope of the invention.
例えばモールドICの各リード間の射影をとる処理につ
いては、上述した実施例のように各リード間すべてにわ
たって行う場合のほか、リードの個数によって適当に間
引きした射影をとるようにして実施できる。For example, the process of taking projections between each lead of a molded IC may be performed over all of the leads as in the above-described embodiment, or may be performed by appropriately thinning out projections depending on the number of leads.
ざらに、上述した実施例では略長方形状のモールドIC
について説明したが、この他部品が一部切欠されたよう
な形状のモールドICについても同様に通用できる。Roughly speaking, in the above-mentioned embodiment, the molded IC is approximately rectangular.
Although the description has been given above, the present invention can be similarly applied to molded ICs in which other parts are partially cut out.
[発明の効果]
以上詳述した本発明によれば、撮像手段の撮像視野内に
対象物体をおくだけでこの対象物体がどのような配置で
おってもそのパターンを求めることができ、簡略かつ安
価な構成でありながら正確なパターンを検出することが
できるパターン検出装置を提供することができる。[Effects of the Invention] According to the present invention described in detail above, the pattern of the target object can be obtained by simply placing the target object within the imaging field of the imaging means, regardless of the arrangement of the target object, which is simple and It is possible to provide a pattern detection device that can accurately detect patterns despite having an inexpensive configuration.
第1図は本発明の実施例装置を示すブロック図、第2図
(a)は同装置における対象物体の射影をとる場合の説
明図、第2図(b)は同装置における対象物体の各リー
ド間の射影をとる場合の説明図、第3図(a)は第2図
(a)に示す射影エリアbに対する射影をとる場合の説
明図、第3図(b)は第2図(a)を基にして求めた射
影を示す射影図、第3図<C>は第3図(b)を基にし
て求めた各リードの2値化図、第4図は射影エリアCに
対する射影をとる場合の説明図、第5図(b)は第5図
(a)に対応する2値化図、第6図は本実施例により求
めた対象物体の境界線及び交点を示す説明図、第7図は
2値化画像と射影方向を示す原理説明図、第8図(a>
は第7図に対応する射影図、第8図(b)は第8図(a
)に対応する2値化図、第9図(a)、(b)、(C)
はそれぞれ本実施例のパターン作成手段の動作を示すフ
ローチャート、第10図は従来装置の−例を示す概略平
面図、第11図は従来装置の他側を示す概略平面図であ
る。
1・・・パターン検出装置、3・・・撮像手段、4・・
・画像処理手段、5・・・パターン作成手段。
第1図
弔3図
第4図
第5図
弔6図
也11」
第7図
ズライズレへ′Jし
くa) (b)
第8因
(b)
第9図
(C)
第9図
第11図FIG. 1 is a block diagram showing a device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2(a) is an explanatory diagram for taking projections of a target object in the same device, and FIG. 2(b) is a block diagram showing each target object in the same device. FIG. 3(a) is an explanatory diagram when taking a projection between leads. FIG. 3(a) is an explanatory diagram when taking a projection onto projection area b shown in FIG. 2(a). FIG. ), Figure 3 <C> is a binarized diagram of each lead determined based on Figure 3(b), and Figure 4 shows the projection to projection area C. FIG. 5(b) is a binary diagram corresponding to FIG. 5(a), FIG. Figure 7 is a principle explanatory diagram showing the binarized image and the projection direction, and Figure 8 (a>
is a projection view corresponding to Fig. 7, and Fig. 8(b) is a projection view corresponding to Fig. 8(a).
), Figure 9 (a), (b), (C)
10 is a schematic plan view showing an example of a conventional device, and FIG. 11 is a schematic plan view showing the other side of the conventional device. 1... Pattern detection device, 3... Imaging means, 4...
- Image processing means, 5... pattern creation means. Figure 1, Figure 3, Figure 4, Figure 5, Figure 6, and Figure 11.
Claims (3)
この撮像手段により得られた撮像情報を基に対象物体の
特徴部分を抽出し、この抽出した特徴部分を基に対象物
体の検査されるべき領域情報とこれ以外の情報とを分離
する画像情報処理手段と、この画像情報処理手段により
求めた前記対象物体の情報を基に対象物体のパターンを
求めるパターン作成手段とを有することを特徴とするパ
ターン検出装置。(1) imaging means for obtaining an image of a region including the target object;
Image information processing that extracts characteristic parts of the target object based on the imaging information obtained by this imaging means, and separates information on the area to be inspected of the target object from other information based on the extracted characteristic parts. 1. A pattern detection device comprising: a pattern detection device; and a pattern creation device that obtains a pattern of a target object based on information about the target object obtained by the image information processing device.
である特許請求の範囲第1項記載のパターン検出装置。(2) The pattern detection device according to claim 1, wherein the information processing by the image information processing means is a binarization process.
作成は、前記対象物体情報を基とする対象物体の境界点
の作成処理及び作成した境界点からの境界線作成処理を
含むものである特許請求の範囲第1項記載のパターン検
出装置。(3) The pattern creation of the target object by the pattern creation means includes a process of creating boundary points of the target object based on the target object information and a process of creating a boundary line from the created boundary points. The pattern detection device according to item 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156349A JPH0198076A (en) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | Pattern detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156349A JPH0198076A (en) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | Pattern detecting device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198076A true JPH0198076A (en) | 1989-04-17 |
Family
ID=15625815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62156349A Pending JPH0198076A (en) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | Pattern detecting device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0198076A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0644360A (en) * | 1990-12-27 | 1994-02-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Visual inspection method and device for electronic part with lead |
| JP2010164333A (en) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Toshiba Corp | Device and method for inspecting defect |
-
1987
- 1987-06-22 JP JP62156349A patent/JPH0198076A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0644360A (en) * | 1990-12-27 | 1994-02-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Visual inspection method and device for electronic part with lead |
| JP2010164333A (en) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Toshiba Corp | Device and method for inspecting defect |
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