JPH0198142A - 光ディスクマスタリング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスク原盤の作製装置に関する。

従来の技術 光ディスク原盤は、一般に、表面を研摩したガラス基板
の上にフォトレジストを塗布した後、このフォトレジス
トを記録すべき信号に応じて強度変調されたレーザー光
で照射し、現像して照射された部分のみを残すことによ
って作製される。

フォトレジストに強度変調されたレーザー光を照射する
には、第４図に示すようなマスタリング装置が用いられ
る。フォトレジストを塗布されたガラス基板１は、スピ
ンドル２によって回されるとともに、−軸径送台３によ
って径方向に移送される。アルゴンレーザー４から出た
光は、Ｅ−０変調器６によって記録すべき信号に応じて
強度変調され、レンズアクチュエーター９によって絞ら
れてガラス基板１に照射される。

ヘリウムネオンレーザ−１ｏの光は、ガラス基板１に照
射され、度射されて戻ってきた光を光検出器１３で受け
る。これにより、レンズアクチュエータ−９のレンズと
ガラス基板１との距離全測定する。この距離の信号を用
いて、アルゴンレーザーの光が常にガラス基板１に焦点
が合うようにレンズアクチュエーター９は制御されてい
る。

ガラス基板１に塗布されたフォトレジストは、アルゴン
レーザーの波長では感光するが、ヘリウムネオンレーザ
−の波長では感光しないものが用いられる。

発明が解決しようとする問題点 光ディスクの記録密度を高め、同じ面積により多くの情
報を記録したいという要請が強まりつつある。光は波長
が短いほど小さな点に絞り込むことができる。より小さ
な点に信号を記録するために、従来よりも短い波長の光
を用いた光ディスクマスタリング装置の開発が望まれて
いる。しかし、短い波長の光を記録すべき信号に応じて
強度変調することは困難であシ、従来用いられていたＥ
−０変調器を用いることはできないという問題がある。

問題点を解決するための手段 光を記録すべき信号に応じて強度変調した後、非線形光
学素子によって波長を短くする。

作　　用 光を記録すべき信号に応じて強度変調するときには、光
の波長はまだ短くないので、従来と同じ変調器を用いる
ことができる。

また、フォトレジストを塗布した基板に絞り込むときに
は、波長が短いので小さな点へ絞り込むことができ、記
録密度を高くすることができる。

実施例 以下本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。

第１図は、本発明による光ディスクマスタリング装置の
一例である。アルゴンレーザー４の光は、Ｅ−０変調器
６によって記録すべき信号に応じ、て強度変調され、更
に非線形光学素子１４によって波長が短くされた後、レ
ンズアクチュエーター９でフォトレジストを塗布された
ガラス基板１に絞られて照射され、フォトレジストを感
光させて信号を記録する。

ヘリウムネオンレーザ−１ｏの光は、レンズアクチュエ
ーター９を通してフォトレジストを塗布されたガラス基
板１に照射され、反射されて戻ってきた光を光検出器１
３で受ける。光検出器１３の出力信号は、レンズアクチ
ュエーター９のレンズとガラス基板１との距離に応じて
その大きさが変化するようになっている。この光検出器
１３の出力信号を用いて、アルゴンレーザーからの光が
、常にガラス基板１に焦点が合うようにレンズアクチュ
エーター９は制御されている。

フォトレジストを塗布されたガラス基板１は、スピンド
ル２によって回される。また、−軸径送台３によって半
径方向に移送される。

非線形光学素子としては、ＫＤＰ（ＫＨ２ＰＯ４）。

Ｋ　Ｔ　Ｐ　（Ｋ　Ｔ　１０Ｐ　Ｏ）　、　Ｌ　１Ｎｂ
Ｏ３−βＢ　ａ　Ｂ２０４等の無機材料や、ＭＮＡ（２
，メチル・４・ニトロアニリン）、ＭＮＴ（メチルニト
ロトラン）等の有機材料を用いることができる。

非線形光学素子を用いて波長を短くする方法としては、
５ＨＧ（第２高調波発生）、ＴＨＧ（第３高調波発生）
、光パラメトリツク発振等がある。

また、これらの方法のうちの二つ以上を組み合わせて用
いてもよい。例えば、アルゴンレーザーの４８８、Ｏｎ
ｍの光のＳＨＧを用いれば、２４４．０ｎｍの光を得る
ことができる。

フィルターミラー１１は、非線形光学素子を用いて波長
を短くされた強度変調された光と、それ以外の光（波長
が短くならなかった強度変調された光やヘリウムネオン
レーザ−の光）とを波長によって分離するだめのもので
ある。

第１図ではアルゴンレーザーを用いた例を示しているが
、フォトレジストを感光させるための光源としては、他
のガスレーザーや固体レーザー等を用いることもできる
。また、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーをＳＨＧによって可視光
に変換した。ものや、エキシマレーザ−を光パラメトリ
ツク発振によって可視光に変換したもの等、非線形光学
素子を用いて波長を変換したレーザーも用いる事もでき
る。

フォトレジストとしては、非線形光学素子を用いて波長
を短くされた強度変調された光には感度が高く、その他
の光に対しては感度が低いかもしくは感度が無いものを
選んで用いればよい。

フォトレジストは、光を照射された部分のみが残るタイ
プのものでも、光を照射された部分のみが除かれるタイ
プのものでも良い。

フォトレジストを塗布する基板としては、一般には表面
を研摩したガラス板が用いられるが、基板の材質はガラ
スに限るものではなく、銅板等の金属やその他のもので
もよい。

本実施例の装置は、光を記録すべき信号に応じて強度変
調した後、非線形光学素子によって波長を短くし、フォ
トレジストを塗布した基板に絞り込む。このため、変調
器は従来の物を用いることができるにもかかわらず、波
長が短いので小さな点へ絞υ込むことができ、記録密度
を高くすることができる。

第１図に示した実施例では、アルゴンレーザーからの光
が常に基板１に焦点が合うようにヘリウムネオンレーザ
−の光を用いて制御していたが、第２図に示したように
ヘリウムネオンレーザ−の代わシに部分反射ミラー１６
で分けられた波長を短くする前のアルゴンレーザーの光
を用いることもできる。第２図のフィルターミラー１５
ば、非線形光学素子で波長を短くされた光は反射し、も
との波長の光は透過する。

また、第３図に示したように、波長を短くされずに非線
形光学素子を通ってきた光をヘリウムネオンレーザ−の
代わシに用いることもできる。波長を短くされずに非線
形光学素子を通ってきた光は、Ｅ−０変調器で強度変調
されている。しかし、一般に変調周波数は焦点制御の周
波数より遥かに高いため、光検出器の信号を周波数フィ
ルターに通し、低周波成分だけを取り出すことにより、
焦点制御に用いることができる。第３図のフィルターミ
ラー１７は、非線形光学素子で波長を短くされた光は透
過し、もとの波長の光は一部は反射し残シは透過する。

第２図・第３図に示しだ実施例の装置は、第１図に示し
た実施例の装置と同様に、記録密度を高くすることがで
きるとともに、レーザーが一つですむという利点がある
。

発明の効果 光を記録すべき信号に応じて強度変調した後、非線形光
学素子によって波長を短くすることにより、光を小さな
点に絞り込むことができ、記録密度を高くすることがで
きる。まだ、光を記録すべき信号に応じて強度変調する
ときには、光の波長はまだ短くないので、従来と同じ変
調器を用いることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図・第２図・第３図は本発明の光ディスクマスタリ
ング装置の実施例の概略図、第４図は従来ノ光ディスク
マスタリング装置の概略図である。 ４・・・・・・アルゴンレーザー、６・・・・・・Ｅ−
０変調器、９・・・・・・レンズアクチュエーター、１
ｏ・・・・・・ヘリウムネオンレーザ−１１４・・・・
・・非線形光学素子。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名１ト
ー゛フイルターくラー 第４図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）フォトレジストを塗布した基板に、記録しようと
   する信号に応じて強度変調した光を絞り込んで照射し、
   前記フォトレジストを感光させることによって信号を記
   録する光ディスク原盤のマスタリング装置であって、強
   度変調された光の波長を非線形光学素子によって短くし
   てから前記基板に絞り込んで照射することを特徴とする
   光ディスクマスタリング装置。
2. （２）強度変調する前の光の一部をフォーカス等の制御
   用に用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の光ディスクマスタリング装置。
3. （３）波長が短くならずに非線形光学素子を通った強度
   変調された光をフォーカス等の制御用に用いることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ディスクマスタ
   リング装置。