JPH0198946A - 光学測定器用集光光学系 - Google Patents

光学測定器用集光光学系

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Publication number
JPH0198946A
JPH0198946A JP25667387A JP25667387A JPH0198946A JP H0198946 A JPH0198946 A JP H0198946A JP 25667387 A JP25667387 A JP 25667387A JP 25667387 A JP25667387 A JP 25667387A JP H0198946 A JPH0198946 A JP H0198946A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
optical system
pinhole
light
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25667387A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuji Hattori
服部 保次
Susumu Inoue
享 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP25667387A priority Critical patent/JPH0198946A/ja
Publication of JPH0198946A publication Critical patent/JPH0198946A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/255Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学測定器用集光光学系に関し、特に詳細には
、レーザ光等で被測定物である対象物上を走査して、又
は、レーザ光等を固定した状態で対象物を移動して対象
物からの反射光又は透過光のレベル、指向性等を検出す
ることにより対象物の情報を得るための光学測定器の集
光光学系に関する。
この様な光学測定器としては、例えば、対象物の表面の
傷の有無により対象物に照射した光の反射率、反射方向
がが異なることを利用した傷検査装置や、屈折率分布を
もった円柱上測定物の側面にレーザ光を照射してその透
過光の屈折角により測定物の屈折分布を求める屈折率分
布測定装置等が知られている。
これらの測定装置では、被測定物の詳細な情報を得よう
とする場合には、被測定物に照射する集光スポット径を
小さくする必要があり、更には、透過光の屈折角を利用
して、内部の屈折率分布を求めるためには、集光スポッ
ト径を小さくすることに加えてその照射光の拡がり角を
小さくする必要があった。
〔従来技術〕
このような光学測定器であるレンズの傷検査装置の従来
例の代表例を第3図に示す。この第3図では、He−N
eレーザ1からの出力光はミラー2で反射され、集光レ
ンズ3で集束され、ハーフミラ−4を透過してレンズ5
、ミラー7により、集光スポットを被検レンズ8上に形
成する。この被検レンズ8を透過した光束は回帰反射ス
クリーン9により反射され、同じ光路を逆進する。この
逆進した反射光はハーフミラ−4により、分岐され検出
器6に入る。そして、この第3図では、ミラー7は、回
転可能であり、このミラー7を回転させることより、被
検レンズ8上でレーザスポットを走査し、その回帰反射
スクリーン9での反射光を検出器6で検出して、被検レ
ンズ8の状態を調べていた。
〔本発明の解決すべき問題点〕
第3図に示す従来の光学測定器の集光光学系では、レー
ザの集光スポットをレンズ5により被検体であるレンズ
8上結像にする構成をとっている。
そのため、レンズ5による集光スポット径を小さくする
ためには、レンズ5の結像倍率を小さくする必要がある
が、この場合には、レンズ5の集束光の拡がり角(図中
でθで示す。)が大きくなる。
また、この拡がり角を小さくするためにはレンズ5の結
像倍率を大きくする必要があり、この場合には、集束性
が悪くなり、集光スポット径を小さくすることができな
い。したがって、いわゆるトレードオフがあった。
このように、光学測定器において、正確な測定に必要と
される2つの条件、すばわち、集光スポット径を小さく
すること且つ拡がり角を小さくすること、を同時に満足
させることができなかった。
本発明は、上記問題点を解決し、集光点における集束光
の集束スポット径及び拡がり角を任意に且つ比較的小さ
く設定できる集光光学系を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に従う光学測定器用の集光光学系は、レーザ発光
装置より発せられたレーザ光を集光する−  3  = 第1のレンズ系と、第1のレンズ系により集光されたレ
ーザの集光点に配置されたピンホールと、透過照明され
たピンホールの像を所定の倍率で、測定されるべき物体
に投影する第2のレンズ系と、前記第2のレンズ系と前
記第2のレンズ系にょるレーザの集光点との間に設けた
絞りとを含むことを特徴とする。
〔作用〕
上記のように構成とし、ピンホールを設けたことにより
、光源の大きさを小さく出来るばかりでなく、比較的安
定な輝度分布を有する2次光源を提供でき、更に、絞り
を設けたことにより集光スポットの拡がりを防止できる
〔実施例〕
以下図面を参照しつつ本発明に従う実施例について説明
する。
図面中において、同一の符号で示される要素は、同一の
機能を有し、その為、重複した説明は省略する。
第1図は本発明に従う集光光学系の構成を示す。
この図に示される集光光学系は、He−Neレーザ1よ
り発したレーザ光を集束させる集光レンズ3と、集光レ
ンズ3により集束されられレーザ光の集束点に設けられ
たピンホール10と、このピンホール10から出射され
るレーザ光を被測定物体に向けて集光するレンズ5aと
、このレンズ5aにより集光されるレーザ光の集束点1
2と、このレンズ5aとの間に設けられた絞り11とよ
り構成されている。
ここで、対物レンズ3は先に説明した第3図に示す従来
のものと同様の働きをする。次に、ピンホール10は、
そのピンホール径が数μm程度のものを使用し、通常、
レーザ光を用いてホログラム作成を行う際に用いるスペ
ーシャルフィルター(Sllatial Filter
)用のピンホールを用イル。そして、このピンホールを
設け、このピンホールの透過光を2次光源として使用す
ることにより、光源のサイズを小さくできるばかりでな
く、レーザ光の時間的空間的干渉によるスペクトルノイ
ズを除去し、比較的安定化された輝度分布を有する光源
を得ることができる。
また、絞り11は、レンズ5aにより集束点12に向け
て集束されるレーザ光の拡がり角(第1図においてθで
示す。)を制限する目的でこのような位置に設けである
。すなわち、この絞り11を設けることによりレンズ5
aの実質的な口径を選択可能にし、その結果、この口径
を小さくすることにより集光点12への集束光の拡がり
角θを小さくすることができる。
そして、集束されたレーザ光が走査されるべき被測定物
は、集束点12に設置される。この構成において、測定
に必要とするスポット径をDとし、ピンホール径をdと
すると、レンズ5aの拡大率をD/dとすればよい。こ
こで、このレンズ5a解像度の点より対物レンズを使用
することが好ましい。例えば、D/dの値が5であると
きは、5倍の倍率を有する対物レンズをレンズ5aに用
いる。
以上の構成の集光光学系を用いて、具体的にピンホール
の有無により集光点12における集光スポット径の変化
を測定した。
この測定では、レンズ3として、倍率10の対物レンズ
、レンズ5aとして倍率5の対物レンズ、ピンホール1
0としてピンホールの口径が1μmの物を用い、測定器
としては、直径10μmのコアを有するファイバ付き検
出器を用い、そのファイバ先端を第1図の29面内でス
キャンし、その光に強度分布を測定し、集光スポット径
を測定した。その結果を第2(a)及び(b)図に示す
ここで、第2(a)図はピンホールを設けなかった場合
の結果を示し、第2(b)図はピンホールを設けた場合
を示す。第2(a)図では、集光スポットの半値幅が約
290μmであり、第2(b)図では集光スポットの半
値幅が約17μmである。
この測定結果からも判るように、ピンホールを設けた場
合の方が、より小さい集光スポット径のレーザ光を得る
ことができる。
また、絞りの口径と集光スポット径の拡がりとの関係に
ついては、第1図に示すPρ′の位置、すなわち、P、
Qより絞り11側の位置に、撮像管を設置して、絞り1
1の口径を直径2mm。
1.5mm、1mmと、順に変化させ、撮像管上でのス
ポットの拡がりを測定したところ、絞り11の口径の大
きさと、スポットの拡がりとが正比例することが確認で
きた。
更に、本発明は上記実施例に限定されるものでなく、種
々の変形例が考えられ得る。
〔発明の効果〕
本発明は上記のように構成することにより、光学測定器
の正確な測定に必要とされる、照射光のスポット径を小
さくでき、且つ、このスポット径を大きくすること無く
、その拡がり角をも小さくすることの出来る集光光学系
が実現できた。
更に、第2(a)図と第2(b)図との比較からも判る
ように、スペックル(Speckle )起因する光量
の場所による変動も低減できる集光光学系が実現できる
特に、円柱状透明体、例えば、光フアイバ母材の側方か
ら集束光を入射し、その透過光の屈折角より円柱状透明
体の内部屈折率分布を求める測定器の光源最適な光源を
提供することができる集光光学系を実現できた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る集光光学系の構成図、第2図は本
発明の実施例の集光光学系を用いて測定した結果を示す
図、及び 第3図は従来の集光光学系の構成図である。 1・・・He−Neレーザ、3・・・集光レンズ、5a
・・・対物レンズ、10・・・ピンホール、11・・・
絞り。 特許出願人  住友電気工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 光学測定器用の集光光学系であって、 レーザ発光装置より発せられたレーザ光を集光する第1
    のレンズ系と、 第1のレンズ系により集光されたレーザの集光点に配置
    されたピンホールと、 透過照明されたピンホールの像を所定の倍率で、測定さ
    れるべき物体に投影する第2のレンズ系と、前記第2の
    レンズ系と前記第2のレンズ系によるレーザの集光点と
    の間に設けた絞りとを含むことを特徴とする光学測定器
    用集光光学系。
JP25667387A 1987-10-12 1987-10-12 光学測定器用集光光学系 Pending JPH0198946A (ja)

Priority Applications (1)

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JP25667387A JPH0198946A (ja) 1987-10-12 1987-10-12 光学測定器用集光光学系

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JP25667387A JPH0198946A (ja) 1987-10-12 1987-10-12 光学測定器用集光光学系

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JPH0198946A true JPH0198946A (ja) 1989-04-17

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JP25667387A Pending JPH0198946A (ja) 1987-10-12 1987-10-12 光学測定器用集光光学系

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001305071A (ja) * 2000-04-21 2001-10-31 Nikon Corp 欠陥検査装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62223716A (ja) * 1986-02-19 1987-10-01 サイスキャン・システムズ・インク Sn比が改善された同焦点光学撮像装置

Patent Citations (1)

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